JPS60242595A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPS60242595A
JPS60242595A JP59099831A JP9983184A JPS60242595A JP S60242595 A JPS60242595 A JP S60242595A JP 59099831 A JP59099831 A JP 59099831A JP 9983184 A JP9983184 A JP 9983184A JP S60242595 A JPS60242595 A JP S60242595A
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rom
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gate array
column
transistors
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Akira Yonezu
亮 米津
Kazuhiro Sakashita
和広 坂下
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards

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  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To eliminate the need to provide an exclusive area for a ROM in a gate array by constituting the ROM by using transistors (Tr) arrayed laterally in a column in the gate array as information storage and address selection TRs in the same column. CONSTITUTION:Storage blocks 21a-21d, a MOSTr6e, and a logical inversion type buffer 9 are coupled laterally to constitute a ROM main body 22. For example, if a source voltage value appears at a row decoding output 4a and a column decoding output 14 as the result of the decoding of address inputs 2 and 3, and 11 and 12, logic 1 is outputted to an information output terminal 10. Then, when the source voltage value is outputted to a row decoding output 4b and a column output 14a, the potential of a bit line 5f does not varies and logic 0 appears at a terminal 10 because the drain or source of a MOSTr15j is not connected to the source or drain of a MOSTr20a. Thus, the ROM is constituted to eliminate the need to provide the exclusive area for the ROM in the gate array and also forms the ROM efficiently in the gate array.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は半導体集積回路装置、特にMOSゲートアレ
イLSI(以下ゲートアレイと称す)に関し、その内部
に任意の大きさの読み出し専用記憶回路(以下ROMと
称す)が内蔵可能である半導体集積回路装置に関するも
のである。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, particularly a MOS gate array LSI (hereinafter referred to as a gate array), and a read-only memory circuit (hereinafter referred to as a ROM) of an arbitrary size therein. The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device that can have a built-in device.

〔従来技術〕[Prior art]

一般に、MOSトランジスタによるROMは第1図に示
す回路構成を持っている。ここでは16ワード×1ビツ
ト構成のROMについて説明する。
Generally, a ROM using MOS transistors has a circuit configuration shown in FIG. Here, a ROM having a structure of 16 words x 1 bit will be explained.

図において、1は行デコーダであり、入力には上位(又
は下位)アドレス2,3が接続され、行デコーダ出力4
a〜4dは情報が伝搬するビット線5a、5b、5c、
5dと互いに接続されないように直交し、かつ両者で網
目状になるよう配置されている。ビット線5a〜5dに
はMOS)ランジスタロa〜6dの各ソース(またはド
レイン)と、ビット線5a〜5dのうちの必要とするビ
ット線を選択するMOS)ランジスタフa〜7dの各ド
レイン(またはソース)とがそれぞれ接続されている。
In the figure, 1 is a row decoder, upper (or lower) addresses 2 and 3 are connected to the input, and row decoder output 4
a to 4d are bit lines 5a, 5b, 5c, through which information is transmitted;
5d so as not to be connected to each other, and are arranged so as to form a mesh shape. The bit lines 5a to 5d include MOS) transistors a to 6d, each source (or drain), and a MOS transistor to select a required bit line from bit lines 5a to 5d, each drain (or source) of each transistor a to 7d. ) are connected to each other.

ビット線選択用MO3)ランジスタフa〜7dの各ソー
ス(またはドレイン)は全て論理反転型のバッファ9の
入力に接続され、該バッファ9の出力は情報出力端子1
0に接続されている。ビット線選択用MO3I−ランジ
スタフa〜7dの各ゲートは、下位(又は上位)アドレ
ス11゜12がその入力に接続されている列デコーダ1
3のデコード出力14a〜14dに接続されている。
The sources (or drains) of bit line selection MO3) transistors a to 7d are all connected to the input of a logic inversion type buffer 9, and the output of the buffer 9 is connected to the information output terminal 1.
Connected to 0. Each gate of the bit line selection MO3I-transistor a to 7d is connected to the column decoder 1 whose lower (or upper) address 11°12 is connected to its input.
It is connected to the decode outputs 14a to 14d of No. 3.

