JPS60244030A - 横型炉 - Google Patents
横型炉Info
- Publication number
- JPS60244030A JPS60244030A JP9915784A JP9915784A JPS60244030A JP S60244030 A JPS60244030 A JP S60244030A JP 9915784 A JP9915784 A JP 9915784A JP 9915784 A JP9915784 A JP 9915784A JP S60244030 A JPS60244030 A JP S60244030A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core tube
- furnace core
- wafer
- furnace
- wafers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ｆａｌ 産業上の利用分野
本発明は、例えば半導体チップなどを製造するウェハの
加熱処理に使用する横型炉に関す。
加熱処理に使用する横型炉に関す。
この加熱処理には、例えば、熱酸化膜の形成、化学気相
成長（ＣＶＤ）による膜の形成、不純物の拡散などがあ
る。
成長（ＣＶＤ）による膜の形成、不純物の拡散などがあ
る。
これらの何れの場合も、量産に使用される横型炉には、
多数のウェハを一括して均一に処理出来ること、ウェハ
に異物を付着させぬことが要請され、然も一生産量の増
大に伴いウェハが大型化しても、この要請は変わること
がない。
多数のウェハを一括して均一に処理出来ること、ウェハ
に異物を付着させぬことが要請され、然も一生産量の増
大に伴いウェハが大型化しても、この要請は変わること
がない。
（ｂｌ 従来の技術
第２図は従来の横型炉の構成を模式的に示した側断面図
で、図示の横型炉は、一方が開口している管状の例えば
石英ガラスからなる炉芯管１、炉芯管１の開口を蓋する
例えば石英ガラスからなるキャンプ２、炉芯管内を加熱
するヒータ３などがらなっている。なお、ｌａ、 ｌｂ
はそれぞれ炉芯管ｌ内にガスを通す場合のガス導入口、
ガス導出口である。
で、図示の横型炉は、一方が開口している管状の例えば
石英ガラスからなる炉芯管１、炉芯管１の開口を蓋する
例えば石英ガラスからなるキャンプ２、炉芯管内を加熱
するヒータ３などがらなっている。なお、ｌａ、 ｌｂ
はそれぞれ炉芯管ｌ内にガスを通す場合のガス導入口、
ガス導出口である。
この構成でなる横型炉においては、加熱処理する際のウ
ェハＡの炉芯管１に対する出し入れは、ウェハＡを入れ
た例えば石英ガラス製のバスケットからなるウェハ保持
具Ｂを、例えば石英ガラス捧からなる杆４で矢印ａ方向
に押したり引いたりして行い、ウェハ保持具Ｂの下面を
炉芯管１の内面に摺動させている。このため、該摺動の
際に摩耗粉が発生し、該摩耗粉がウェハＡに付着する欠
点がある。
ェハＡの炉芯管１に対する出し入れは、ウェハＡを入れ
た例えば石英ガラス製のバスケットからなるウェハ保持
具Ｂを、例えば石英ガラス捧からなる杆４で矢印ａ方向
に押したり引いたりして行い、ウェハ保持具Ｂの下面を
炉芯管１の内面に摺動させている。このため、該摺動の
際に摩耗粉が発生し、該摩耗粉がウェハＡに付着する欠
点がある。
この欠点を排除するため、第３図（側断面図）図示のよ
うな改良型の横型炉が実用化されている。
うな改良型の横型炉が実用化されている。
即ち、第２図図示の杆４が横型炉の機構の一部をなした
片持梁型の梁１４に、またこれに伴い蓋２が蓋１２に替
わっている。
片持梁型の梁１４に、またこれに伴い蓋２が蓋１２に替
わっている。
梁１４はウェハ保持具Ｂを支持して矢印ａ方向に移動し
、ウェハＡの出し入れに際して、炉芯管１の内面にウェ
ハ保持具Ｂや梁１４が接触しないようになっている。
、ウェハＡの出し入れに際して、炉芯管１の内面にウェ
ハ保持具Ｂや梁１４が接触しないようになっている。
この構成でなる横型炉においては、ウェハＡが小型の場
合には前記摩耗粉の問題は解消されているが、ウェハＡ
が大型になった場合、“ウェハＡ＋ウェハ保持具Ｂ”の
重量が大きくなるため梁１４先端の撓が大きく、即ち炉
芯管１内におけるウェハＡの上下方向の位置の差が大き
くなって、熱処理の均一性に欠けたり、ウェハ保持具Ｂ
が炉芯管１の内面に接触したりして、やはり問題が残る
。
合には前記摩耗粉の問題は解消されているが、ウェハＡ
が大型になった場合、“ウェハＡ＋ウェハ保持具Ｂ”の
重量が大きくなるため梁１４先端の撓が大きく、即ち炉
芯管１内におけるウェハＡの上下方向の位置の差が大き
くなって、熱処理の均一性に欠けたり、ウェハ保持具Ｂ
が炉芯管１の内面に接触したりして、やはり問題が残る
。
（Ｃ） 発明が解決しようとする問題点本発明が解決し
ようとする問題点は、第２図図示の横型炉においてウェ
ハが大型になった場合、熱処理の際に炉芯管内における
ウェハの上下方向の位置の差が太き（なること、および
