JPS60228408A - 清掃用基材 - Google Patents

清掃用基材

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JPS60228408A
JPS60228408A JP8571784A JP8571784A JPS60228408A JP S60228408 A JPS60228408 A JP S60228408A JP 8571784 A JP8571784 A JP 8571784A JP 8571784 A JP8571784 A JP 8571784A JP S60228408 A JPS60228408 A JP S60228408A
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JP
Japan
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activated alumina
cleaning
base material
sodium
abrasive
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Application number
JP8571784A
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English (en)
Inventor
Toshiyuki Ozawa
小沢 利之
Takeshi Naganuma
健 長沼
Osamu Uotani
魚谷 修
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Lion Corp
Original Assignee
Lion Corp
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Publication date
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    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61QSPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
    • A61Q11/00Preparations for care of the teeth, of the oral cavity or of dentures; Dentifrices, e.g. toothpastes; Mouth rinses
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/19Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing inorganic ingredients
    • A61K8/26Aluminium; Compounds thereof
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K2800/00Properties of cosmetic compositions or active ingredients thereof or formulation aids used therein and process related aspects
    • A61K2800/40Chemical, physico-chemical or functional or structural properties of particular ingredients
    • A61K2800/41Particular ingredients further characterized by their size
    • A61K2800/412Microsized, i.e. having sizes between 0.1 and 100 microns

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  • Epidemiology (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は歯磨の研磨剤等として用いられるF¥i掃用錘
用基材し、更に詳述するとffl磨力が低くとも高いW
4掃力を与える清掃用基材に関する。
一般に、歯磨に使用される研磨剤は、歯の清掃基材とし
てスティン、歯垢、食べかす等の歯に付着、沈着したも
のを物理的作用により効率よく除去する能力が高く、清
掃能力が優れていると共に、歯のエナメル質を損atす
ることがないマイルドな研磨性を有し、かつ歯垢、歯石