網目伏に配置された行デコード出力4a〜4dとビット
線5a〜5dとの交点には、情報を記憶しているMOS
)ランジスタ15a〜15hが配置されており、これら
の各ゲートは行デコード出力4a〜4dに、各ソース(
またはドレイン)はビット線5a〜5dに、各ドレイン
(またはソース)は接地にそれぞれ接続されている。
At the intersections of the row decode outputs 4a to 4d and the bit lines 5a to 5d, which are arranged in a grid pattern, there are MOSs storing information.
) transistors 15a to 15h are arranged, and each of these gates connects each source (
The drains (or drains) are connected to the bit lines 5a to 5d, and each drain (or source) is connected to ground.

この情報記憶MOSトランジスタはROMが必要とする
アドレスに対する情報の種類によってその接続される交
点及び数量が変化する。しかしながら情報を記憶するM
OS)ランジスタは、必ずゲートが行デコード出力に、
ドレイン(またはソース)はビット線に、ソース(また
はドレイン)は接地にそれぞれ接続されている。
The number and intersections of the information storage MOS transistors to which they are connected vary depending on the type of information corresponding to the address required by the ROM. However, M that remembers information
OS) For transistors, the gate is always the row decode output,
The drain (or source) is connected to the bit line, and the source (or drain) is connected to ground.

次に動作について説明する。第1図において、情報を読
み出すアドレスをアドレス入力2.3゜11.12に加
える。行デコーダ1と列デコーダ13によりアドレスが
デコードされ、選ばれた出力は電源電圧値を出力する。
Next, the operation will be explained. In FIG. 1, the address from which information is to be read is added to address input 2.3°11.12. The address is decoded by the row decoder 1 and column decoder 13, and the selected output outputs the power supply voltage value.

なお、その他のデコーダ出力はほぼ接地電位となる。Note that the other decoder outputs are approximately at ground potential.

ここで行デコーダ1によってアドレス人力2゜3を、列
デコーダ13によってアドレス入力11゜12をデコー
ドした結果、行デコード出力4b及び列デコード出力1
4bに電源電圧値が出力されたとする。行デコード出力
4bが電源電圧値を出力したことによりMOS)ランジ
スタ15dが導通して、あらかじめMOS)ランジスタ
ロbによって電源電圧値に充電されていたビット線5b
の電位を接地電位付近まで下げる。ビット線5bの電位
は列デコード出力14bが電源電圧値を出力することに
より導通状態にあるMO3I−ランジスタフbを通して
共通ビット線5eに伝搬する。共通ビット線5eに伝搬
した電圧は論理反転型バッファ9により論理が反転され
、つまり電源電圧値を出力し、情報出力端子10に論理
“1” (電源電圧値)を出力する。以上は、ROMの
選択したアドレスの情報が“1”の場合であったが、選
択したアドレスの情報が“0″の場合は以下の動作を行
なう。
Here, as a result of decoding the address input 2°3 by the row decoder 1 and the address input 11°12 by the column decoder 13, a row decode output 4b and a column decode output 1 are obtained.
Assume that the power supply voltage value is output to 4b. When the row decode output 4b outputs the power supply voltage value, the MOS transistor 15d becomes conductive, and the bit line 5b, which had been previously charged to the power supply voltage value by the MOS transistor b, becomes conductive.
lower the potential to near ground potential. The potential of the bit line 5b is propagated to the common bit line 5e through the MO3I-Ranji stuff b which is in a conductive state as the column decode output 14b outputs the power supply voltage value. The logic of the voltage propagated to the common bit line 5e is inverted by the logic inversion buffer 9, that is, the power supply voltage value is output, and the logic "1" (power supply voltage value) is output to the information output terminal 10. The above is a case where the information of the selected address in the ROM is "1", but if the information of the selected address is "0", the following operation is performed.

