JPH0352554B2 - - Google Patents

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JPH0352554B2
JPH0352554B2 JP59083214A JP8321484A JPH0352554B2 JP H0352554 B2 JPH0352554 B2 JP H0352554B2 JP 59083214 A JP59083214 A JP 59083214A JP 8321484 A JP8321484 A JP 8321484A JP H0352554 B2 JPH0352554 B2 JP H0352554B2
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JP
Japan
Prior art keywords
molybdenum oxide
oxide film
film
molybdate
substrate
Prior art date
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Application number
JP59083214A
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English (en)
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JPS60228698A (ja
Inventor
Norinaga Baba
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Sheet Glass Co Ltd filed Critical Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority to JP59083214A priority Critical patent/JPS60228698A/ja
Publication of JPS60228698A publication Critical patent/JPS60228698A/ja
Publication of JPH0352554B2 publication Critical patent/JPH0352554B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
a 産業上の利用分野 本発明は、モリブデンの酸化物被膜の製造方法
に関し、特にエレクトロクロミツク素子(以下
EC素子と略称する)用被膜として良好なモリブ
デンの酸化物被膜の電解析出法に関する。 b 従来技術 酸化モリブデンはEC特性を示すことが知られ
ておりこれを利用したEC素子も数多く提案され
ている。酸化モリブデン被膜の形成方法としては
スパツタ法・蒸着法などのいわゆるPVD法
(Physical Vapor Deposition)が用いられてい
るが一般にPVD法は大面積にわたり均一な膜を
作成するのが困難であり生産性も悪いという欠点
があつた。 c 発明が解決しようとする問題点 本発明は、大面積にわたつて均一な被膜が得ら
れなかつた従来法の欠点を解決し、大面積にわた
つて均一なモリブデンの酸化物被膜を得ること、
特にEC素子に用いるのに適したモリブデンの酸
化物被膜を得ることをその目的とする。 d 問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するための本発明は、少なく
とも表面に導電性を有する基板をモリブデン酸塩
水溶液中に浸漬し、該基板をカソードとして電解
析出を行なう方法を用いている。 本発明に用いるモリブデン酸塩水溶液としては
モリブデン酸イオンが0.005〜2モル/のもの
が好ましい。0.005モル/よりも小さい濃度で
は水溶液の抵抗値が増加するためにより高い電圧
を必要としたり、目的の電解析出反応以外の副反
応が激しくなるために電解効率が悪くなつたり電
極上で気体が発生したりする欠点となる。又2モ
ル/よりも大きな濃度では液PHの調整が難しく
なる。 又均一で密着性の良好な被膜を得るためには、
上記モリブデン酸塩水溶液は酸性であること、特
にPH5以下であることが好まれる。 又モリブデン酸塩水溶液のPHを0.8〜1.5とする
と近赤外部に吸収極大をもつ青色のモリブデンの
酸化物被膜が得られ、又PHを2以上とすることに
よつて400〜500nmに吸収帯をもつ褐色のモリブ
デンの酸化物被膜が得られる。 モリブデン酸塩水溶液を作成するのに使用され
るモリブデン酸塩としては、各種金属との塩が使
用できる。中でもリチウム塩、ナトリウム塩、カ
リウム塩などイオン半径の小さなカチオンの塩を
使用することが、本製造方法によつて得られたモ
リブデンの酸化物被膜を用いて応答の早いEC素
子が得られるので好ましい。 電解析出の電圧印加方法としては定電流電解法
がその析出膜厚を制御する上で望ましいが、
5A/m2よりも大きな電流密度で電解析出を行な
うと生成される膜の均一性および密着性が悪くな
るので電流密度5A/m2以下で電解析出すること
が望ましい。 又本発明のモリブデンの酸化物被膜を製造でき
る基板は、電解析出を行なう際に電極となりえる
基板であればどの様な材質、形状であつてもかま
わず、少なくとも表面に導電性を有する材料であ
れば金属又は酸化物の基板であつても使用でき
る。又該製造方法で作成した被膜をEC素子用被
膜として使用するためには基板は透明であること