の沈着を防止し得るものが望まれる。
この場合、スティン、歯垢、食べかす等の物理的除去の
効率は、研磨剤の研磨力を高くすることによって高める
ことができ、特に従来はill力を高めることで歯面の
清掃効果を向、トさせることが行なわれていたが、fi
i磨力を高めることと、歯面の損傷を防止することとは
一般に相反し、研磨力を高めれば高める程、歯面を削る
おそれが生じ、特にブラッシング方法が適切でない場合
は楔状欠損を引き起す可能性を高めると共に南面を損傷
させ、更には南面光沢を低下させるおそれがある。
このように、従来の清掃用基材は、一般に研磨力と清掃
力とが比例関係にあり、清掃力を高めるためには研磨力
を高める必要があったが、上述したように研磨力を高め
た場合に表面を損傷するなどの不都合が生じる場合があ
り、このため研磨力が低くとも高い清掃力を与える清掃
用基材が望まれていた。
本発明者らは、上記事情に鑑み、高い清掃効果を与える
清掃用基材について鋭意検討を行なった結果、活性アル
ミナが上記目的を効果的に達成し得ることを知見した。
即ち、従来より歯磨の研磨剤として使用され、清掃用基
材として公知なα−アルミナや水酸化アルミニウムの場
合には、清掃力が研磨力と比例し、清掃力を高めるため
には研磨力を高める必要があるものであったが、活性ア
ルミナ、特に比表面積が100〜400−nf/lで平
均粒子径が0.5〜15μの活性アルミナは、意外にも
同程度の研磨力を有する他の清掃用基材と比較して清掃
力が高く、従来より低い研磨力のものでも従来と同程度
の清掃性を達成できるので、表面損傷、摩耗などの高研
磨力に基く不都合を確実に回避し得、従って活性アルミ
ナが低研磨−高清掃の優れた効果を有して’am用基材
として好適であることを知見し、本発明をなりに至った
ものである。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の清掃用基材は、活性アルミナからなるものであ
る。本発明で用いられる活性アルミナは、バイヤーアル
ミナ製造の際の中間生成物であり、水酸化アルミニウム
を空気中で300〜750°Cの条件で焼成後、粉砕、
分級することにより得ることができ、工業的には600
〜800℃で数秒間の気流中焼成により製造ツることが
できる。
この場合、活性アルミナとしては、比表面積(B E 
’T法)が100〜400Tn’/牙、特に150〜3
00m/7のものが好適に用いられる。
比表面積が100イ/りより小さい場合は、研磨力と清
掃力が比例する傾向となり、また比表面積が40071
1’/lより大きいものは、工業的に得ることが難か1
ノい。なお、活性アルミナはバイヤー法によるα−アル
ミナ(比表面積0.3〜20m/牙)に比べ、その比表
面積が大きいことからポーラスアルミナとも呼ばれてい
るものである。
更に、活性アルミナとしては、平均粒子径が0.5〜1
5μ、特に1〜10μのものが好適であり、平均粒子径
が15μより大きいと本発明基材(活性アルミナ)を歯
磨等の口腔用組成物の研磨剤どして用いた場合に歯牙エ
ナメル質にスクラッチを生じさ1!るおそれがある。な
お、本発明で用いる活性アルミナの平均粒子径は上記範
囲とすることが好ましいが、更に44μ以上の粒子の含
有量が0.1%以下、30μ以上の粒子の含有量が5%
以下のものがより好適であり、この種の粒度分布の活性
1ルミナを用いることにより、スクラッチをより確実に
低減化することができる。
本発明の清掃用基材は、歯磨、プロフィラキスペースト
等の口腔用組成物の研磨剤として好適に用いられるほか
、被処理物の汚れを除去する種々の用途、例えばクレン
ザ−等の台所用洗剤、窓ガラスや鏡等の清掃剤、オーブ
ンクリープ−1風呂場クリーナー、トイレクリーナー、
眼鏡クリーナー、家具クリーナー、靴クリーナー、車の
クリーナーやワックス、各種金属の研磨剤、レンズ琢磨
剤、研磨布、錆除去剤、爪磨ぎなどの基材とじて使用さ
れ得る。
本発明基材を用いて清掃用組成物を製造する場合、組成
物はペースト状、ゲル状、水系サスペンション状、油性
ザスペンション状、粉末状、固型スティック秋などの種
々の形態に調製され得るが、清掃用組成物を構成する他
の成分としては、組成物の使用目的、形態等に応じた任
意の成分が用いられる。
例えば、本発明基材を用いて歯磨、ブロフイラキスペー
スト等の口腔用組成物をvJ造する場合、口腔用組成物
の種類等に応じ、カルボキシメチルセルロースナトリウ
ム、ヒドロヤシエチルセルロース、アルギン酸塩、カラ
ゲナン、アラビアガム、ポリビニルアルコール等の粘結
剤、ポリ]−,チレングリコール、ソルビトール、グリ
セリン、プロピレングリコール等の粘稠剤、ラウリル硫
酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルボン酸ナトリウム
、水素添加ココナツツ脂肪酸モノグリセリドモノ硫酸ナ