今、情報を読み出すアドレスをアドレス入力2゜3.1
1.12に加え、行デコーダ1及び列デコーダ13によ
りデコードされた結果、行デコード出力4b及び列デコ
ード出力14Cに電源電圧値が出力されたとする。行デ
コード出力4bが電源電圧値を出力することによりMO
S)ランジスタ15dは導通するが、MOS)ランジス
タ15dのソース(またはドレイン)はピント線5Cに
接続されていないためMOSトランジスタ6cによりあ
らかじめ充電されていたビット線5Cの電位は変化しな
い。その結果列デコード出力14cに出力されている電
源電圧値により導通しているMOSトランジスタ7Cに
よりビット線5C電位が共通ピント線5eに伝搬し、そ
の電圧は論理反転型バッファ9により論理が反転され、
つまり接地電圧に近い値を出力し、情報出力端子10に
論理“θ″ (はぼ接地電圧値)を出力する。
Now enter the address to read the information 2゜3.1
In addition to 1.12, suppose that as a result of decoding by the row decoder 1 and column decoder 13, a power supply voltage value is output to the row decode output 4b and the column decode output 14C. By the row decode output 4b outputting the power supply voltage value, the MO
Although the S) transistor 15d is conductive, the source (or drain) of the MOS transistor 15d is not connected to the pinto line 5C, so the potential of the bit line 5C, which was previously charged by the MOS transistor 6c, does not change. As a result, the bit line 5C potential is propagated to the common focus line 5e by the MOS transistor 7C, which is rendered conductive by the power supply voltage value outputted to the column decode output 14c, and the logic of the voltage is inverted by the logic inversion type buffer 9.
In other words, it outputs a value close to the ground voltage, and outputs the logic "θ" (the ground voltage value) to the information output terminal 10.

以上のように行デコーダ1によりデコード出力4a〜4
dから選ばれた“1”出力と列デコーダ13により選択
されたMOSトランジスタ7a〜7dによって共通ビッ
ト線5eと導通したビット線5a〜5dとが交差する位
置にMOS)ランジスタを置くか置かないかにより情報
の種類を決定する。
As described above, the row decoder 1 decodes outputs 4a to 4.
Whether or not to place a MOS transistor at a position where the "1" output selected from d intersects with the common bit line 5e and the bit lines 5a to 5d which are electrically connected by the MOS transistors 7a to 7d selected by the column decoder 13. The type of information is determined by

従来の半導体集積回路装置は以上のように構成されてい
るので、ROMをゲートアレイに内蔵しようとする場合
、ゲートアレイ内の横構造のトランジスタ列上にはRO
Mは実現しにクク、第2図に示す如くゲートアレイチッ
プ1G上に論理回路領域18の他にROM専用領域19
を設けなければならないことになる。また内蔵しようと
するROMの大きさもROM専用領域の大きさに制限さ
れ、自由度がなく、また、R’ OMの大きさがROM
専用領域よりも小さい場合、ROM専用領域の使用効率
が悪くなるなどの欠点があった。なお第2図中17はI
10バッファである。
Conventional semiconductor integrated circuit devices are configured as described above, so when trying to incorporate a ROM in a gate array, an RO is placed on a horizontally structured transistor row in the gate array.
As shown in FIG. 2, there is a ROM dedicated area 19 in addition to the logic circuit area 18 on the gate array chip 1G.
will have to be established. Furthermore, the size of the ROM to be incorporated is limited by the size of the ROM dedicated area, and there is no degree of freedom.
If it is smaller than the dedicated area, there are drawbacks such as poor usage efficiency of the ROM dedicated area. Note that 17 in Figure 2 is I
10 buffers.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

