JPS60237010A - ネ−ルエナメル用下地剤 - Google Patents

ネ−ルエナメル用下地剤

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Publication number
JPS60237010A
JPS60237010A JP9211084A JP9211084A JPS60237010A JP S60237010 A JPS60237010 A JP S60237010A JP 9211084 A JP9211084 A JP 9211084A JP 9211084 A JP9211084 A JP 9211084A JP S60237010 A JPS60237010 A JP S60237010A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nail enamel
water
nail
enamel
primer composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9211084A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaru Otsuka
優 大塚
Keiko Suzuki
啓子 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shiseido Co Ltd
Original Assignee
Shiseido Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Shiseido Co Ltd filed Critical Shiseido Co Ltd
Priority to JP9211084A priority Critical patent/JPS60237010A/ja
Publication of JPS60237010A publication Critical patent/JPS60237010A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規なネールエナメル用下地剤に関する。さ
らに詳しくは、ネールエナメルを爪に塗布する前に爪表
面に下地剤としての皮膜を形成させ、その上にネールエ
ナメルを使用することによって、ネールエナメルが爪に
直に接触することを防止し、更にネールエナメルを除去
するときには下地剤としての皮膜を剥離することによっ
てネールエナメルが同時に除去することができるネール
エナメル用下地剤に関する。
ネールエナメル除去剤としては、これまで主としてネー
ルエナメルを溶解するアセ]−ン、酢Mエチル等の溶剤
を主成分とした除去液を綿、紙等に含浸させ、この除去
液を含浸した綿、紙等で爪表面に塗装されているネール
エナメルを溶解しなから払拭するのであるが、除去液中
の溶剤は極めてガス化し易くネールエナメル除去中にガ
ス化した溶剤を吸入することで気分を損ねたり、又、引
火し易い為取扱いは火気厳禁であり、更に手元に除去液
がないとネールエナメルの除去かできない為外出先で除
去する必要がある場合は、除去液及び綿、紙等を携帯し
なければならない。又、容器中にスリット入りのスポン
ジ体と除去液を一緒に収納して、爪に塗装したネールエ
ナメルを除去する場合には、スポンジ体のスリット部内
に指を挿入しネールエナメルを溶解すると共に、スポン
ジ体に爪をこすりつけてネールエナメルを除去するもの
もあるが、これについても綿、紙等は亦要としないが、
やはり溶剤が用いられていることや、携帯の不便さ等の
点で上記と同様な問題点がある。 −また、爪をネール
エナメル塗膜から保護する下地剤としてヘースコーt−
が知られているが、基本処方的には、ネールエナメル処
方から顔料を削除し、ニトロセルロースを多口に配合し
たものであ2−− リ、薬剤を配合しているものもあるものの、いわば無色
透明のネールエナメルといっても良く、目的は、爪の柔
らかい人等がこのヘースコートを使用することによって
爪の表面に硬いヘースコート塗膜を形成し、その上から
ネールエナメルを塗れば、ヘースコ−1−のないものと
比べ、外からの物理的衝撃からネールエナメルの剥離、
キズ付きを少なくすることができるとするものであるが
、爪表面ばヘースコートの固い塗膜で密着されるため通
気性が殆どなく爪にとって好ましい状態ではないし、前
述のように処方系がネールエナメルと同しであり、ネー
ルエナメルを除去するに際しては従来のネールエナメル
除去剤を使用せねばならず前記と同様な問題点がある。
又、従来のネールエナメル除去剤は溶剤系でありネール
エナメルを除去すると共に爪を脱脂するので爪が痛み易
い。
従ってネールエナメルを爪に長時間塗布したままにした
り、頻繁に付は替えたりすることは、爪に悪い影響を及
ぼすことになる。
本発明者等は、こうした事情に鑑み上記の問題点を解決
すべく鋭意研究を市ねた結果、水溶性高分子の薄い皮膜
の表面にネールエナメルを塗布しても、この皮膜が破損
したり、塗膜がムラになったりすることが全くなく、爪
とネールエナメルの間に入って両者を充分に付着せしめ
うろことを見い出し、この知見に基づいて本発明を完成
するに至った。
すなわち本発明は、水溶性高分子と、アルコールと、水
とを配合することを特徴とするネールエナメル用下地剤
を提供するものである。
以下、本発明の構成について詳述する。
本発明で用いられる水溶性高分子は、水に溶解し、爪に
塗布乾燥後に爪表面になめらかな皮膜を形成するもので
あれば良く、例えばポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン、ポリエチレンオキシ1′、水溶性ポリアミ
l゛高分子、ポリアクリル酸ソーダ、セルロース誘導体
等があげられるが、特にポリビニルアルコール単独、あ
るいはポリビニルアルコールと他の水溶性高分子−・種
以上との併用が好ましい。水溶性高分子の配合量は2〜
30重量%の範囲で選択されるが好ましくは5〜20重
量%の範囲である。2重量%未満では爪に塗布、乾燥後
形成される皮膜が薄く、ネールエナメルを使用後剥離す
る時の皮膜強度が十分でなく中途で破損したりする。ま
た30i1%を越えると粘度が高くなり爪に塗布するに
重くなったり、むらになったりし易く使用性が悪くなる
ので好ましくない。
本発明で用いられるアルコールはエチルアルコール、イ
ソプロピルアルコール等の低級アルコールである。アル
コールの配合量は5重量%以上であれば良いが好ましく
は10〜60重量%の範囲である。5重量%未満では爪
に塗る時重い感じがし塗布後の乾燥が遅くなり好ましく
ない。
本発明で用いられる水はイオン交換水、蒸溜水等の精製
水である。水の配合量は前記水溶性高分子が熔解する量
であればよいが好ましくは25重量%以上であり、前記
水溶性高分子、アルコール及び水の必須3成分で合計を
100重量%とするが、=5− これら必須成分に加えて必要に応じて保湿剤、界面活性
剤、着色料、香料、防腐剤等が配合される。もちろんこ
れらは本発明の目的を損わない質的、量的条件下で使用
されなければならない。
本発明のネールエナメル用下地剤は、ネールエナメルを
使用する前に使用部位に下塗り乾燥しておき、ネールエ
ナメルを使用後除去する時には、ネールエナメルの塗膜
ごと剥離除去できるから、除去液がなくてもネールエナ
メルの除去がいつでも極めて手軽に行なえるものである
。
次に実施例によって本発明をさらに詳細に説明する。本
発明はこれにより限定されるものではない。配合量は重
量%である。
6− (実施例]、2. 3. 4. 5.比例列1. 2.
 3. 4)(製法) ■に■を加え湿潤した後■を加え充分攪拌し加熱熔解し
た後35°Cまで冷却してネールエナメル用下地剤を得
た。
(効果) パネルの手の爪に実際に塗布して効果の判定を行った。
判定は10人のパネルの左右の部位別の手指の爪に試料
が重複しないように割振り下地剤を塗布乾燥後その上か
らネールエナメルを塗布し日常の生活をしてもらい24
時間後にネールエナメルの状態を観察するという実使用
テストにより、ネールエナメルの剥れキズ、ネールエナ
メルの除去のし易さ、試料の塗布のし易さ、試料の塗布
後の乾燥性を感能評価する方法によった。実施例1乃至
5と比較例1乃至4及び下地剤を使わずネールエナメル
を爪に直接塗布したB1.ankの実使用テストによる
判定結果を(表−1)に示す。
(表−1) 一〇− (表−1)の実使用テスト結果及び工場生産性の評価か
ら明らかなように、本発明によるネイルエナメル用下地
剤は、ネールエナメルの除去を除去液を使わずに極めて
容易に成らしめるすJ果に優れ、しかもネールエナメル
の機能を損なうことがないことが確認された。
(実施例−6) (重量%) ■ ポリビニルアルコール 15 ■ カルボキシメチルセルロース 5 ■ グリセリン 5 ■ イソプロピルアルコール 20 ■ イオン交換水 54.7 ■ 香料 0.1 ■ 防腐剤 0.2 (製法) ■の主要部に■と■を加え湿潤した後■と■を加え充分
攪拌し加熱熔解した後35°Cまで冷却し、これに、■
の残部に■と■を加えて攪拌溶解したものを加えて充分
攪拌混合しネールエナメル用下地剤を得た。
=10− 実施例−1と同様にして実使用テストを行った結果、ネ
ールエナメルの剥がれ傷、ネールエナメルの除去のし易
さ、試料の塗布のし易さ、試料の塗布後の乾燥性等の使
用性が良好で、工場生産性も全く問題のないことが確認
された。
(実施例−7) ■ ポリビニルアルコール 25 ■ ポリビニルピロリドン 5 ■ ポリエチレングリコ−月利5005■ エチルアル
コール 10 ■ イオン交換水 54.7 ■ 香料 0.1 ■ 防腐剤 0.2 (開法) ■の主要部に■と■を加え湿潤した後■と■を加え充分
攪拌し加熱溶解した後35℃まで冷却し、これに、■の
残部に■と■を加えて攪拌溶解したものを加えて充分攪
拌混合しネールエナメル用下地剤を得た。
尚、本発明のネールエナメル用下地剤は、水溶性高分子
を主成分としており、実使用において水洗時等に水によ
って下地剤の被膜が再溶解あるいは膨潤したりしてネー
ルエナメルが剥れたり、浮き上がったりする懸念が危具
されたが、下地剤の被膜はネールエナメルと爪に密着し
ており実使用テス1の結果でも上記のような問題は全く
なかった。
特許出願人 株式会社 資 生 堂

