JPS60244333A - 原料液補給装置 - Google Patents

原料液補給装置

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JPS60244333A
JPS60244333A JP59100431A JP10043184A JPS60244333A JP S60244333 A JPS60244333 A JP S60244333A JP 59100431 A JP59100431 A JP 59100431A JP 10043184 A JP10043184 A JP 10043184A JP S60244333 A JPS60244333 A JP S60244333A
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material liquid
tank
stock solution
piping
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JP59100431A
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Hiroaki Takimoto
滝本　弘明
Tetsuo Miyanochi
宮後　哲夫
Tamio Tsurita
民男 釣田
Masanori Fujikawa
藤川　昌徳
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
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    • G—PHYSICS
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く技術分野〉 本発明は半導体、光ファイバ等の製造装置における反応
容器に原料ガスを供給する原料ガス供給装置等の原料タ
ンクに原料液を補給する原料液補給装置に係る。
〈従来技術〉 光ファイバは一般にＶＡＤ法、外付は法、内封は法等に
よシ製造される。この中でＶＡＤ法は原料タンクの原料
液を気化した原料ガスを燃焼させてガラス媒体を作シ、
このガラス媒体を回転する出発部材の上に堆積させて棒
状の多孔質ガラス母材を作シ、次いで、この多孔質ガラ
ス母材を溶融炉によって光ファイバに紡糸するものであ
る。このようなＶＡＤ法では原料タンクの原料液を順次
補給する原料液補給装置が必要となる。かかる原料液補
給装置の一例を第１図に示す。同図に示すように気密な
原料タンク１には原料液２が収容されておシ、原料タン
ク１の原料液２の上部空間３からは気相反応によ多光フ
ァイバ用ガラス母材を製造する反応バーナ（図示省略）
へ連通する配管５が配設されている。従って、原料タン
ク内の原料液２は原料ガスの供給に伴って次第に減少し
てくる。このため原料タンク１には原料補給装置から原
料液２を必要に応じて順次補給する必要がある。原料タ
ンク１には原料液補給タンク７に開閉弁１１を介して連
通した原料液補給のための配管６が設けられている。尚
、原料液補給タンク７には原料タンク１が必要とする充
分な原料液８が蓄えられている。
また原料液補給タンク７の原料液８の上部の空間９には
、加圧ガス供給用配管１０が開閉弁１２と加圧ガスの流
量調整装置１５を介して加圧ガス源（図示省略）に連通
されている。また流量調整装置１５と開閉弁１２を結ぶ
配管１０は分岐管６′で配管６へ連通していて、この分
岐管６′には開閉弁１３が介装されている。尚、原料タ
ンク１から開閉弁を介して導出される配管４、及び原料
液補給タンク７から開閉弁１６會介して導出される配管
４は何れも廃ガス処理装置（図示省略）へ連通する配管
である。
第１図に示す原料液補給装置による原料液の補給は次の
ようにして行なわれる。まず、第１図において開閉弁１
３．１６を閉じ開閉弁１１゜１２を開放して、原料液補
給タンク７の上部空間９へ、配管１０によって加圧ガス
（一般に窒素ガス）を導入し空間９の圧力を、原料タン
ク１の空間３の内圧よシ高めることによって原料液８の
一部が配管６を経て、原料タンク１へ送給される。この
原料液の送給速度は流量調整装置１５によシ調整され、