この発明は、上記のような従来のものの欠点を除去する
ためになされたもので、同一列(又は行)の情報記憶ト
ランジスタと番地選択トランジスタに同一直線上に配列
されたトランジスタを用いてROMを構成することによ
り、ROM専用領域を設けずにROMを論理回路と混在
させることができ、任意の大きさを持ったROMをゲー
トアレイに内蔵可能であり、さらにLSI内のMOS)
ランジスタの使用効率を改善することのできる半導体集
積回路装置を提供することを目的としている〔発明の実
施例〕 以下この発明の一実施例を図について説明する。
This invention was made in order to eliminate the drawbacks of the conventional ones as described above, and it is a ROM that uses transistors arranged on the same line as information storage transistors and address selection transistors in the same column (or row). By configuring this, ROM can be mixed with logic circuits without creating a ROM-dedicated area, ROM of any size can be built into the gate array, and even MOS (in LSI) can be used.
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device capable of improving the efficiency of use of transistors. [Embodiment of the Invention] An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第3図は本発明の一実施例による半導体集積回路装置を
示す。図において、第2図と同一符号は同一のものを示
す。本実施例装置において、論理回路領域18は論理素
子と同様、同一列(行)の情報記憶、番地選択トランジ
スタに′横一列に配列されたトランジスタを用いて構成
されたROMを内蔵しており、第2図に見られるような
ROM専用領域19は必要としない。
FIG. 3 shows a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention. In the figure, the same reference numerals as in FIG. 2 indicate the same parts. In the device of this embodiment, the logic circuit area 18 contains a ROM configured by using transistors arranged horizontally in the same column (row) as information storage and address selection transistors, as well as logic elements. A dedicated ROM area 19 as shown in FIG. 2 is not required.

また第4図は、第3図の論理回路領域に設けられるRO
Mを示す。但し、このROMのビット構成は第1図と同
じ<16xlビツト構成とする。
Further, FIG. 4 shows the RO provided in the logic circuit area of FIG.
Indicates M. However, the bit configuration of this ROM is the same <16xl bit configuration as in FIG. 1.

図において、15i〜151,20a、6eはゲートア
レイ内で横一列に配列されたMOS)ランジスタで、情
報を記憶しているMOS)ランジスタ15i〜151の
各ソース(またはドレイン)はビット線5fに、各ゲー
トは上位(または下位)アドレス2.3を入力とする行
デコーダ1のデコード出力4a〜4dに接続され、MO
S)ランジスク15i、15にの各ドレイン(またはソ
ース)は読出す番地を選択するためのMOSFET20
aのソース(またはドレイン)に接続され、MOSFE
T20aのドレイン(またはソース)は接地に、ゲート
は下位(または上位)アドレス11゜12を入力とする
列デコーダ13のデコード出力14aにそれぞれ接続さ
れている。MOS)ランジスタロeのソース(またはド
レイン)はビット線5fに、ゲートとドレイン(または
ソース)は電源端子8に接続されている。ビット線5f
は論理反転型バッファ9の入力に接続され、論理反転型
バッファ9の出力は情報出力端子10に接続されている
。記憶ブロック21aのMOS)ランジスタ151〜1
51.20aは上記の構造を持っているが、他の記憶ブ
ロック21b〜21dも同様なMOS)ランジスタの接
続構造を持っている。
In the figure, 15i to 151, 20a, and 6e are MOS transistors arranged horizontally in a row in the gate array, and the sources (or drains) of the MOS transistors 15i to 151 that store information are connected to the bit line 5f. , each gate is connected to the decode outputs 4a to 4d of the row decoder 1 which receives the upper (or lower) address 2.3, and the MO
S) Each drain (or source) of the transistors 15i and 15 is a MOSFET 20 for selecting the address to be read.
connected to the source (or drain) of a, MOSFE
The drain (or source) of T20a is connected to ground, and the gate is connected to the decode output 14a of the column decoder 13, which receives the lower (or upper) addresses 11 and 12, respectively. The source (or drain) of the transistor (MOS) transistor e is connected to the bit line 5f, and the gate and drain (or source) are connected to the power supply terminal 8. bit line 5f
is connected to the input of the logic inversion type buffer 9, and the output of the logic inversion type buffer 9 is connected to the information output terminal 10. MOS) transistors 151 to 1 of memory block 21a
51.20a has the above structure, but the other memory blocks 21b to 21d also have a similar MOS) transistor connection structure.

