JPS60228698A - モリブデン酸化物被膜の製造方法 - Google Patents
モリブデン酸化物被膜の製造方法Info
- Publication number
- JPS60228698A JPS60228698A JP59083214A JP8321484A JPS60228698A JP S60228698 A JPS60228698 A JP S60228698A JP 59083214 A JP59083214 A JP 59083214A JP 8321484 A JP8321484 A JP 8321484A JP S60228698 A JPS60228698 A JP S60228698A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide film
- molybdenum oxide
- molybdate
- substrate
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ａ産業上の利用分野
本発明は、モリブデンの酸化物被膜の製造方法に関し、
特にエレクトロクロミック素子（以下ＥＣ素子と略称す
る）用被膜として良好なモリブデンの酸化物被膜の電解
析出法に関する。
特にエレクトロクロミック素子（以下ＥＣ素子と略称す
る）用被膜として良好なモリブデンの酸化物被膜の電解
析出法に関する。
ｂ従来技術
酸化モリブデンはＥＣ特性を示すことが知られておりこ
れを利用したＥＣ素子も数多く提案されている。酸化モ
リブデン被膜の形成方法としてはスパッタ法・蒸着法な
どのいわゆるＰＶＤ法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ
Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ） が用いられているが一般
にＰＶＤ法は大面積にわたり均一な膜を作成するのが困
難であり生産性も悪いという欠点があった。
れを利用したＥＣ素子も数多く提案されている。酸化モ
リブデン被膜の形成方法としてはスパッタ法・蒸着法な
どのいわゆるＰＶＤ法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ
Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ） が用いられているが一般
にＰＶＤ法は大面積にわたり均一な膜を作成するのが困
難であり生産性も悪いという欠点があった。
Ｃ発明が解決しようとする問題点
本発明は、大面積にわたって均一な被膜が得られなかっ
た従来法の欠点を解決し、大面積にわたって均一なモリ
ブデンの酸化物被膜を得ること、特にＥＣ素子に用いる
のに適したモリブデンの酸化物被膜を得ることをその目
的とする。
た従来法の欠点を解決し、大面積にわたって均一なモリ
ブデンの酸化物被膜を得ること、特にＥＣ素子に用いる
のに適したモリブデンの酸化物被膜を得ることをその目
的とする。
ｄ問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するための本発明は、少なくとも表面
に導電性を有する基板をモリブデン酸塩水溶液中に浸漬
し、該基板をカソードとして電解析出を行なう方法を用
いている。
に導電性を有する基板をモリブデン酸塩水溶液中に浸漬
し、該基板をカソードとして電解析出を行なう方法を用
いている。
本発明に用いるモリブデン酸塩水溶液としてはモリブデ
ン酸イオンが０．００！；−２モル／ｌのものが好まし
い。０゜００５モル／ｌよりも小さい濃度では水溶液の
抵抗値が増加するためにより高い電圧を必要としたり、
目的の電解析出反応以外の副反応が激しくなるために電
解効率が悪くなったり電極」二で気体が発生したりする
欠点となる。又２モル／ｌよりも大きな濃度では液ＰＨ
の調整が難しくなる。
ン酸イオンが０．００！；−２モル／ｌのものが好まし
い。０゜００５モル／ｌよりも小さい濃度では水溶液の
抵抗値が増加するためにより高い電圧を必要としたり、
目的の電解析出反応以外の副反応が激しくなるために電
解効率が悪くなったり電極」二で気体が発生したりする
欠点となる。又２モル／ｌよりも大きな濃度では液ＰＨ
の調整が難しくなる。
又均−で密着性の良好な被膜を得るためには、上記モリ
ブデン酸塩水溶液は酸性であること、特にＰＨ５以下で
あることが好まれる。
ブデン酸塩水溶液は酸性であること、特にＰＨ５以下で
あることが好まれる。
又モリブデン酸塩水溶液のＰＨをｏ０ｇ〜／Ｊとすると
近赤外部に吸収極大をもつ青色のモリブデンの酸化物被
膜が得られ、又ＰＨを２以上とすることによってｔｔｏ
ｏ−ｓｏｏｎｍ に吸収帯をもつ褐色のモリブデンの酸
化物被膜が得られる。
近赤外部に吸収極大をもつ青色のモリブデンの酸化物被
膜が得られ、又ＰＨを２以上とすることによってｔｔｏ
ｏ−ｓｏｏｎｍ に吸収帯をもつ褐色のモリブデンの酸
化物被膜が得られる。
モリブデン酸塩水溶液を作成するのに使用されるモリブ
デン酸塩としては、各種金属との塩が使用できる。中で
もリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩などイオン半
径の小さなカチオンの塩を使用することが、本製造方法
によって得られたモリブデンの酸化物被膜を用いて応答
の早いＥＣ素子が得られるので好ましい。
デン酸塩としては、各種金属との塩が使用できる。中で
もリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩などイオン半
径の小さなカチオンの塩を使用することが、本製造方法
によって得られたモリブデンの酸化物被膜を用いて応答
の早いＥＣ素子が得られるので好ましい。
電解析出の電圧印加方法としては定電流電解法がその析
出膜厚を制御する上で望ましいが、！；Ａ／ｍ２よりも
大きな電流密度で電解析出を行なうと生成される膜の均
一性および密着性が悪くなるので電流密度Ｊ４／ｍ２以
下で電解析出することが望ましい。
出膜厚を制御する上で望ましいが、！；Ａ／ｍ２よりも
大きな電流密度で電解析出を行なうと生成される膜の均
一性および密着性が悪くなるので電流密度Ｊ４／ｍ２以
下で電解析出することが望ましい。
又本発明のモリブテンの酸化物被膜を製造できる基板は
、電解析出を行なう際に電極となりえる基板であればど
の様な材質、形状であってもかまわず、少なくとも表面
に導電性を有する材料であれば金属又は酸化物の基板で
あっても使用できる。
、電解析出を行なう際に電極となりえる基板であればど
の様な材質、形状であってもかまわず、少なくとも表面
に導電性を有する材料であれば金属又は酸化物の基板で
あっても使用できる。
又該製造方法で作成した被膜をＥ（Ｅ素子用被膜として
使用するためには基板は透明であることが好まれ、特に
導電被膜つきガラス板が望ましい。
使用するためには基板は透明であることが好まれ、特に
導電被膜つきガラス板が望ましい。
ｅ実施例
ＰＨ値をへ〇、／、３，２．０，３．０．グ、０ に硫
酸を用いて調整した０、０７モル／ｌ のモリブデン酸
リチウムの水溶液をそれぞれ１００ｍ１ ずつ作成した
。この電解液をそれぞれ恒温槽中に入れ２５°Ｃに保持
しながらこの電解液中に５ｎｏ２ 透明導電膜付ガラス
（たて２０ｍｍ、よこｓｏｍｍ、厚さ八／ｍｍ）および
白金板（たて、２ｏｍｍ、よこｓｏｍｍ、厚さＯｏＪｍ
ｍ）を浸漬し、白金板をアノード、透明導電膜つきガラ
スをカソードとしてＪ４／ｍ２の電流密度でそれぞれ９
０秒間定電流電解を行なった。
酸を用いて調整した０、０７モル／ｌ のモリブデン酸
リチウムの水溶液をそれぞれ１００ｍ１ ずつ作成した
。この電解液をそれぞれ恒温槽中に入れ２５°Ｃに保持
しながらこの電解液中に５ｎｏ２ 透明導電膜付ガラス
（たて２０ｍｍ、よこｓｏｍｍ、厚さ八／ｍｍ）および
白金板（たて、２ｏｍｍ、よこｓｏｍｍ、厚さＯｏＪｍ
ｍ）を浸漬し、白金板をアノード、透明導電膜つきガラ
スをカソードとしてＪ４／ｍ２の電流密度でそれぞれ９
０秒間定電流電解を行なった。
上記操作により透明導電膜上にそれぞれ約２ｏｏｏ’ｊ
、のモリブデンの酸化物被膜（以後被膜と略称）が形成
されていたが、上記Ｓ種類の被膜はいずれも均一性・密
着性の良好な被膜であった。
、のモリブデンの酸化物被膜（以後被膜と略称）が形成
されていたが、上記Ｓ種類の被膜はいずれも均一性・密
着性の良好な被膜であった。
ここで電解液ＰＨが／および１．Ｓで得られた被膜は青
色を示し、電解液ＰＨが２．０ 、３．０ 、 Ｉｌ、
０ で得られた被膜は褐色であった。
色を示し、電解液ＰＨが２．０ 、３．０ 、 Ｉｌ、
０ で得られた被膜は褐色であった。
その後こうして得られた５種類の被膜つきガラス基板お
よびＰｔ板（たてＩｌ、Ｃｍ、よこ、２ｃｍ 、厚さ０
．３ｍｍ）を／％ル／ｌのＬｉＣｌＣ１４のプロピレン
ｊＪ −ホネート溶液中に浸漬し、簡易ＥＣ素子とした
。この簡易ＥＣ素子の被膜つきガラス基板およびｐｔ板
を両電極として、両極間に±２■の直流電圧を印加し、
その時の光学密度（以後０ｐｔｉｃａｌ ｄｅｎｓｉｔ
ｙＯ，Ｄ。と略称）を測定した。被膜つきガラス側をそ
れぞれアノードおよびカソードとして電圧を印加した時
の０゜Ｄ。値０．Ｄ。（＋ＬＯ０Ｄ。（−１およびそれ
ら０、Ｄ、値の差△０゜Ｄ、の値を第１表に示す。ここ
で各０．Ｄ、値は電圧を印加した後０゜Ｄ、がほぼ一定
となった時点で００．Ｄ、値（λ−ＪＯＯｎｍ）を示す
。
よびＰｔ板（たてＩｌ、Ｃｍ、よこ、２ｃｍ 、厚さ０
．３ｍｍ）を／％ル／ｌのＬｉＣｌＣ１４のプロピレン
ｊＪ −ホネート溶液中に浸漬し、簡易ＥＣ素子とした
。この簡易ＥＣ素子の被膜つきガラス基板およびｐｔ板
を両電極として、両極間に±２■の直流電圧を印加し、
その時の光学密度（以後０ｐｔｉｃａｌ ｄｅｎｓｉｔ
ｙＯ，Ｄ。と略称）を測定した。被膜つきガラス側をそ
れぞれアノードおよびカソードとして電圧を印加した時
の０゜Ｄ。値０．Ｄ。（＋ＬＯ０Ｄ。（−１およびそれ
ら０、Ｄ、値の差△０゜Ｄ、の値を第１表に示す。ここ
で各０．Ｄ、値は電圧を印加した後０゜Ｄ、がほぼ一定
となった時点で００．Ｄ、値（λ−ＪＯＯｎｍ）を示す
