JPS6023833B2 - 多段自動回分式連続製麹装置 - Google Patents
多段自動回分式連続製麹装置Info
- Publication number
- JPS6023833B2 JPS6023833B2 JP13203281A JP13203281A JPS6023833B2 JP S6023833 B2 JPS6023833 B2 JP S6023833B2 JP 13203281 A JP13203281 A JP 13203281A JP 13203281 A JP13203281 A JP 13203281A JP S6023833 B2 JPS6023833 B2 JP S6023833B2
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- Japan
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- koji
- culture
- culture bed
- chamber
- bed
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は多段自動回分式連続製麹装置に関するものであ
る。
る。
自動製麹工程は従来よりあるが、麹基質の盛込、手入、
出麹から排出に至る製麹工程をバッチ処理として自動化
した所謂回転円盤式のものであったため、製麹工程を平
面的に配列せざるを得ず、バッチ処理用の機器を平面的
に設置するを余儀なくされ、装置が平面的に大がかりな
ものとなって大きな設置面積を必要としていた。
出麹から排出に至る製麹工程をバッチ処理として自動化
した所謂回転円盤式のものであったため、製麹工程を平
面的に配列せざるを得ず、バッチ処理用の機器を平面的
に設置するを余儀なくされ、装置が平面的に大がかりな
ものとなって大きな設置面積を必要としていた。
又各培養床上における麹基質の移動は、該麹基質を一旦
外側に出してから次の段へ移動することによりこれを行
なわざるを得ないため、麹基質が多少培養床へ残るのを
避けられず、その都度残存した麹基質を培養床上から排
除しなければならず、「自動」とは名ばかりで、完全な
自動化を果たし得てし、な、L、ものであった。そこで
従来特公昭51一47797号公報により、培養床を上
下方向多段に配置し、麹基質を上方の培養床から順次下
方の培養床に垂直落下させてゆきつつ、麹基質に発芽、
生育、熟成等の製麹工程を順次行なわせるようにし、こ
れにより製麹工程を竪に配列し得て装置が平面的に大き
くならず、設贋面積を極めて小さくできると共に、製麹
工程を完全に自動化して連続製麹を行なうことができ、
従来装置の上記問題点を一挙に解決可能であるようにし
た多段自動連続製麹装置が提案されている。
外側に出してから次の段へ移動することによりこれを行
なわざるを得ないため、麹基質が多少培養床へ残るのを
避けられず、その都度残存した麹基質を培養床上から排
除しなければならず、「自動」とは名ばかりで、完全な
自動化を果たし得てし、な、L、ものであった。そこで
従来特公昭51一47797号公報により、培養床を上
下方向多段に配置し、麹基質を上方の培養床から順次下
方の培養床に垂直落下させてゆきつつ、麹基質に発芽、
生育、熟成等の製麹工程を順次行なわせるようにし、こ
れにより製麹工程を竪に配列し得て装置が平面的に大き
くならず、設贋面積を極めて小さくできると共に、製麹
工程を完全に自動化して連続製麹を行なうことができ、
従来装置の上記問題点を一挙に解決可能であるようにし
た多段自動連続製麹装置が提案されている。
しかしこの装置は、各培養床を1回転で丁度盛込麹の要
求される培養が完了するよう常時低速回転させ、1回転
したら必ず培養床を構成する通気性扇形棚の1個を垂直
関位鷹となし、この扇形棚上における麹基質を下段の培
養床上に落下させるようにしたものであり、以下の問題
を生じていた。
求される培養が完了するよう常時低速回転させ、1回転
したら必ず培養床を構成する通気性扇形棚の1個を垂直
関位鷹となし、この扇形棚上における麹基質を下段の培
養床上に落下させるようにしたものであり、以下の問題
を生じていた。
即ち、培養床の上記低速回転は、これに盛込まれたばか
りの初期麹基質と、落下直前の後期麹基質との間で菌糸
の発育状態が大きく異なり、このように菌糸発育状態の
大きく異なる麹基質を同一培養床上に混在させることに
なる。
りの初期麹基質と、落下直前の後期麹基質との間で菌糸
の発育状態が大きく異なり、このように菌糸発育状態の
大きく異なる麹基質を同一培養床上に混在させることに
なる。
そして、菌糸の発育が未だそれ程進んでない麹基質層は
通気量が必要以上に大となり熱を奪われて発育が遅れ所
調冷麹となる傾向があり、逆に、菌糸の発育が十分進ん
だ麹基質層は通気がままならす、麹の出す熱を冷やすこ
とができないため所謂暁麹となる煩向がある。このため
品質不良の麹ができるのを避けられない。なお、菌糸の
発育が進んだ麹基質層にも所定の通気が行なわれるよう
供給空気圧を高めると、麹基質層が供給空気流により培
養床から上昇剥離されるといった重大なトラブルさせ発
生する。
通気量が必要以上に大となり熱を奪われて発育が遅れ所
調冷麹となる傾向があり、逆に、菌糸の発育が十分進ん
だ麹基質層は通気がままならす、麹の出す熱を冷やすこ