記憶ブロック21b〜21dは各々行デコード出力4a
〜4dとビット線5fに記憶ブロック21aと同様に接
続されている。また、列デコード出力14aが記憶ブロ
ック21a内のMOS)ランジスタ20aのゲートに接
続されているように列デコード出力14b〜14dはそ
れぞれ記憶ブロック21b〜21d内のMOS)ランジ
スタのゲートに接続されている。そして以上の記憶ブロ
ック21a〜21dとMO3I−ランジスタロeおよび
論理反転型バッファ9を横方向に結合してROM主体2
2が構成されている。
Each of the memory blocks 21b to 21d has a row decode output 4a.
.about.4d and the bit line 5f in the same way as the memory block 21a. Further, just as the column decode output 14a is connected to the gate of the MOS transistor 20a in the memory block 21a, the column decode outputs 14b to 14d are connected to the gates of the MOS transistors in the memory blocks 21b to 21d, respectively. . Then, the above memory blocks 21a to 21d, MO3I-transistoro e, and logic inversion type buffer 9 are horizontally connected to form the ROM main body 2.
2 are configured.

次に動作について説明する。ROMの全アドレスに対し
てあらかじめ必要とする情報が設定されているとする。
Next, the operation will be explained. It is assumed that necessary information is set in advance for all addresses in the ROM.

今、第4図において行デコーダ1によって上位(または
下位)アドレス人力2,3を、列デコーダ13によって
下位(または上位)アドレス入力11.12をデコード
した結果、行デコード出力4a及び列デコード出力14
aに電源電圧値が出力されたとする。行デコード出力4
aと列デコード出力14aが電源電圧値を出力したこと
によりMOS)ランジスタ15i、20aが導通してあ
らかじめMOS)ランジスタロeにより電源電圧値に充
電されていたビット線5fの電位を接地電位付近まで下
げる。ビット線5fの電圧は論理反転型バッファ9によ
り論理が反転され、つまり電源電圧値を出力し、情報出
力端子10に論理“1”(電源電圧値)を出力する。以
上はROMの選択したアドレスの情報が“1”の場合で
あったが、選択したアドレスの情報が“0”の場合は以
下の動作を行なう。
Now, in FIG. 4, as a result of decoding the upper (or lower) address inputs 2 and 3 by the row decoder 1 and the lower (or upper) address inputs 11 and 12 by the column decoder 13, the row decode output 4a and the column decode output 14
Assume that the power supply voltage value is output to a. Row decode output 4
As a and column decode output 14a output the power supply voltage value, MOS) transistors 15i and 20a become conductive, and the potential of bit line 5f, which had been previously charged to the power supply voltage value by MOS) transistor e, is lowered to near the ground potential. . The logic of the voltage on the bit line 5f is inverted by the logic inversion buffer 9, that is, the power supply voltage value is output, and the logic "1" (power supply voltage value) is output to the information output terminal 10. The above is a case where the information of the selected address in the ROM is "1", but if the information of the selected address is "0", the following operation is performed.

今、情報を読み出すアドレスをアドレス入力2゜3.1
1.12に加え、行デコーダ1及び列デコーダ13によ
りデコードされた結果、行デコード出力4b及び列デコ
ード出力14aに電源電圧値が出力されたとする。デコ
ード出力4b、14aが電源電圧値を出力することによ
りMOS)ランジスタ15j、20aは導通するが、M
OS)ランジスタ15jのドレイン(またはソース)は
MOSトランジスタ20aのソース(またはドレイン)
には接続されていないためMOS)ランジスクロeによ
り電源電圧値にまで充電されているビット線5f電位は
変化せず、その電位は論理反転型バッファ9により論理
が反転され、つまり接地電圧に近い値を出力し、情報出
力端子10に論理“O” (はぼ接地電圧値)を出力す
る。
Now enter the address to read the information 2゜3.1
In addition to 1.12, assume that as a result of decoding by the row decoder 1 and column decoder 13, a power supply voltage value is output to the row decode output 4b and the column decode output 14a. When the decode outputs 4b and 14a output the power supply voltage value, the MOS transistors 15j and 20a become conductive, but the M
OS) The drain (or source) of the transistor 15j is the source (or drain) of the MOS transistor 20a.
Since it is not connected to the bit line 5f (MOS), which is charged to the power supply voltage value by the range screen e, the potential of the bit line 5f does not change, and the logic of that potential is inverted by the logic inversion buffer 9, that is, it becomes a value close to the ground voltage. and outputs a logic "O" (above ground voltage value) to the information output terminal 10.