単位時間当り一定流量に定められている。原料液補給タ
ンク７から原料タンク１への原料液の補給が所定の位置
まで補給された時点で開閉弁１１．１２Ｔｈ閉じて、原
料液の補給を停止する。このとき原料液は配管６内に充
満された状態にある。原料液が配管６中に残されたまま
になっていると配管が腐食されたシして好ましくない。
従って配管６内に溜った原料液を排出する必要があ゛る
。＄２図は第１図に示すものの開閉弁のみを切換えた状
態を示したものである。第２図に示すように開閉弁１１
．１２は閉じられ、開閉弁１３．１６は開放されること
によって加圧ガスは流量調整装置１５を介して、配管６
中の原料液を、原料タンク１内へ排出し、配管６内を空
にする。
第１図に示す装置では原料液補給のための加圧ガスの流
速は流量調整装置１５によって固定されているため、原
料液補給タンク７の原料液の残量が少なくガると、上部
空間９の容積が犬きくなる。このような状態で原料タン
ク１へ原料液の補給をする場合、開閉弁１１．１２が開
放され、加圧ガスは原料液補給タンク７へ送給されるが
、流量調整装置１５を介しているため一定流量で送給さ
れる。従って原料液８の残量が少ないほど空間９の容積
は大きくなるが、加圧ガスの送給は一定流量で固定され
ているため、空間９の容積が大きいほど、空間９の内圧
が特定の値になるまで昇圧するのに時間がかかる。
例えば原料液が５ｉＣ４で５００　ｋｙ用タンクの場合
、上部空間９の最大容積■９□工は下記の如くなる。
Ｖ９ｍ−ｘ　＝””　＝３３ｇ　’　（ここに１．４８
は５ｉＣ４の１．４８ 比重） 流量調整装置１５の単位時間の流量が１０　’／ｍｉｎ
であるとした場合、上部空間９の内圧ｆ　１．５ｋｇ／
ｄに高めるためには、 ３３８　Ｘ　１．５／１０　＝　５０．７　ｍｉｎを要
する。原料補給タンクの原料液の残存量が少ない程、原
料液送給開始時間が長くなシ好ましくない。
〈発明の目的〉 本発明は、かかる従来技術の欠点に鑑みてなされたもの
で、原料液送給開始時間の変動少なく、かつ多数の原料
タンクに同時に補給する場合でも、複雑な制御装置も使
用とせず、操作も簡単な原料液補給装置を提供すること
を目的とする。
く問題点解決の具体的手段〉 かかる目的を達成した本発明による原料液補給装置の構
成は、原料液補給タンク上部の空間に加圧ガスを導入し
て原料液を原料タンクに補給する原料液補給装置におい
て、上記加圧ガスを上記原料補給タンクへ導入する配管
に圧力調整装置を設けるとともに、該配管と上記原料液
補給タンクから原料タンクへ原料液を送給する配管とを
連通ずる分岐管に流量調整装置會設けたことを特徴とす
るものである。ｒ 〈実施例〉 本発明による原料液補給装置の一実施例を図面を参照し
ながら説明する。
第３図は本発明による原料液補給装置の概略構成図を示
す。第３図において、原料タンク１から反応バーナ（図
示省略）へ原料液２の飽和蒸気を配管５を介して送給し
、反応バーナはガラス母材を連続して製造している。従
って、原料タンク１の原料液２が枯渇する前に原料液２
を原料液補給装置から補給しなければならない。
原料液の補給は第３図において、開閉弁１３゜１６を閉
じ、開閉弁１１．１２’に開放することによって、加圧
ガスが配管１０に設けられた圧力調整装置１８全介して
、原料液補給タンク７の空間９に送給される。このとき
、圧力調整装置１８が特定する所望の圧力になるまで加
圧ガスは急速に送給される。原料液補給タンク７の空間
９の圧力が、所定の圧力に達するとその圧力で原料液補
給タンク７の原料液は配管６を通じて原料タンク１へ送
給される。
原料タンク１の原料液が補給されて所望の量まで補給さ
れたとき、開閉弁１１．１２ｉ閉じ原料液の送給全停止
する。この状態では配管６内に原料液は残されたままに
なっているので、開閉弁１３を開放し、加圧ガスを配管
６内に送って原料液をすべて原料タンク１へ排出する必
要がおる。このとき分岐管６′には流量調整装置１７が
置装されているため、配管６内の原料液が排出された後
に過剰の加圧ガス流が原料タンクへ流入することはない
。流量調整装置１７が設けられていないと、配管６内の
原料液が全て原料タンクへ排出された後は、急に多量の
加圧ガスが原料タンク１内へ流入することになシ、原料