。
ＰＨ１，０および八５の条件で作成した被膜は上記操作
で無色−青色の発消色を示し、ＰＨ２，０、３，’０Ｉ
ｉｔ、ｏの条件で作成した被膜は褐色（淡）−褐色（濃
）の間で可逆的な０．Ｄ、の変化が起っていた。
で無色−青色の発消色を示し、ＰＨ２，０、３，’０Ｉ
ｉｔ、ｏの条件で作成した被膜は褐色（淡）−褐色（濃
）の間で可逆的な０．Ｄ、の変化が起っていた。
ＰＨ１，０で作成した被膜の着消色時の可視光吸収スペ
クトルを第１図にＰＨ３，０の条件で作成した被膜の着
消色時の可視吸収スペクトルを第一図に示す。
クトルを第１図にＰＨ３，０の条件で作成した被膜の着
消色時の可視吸収スペクトルを第一図に示す。
第 ｌ 表
上記結果において、ＥＣ特性としては着消色時の吸光度
の差△０．Ｄ、が大きいことが好まれるので、青色発色
のＥＣ素子用被膜としてはＰＨ１，０で作成した被膜が
、又褐色発色のＥＣ素子用被膜としてはＰ ＨＪ 、
ｏで作成した被膜が上記実施例中でＥＣ素子用被膜とし
て適していることがわかる。
の差△０．Ｄ、が大きいことが好まれるので、青色発色
のＥＣ素子用被膜としてはＰＨ１，０で作成した被膜が
、又褐色発色のＥＣ素子用被膜としてはＰ ＨＪ 、
ｏで作成した被膜が上記実施例中でＥＣ素子用被膜とし
て適していることがわかる。
ｆ発明の効果
本発明によれば、少なくとも表面に伝導性を有する任溶
の基板上に大面積にわたって均一なモリブデンの醸化物
被膜を形成することができる。・：うして得られたモリ
ブデンの酸化物被膜はエレクトロクロミック特性を示し
、エレクトロクロミック素子を製造するのに適している
。又本発明によれば従来得られなかった褐色（淡）−褐
色（濃）の発消色を示すエレクトロクロミック素子が作
成てきるモリブテンの酸化物被膜を得ることが出来る。
の基板上に大面積にわたって均一なモリブデンの醸化物
被膜を形成することができる。・：うして得られたモリ
ブデンの酸化物被膜はエレクトロクロミック特性を示し
、エレクトロクロミック素子を製造するのに適している
。又本発明によれば従来得られなかった褐色（淡）−褐
色（濃）の発消色を示すエレクトロクロミック素子が作
成てきるモリブテンの酸化物被膜を得ることが出来る。
又モリブデン酸イオンを含む溶液のＰＨを変化させると
いう簡単な手段によって、青色および褐色という異った
発色を示すエレクトロクロミック素子用被膜が得られる
という利点を有す。又本発明は電解析出法を利用するも
のであるので電解量によりその生成される膜厚を正確に
制御することができる。
いう簡単な手段によって、青色および褐色という異った
発色を示すエレクトロクロミック素子用被膜が得られる
という利点を有す。又本発明は電解析出法を利用するも
のであるので電解量によりその生成される膜厚を正確に
制御することができる。
第１図はＰＨ１，００条件で作成したモリブデンの酸化
物被膜を用いた簡易ＥＣ素子の発消色を示す可視光吸収
スペクトルを示す図、第２図はＰＨ３，０で作成した被
膜を用いた簡易ＥＣ素子の場合の可視光吸収スペクトル
の図である。 １丁ＩＣ
物被膜を用いた簡易ＥＣ素子の発消色を示す可視光吸収
スペクトルを示す図、第２図はＰＨ３，０で作成した被
膜を用いた簡易ＥＣ素子の場合の可視光吸収スペクトル
の図である。 １丁ＩＣ
Claims (3)
- （１）少なくとも表面に導電性を有する基板をモリブデ
ン酸塩水溶液中に浸漬し、該基板をカソードとして電解
析出を行ない該基板糸表面にモリブデンの酸化物被膜を
形成することを特徴とするモリブデンの酸化物被膜の製
造方法。 - （２）該モリブデン酸塩水溶液のＰＨがＯ８ｇ〜／、１
であり、形成されるモリブデンの酸化物被膜が青色であ
る特許請求の範囲第１項記載のモリブデンの酸化物被膜
の製造方法。 - （３）該モリブデン酸塩水溶液のＰＨが２以上であり、
形成されるモリブデンの酸化物被膜が褐色である特許請
求の範囲第７項記載のモリブデンの酸化物被膜の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59083214A JPS60228698A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | モリブデン酸化物被膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59083214A JPS60228698A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | モリブデン酸化物被膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60228698A true JPS60228698A (ja) | 1985-11-13 |
| JPH0352554B2 JPH0352554B2 (ja) | 1991-08-12 |
Family