トリウム、ラウリルスル小酢酸ナトリウム、N−ラウロ
イルザルコシン酎ナトリウム、N−アシルクルタミン酸
塩、ラウロイルジェタノールアミド、ショ糖脂肪酸エス
テル等のアニオン、ノニオン、両性界面活性剤、それに
ペパーミント油、スペアミント油、1−メントール、カ
ルボン、Aイゲノール、アネトール等の香料、サッカリ
ンナトリウム、スフビ第1ノイド、ネオヘスベリジルジ
ヒドロカルコン、グリチルリチン、ペリラルチン、p−
メトキシシンナミックアルデヒド等の甘味剤、防腐剤、
更にデキストラナーゼ、ムタナーゼ、ツルどン酸、アレ
キシジン、β−グリチルレチン酸、ヒノキチオール、ク
ロルヘキシジン類、アルキルグリシン、アルキルジアミ
ノエチルグリシン塩、アラトイン、ε−アミノカプロン
酸、トラネキサム酸、アズレン、ビタミンE1水溶性第
一もしくは第ニリン酸塩、セチルピリジニウムクロライ
ド等の第四級アンモニウム化合物、塩化ナトリウム、生
薬抽出物などの有効成分を配合することができる。
なお、本発明基材の清掃用組成物への配合量は、組成物
の使用目的、形態等に応じて適宜選定され、例えば組成
物全体の1〜100%り車量%、以下同じ)配合するこ
とができるが、口腔用組成物に配合する場合は組成物全
体の1〜99%、特に10〜95%とでることが好適で
ある。
また、本発明基材を組成物に配合する場合、必要に応じ
て他の清掃用基材を併用Jることができる。
例えば、歯磨の場合であれば、第2リン酸カルシウム、
炭酸カルシウム、ビロリン酸カルシウム、不溶性メタリ
ン酸ナトリウム、非晶質シリカ、結晶質シリカ、アルミ
ノシリケート、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム
、レジン等の基材(研磨剤)を併用し17る。この場合
、本発明基材の使用間は、本発明基材の効果を有効に発
揮させる点から基材全体の5〜100%、特に10〜1
00%とJることが好ましい。
次に実施例を示し、本発明活性アルミナ基材の効果を具
体的に説明づる。
〔実施例11 第1表に示す基材の研磨力及び清掃力を下記方法に従っ
てそれぞれ測定した。結果を第1表及び図面に示す。な
お、図面において、丸で囲んだ参照符号(数字)は第1
表のNO,を表わず。
11圧IL■ 基材52を0.3%カルポキシメヂルセルロースナトリ
ウムを含む60%グリセリン水溶液15?に懸濁してな
るサスペンションを用い、荷重2007においてJ[S
、l−1−3361の銅板(ビッカース硬度120)を
水平型研磨試験機により2時間で2万回ブラッシングし
、銅板摩耗量を測定した。
l」ル1L髭 憚草ヤニを通常の方法にて収集し、これを溶液状として
タイル上に均一に塗布し、加出乾燥したのち、これを研
磨容器にセットし、粉体(第1表に示す各基材)57を
0.3%カルポキシメヂルセルロースナトリウムを含む
60%グリセリン水溶液152に懸濁してなるサスペン
ションを用い、荷m200’ijにおいて2000回ブ
ラ、ツシングし、研磨後タイルの煙草ヤニの除去率を肉
眼にて評価した。
評」L延」− 評点1:守草ヤニ除去率 0〜10% 2: 11〜20% 3: 21〜30% 4: 31〜40% 5: 41〜50% 6: 51〜60% 7: 61〜70% 8: 71〜80% 9: 81〜90% 10: 91〜1oo% ブラッシングのブラシとしては、毛束数44個、毛の太
さ8ミル(約0.2+nm)、毛の長さ12+n+nの
ナイロン(62)材質で、材質の硬さが家庭品品質表示
法でMのものを使用した。
なお、研磨力測定の場合も同じブラシを用いた。
注:平均粒子径はしcads&N orthrup社の
M 1crO1raOを使用して測定した。
また、DCP−Dはリン酸水素カルシウム・2水和物、
DCP−Aはリン酸水素カルシウム・無水和物を示す。
なお、活性アルミナ(I>、(n)、(III)の比表
面積は下記の通りである。
活着アルミナ(I> 281−nl’/汁(If) 2
4.6 〃 (It) 172 〃 第1表及び図面の結果にす、活性アルミナを基材として
用いた場合は、同程麿の1i11磨力を示づ他の基材を
用いた場合に比較して清掃力が著しく高く、低研磨−高
清掃の優れた効果を発揮覆ること、また活性アルミナに
他の基材を混合した場合でも同様の低研磨−高清掃の効
果を発揮することが知見される。これに対し、他の基材
の場合は清掃力と研磨力とがほぼ比例関係にあり、ms
力を増大させるには研磨力を高める必要があるものであ
った。
[使用例11 練 歯 磨 グリセリン 15.0% ソルビトール 12.0 プロピレングリコール 2.0 カルボキシメチルセルロースナトリウム 0.5カラギ
ーナン 0.5 サツカリンナトリウム 0.2 シヨ糖パルミチンモノエステル 0.5シヨ糖ラウリル
ジエステル 0.5 モノフルオロリン酸ナトリウム 0.76香 料 1.