とができないため所謂暁麹となる煩向がある。このため
品質不良の麹ができるのを避けられない。なお、菌糸の
発育が進んだ麹基質層にも所定の通気が行なわれるよう
供給空気圧を高めると、麹基質層が供給空気流により培
養床から上昇剥離されるといった重大なトラブルさせ発
生する。
又、いずれか1個の扇形棚が常時垂直開位置にあること
から、他の水平閉位置にある扇形棚上の麹基質層に通過
させるべき空気が、1個の垂直開位置にある扇形棚によ
って提供され続ける関口部を経て漏れてしまい、全体的
に通気不足となる問題を生ずる。かと言ってこの問題解
決のため供給空気圧を高くするのでは、製麹装置の運転
費用が嵩み、実用的でない。本発明は製麹を連続的なが
ら所定の培養は回分式とすることにより、即ち上下方向
に整列配置した各培養床の麹基質を載せるべき多数の通
気性セクタリーフを全て製麹中は水平閉位置となしてお
き、所定の回分式培養完了後これらセクタリーフを培養
床の回転中順次連続的に重力により垂直開位魔となして
麹基質を下段の培養床上に落下させることにより次の回
分式培養を行なうという手順を繰返しつつ、麹の素熟成
を進行させるような構成とした多段自動回分式連続製麹
装置を提供し、もって上述の各種問題を解決しようとす
るものである。
から、他の水平閉位置にある扇形棚上の麹基質層に通過
させるべき空気が、1個の垂直開位置にある扇形棚によ
って提供され続ける関口部を経て漏れてしまい、全体的
に通気不足となる問題を生ずる。かと言ってこの問題解
決のため供給空気圧を高くするのでは、製麹装置の運転
費用が嵩み、実用的でない。本発明は製麹を連続的なが
ら所定の培養は回分式とすることにより、即ち上下方向
に整列配置した各培養床の麹基質を載せるべき多数の通
気性セクタリーフを全て製麹中は水平閉位置となしてお
き、所定の回分式培養完了後これらセクタリーフを培養
床の回転中順次連続的に重力により垂直開位魔となして
麹基質を下段の培養床上に落下させることにより次の回
分式培養を行なうという手順を繰返しつつ、麹の素熟成
を進行させるような構成とした多段自動回分式連続製麹
装置を提供し、もって上述の各種問題を解決しようとす
るものである。
以下、図示の実施例により本発明を詳細に説明する。
第1図及び第2図は本発明製麹装置Aの全体を示し、図
中1は地上に敷設した竪型の密閉建屋で、この建屋1内
に中空の中央柱2を立設する。
中1は地上に敷設した竪型の密閉建屋で、この建屋1内
に中空の中央柱2を立設する。
建屋1内には更に複数個(図示例では8個)の円形の水
平培養床3を順次上下方向に整列配置して、又建屋1の
半円側壁部に接触させて設け、上方より3段目の培養床
3−3、6段目の培養床3−6、8段目(最下段)の培
養床3−8及びこれら培養床と建屋1の半円側壁部以外
の側壁部との間に延在させて構架した3個の隔壁4〜6
により建屋1内を製麹工程別に上方より順次発芽室7、
生育室8及び熟成室9に3分割する。かくて、室7〜9
内に夫々培養時間に応じた段数(発芽室7には3段、生
育室8には3段、熟成室9には2段)の水平培養床3が
存在することとなる。各培養床3は全て同様な構成とし
、これに第3図乃至第5図の如く円環状に枠粗みしたフ
レーム10と、これに取付けるべき多数のセクタリーフ
1 1とを設ける。各セクタリーフ1 1は金網又は多
孔板で扇形に構成し、該セクタリーフの両端をピン12
によりフレーム10の内外周緑に枢支しつつフレーム1
0の円周方向に順次隙間なく配列して、フレーム10の
円環状枠組空間を塞ぐ。そして、セクタリーフ11によ
り提供される培養床の円環状床部の内外周縁上に円環状
スカート13を延在させて設け、これにより当該床部上
に支持された麹基質Kが床部からはみ出さないようにし
、スカート13を建屋1の半円状側壁部及び中央柱2に
固定する。スカート13の外周壁及び中央柱2に固着し
てェャチヤンバ14を設け、このヱャチャンバにより上
記床部の下方に密閉空間を形成する。なお、発芽室7内
の培養床(上3段の培養床)3のうち上2段の培養床は
ェャチャンバ14を特に必要とせず、本例では第2図の
如くこのヱャチヤンバのないものとしてこれら培養床を
構成した。
平培養床3を順次上下方向に整列配置して、又建屋1の
半円側壁部に接触させて設け、上方より3段目の培養床
3−3、6段目の培養床3−6、8段目(最下段)の培
養床3−8及びこれら培養床と建屋1の半円側壁部以外
の側壁部との間に延在させて構架した3個の隔壁4〜6
により建屋1内を製麹工程別に上方より順次発芽室7、
生育室8及び熟成室9に3分割する。かくて、室7〜9
内に夫々培養時間に応じた段数(発芽室7には3段、生
育室8には3段、熟成室9には2段)の水平培養床3が
存在することとなる。各培養床3は全て同様な構成とし
、これに第3図乃至第5図の如く円環状に枠粗みしたフ
レーム10と、これに取付けるべき多数のセクタリーフ
1 1とを設ける。各セクタリーフ1 1は金網又は多
孔板で扇形に構成し、該セクタリーフの両端をピン12
によりフレーム10の内外周緑に枢支しつつフレーム1
0の円周方向に順次隙間なく配列して、フレーム10の
円環状枠組空間を塞ぐ。そして、セクタリーフ11によ
り提供される培養床の円環状床部の内外周縁上に円環状
スカート13を延在させて設け、これにより当該床部上