が好まれ、特に導電被膜つきガラス板が望まし
い。 e 実施例 PH値を1.0、1.5、2.0、3.0、4.0に硫酸を用いて
調整した0.07モル/のモリブデン酸リチウムの
水溶液をそれぞれ100mlずつ作成した。この電解
液をそれぞれ恒温槽中に入れ25℃に保持しながら
この電解液中にSnO2透明導電膜付ガラス(たて
20mm、よこ50mm、厚さ1.1mm)および白金板(た
て20mm、よこ50mm、厚さ0.3mm)を浸漬し、白金
板をアノード、透明導電膜つきガラスをカソード
として3A/m2の電流密度でそれぞれ90秒間定電
流電解を行なつた。 上記操作により透明導電膜上にそれぞれ約2000
Åのモリブデンの酸化物被膜(以後被膜と略称)
が形成されていたが、上記5種類の被膜はいずれ
も均一性・密着性の良好な被膜であつた。ここで
電解液PHが1および1.5で得られた被膜は青色を
示し、電解液PHが2.0、3.0、4.0で得られた被膜は
褐色であつた。 その後こうして得られた5種類の被膜つきガラ
ス基板およびPt板(たて16cm、よこ2cm、厚さ
0.3mm)を1モル/のLiClO4のプロピレンカー
ボネート溶液中に浸漬し、簡易EC素子とした。
この簡易EC素子の被膜つきガラス基板およびPt
板を両電極として、両極間に±2Vの直流電圧を
印加し、その時の光学密度(以後optical
density O.D.と略称)を測定した。被膜つきガラ
ス側をそれぞれアノードおよびカソードとして電
圧を印加した時のO.D.値O.D.(+)、O.D.(−)お
よびそれらO.D.値の差△O.D.の値を第1表に示
す。ここで各O.D.値は電圧を印加した後O.D.が
ほぼ一定となつた時点でのO.D.値(λ=600nm)
を示す。 PH1.0および1.5の条件で作成した被膜は上記操
作で無色−青色の発消色を示し、PH2.0、3.0、4.0
の条件で作成した被膜は褐色(淡)−褐色(濃)
の間で可逆的なO.D.の変化が起つていた。PH1.0
で作成した被膜の着消色時の可視光吸収スペクト
ルを第1図にPH3.0の条件で作成した被膜の着消
色時の可視吸収スペクトルを第2図に示す。
【表】 上記結果において、EC特性としては着消色時
の吸光度の差△O.D.が大きいことが好まれるの
で、青色発色のEC素子用被膜としてはPH1.0で作
成した被膜が、又褐色発色のEC素子用被膜とし
てはPH3.0で作成した被膜が上記実施例中でEC素
子用被膜として適していることがわかる。 f 発明の効果 本発明によれば、少なくとも表面に伝導性を有
する任意の基板上に大面積にわたつて均一なモリ
ブデンの酸化物被膜を形成することができる。こ
うして得られたモリブデンの酸化物被膜はエレク
トロクロミツク特性を示し、エレクトロクロミツ
ク素子を製造するのに適している。又本発明によ
れば従来得られなかつた褐色(淡)−褐色(濃)
の発消色を示すエレクトロクロミツク素子が作成
できるモリブデンの酸化物被膜を得ることが出来
る。又モリブデン酸イオンを含む溶液のPHを変化
させるという簡単な手段によつて、青色および褐
色という異つた発色を示すエレクトロクロミツク
素子用被膜が得られるという利点を有す。又本発
明は電解析出法を利用するものであるので電解量
によりその生成される膜厚を正確に制御すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はPH1.0の条件で作成したモリブデンの
酸化物被膜を用いた簡易EC素子の発消色を示す
可視光吸収スペクトルを示す図、第2図はPH3.0
で作成した被膜を用いた簡易EC素子の場合の可
視光吸収スペクトルの図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 少なくとも表面に導電性を有する基板をモリ
    ブデン酸塩水溶液中に浸漬し、該基板をカソード
    として電解析出を行ない該基板基表面にモリブデ
    ンの酸化物被膜を形成することを特徴とするモリ
    ブデンの酸化物被膜の製造方法。 2 該モリブデン酸塩水溶液のPHが0.8〜1.5であ
    り、形成されるモリブデンの酸化物被膜が青色で
    ある特許請求の範囲第1項記載のモリブデンの酸
    化物被膜の製造方法。 3 該モリブデン酸塩水溶液のPHが2以上であ
    り、形成されるモリブデンの酸化物被膜が褐色で
    ある特許請求の範囲第1項記載のモリブデンの酸
    化物被膜の製造方法。
JP59083214A 1984-04-25 1984-04-25 モリブデン酸化物被膜の製造方法 Granted JPS60228698A (ja)

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JPS60228698A JPS60228698A (ja) 1985-11-13
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WO2018056932A2 (en) * 2016-08-16 2018-03-29 ARVAS, Melih Beşir Method of production of molybdenum blue at high purity and in solid state

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JPS60228698A (ja) 1985-11-13

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