ID=13796064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59083214A Granted JPS60228698A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | モリブデン酸化物被膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60228698A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018056932A3 (en) * | 2016-08-16 | 2018-05-17 | ARVAS, Melih Beşir | Method of production of molybdenum blue at high purity and in solid state |
-
1984
- 1984-04-25 JP JP59083214A patent/JPS60228698A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018056932A3 (en) * | 2016-08-16 | 2018-05-17 | ARVAS, Melih Beşir | Method of production of molybdenum blue at high purity and in solid state |
| GB2567773A (en) * | 2016-08-16 | 2019-04-24 | Sahin Yucel | Method of production of molybdenum blue at high purity and in solid state |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0352554B2 (ja) | 1991-08-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Natarajan et al. | Cathodic electrodeposition of nanocrystalline titanium dioxide thin films | |
| Itaya et al. | Electrochemistry of Prussian blue modified electrodes: an electrochemical preparation method | |
| US5209980A (en) | Transparent counterelectrodes | |
| JPH0313318B2 (ja) | ||
| US4818352A (en) | Electrodeposition of functional film on electrode plate relatively high in surface resistivity | |
| JP2617641B2 (ja) | 固相エレクトロクロミック物品 | |
| CN117891105A (zh) | 一种互补电致变色储能器件及其制备方法和用途 | |
| US4191453A (en) | Iridium oxide based electrochromic devices | |
| JPS60228698A (ja) | モリブデン酸化物被膜の製造方法 | |
| JPH11172489A (ja) | チタン酸バリウム被膜の製造方法 | |
| Castaneda et al. | Electrochemical process in electrochromic films of lutetium diphthalocyanine | |
| US4201454A (en) | Heat treated electrochromic devices | |
| GB2043286A (en) | Electrochromic display and method for making same | |
| JPH11158692A (ja) | チタン酸ビスマス被膜の形成方法 | |
| JPS6353294A (ja) | 酸化イリジウム被膜の製造方法 | |
| JPS6333595A (ja) | イリジウム酸化物電析膜 | |
| JP3140165B2 (ja) | 陽極酸化されたアルミニウム表面の電解着色方法 | |
| JPS6133168B2 (ja) | ||
| JPS60195526A (ja) | エレクトロクロミツク表示素子 | |
| JP2005107170A (ja) | 酸化発色性エレクトロクロミック材料の製造方法およびエレクトロクロミック素子 | |
| SU593874A1 (ru) | Способ изготовлени электродов | |
| JPH058277B2 (ja) | ||
| JPS608518B2 (ja) | エレクトロクロミツクデイスプレイ装置の動作方法 | |
| JPH01243035A (ja) | エレクトロミック表示装置の製造方法 | |
| JPS6149651B2 (ja) |