に支持された麹基質Kが床部からはみ出さないようにし
、スカート13を建屋1の半円状側壁部及び中央柱2に
固定する。スカート13の外周壁及び中央柱2に固着し
てェャチヤンバ14を設け、このヱャチャンバにより上
記床部の下方に密閉空間を形成する。なお、発芽室7内
の培養床(上3段の培養床)3のうち上2段の培養床は
ェャチャンバ14を特に必要とせず、本例では第2図の
如くこのヱャチヤンバのないものとしてこれら培養床を
構成した。
又発芽室7内における上2段の培養床はその床部、即ち
セクタリーフ11を旨板で構成しても差支えない。なお
、最下段の培養床3−8はェヤチャンバ14を持たない
ものとして図示しているが本例では建屋1の下部に隔壁
6で仕切って画成した室を培養床3一8のェャチャンバ
として利用する。中央柱2の外周面及びェャチャンバ1
4の周壁内面に夫々ローラ15を円周方向に多数個回転
自在に設け、これらのローラ上にフレーム10の内外周
緑を載せて、該フレームを回転自在に支持し、中央柱2
に回転自在に設けた4個のローラ16によりフレーム1
0を径方向に位置規制してローラー5上に支持しておく
。
セクタリーフ11を旨板で構成しても差支えない。なお
、最下段の培養床3−8はェヤチャンバ14を持たない
ものとして図示しているが本例では建屋1の下部に隔壁
6で仕切って画成した室を培養床3一8のェャチャンバ
として利用する。中央柱2の外周面及びェャチャンバ1
4の周壁内面に夫々ローラ15を円周方向に多数個回転
自在に設け、これらのローラ上にフレーム10の内外周
緑を載せて、該フレームを回転自在に支持し、中央柱2
に回転自在に設けた4個のローラ16によりフレーム1
0を径方向に位置規制してローラー5上に支持しておく
。
そして、ェャチャンバ14の周壁内面には円環状のレー
ル17を敷設し、このレール上に載るよう各セクタリー
フ11に設けたりーフコロ18で各セクタリーフ11を
培養床3の床部を提供可能な閉回動&直に抑止する。フ
レーム10の外周縁にピン歯車19を設け、これに噛合
するスプロケット20を各培養床に共通な1個の駆動鱗
21に固設し、該駆動軸を駆動装置22によって回転す
る。
ル17を敷設し、このレール上に載るよう各セクタリー
フ11に設けたりーフコロ18で各セクタリーフ11を
培養床3の床部を提供可能な閉回動&直に抑止する。フ
レーム10の外周縁にピン歯車19を設け、これに噛合
するスプロケット20を各培養床に共通な1個の駆動鱗
21に固設し、該駆動軸を駆動装置22によって回転す
る。
かくて、駆動装置22の作動により各培養床3のフレー
ム10及びこれに枢支したセクタリーフ11は軸21及
びピン歯車19を介し同時に同一速度で同一方向へ回転
駆動可能である。ェヤチャンバ14はその内部に後述す
る調室手段からの調整空気をダンパ23を経て送り込ま
れ、該調整空気をセクタリーフ11、即ち培養床の床郡
上に盛込まれた麹基質Kに平均に分配して通流させるた
めのものであるが、このェャチャンバ14の底部上にこ
ばれた麹基質を洗い流すために、該ェャチヤンバ内に環
状のシャワーパイプ24を設けると共に、ェャチヤンバ
14の底部を中央柱2に向け傾斜させて、シャワーパイ
プ24からの水又は温水により洗い流された麹基質を当
該水又は温水と共にェャチャンバ14の底部中心に集め
、これらを適宜開閉可能な中央柱2の排水ゲート25よ
り中央柱2の中空孔を経て製麹装置外へ排除し得るよう
にする。
ム10及びこれに枢支したセクタリーフ11は軸21及
びピン歯車19を介し同時に同一速度で同一方向へ回転
駆動可能である。ェヤチャンバ14はその内部に後述す
る調室手段からの調整空気をダンパ23を経て送り込ま
れ、該調整空気をセクタリーフ11、即ち培養床の床郡
上に盛込まれた麹基質Kに平均に分配して通流させるた
めのものであるが、このェャチャンバ14の底部上にこ
ばれた麹基質を洗い流すために、該ェャチヤンバ内に環
状のシャワーパイプ24を設けると共に、ェャチヤンバ
14の底部を中央柱2に向け傾斜させて、シャワーパイ
プ24からの水又は温水により洗い流された麹基質を当
該水又は温水と共にェャチャンバ14の底部中心に集め
、これらを適宜開閉可能な中央柱2の排水ゲート25よ
り中央柱2の中空孔を経て製麹装置外へ排除し得るよう
にする。
環状レール17は第6図及び第7図に示すようにその一
部を第1リンク17a及び第2リンク17bで構成し、
これらリンクを相互に蓮節すると共に、第1リンク17
aから遠い第2リンク17bの端部をレール17の対応
端部に蓮節する。
部を第1リンク17a及び第2リンク17bで構成し、
これらリンクを相互に蓮節すると共に、第1リンク17
aから遠い第2リンク17bの端部をレール17の対応
端部に蓮節する。
そして、リンク17a,17bの直下におけるェャチヤ
ンバ14の底部分を開閉蓋26とし、この開閉蓋により
開閉されるヱャチャンバ底部分周囲にホッパ27を設け
る。第2リンク17bとしール17との間にシリンダ等
の作動装置28を架設し、該シリンダの収縮に応動する
りンク17bの第6図に示す回動時、これにともなわれ
てリンク17aが水平状態を保つたまま第7図に示す上
昇位置から第6図の位置へ下降するようリンク17aを
案内するガイド(図示せず)をェャチャンバ14に設け
る。又、開閉蓋26はワイヤ29及びばね30を介して