0 二酸化チタン 1.0 無水ケイ酸 2.0 活性アルミナ 50.0 防腐剤 微 量 バランス 計 100.0% この線画1IIiは良好なフッ素安定性と発泡性を示し
た。
[使用例2] 練 歯 磨 グリセリン 5.0% ソルビトール 25.0 プロピレングリコール 1.0 ポリオキシエチレングリコール400 2.0キサンタ
ンガム 1.3 ビーガム 0.2 サツカリンナトリウム 0.1 グリチルリチン酸カリウム塩 0.01ラウリル硫酸ナ
トリウム 1.O N−ラウロイルザルコシネート 0.3デキストラナー
ゼ 1.0 塩酸クロルヘキシジン 0.01 香 料 1.0 リン酸水素カルシウム・2水和物 25.0リン酸水素
カルシウム・無水和物 5.0活性アルミナ 5.0 防腐剤 微 量 バランス 計 100.0% この練歯磨は良好な酵素安定性を示した。
[使用例3] 練 歯 磨 グリセリン 20.0% プロピレングリコール 2,5 ビーガム 1.0 カルボキシビニルポリマー 0.2 ザツカリンナトリウム 0.06 ステビオサイド 0.01 グリデルリチン酸カリウム塩 0.01ラウリル硫酸プ
+リウム 1.0 ラウロイルジエタノールアミド 0.3モノフルオ[1
リン酸ナトリウム 0.76トラネキサムM 0105 香 料 1.0 無水ケイall 2.0 炭酸カルシウム 10,0 活性アルミナ 30.0 防腐剤 微 吊 木 バランス 計 100.0% この練歯磨は良好なフッ素安定性を示した、1[使用例
41 練 歯 磨 グリセリン 10.0% ソルビトール 25.0 カルボキシメチルセル ビーガム 0.2 カルボキシビニルポリマー 0.2 サツカリンナトリウム 0.2 ラウリル@酸ツートリウム 1.O N−ラウロイルザルコシネート 0. 1シヨ糖ラウリ
ルジエステル 0. 5 ビタミンF酢酸塩 0.1 香 料 1.0 二酸化チタン 1.0 リン酸水素カルシウム・2水和物 20.0活性アルミ
ナ 25.0 防腐剤 微 量 −水一一一一一 バランス 計 100.0% この練歯磨は良好な発泡性、ビタミンF安定性を示した
[使用例5]1m 磨 グリセリン 15.0% ソルビトール 10.0 プ0ピレングリコール 1.0 ポリオキシTチレングリコール400 5.0カルポキ
シメヂルセルロースナトリウム 1.2カラギーノウ 
0.3 キサンタンガム 0.2 サツ力リン月・リウム 0.1 ラウリル硫酸ナト1乃ム 1.0 シ〕糖パルミヂンモジエステル 1.0デキストラナー
ゼ 1.0 香 料 1.0 無水ケイ酸 2.5 水酎化アルミニウム 10.0 活性アルミナ ao、。
防腐剤 微 量 水 バランス 計 ioo、o% この紳#i磨は良tB、な発泡性、酵素安定性を示した
[使用例6] 練 歯 磨 ソルビトール 35.0% プロピレングリコール 2.0 キ勺ンタンガム i、。
サッカリンナトリウム 0.2 ラウリル@耐月〜リウム 1.0 ガジユツ抽出物 0.01 香 料 1.0 無水ケイ酸 io、。
活性アルミナ 10.0 防腐剤 微 量 *−−−−−−−−〜〜−一−−−コΩ之ん一計 10
0.0% この練1IliiWjは変色がなく、安定な配合性を示
した。
[使用例7’JIIIm 磨 グリセリン 2540% ポリオキシエチレングリコール400 2.0カルボキ
シメチルセル0−スナトリウム 1.0カラギーナン 
0.2 勺ツカリンナトリウム 0.2 ラウリル硫酸ナトリウム 1.O N−ラウロイルザルコシネート 0.3ラウロイルジエ
タノールアミド 0.3モノフルオロリン酸ナトリウム
 0.76塩酸クロルヘキシジン 0.01 香 料 0.8 活性アルミt 10.0 防腐剤 微 m バランス 計 100.0% この練歯磨は良好な呈味性、フッ素安定性を示した。
なお、上述した練歯磨処方に用いる香料の組成例を示す
と下記の通りである。
J−メン1−−ル 20% ペパーミント油 30 アネトール 20 ウインターグリーン油 15 シンブミツクアルデヒド 10 Jチルブヂレ−ト 5 100.0%
【図面の簡単な説明】
図面は種々の基材の研磨力と清掃力との関係を示すグラ
フである。 出願人 ラ イ A ン 株式会社 代理人 弁理士 小 島 隆 司

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、活性アルミナからなることを特徴とする清掃用基材
    。 2、活性アルミナの比表面積が100〜400セ/?で
    ある特許請求の範囲第1項記載の基材。 3、活性アルミナの平均粒子径が0.5〜15μである
    特許請求の範囲第1項又は第2項記載の基材。 4、口腔用組成物の研磨剤として用いられる特許請求の
    範囲第1項乃至第3項いずれか記載の基材。
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