以上のように行デコード出力4a〜4dがゲートに接続
されている記憶ブロック218〜21d内のMOS)ラ
ンジスタのドレイン(またはソース)が、列デコード出
力14a−14dにゲートが接続されている同じ記憶ブ
ロック218〜2−1d内のMOSトランジスタのソー
ス(またはドレイン)に接続されているかいないかによ
り記憶する情報の&i頬を選択する。
As described above, the drains (or sources) of the MOS transistors in the memory blocks 218 to 21d whose gates are connected to the row decode outputs 4a to 4d are the same memory whose gates are connected to the column decode outputs 14a to 14d. The information to be stored is selected depending on whether it is connected to the source (or drain) of the MOS transistor in blocks 218 to 2-1d.

このように、本実施例では同一列(又は行)の情報記憶
、番地選択トランジスタにゲートアレイ内で横一列に配
列されているトランジスタを用いてROMを構成するよ
うにしたので、ゲートアレイ内にROM専用領域を設け
る必要がなく、任意の大きさのROMを効率よくゲート
アレイ内に形成できる効果がある。
In this way, in this embodiment, the ROM is constructed using transistors arranged horizontally in the gate array as information storage and address selection transistors in the same column (or row). There is no need to provide a dedicated ROM area, and a ROM of any size can be efficiently formed within the gate array.

さらに、記憶ブロックの数及び記憶ブロック内のMOS
)ランジスタの数を行アドレス及び列アドレスと共に増
減させることにより、ゲートアレイ内に任意の大きさの
ROMを実現可能である。
Furthermore, the number of storage blocks and the MOS in the storage blocks
) By increasing or decreasing the number of transistors along with the row and column addresses, it is possible to realize arbitrarily large ROMs in the gate array.

なお、上記実施例では第5図の如く記憶情報の区別をM
O3I−ランジスク15 i−151のソース(または
ドレイン)をMO3I−ランジスタ20aのソース(ま
たはドレイン)に接続するか否かにより行っていたが、
記憶情報の区別を第6図の如<MO3I−ランジスタ1
5i〜151のゲートを行デコード出力4a〜4dに接
続するが、接地に接続するかにより行ってもよい。
In the above embodiment, as shown in FIG.
This was done depending on whether or not the source (or drain) of the O3I transistor 15 i-151 was connected to the source (or drain) of the MO3I transistor 20a.
The storage information is distinguished as shown in Fig. 6.
Although the gates 5i to 151 are connected to the row decode outputs 4a to 4d, they may be connected to ground.

また上記実施例ではROMを横一列に配列されたトラン
ジスタ全部を用いて構成したが、該横一列のトランジス
タの一部のトランジスタにより構成してもよい。また横
一列のトランジスタだけでは足らない場合は複数列のト
ランジスタを用いてROMを構成してもよい。
Further, in the above embodiment, the ROM is constructed using all the transistors arranged in a horizontal row, but it may be constructed using some of the transistors in the horizontal row. Furthermore, if a single horizontal row of transistors is insufficient, the ROM may be constructed using multiple rows of transistors.