第1リンク17aに連結し、該第1リンクの上記上下動
に応動させるようにし、第1リンク17aの第6図に示
す下降位置で開き、第7図に示す上昇位置で閉じるよう
にする。又、開閉蓋26の開位置では、これがェャチャ
ンバ14に設けたパツキン31にばね30のばね力で押
付けられ、ェャチャンバ14に対する封止がなされるよ
うにする。かくて、第7図の如くシリンダ28の伸長で
リンク17a,17bがレール17に整列した状態にあ
る場合、これらの上を各セクタリーフ11のリーフコロ
18が転動し、各セクタリーフ11は水平に整列した閉
位置のまま第7図の矢印方向へフレーム10と共に回転
駆動される。
ンバ14の底部分を開閉蓋26とし、この開閉蓋により
開閉されるヱャチャンバ底部分周囲にホッパ27を設け
る。第2リンク17bとしール17との間にシリンダ等
の作動装置28を架設し、該シリンダの収縮に応動する
りンク17bの第6図に示す回動時、これにともなわれ
てリンク17aが水平状態を保つたまま第7図に示す上
昇位置から第6図の位置へ下降するようリンク17aを
案内するガイド(図示せず)をェャチャンバ14に設け
る。又、開閉蓋26はワイヤ29及びばね30を介して
第1リンク17aに連結し、該第1リンクの上記上下動
に応動させるようにし、第1リンク17aの第6図に示
す下降位置で開き、第7図に示す上昇位置で閉じるよう
にする。又、開閉蓋26の開位置では、これがェャチャ
ンバ14に設けたパツキン31にばね30のばね力で押
付けられ、ェャチャンバ14に対する封止がなされるよ
うにする。かくて、第7図の如くシリンダ28の伸長で
リンク17a,17bがレール17に整列した状態にあ
る場合、これらの上を各セクタリーフ11のリーフコロ
18が転動し、各セクタリーフ11は水平に整列した閉
位置のまま第7図の矢印方向へフレーム10と共に回転
駆動される。
しかし、シリンダ28の収納でリンク17a,17bが
夫々第6図のように下降及び回敷すると、同図矢印方向
へフレーム10と共に回転する各セクタリーフ11はリ
ンク17a,17b上に達した位置で、リーフコロ18
がリンク17a,17bにより支持され得ず落下するた
め、ピン12の周りに回動して垂れ下がる。これがため
、各セクタリーフ11上の麹基質Kはホツパ27により
案内されながら、この時開閉蓋26により開いたェャチ
ヤンバ14の底部閉口を経て落下され、直下の培養床に
供給され得る。かかる麹基質Kの落下供給は、その移動
過程を上から1段目、2段目、3段目の培養床3につい
て示す第8図の如く、該麹基質を解砕器32又は32′
により解きほぐしながらこれを行なうが、麹基質の綴り
がある上から1段目、2段目及び5段目の培養床につい
ては解砕器32を、又麹基質の縦りが少なくなる上から
3段目、6段目、7段目及び8段目の培養床については
解砕器32′を夫々用い、上から4段目の培養床につい
ては、菌糸がまだ張っておらず麹基質が落下中自然に解
きほぐされるため、いずれの鱗砕器32,32′も設け
る必要がない。
夫々第6図のように下降及び回敷すると、同図矢印方向
へフレーム10と共に回転する各セクタリーフ11はリ
ンク17a,17b上に達した位置で、リーフコロ18
がリンク17a,17bにより支持され得ず落下するた
め、ピン12の周りに回動して垂れ下がる。これがため
、各セクタリーフ11上の麹基質Kはホツパ27により
案内されながら、この時開閉蓋26により開いたェャチ
ヤンバ14の底部閉口を経て落下され、直下の培養床に
供給され得る。かかる麹基質Kの落下供給は、その移動
過程を上から1段目、2段目、3段目の培養床3につい
て示す第8図の如く、該麹基質を解砕器32又は32′
により解きほぐしながらこれを行なうが、麹基質の綴り
がある上から1段目、2段目及び5段目の培養床につい
ては解砕器32を、又麹基質の縦りが少なくなる上から
3段目、6段目、7段目及び8段目の培養床については
解砕器32′を夫々用い、上から4段目の培養床につい
ては、菌糸がまだ張っておらず麹基質が落下中自然に解
きほぐされるため、いずれの鱗砕器32,32′も設け
る必要がない。
又、麹基質の落下供給はいずれも、駆動装置22(第2
図及び第5図参照)により前述の如くに各培養床を回転
させながら行なうが、下の培養床が空になった段階でこ
れに対する上の培養床からの麹基質の落下供給を行ない
、各段の麹基質が煽らぬようにすると共に、落下供給を
受ける培養床はしール17のリンク17a,17bを第
7図の如き上昇及び回動位置に後帰させておくこと勿論
である。更に、かように回転しながら麹基質の供給を受
ける培養床は固定のスクレィパー33を第8図の如く具
え、これにより落下供給された麹基質の層厚を均等にす
ると共に、この麹基質を培養床上に一様に分配し得るよ
うにする。鱗砕器32は第9図に示すように、スカート
13の閉口部に回転自在に横架した解砕プレード34と
、これを回転駆動するギャードモ−夕、油圧モータ等の
駆動装置35とで構成し、ブレード34の回転により麹
基質の鱗砕を可能にするものである。
図及び第5図参照)により前述の如くに各培養床を回転
させながら行なうが、下の培養床が空になった段階でこ
れに対する上の培養床からの麹基質の落下供給を行ない
、各段の麹基質が煽らぬようにすると共に、落下供給を
受ける培養床はしール17のリンク17a,17bを第