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 水溶性高分子と、アルコールと、水とを配合することを
    特徴とするネールエナメル用下地剤。
JP9211084A 1984-05-09 1984-05-09 ネ−ルエナメル用下地剤 Pending JPS60237010A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9211084A JPS60237010A (ja) 1984-05-09 1984-05-09 ネ−ルエナメル用下地剤

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9211084A JPS60237010A (ja) 1984-05-09 1984-05-09 ネ−ルエナメル用下地剤

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60237010A true JPS60237010A (ja) 1985-11-25

Family

ID=14045288

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9211084A Pending JPS60237010A (ja) 1984-05-09 1984-05-09 ネ−ルエナメル用下地剤

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60237010A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4897261A (en) * 1985-11-09 1990-01-30 Shiseido Company Ltd. Fingernail cosmetic composition
JPH03161420A (ja) * 1989-11-20 1991-07-11 Nikko Kakozai Kk マニキュア用補助液
WO1992016185A1 (de) * 1991-03-16 1992-10-01 Dr. Scheller Cosmetics Gmbh Nagellack und verwendung desselben
JP2016079167A (ja) * 2014-10-21 2016-05-16 ジェイシー コリア コーポレーションJc Korea Corp. ネイルポリッシュ除去用組成物、及びそれを含むネイルポリッシュ除去用キット

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WO1992016185A1 (de) * 1991-03-16 1992-10-01 Dr. Scheller Cosmetics Gmbh Nagellack und verwendung desselben
JP2016079167A (ja) * 2014-10-21 2016-05-16 ジェイシー コリア コーポレーションJc Korea Corp. ネイルポリッシュ除去用組成物、及びそれを含むネイルポリッシュ除去用キット

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