、ウエノ１の炉芯管に対する出し入れに際して、ウェハ
保持具が該炉芯管の内面に接触することである。
ようとする問題点は、第２図図示の横型炉においてウェ
ハが大型になった場合、熱処理の際に炉芯管内における
ウェハの上下方向の位置の差が太き（なること、および
、ウエノ１の炉芯管に対する出し入れに際して、ウェハ
保持具が該炉芯管の内面に接触することである。
（ｄ） 問題点を解決するための手段
上記問題点は、ウェハ保持具を支持して該保持具を横型
炉芯管に対して出し入れする梁が、該保持具の支持部を
挟んだ両側で支持されるように手段を講じた横型炉によ
って解決される。
炉芯管に対して出し入れする梁が、該保持具の支持部を
挟んだ両側で支持されるように手段を講じた横型炉によ
って解決される。
（ｅ） 作用
ウェハ保持具を支持する従来の梁は片持梁であったが、
本発明による場合の梁は、該保持具の支持部を挟んだ両
側で支持されるため、該保持具の支持部の撓が従来に比
較して大幅に減少する。
本発明による場合の梁は、該保持具の支持部を挟んだ両
側で支持されるため、該保持具の支持部の撓が従来に比
較して大幅に減少する。
従って、ウェハが大型になっても、炉芯管内におけるウ
ェハの上下方向の位置の差を大きくしないこと、および
、ウェハの炉芯管に対する出し入れに際して、ウェハ保
持具が該炉芯管の内面に接触しないようにすることが可
能になり、処理の均一性を確保し、且つ、前記摩耗粉の
問題を排除することが可能になる。
ェハの上下方向の位置の差を大きくしないこと、および
、ウェハの炉芯管に対する出し入れに際して、ウェハ保
持具が該炉芯管の内面に接触しないようにすることが可
能になり、処理の均一性を確保し、且つ、前記摩耗粉の
問題を排除することが可能になる。
（ｆｌ 実施例
以下本発明の一実施例を第１図により説明する。
企図を通じ同一符号は同一対象物を示す。
第１図図示の横型炉は、第３図図示の横型炉の梁１４を
図上右側に延ばして梁２４となし、梁２４を支持する支
持点５を設けて、梁２４における“ウェハＡ＋ウェハ保
持具Ｂ”の荷重を支える部分を挟んだ両側で梁２４を支
持するようにしている。この変更に伴い、第３図図示の
炉芯管１は炉芯管２１とキャップ２２とに分割されてい
るが、炉芯管としての機能は同等である。
図上右側に延ばして梁２４となし、梁２４を支持する支
持点５を設けて、梁２４における“ウェハＡ＋ウェハ保
持具Ｂ”の荷重を支える部分を挟んだ両側で梁２４を支
持するようにしている。この変更に伴い、第３図図示の
炉芯管１は炉芯管２１とキャップ２２とに分割されてい
るが、炉芯管としての機能は同等である。
この構成でなる横型炉においては、第３図図示の場合と
比較して、梁２４の断面形状を梁１４と同等にし、“ウ
ェハＡ＋ウェハ保持具Ｂ”の荷重を同等にした際、梁１
４に対する梁２４の最大撓は、加熱処理状態（図示の状
態）で１１５以下、梁２４を矢印ａの左方向に炉芯管２
１の長さ程度移動してウェハＡを引き出した状態でも約
１／２である。
比較して、梁２４の断面形状を梁１４と同等にし、“ウ
ェハＡ＋ウェハ保持具Ｂ”の荷重を同等にした際、梁１
４に対する梁２４の最大撓は、加熱処理状態（図示の状
態）で１１５以下、梁２４を矢印ａの左方向に炉芯管２
１の長さ程度移動してウェハＡを引き出した状態でも約
１／２である。
本願の発明者は、炉芯管１．２１の長さが約１ｍの横型
炉において、６！ンウ工ハＡ２５枚を入れたウェハ保持
具Ｂ六個を荷重にし、上記撓の相違を確認した。更に、
９００℃の加熱状態に１０回の出し入れを繰り返して該
撓に異常のないことも確認した。
炉において、６！ンウ工ハＡ２５枚を入れたウェハ保持
具Ｂ六個を荷重にし、上記撓の相違を確認した。更に、
９００℃の加熱状態に１０回の出し入れを繰り返して該
撓に異常のないことも確認した。
（ｇｌ 発明の効果
以上に説明したように、本発明による手段を講すること
により、ウェハが大型になっても、処理の均一性を確保
し、且つ、前記摩耗粉の問題を排除することを可能にさ
せる効果がある。
により、ウェハが大型になっても、処理の均一性を確保
し、且つ、前記摩耗粉の問題を排除することを可能にさ
せる効果がある。
第１図は本発明による横型炉の一実施例の構成を模式的
に示した側断面図、 第２図は従来の横型炉の構成を模式的に示した側断面図
、 第３図は従来の改良型横型炉の構成を模式的に示した側
断面図である。 図面において、 １．２１は炉芯管、 １ａはガス導入口、１ｂはガス導
出口、 ２．１２．２２はキャップ、３はヒータ、 ４
は杆、 １４．２４は梁、 ５は支持点、 Ａはウェハ、 Ｂはウェハ保持具、 をそれぞれ示す。 茅１ 図 第２ 図 揶３ 図
に示した側断面図、 第２図は従来の横型炉の構成を模式的に示した側断面図
、 第３図は従来の改良型横型炉の構成を模式的に示した側
断面図である。 図面において、 １．２１は炉芯管、 １ａはガス導入口、１ｂはガス導
出口、 ２．１２．２２はキャップ、３はヒータ、 ４