7図の如き上昇及び回動位置に後帰させておくこと勿論
である。更に、かように回転しながら麹基質の供給を受
ける培養床は固定のスクレィパー33を第8図の如く具
え、これにより落下供給された麹基質の層厚を均等にす
ると共に、この麹基質を培養床上に一様に分配し得るよ
うにする。鱗砕器32は第9図に示すように、スカート
13の閉口部に回転自在に横架した解砕プレード34と
、これを回転駆動するギャードモ−夕、油圧モータ等の
駆動装置35とで構成し、ブレード34の回転により麹
基質の鱗砕を可能にするものである。
解砕器32′は第10図に示すように、解砕器32と同
様の配置とするが、鱗砕歯36を臭え、これを固定ロッ
ド37により上下方向へ案内する。
様の配置とするが、鱗砕歯36を臭え、これを固定ロッ
ド37により上下方向へ案内する。
そして、歯36を2対のりンク38を介しェャシリンダ
又は油圧シリンダ39に連結し、該シリンダの伸縮動作
によりリンク38を介して歯36を上下動させ、かかる
歯36の上下動により麹基質を解砕可能とする。本発明
において更に第2図に示す如く、最上段における培養床
の上方に盛込機40を設置し、これに第2A図の如く供
孫溝機41を介してルーツプロヮ42を接続する(接続
箇所を第2図及び第2A図にaで示す)と共に、ルーツ
ブロワ42の空気吸入口にェャフィルタ43を設ける。
又は油圧シリンダ39に連結し、該シリンダの伸縮動作
によりリンク38を介して歯36を上下動させ、かかる
歯36の上下動により麹基質を解砕可能とする。本発明
において更に第2図に示す如く、最上段における培養床
の上方に盛込機40を設置し、これに第2A図の如く供
孫溝機41を介してルーツプロヮ42を接続する(接続
箇所を第2図及び第2A図にaで示す)と共に、ルーツ
ブロワ42の空気吸入口にェャフィルタ43を設ける。
これらにより、麹基質供給手段を構成し、供給機41に
投入した麹基質Kをルーツプロワ42からの空気により
盛込機40を経て最上段の回転駆動されている培養床3
上に盛込み得るものとする。又、同じく第2図に示すよ
うに最下段の培養床3の下方に、該培養床から前述の如
く落下してくる熟成麹を受止めるベルトコンベヤ44を
設け、該コンベヤにより搬送されてくる熟成麹を受止め
る供孫合機45を設ける。
投入した麹基質Kをルーツプロワ42からの空気により
盛込機40を経て最上段の回転駆動されている培養床3
上に盛込み得るものとする。又、同じく第2図に示すよ
うに最下段の培養床3の下方に、該培養床から前述の如
く落下してくる熟成麹を受止めるベルトコンベヤ44を
設け、該コンベヤにより搬送されてくる熟成麹を受止め
る供孫合機45を設ける。
この供給機は第2B図の如く前記麹基質供孫笹手段を用
いたと同じルーツブロワ42に接続し(接続箇所を第2
図及び第2B図にbで示す)。コンベヤ44、供給機4
5、ルーツプロワ42で熟成麹を製麹装置外に空気搬出
する出麹手段を構成する。又、本発明においては第2図
に示すように生育室8及び熟成室9に各1個の調室器4
6を設けて調室手段を構成し、これら調室器46は第1
1図に明示する構成とし、第2図にc,dで示す如き対
応する室8,9からの循環空気をブロワ47により送り
込まれ、この空気をフィルター48′により除摩する。
いたと同じルーツブロワ42に接続し(接続箇所を第2
図及び第2B図にbで示す)。コンベヤ44、供給機4
5、ルーツプロワ42で熟成麹を製麹装置外に空気搬出
する出麹手段を構成する。又、本発明においては第2図
に示すように生育室8及び熟成室9に各1個の調室器4
6を設けて調室手段を構成し、これら調室器46は第1
1図に明示する構成とし、第2図にc,dで示す如き対
応する室8,9からの循環空気をブロワ47により送り
込まれ、この空気をフィルター48′により除摩する。
その後該空気中に、一定溢度の温水を噴霧する温水シャ
ワ−スプレー48及び冷水を暖姦する冷水シャワースプ
レー49からの温水及び冷水を吹付け、空気を加湿する
と共に、冷水の量を加減することにより温度を調節する
。このようにして温度及び湿度を調整された空気は、藤
が送り込まれることのないようにこれをデミスター5川
こより霧落しされた後、前記ダンパ23を経て対応する
室8,9内の各培養床3に設けたェャチャンバ14内に
流入し、これらェャチャンバから対応する培養床上の麹
基質層に通過し、対応する室8,9毎に集合されてc,
dで示す如く再び調室器46に循環する。なお、第11
図中51は連動ダンパ、51は加熱コイルで、連動ダン
パ51は外気の敬入れと、排気を適宜行なって、上記の
調室機能のみでは完全な調室を行なえない時、これを補
助する用をなし、又加熱コイル52は製麹装置の運転開
始時における加温と、シャワーパイプ24(第5図参照
)により製麹装置の洗浄後における乾燥とを促進する用
をなす。
ワ−スプレー48及び冷水を暖姦する冷水シャワースプ
レー49からの温水及び冷水を吹付け、空気を加湿する
と共に、冷水の量を加減することにより温度を調節する
。このようにして温度及び湿度を調整された空気は、藤
が送り込まれることのないようにこれをデミスター5川
こより霧落しされた後、前記ダンパ23を経て対応する
室8,9内の各培養床3に設けたェャチャンバ14内に
流入し、これらェャチャンバから対応する培養床上の麹
基質層に通過し、対応する室8,9毎に集合されてc,
