JPS60241228A - 半導体チツプ - Google Patents

半導体チツプ

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Publication number
JPS60241228A
JPS60241228A JP59096552A JP9655284A JPS60241228A JP S60241228 A JPS60241228 A JP S60241228A JP 59096552 A JP59096552 A JP 59096552A JP 9655284 A JP9655284 A JP 9655284A JP S60241228 A JPS60241228 A JP S60241228A
Authority
JP
Japan
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chip
semiconductor chip
semiconductor
solder
present
Prior art date
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Pending
Application number
JP59096552A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideyuki Yamada
秀行 山田
Kazuo Ito
一夫 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi Computer Engineering Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Computer Engineering Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Computer Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS60241228A publication Critical patent/JPS60241228A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/20Bump connectors, e.g. solder bumps or copper pillars; Dummy bumps; Thermal bumps
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/20Bump connectors, e.g. solder bumps or copper pillars; Dummy bumps; Thermal bumps
    • H10W72/251Materials

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  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、半導体装置に関し、特に半導体チップさらK
は複数の半導体チップを立体的に接続可能とし、高密度
実装を実現できる技術に関する。
〔背景技術〕
半導体チップの実装基板へのポンディング方式の一つに
7リツプチツプボンデイング法がある。
この方法はワイヤを用いないで直接半導体チップ(ヘレ
ット)を基板にフェイスダウンでボンディングする方法
やあり、この方法における半導体チップには、一般に、
ガラス膜などの保護膜で、デバイス表面を保獲し、その
電極部処例えば50〜100μの高さのバンプ(突起電
極)が形成された素子が使用され、このバンプの形成に
は、例えば、CuボールやCuメッキでもつ上げた上に
半田(Pb−8n)コートしたり、直接半田でもつ上げ
るなどの方法がとられる。バンプ電極を有する半導抹チ
ップは、上記電極面を下鳴して、予備半凪付された基板
のタンケクステンWなどから成る場体層に位置合せして
直接押しつけ熱を加えて溶着させる。この方式により基
板上に多数の半導体チップを搭載することができ、いわ
ゆるマルチチップ実装が可能となるが、従来のかかる方
式における半導体チップには半田バンプが一面(上面)
VCシか形成されていないので、あくまでも平面実装に
限られることになる。(フリップチップ方式については
、たとえば工業調査会発行、「IC化実装技術」の81
Pに示されている。)〔発明の目的〕 本発明は半導体チップの高密度実装を実現することを目
的としたものである。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および雄図面からあきらかになるであろ
う、 〔発明の概要〕 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単忙説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、本発明では、例えば半田バンプを半導体チッ
プの上面だけでなく、側面又は(及び)下面にも具備さ
せることにより、半導体チップ同志を自由につなぎ合わ
せることができ、又三次元的な構成も可能とし、前記目
的を達成したものである。
〔実施例] 次に、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は、半田バンプをベレットの上面すなわち、半導
体素子が形成されている側の基板表面上だけでなく、下
面すなわち前記上面に平行な半導体基板の他の表面(裏
面)上にも備えて成る本発明半導体チップの断面を示し
、第1図にて、1は半導体チップで四角形状の上面、下
面及び四側面より成るベレット2の上面に6個の半田バ
ンプ3が形成されているだけでなく、下面にも同数の半
田バンプ4が形成されている。
第2図は、第1図A部の詳細断面図で、第2図にて、5
は半田(Pb−8u)パッド、6は金(Au)メッキ層
、7は銅(Cu)メッキ層、8はクロム(Cr)層、9
はガラス膜で例示されるデバイス表面保護膜、10はア
ルミニウム(Al)■極配線、11はS io2膜など
の熱酸化膜で例示される絶縁膜、12は半導体基板であ
る。このバンプの形成は、例えば第2図に示すように、
Al電極配線10上に、バリア金属(CrJi8−Cu
層7−Au層6)を介して半球状に半田をコートすれば
よい。又バンプの形成は、内部配線を形成したウェハに
ガラス膜あるいにSin、膜を被覆し、ホトレジスト技
術で電極用窓をあけ、次いで、CrあるいはTiを接着
用金属として薄く蒸着し。
た後、バンプ金属を付着し、バンプ部分を残してエツチ
ング除去して形成してもよく、その他各種方法が可能で
ある。
第1図にて、半田バンプ3は図示していないが前述のご
とくAl電極配線10と電気的に接続され、さらに、上
面の半田バンプ3は図示していないがチップ内部で、下
面の半田バンプ4と電気的に接続することができる。本
発明では半田バンプなチップの上面及び下面のみならず
、側面にも有していてもよい。第3図はこの実施例を示
す平面図、第4図は半田バングを上面、下向及び仙1面
にイ6Nえて成る本発明半導体チップの一例を示す拡大
側面図である、これら図において、13は側面に形成さ
れた半田バンプであり、金属膜14により上面半田バン
プ3及び下面半田バンプ4と接続している。第5図は、
本発明半導体チップを複数その半田バンプな介して連結
して、三元的伯成と成したセ11を示し、三元的に構成
された当該チップを実装基板に実装して成る例を示す。
第5図にて、】5は実装基板で、例えばセラミック基板
やプリント基板により構成され、この実装基板15上に
形成された金属導体部(図示せず)と半導体チップの半
田バンプとを位置合せして熱溶着させである。実装基板
15にはその裏面に複数の外部ビン16が突出形成され
ており、半導体チップの内部配線は前記導体部を介し5
て外部ビン16に電気的に接続している。実装基板15
上に搭載された半導体チップは、四個の当該チップによ
りサイコロ状に連結されたチップ部17と、該チップ部
17と連結したL字形状のチップs18と前記チップ部
と連結したチップ部19と該チップ部と連結したチップ
部20とから成っている例を示す。
本発明半導体チップを構成するデバイス12は、例えば
シリコン単結晶基板より、周知の技術によって、このデ
バイス内には多数の回路素子が形成され、1つの回路機
能を与えている、回路素子は、例えばCMO8から成り
、これらの回路素子によって、例えば論理回路やメモリ
回路などの回路機能が形成される。
〔効果〕
半導体チップにその上面のみならず他の面にも半田バン
プが形成されているので、半田バンプを介して複数の半
導体チップ同志を自由に連結することが可能であり、又
、半導体チップの三次元的な実装、畠密度実装が可能で
ある。
以上本発明者によってなされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが、本発明は上記実施例圧限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変史L
IIT能であることはいう丈でもない。たとえば半田バ
ンプはチップ側面あるいは下面にのみ、設けてもよい。
チップの側面九のみ奴け、これを周知のセラミックパッ
ケージのキャビティ内に固着し、側面のバンプとキャビ
ティ内側壁のインナーリードとを接続し、ワイヤボンデ
ィングを省略することもできる。また、前記実施例では
半田バンプを形成する例を示したが、チップ面から突出
した導電体であれば、他の金属ボールのごときものでも
よく、上面及び下面に半田バンプを形成し、側面にAg
ペーストのごとき導電性接着剤により導電体を形成して
もよい。又、本発明においては半導体チップを半田バン
プを介して積層し、立体的に構成することができる。
〔利用分野〕
本発明半導体チップは、広くマルチチップ実装分野に応
用することができる、
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例を示し、 第1図は本発明の実施例を示す断面図、第2図は第1図
A部の詳細を示す拡大断面図、第3図は本発明の他の実
施例を示す平面図、第4図は本発明の他の実施例を示す
側面図、第5図は本発明半導体チップを実装して成る半
導体装置の斜視図である。 −1・・・半導体チップ、2・・・ペレット、3・・・
半田バンプ(上面)、4・・・半田パンダ(下面)、5
・・・半田パッド、67Au 層、7−Cu1flt、
8−Cr1f!、9・・・デバイス表面保眼膜、10・
・・i電極配線、Jl・・・絶縁IiQ、】2・・・半
導体デバイス、13・・・半田バンプ(側面)、14・
・・金属膜、15・・・実装淋板、16・・・外部ピン
、17・・・チップ部、18・・・チップ部、19・・
・チップ部、20・・・チップ部。 第 1 図 ブ 第 2 図 ?