は杆、 １４．２４は梁、 ５は支持点、 Ａはウェハ、 Ｂはウェハ保持具、 をそれぞれ示す。 茅１ 図 第２ 図 揶３ 図
Claims (1)
- ウェハ保持具を支持して該保持具を横型炉芯管に対して
出し入れする梁が、該保持具の支持部を挾んだ両側で支
持されていることを特徴とする横型炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9915784A JPS60244030A (ja) | 1984-05-17 | 1984-05-17 | 横型炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9915784A JPS60244030A (ja) | 1984-05-17 | 1984-05-17 | 横型炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60244030A true JPS60244030A (ja) | 1985-12-03 |
Family
ID=14239838
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9915784A Pending JPS60244030A (ja) | 1984-05-17 | 1984-05-17 | 横型炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60244030A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4944511U (ja) * | 1972-07-20 | 1974-04-19 | ||
| JPS53113476A (en) * | 1977-03-14 | 1978-10-03 | Nec Corp | Method for reduced pressure vapor growth |
-
1984
- 1984-05-17 JP JP9915784A patent/JPS60244030A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4944511U (ja) * | 1972-07-20 | 1974-04-19 | ||
| JPS53113476A (en) * | 1977-03-14 | 1978-10-03 | Nec Corp | Method for reduced pressure vapor growth |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100261872B1 (ko) | 합성 유리질 실리카바디용 열처리 장치 및 열처리 방법 | |
| US4027053A (en) | Method of producing polycrystalline silicon ribbon | |
| JPH1064836A (ja) | 縦型熱処理炉 | |
| EP0149750A2 (en) | Cantilevered boat-free semiconductor wafer handling system | |
| KR850001942B1 (ko) | 반도체재료의 연속 제조방법 | |
| KR100280693B1 (ko) | 열처리장치 | |
| JPS60240121A (ja) | 横型炉 | |
| JPS6227725B2 (ja) | ||
| JPS60244030A (ja) | 横型炉 | |
| US3524776A (en) | Process for coating silicon wafers | |
| JPS58108735A (ja) | 縦型反応管用バスケツト | |
| JPS6224630A (ja) | 熱酸化膜形成方法及びその装置 | |
| JP3023977B2 (ja) | 縦型熱処理装置 | |
| JP2764436B2 (ja) | 縦型拡散炉 | |
| JP2990670B2 (ja) | 縦型半導体熱処理炉用ガス導入管 | |
| JPS6011802B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPS6116686Y2 (ja) | ||
| JPH0332502Y2 (ja) | ||
| JPS633155Y2 (ja) | ||
| JPS63181315A (ja) | 熱処理装置 | |
| JPH0493026A (ja) | 絶縁膜形成装置 | |
| KR100234686B1 (ko) | 저압 화학증착 시스템의 석영튜브 | |
| JPS6145853B2 (ja) | ||
| JP2834538B2 (ja) | 光ファイバの線引き方法 | |
| JPH04304624A (ja) | ウエハプロセス用縦形加熱炉 |