dで示す如く再び調室器46に循環する。なお、第11
図中51は連動ダンパ、51は加熱コイルで、連動ダン
パ51は外気の敬入れと、排気を適宜行なって、上記の
調室機能のみでは完全な調室を行なえない時、これを補
助する用をなし、又加熱コイル52は製麹装置の運転開
始時における加温と、シャワーパイプ24(第5図参照
)により製麹装置の洗浄後における乾燥とを促進する用
をなす。
かくて、謙室器46は上述したようにして、生育室8内
及び熟成室9内を夫々常時製麹に適した温度及び湿度条
件に保つことができる。
及び熟成室9内を夫々常時製麹に適した温度及び湿度条
件に保つことができる。
上述の構成とした本発明装置の作用を次に説明する。
本発明装置の作動に当っては、先ず盛込機40より前述
したように麹基質を最上段の培養床3上に投入して盛込
む。
したように麹基質を最上段の培養床3上に投入して盛込
む。
この盛込みは該培養床を駆動手段22(第2図及び第5
図参照)により前述の如く回転駆動しつつ行ない、これ
により麹基質を培養床上に一様な円環状に載畳する。又
、培養床の回転中スクレィパ33(第8図参照)は盛込
まれた麹基質層の上面をならし、その層厚を一定にして
、麹基質の培養を全体的にむらなく行なわせることがで
きる。かようにして麹基質の培養が所定通り行なわれる
一定時間(例えば5時間)経過後、最上段の培養床3は
第6図につき前述した作用により培養床を下段の培養床
上に落下供給し、該培養床も最上段の培養床と同様にし
て麹基質の培養を行なう。ところで、最上段の培養床は
麹基質の供V給完了で空になると、再び第7図の状態に
復帰し、次の麹基質を上述したと同様に藤込機40から
受取って、その培養を開始する。
図参照)により前述の如く回転駆動しつつ行ない、これ
により麹基質を培養床上に一様な円環状に載畳する。又
、培養床の回転中スクレィパ33(第8図参照)は盛込
まれた麹基質層の上面をならし、その層厚を一定にして
、麹基質の培養を全体的にむらなく行なわせることがで
きる。かようにして麹基質の培養が所定通り行なわれる
一定時間(例えば5時間)経過後、最上段の培養床3は
第6図につき前述した作用により培養床を下段の培養床
上に落下供給し、該培養床も最上段の培養床と同様にし
て麹基質の培養を行なう。ところで、最上段の培養床は
麹基質の供V給完了で空になると、再び第7図の状態に
復帰し、次の麹基質を上述したと同様に藤込機40から
受取って、その培養を開始する。
以下、同様の作動により麹基質は所定の培養が完了する
度に下段の培養床上に順次落下供給されてゆき、最下段
の培養床から落下される熟成麹はコンベヤ44により受
止められて供給機45に送り込まれ、前述したようにし
て製麹装置外に連続的に空気搬送され、出麹される。
度に下段の培養床上に順次落下供給されてゆき、最下段
の培養床から落下される熟成麹はコンベヤ44により受
止められて供給機45に送り込まれ、前述したようにし
て製麹装置外に連続的に空気搬送され、出麹される。
かくして本発明装置は上述の如く、培養床3を上下方向
多段に配置し、麹基質を上方の培養床から順次下方の培
養床に垂直落下させてゆきつつ、麹基質に発芽、生育、
熟成等の製麹工程を順次行なわせるよう緩成したから、
製麹工程が竪に配列されることとなり、装置を平面的に
大きくする必要がなくなってその設置面積を極めて小さ
くできる。
多段に配置し、麹基質を上方の培養床から順次下方の培
養床に垂直落下させてゆきつつ、麹基質に発芽、生育、
熟成等の製麹工程を順次行なわせるよう緩成したから、
製麹工程が竪に配列されることとなり、装置を平面的に
大きくする必要がなくなってその設置面積を極めて小さ
くできる。
又、例えば図示例の構成により、麹基質のこばれによる
装置の汚染を洗浄する作動、生育室8及び熟成室9内を
調湿、調溢する作動を含め、装置を完全に自動化するこ
とができ、連続製麹が可能であると共に、製麹工程室が
全て単一の建屋1内にあるため、製麹状態及び調室工合
の管理を一括して行なえ、当該管理を極めて要易に遂行
可能である等の諸特長を兼備する。しかも本発明装置は
、各培養床3を回転駆動されるフレーム10と、このフ
レームにその半径方向へ延在する軸線12の周りで個々
に重力により垂直開位置(第6図参照)に回動可能な多
数の通気性セクタリーフ11とで構成し、これらセクタ
リ−フを製麹中水平閉位置(第7図参照)に支持してフ
レーム10の開口部を塞ぐ固定のレール17を設けると
共に、このレールの一部を所定の回分式培養完了後作動
装置28によりセクタリーフ11から遠去かる下方へ回
敷して対応するセクタリーフを垂直閉位置となし得るリ
ンク17a,17bで構成し、所定の培養床の下面を包
囲するェヤチヤンバ14を設けると共に、垂直開位置に
されたセクタリーフ11の直下におけるェャチャンバ1
4の底部分を開閉蓋26により開閉可能とし、この蓋を
リンク17a,17bの下方回動時開き、上方回動時閉
じるようにリンク17a,17bに連結したから、特に
以下の利点も得られる。
装置の汚染を洗浄する作動、生育室8及び熟成室9内を
調湿、調溢する作動を含め、装置を完全に自動化するこ
とができ、連続製麹が可能であると共に、製麹工程室が
全て単一の建屋1内にあるため、製麹状態及び調室工合
の管理を一括して行なえ、当該管理を極めて要易に遂行