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、上面、下面及び側面を有する半導体チップのこれら
    の面のうち少なくとも二面に、突出した導電体を形成し
    て成る、二以上の半導体チップ同志を立体的に連結する
    ことのできる半導体チップ。 2゜突出した導体部がバンプである、特許請求の範囲第
    1項記載の半導体チップ。
JP59096552A 1984-05-16 1984-05-16 半導体チツプ Pending JPS60241228A (ja)

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JP59096552A JPS60241228A (ja) 1984-05-16 1984-05-16 半導体チツプ

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JP59096552A JPS60241228A (ja) 1984-05-16 1984-05-16 半導体チツプ

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JPS60241228A true JPS60241228A (ja) 1985-11-30

Family

ID=14168235

Family Applications (1)

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JP59096552A Pending JPS60241228A (ja) 1984-05-16 1984-05-16 半導体チツプ

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5533664A (en) * 1993-09-07 1996-07-09 Kabushiki Kaisha Toshiba Method of manufacturing a semiconductor device
US5606198A (en) * 1993-10-13 1997-02-25 Yamaha Corporation Semiconductor chip with electrodes on side surface
US5636104A (en) * 1995-05-31 1997-06-03 Samsung Electronics Co., Ltd. Printed circuit board having solder ball mounting groove pads and a ball grid array package using such a board
US5907786A (en) * 1992-11-11 1999-05-25 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Process for manufacturing a flip-chip integrated circuit
JP2009200173A (ja) * 2008-02-20 2009-09-03 Nec Access Technica Ltd 半導体パッケージ
US8227700B2 (en) 2008-06-13 2012-07-24 Samsung Electronics Co., Ltd. Chip having side protection terminal and package using the chip

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5907786A (en) * 1992-11-11 1999-05-25 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Process for manufacturing a flip-chip integrated circuit
US6204566B1 (en) 1992-11-11 2001-03-20 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Resin encapsulated electrode structure of a semiconductor device, mounted semiconductor devices, and semiconductor wafer including multiple electrode structures
US6284554B1 (en) 1992-11-11 2001-09-04 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Process for manufacturing a flip-chip integrated circuit
US6469397B2 (en) 1992-11-11 2002-10-22 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Resin encapsulated electrode structure of a semiconductor device, mounted semiconductor devices, and semiconductor wafer including multiple electrode structures
US5533664A (en) * 1993-09-07 1996-07-09 Kabushiki Kaisha Toshiba Method of manufacturing a semiconductor device
US5606198A (en) * 1993-10-13 1997-02-25 Yamaha Corporation Semiconductor chip with electrodes on side surface
US5636104A (en) * 1995-05-31 1997-06-03 Samsung Electronics Co., Ltd. Printed circuit board having solder ball mounting groove pads and a ball grid array package using such a board
JP2009200173A (ja) * 2008-02-20 2009-09-03 Nec Access Technica Ltd 半導体パッケージ
US8227700B2 (en) 2008-06-13 2012-07-24 Samsung Electronics Co., Ltd. Chip having side protection terminal and package using the chip

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