また、上記実施例ではNチャンネルMOSゲートアレイ
に適用した例について説明したが、相補型MOSゲート
アレイに適用してもよく、上記実施例と同様の効果を奏
する。
Further, in the above embodiment, an example in which the present invention is applied to an N-channel MOS gate array has been described, but it may also be applied to a complementary MOS gate array, and the same effects as in the above embodiment can be obtained.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように、この発明に係る半導体集積回路装置によ
れば、ROMをゲートアレイに内蔵する場合、同一列(
又は行)の情報記憶トランジスタと番地選択トランジス
タにゲートアレイ内の同一直線上に配列されたMO5I
−ランジスタを用いてROMを構成するようにしたので
、ゲートアレイ内に容易にROMを実現でき、ROM専
用領域を設ける必要はなく、論理素子と混在でき、LS
Iの高い使用効率、高集積化の達成が可能である。
As described above, according to the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, when a ROM is built into a gate array, the same column (
MO5I arranged on the same straight line in the gate array in the information storage transistor and address selection transistor of
- Since the ROM is configured using transistors, the ROM can be easily implemented within the gate array, there is no need to provide a dedicated ROM area, it can be mixed with logic elements, and LS
It is possible to achieve high usage efficiency and high integration of I.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来のROMの回路構成図、第2図はROM専
用領域を設けたゲートアレイの構成図、第3図はこの発
明の一実施例による半導体集積回路装置の構成図、第4
図は第3図の装置内に形成されるROMの一例を示す回
路図、第5図は第4図の一部を抜粋した回路図、第6図
は第3図の装置内に形成されるROMの他の一例を示す
回路図である。 l・・・行デコーダ、2,3・・・行アドレス入力、4
a〜4d・・・行デコード出力、5a〜5d・・・ビッ
ト線、5e・・・共通ピント線、6a〜6g、7a〜7
d、15 a 〜151. 20 a・−Nチャンネ/
l、MOSトランジスタ、8・・・電源端子、9・・・
論理反転型バッファ、10・・・情報出力端子、11.
12・・・列アドレス入力、13・・・列デコーダ、1
4a〜14d・・・列デコード出力、16・・・ゲート
アレイチップ17・・・I10バッファ、18・・・論
理回路領域、19・・・ROM専用領域、21a〜21
d・・・記憶ブロック、22・・・ROM主体。 なお図中、同一符号は同−又は相当部分を示す代理人 
大岩増雄 第1図 第2図 第3図 第5図 第6図
FIG. 1 is a circuit configuration diagram of a conventional ROM, FIG. 2 is a configuration diagram of a gate array provided with a ROM dedicated area, FIG. 3 is a configuration diagram of a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention, and FIG.
The figure is a circuit diagram showing an example of a ROM formed in the device shown in FIG. 3, FIG. 5 is a circuit diagram excerpting a part of FIG. 4, and FIG. FIG. 3 is a circuit diagram showing another example of a ROM. l... Row decoder, 2, 3... Row address input, 4
a to 4d... Row decode output, 5a to 5d... Bit line, 5e... Common focus line, 6a to 6g, 7a to 7
d, 15 a to 151. 20 a・-N channel/
l, MOS transistor, 8... power supply terminal, 9...
Logic inversion type buffer, 10... information output terminal, 11.
12... Column address input, 13... Column decoder, 1
4a-14d... Column decode output, 16... Gate array chip 17... I10 buffer, 18... Logic circuit area, 19... ROM dedicated area, 21a-21
d...Memory block, 22...ROM main body. In addition, in the figures, the same reference numerals indicate the same or equivalent parts.
Masuo Oiwa Figure 1 Figure 2 Figure 3 Figure 5 Figure 6

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (11MO3)ランジスタにより構成されたROMを含
む半導体集積回路装置において、上記ROMの同じ列(
又は行)の情報記憶トランジスタとことを特徴とする半
導体集積回路装置。 (2)その全体が同一導電型MO3)ランジスタからな
るMOSゲートアレイLSIであることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の半導体集積回路装置。
[Claims] (11MO3) In a semiconductor integrated circuit device including a ROM constituted by transistors, the same column (
1. A semiconductor integrated circuit device characterized by an information storage transistor (or row). (2) The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit device is a MOS gate array LSI consisting entirely of MO3) transistors of the same conductivity type.
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