可能である等の諸特長を兼備する。しかも本発明装置は
、各培養床3を回転駆動されるフレーム10と、このフ
レームにその半径方向へ延在する軸線12の周りで個々
に重力により垂直開位置(第6図参照)に回動可能な多
数の通気性セクタリーフ11とで構成し、これらセクタ
リ−フを製麹中水平閉位置(第7図参照)に支持してフ
レーム10の開口部を塞ぐ固定のレール17を設けると
共に、このレールの一部を所定の回分式培養完了後作動
装置28によりセクタリーフ11から遠去かる下方へ回
敷して対応するセクタリーフを垂直閉位置となし得るリ
ンク17a,17bで構成し、所定の培養床の下面を包
囲するェヤチヤンバ14を設けると共に、垂直開位置に
されたセクタリーフ11の直下におけるェャチャンバ1
4の底部分を開閉蓋26により開閉可能とし、この蓋を
リンク17a,17bの下方回動時開き、上方回動時閉
じるようにリンク17a,17bに連結したから、特に
以下の利点も得られる。
即ち、所定の回分式培養完了後次段の培養床3上に麹基
質を盛込むに当り、この培養床はセクタリーフ11を全
て閉じられているため培養時間に関係なく比較的高速回
転させながら当該盛込みを連続的に行なうことができ、
従って各培養床3上における麹基質層に菌糸発育状態を
常時どこでも最適且つ均一に保ち得る。
質を盛込むに当り、この培養床はセクタリーフ11を全
て閉じられているため培養時間に関係なく比較的高速回
転させながら当該盛込みを連続的に行なうことができ、
従って各培養床3上における麹基質層に菌糸発育状態を
常時どこでも最適且つ均一に保ち得る。
このため麹基質層への通気を適量にまんべんに行なうこ
とができ、麹の質を全体的に均一化すると共に冷え麹や
焼け麹等不良品質麹の発生を防止し得て製麹装置の作動
信頼性が向上する。そして麹基質の落下時以外セクタリ
ーフ11が全て水平閉位置に保たれることで、又ェャチ
ヤンバ14の前記構成と相挨つて、供給空気が洩れるこ
となく全て培養床上の麹基質層に通流され、全体的に通
気不足になることがないし、供給空気圧を必要最低限に
低くして製麹装置の運転費を安価にすることができる。
とができ、麹の質を全体的に均一化すると共に冷え麹や
焼け麹等不良品質麹の発生を防止し得て製麹装置の作動
信頼性が向上する。そして麹基質の落下時以外セクタリ
ーフ11が全て水平閉位置に保たれることで、又ェャチ
ヤンバ14の前記構成と相挨つて、供給空気が洩れるこ
となく全て培養床上の麹基質層に通流され、全体的に通
気不足になることがないし、供給空気圧を必要最低限に
低くして製麹装置の運転費を安価にすることができる。
加えて、空気供給管理が個々に必要な培養床3にはェャ
チャンバ14を設け、これを経て空気供給を個々に独立
して行なう構成としたため、麹基質層に応じて空気圧を
個々に好適値に設定でき、各培養床で最適の培養が行な
われるようにすることも可能となって、一層作動の信頼
性を向上させ得る。
チャンバ14を設け、これを経て空気供給を個々に独立
して行なう構成としたため、麹基質層に応じて空気圧を
個々に好適値に設定でき、各培養床で最適の培養が行な
われるようにすることも可能となって、一層作動の信頼
性を向上させ得る。
第1図は本発明多段自動回分式連続製麹装置の横断面図
、第2図は第1図の1−1′断面図、第2A図は本発明
装置における麹基質供給手段の説明図、第2B図は本発
明装置における出麹手段の説明図、第3図は本発明装置
の主要部を構成する培養床の緑図的部分平面図、第4図
は同じくその第3図0ーロ′線上における線図的断面図
、第5図は同培養床を側方から見た全体的略線図、第6
図は同培養床を麹基質落下状態で示す要部側面図、第7
図は同じくその麹基質支持状態を示す第6図と同様の要
部側面図、第8図は培養床間の麹基質落下供給過程説明
図、第9図及び第10図は夫々本発明装置に用いる2種
の鱗砕器を示す略線図、第11図は本発明装置における
調室器の概略側面図である。 1・・・・・・建屋、2・・・…中央柱、3…・・・培
養床、4〜6・・・・・・隔壁、7・・・…発芽室、8
…・・・生育室、9・・・・・・熟成室、10・・・・
・・フレーム、11・・・・・・セクタリーフ、12…
…ピン、13……スカート、14……ヱヤチヤンバ、1
5,16……ローラ、17……レール、17a,17b
……リンク、18…・・・リーフコロ、19・・・・・
・ピン歯車、20・・・・・・スプロケツト、21・・
…・駆動鞠、22・・・・・・駆動装置、23……ダン
パ、24……シヤワーパイプ、25・・・・・・排水ゲ
ート、26・・…・開閉蓋、27・・・・・・ホッパ、
28…・・・作動装置、29・・・・・・ワイヤ、30
・・・…ばね、31……パツキン、32,32′……解
砕器、33・・・・・・スクレィパ、40・・・・・・
盛込機、41,45・・・・・・供給機、42・・・・
・・ルーツプロワ、43……ヱヤフイルタ、44……ベ
ルトコンベヤ、46・・・・・・調室器、47・・・・
・・ブロワ、48′・・・・・・フィルター、48・…
・・温水シャワースプレー、49…・・・冷水シャワー
スプレー、50……デミスター、51・・・・・・運動
ダンパ、521・・・・・加熱コイル。 第1図第2図 第2図A 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図 第9図 第10図 第11図
、第2図は第1図の1−1′断面図、第2A図は本発明
装置における麹基質供給手段の説明図、第2B図は本発
明装置における出麹手段の説明図、第3図は本発明装置
の主要部を構成する培養床の緑図的部分平面図、第4図
は同じくその第3図0ーロ′線上における線図的断面図
、第5図は同培養床を側方から見た全体的略線図、第6
図は同培養床を麹基質落下状態で示す要部側面図、第7
図は同じくその麹基質支持状態を示す第6図と同様の要
部側面図、第8図は培養床間の麹基質落下供給過程説明
図、第9図及び第10図は夫々本発明装置に用いる2種
の鱗砕器を示す略線図、第11図は本発明装置における
調室器の概略側面図である。 1・・・・・・建屋、2・・・…中央柱、3…・・・培
養床、4〜6・・・・・・隔壁、7・・・…発芽室、8
…・・・生育室、9・・・・・・熟成室、10・・・・
・・フレーム、11・・・・・・セクタリーフ、12…
…ピン、13……スカート、14……ヱヤチヤンバ、1
5,16……ローラ、17……レール、17a,17b
……リンク、18…・・・リーフコロ、19・・・・・
・ピン歯車、20・・・・・・スプロケツト、21・・
…・駆動鞠、22・・・・・・駆動装置、23……ダン
パ、24……シヤワーパイプ、25・・・・・・排水ゲ
ート、26・・…・開閉蓋、27・・・・・・ホッパ、
28…・・・作動装置、29・・・・・・ワイヤ、30
・・・…ばね、31……パツキン、32,32′……解
砕器、33・・・・・・スクレィパ、40・・・・・・
盛込機、41,45・・・・・・供給機、42・・・・
・・ルーツプロワ、43……ヱヤフイルタ、44……ベ
ルトコンベヤ、46・・・・・・調室器、47・・・・
・・ブロワ、48′・・・・・・フィルター、48・…
・・温水シャワースプレー、49…・・・冷水シャワー
スプレー、50……デミスター、51・・・・・・運動
ダンパ、521・・・・・加熱コイル。 第1図第2図 第2図A 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図 第9図 第10図 第11図
Claims (1)
- 1 堅型の密閉建屋内を製麹工程別に上方より順次発芽
室、生育室及び熟成室に3分割し、これら室内に夫々培
養時間に応じた段数づつ水平培養床を順次上下方向に整
列配置して設け、各培養床を連続的に回転駆動されるフ
レームと、該フレームにその半径方向へ延在する軸線の
周りで個々に重力により垂直開位置に回動可能な多数の
通気性セクタリーフとで構成し、所定の回分式培養中こ
れらセクタリーフを水平閉位置に支持して前記フレーム
の開口部を塞ぐ固定のレールを設けると共に、該レール
の一部を、所定の回分式培養後作動装置によりセクタリ
ーフから遠去かる下方へ回動して対応するセクタリーフ
を連続的に垂直開位置となし得るリンクで構成し、所定
の各培養床の下面を包囲するエヤチヤンバを設けると共
に、前記垂直開位置にされたセクタリーフの直下におけ
るエヤチヤンバの底部分を開閉蓋により開閉可能とし、
これら開閉蓋を前記リンクの下方回動時開き、上方回動
時閉じるように該リンクに連結し、前記エヤチヤンバ、
生育室及び熟成室を個々に製麹に適した温度及び湿度条
件に保つ調室手段を設け、最上段の培養床に麹基質を投
下して該培養床上に一定厚さの麹基質層を盛込む麹基質
供給手段を設け、最下段の培養床から垂直落下さた熟成
麹を前記建屋外に取出す出麹手段を設けてなることを特
徴とする多段自動回分式連続製麹装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13203281A JPS6023833B2 (ja) | 1981-08-25 | 1981-08-25 | 多段自動回分式連続製麹装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13203281A JPS6023833B2 (ja) | 1981-08-25 | 1981-08-25 | 多段自動回分式連続製麹装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5836381A JPS5836381A (ja) | 1983-03-03 |
| JPS6023833B2 true JPS6023833B2 (ja) | 1985-06-10 |
Family
ID=15071898
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13203281A Expired JPS6023833B2 (ja) | 1981-08-25 | 1981-08-25 | 多段自動回分式連続製麹装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6023833B2 (ja) |
-
1981
- 1981-08-25 JP JP13203281A patent/JPS6023833B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5836381A (ja) | 1983-03-03 |
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