タンク１の耐圧構造及び廃ガス処理の面で好ましくない
。
本発明による原料液補給装置によれば、加圧ガスを原料
液補給タンクへ導入する配管１０に圧力調整装置１８を
設け、配管１０と配管６とを分岐連通する分岐管６′に
流量調節装置１７を設け、配管ｌＯの開閉弁１２．配管
６の開閉弁１１及び分岐管６′の開閉弁１３を切換えて
操作するもので、原料液′ｉ！−原料液補給タンク７か
ら原料タンク１へ容易に且つ安全に補給することができ
る。
さらに原料タンク１の多数個に１個の原料液補給装置で
原料液を補給する場合は、第１図に示す従来例では装置
が複雑になシ、制御装置等を用いて複雑な操作をしなけ
ればならない。即ち、第５図は複数個の原料タンク１／
　、　ｆ／・・・１ｎに第１図に示す従来の原料液補給
装置で原料液を補給する場合の構成図である。第５図に
示す装置において、原料タンク１’、１”・・・１ｎの
いくつかの原料液が少くなると、その原料タンクへ連通
する配管６の開閉弁１４’　、　１４″・・・１４”の
対応するものを開放し、原料液の補給の用意がなされ、
開閉弁１４’　、　１４“・・・１４”の開閉の情報は
制御装置２２に送られる。原料液補給装置は原料液の補
給に先き立ち開閉弁１３．１６’を閉じ、開閉弁１１．
１２．２４を開放することによって加圧ガスは配管１０
を通じ可変流量調節装置２０を経て固定流量で原料液上
部の空間９に送給され空間９の内圧を所定の値まで上昇
させる。このため空間９の容積が大きいほど原料液補給
開始に時間がかかる。原料液補給タンク７の内圧は圧力
計２１で監視されていて計測された圧力信号は制御装置
２２に入力され、所定の内圧に到達するとその状態で、
原料液は配管６を通じ開閉弁１４’　、　１ｅ・・・１
４ｎの内開放された原料タンクに対して送給される。送
給に当っては、送給先きの原料タンクの数に応じて可変
流量調節装置２０の流量が決定される。
また、配管６に接続される原料タンクの距離に応じて送
給量は低下するので、各原料タンク毎に設けられた流量
調節装置２３’　、　２３”・・・２３ｎが調節されて
、遠方にあるものもほぼ均等に供給されるように調節さ
れている。かくして加圧ガスの送給によって原料液補給
タンク７から原料液を特定側の原料タンクへ供給する。
次いで開閉弁１１．１２’ｉ閉じ開閉弁１３を開放して
、可変流量調節装置２０によって与えられる流量の加圧
ガスを配管６に送給することによシ、配管６内に残され
た原料液は全て原料タンクに排出して配管６内を空にす
る。
従来例の原料液補給装置では原料液補給開始に先き立ち
空間９の内圧を昇圧するのに以上述べた如く、時間がか
かシ、また操作はきわめて煩雑であるばかシでなく、可
変流量調節装置、制御装置及び圧力計等の装置を必要と
し、システムが高価になる。ことは避けられなかった。
これに対し、本発明による原料液補給装置で多数の原料
タンクに原料液全補給する場合の構成はきわめて簡単で
あり、その−例を第６図に示す。第６図において原料タ
ンク１’、１’仙・１ｎの内いくつかの原料液が欠乏し
これを補給しようとするときは、開閉弁１１．１２ｉ開
放し、開閉弁１３．１６’ｅ閉じることによシ、加圧ガ
スは圧力調整装置１８によって原料液補給タンク７の原
料液上部空間９の圧力が所定の値に到達するまで、急速
に供給される。原料液補給タンク７の所定の内圧が保た
れた状態で原料液は配管６を経て開閉弁１４’　、　１
４”・・・１４ｎの開放されている原料タンクに送給さ
れる。この場合各原科タンク１′、１“・・・１ｎには
それぞれ流量調整装置２３’　＋　２３”　・２３ｎ　
ト［１Ｐ１４’　ｌ　１４”　・１４ｎｄＥ設けられて
いて、流量調整装置は共通の原料送給に対し配管上で遠
いものも近いものもほぼ等しい原料液が供給されるよう
流量調整がなされている。なお加圧ガスによる原料液の
原料液補給タンク７から原料タンクへの送給が停止され
ると、開閉弁１１．１２を閉じ、開閉弁１３を開放して
開閉弁１１．１２’ｅ閉じ開閉弁１３ｔ：開放し、配管
１０の加圧ガスを配管６内に送給することによって、配
管６の中の原料液を原料タンク内へ全て排出し、配管６
内を空にする。
この際、配管１０と配管６全連通する分岐管６′には流
量調整装置１７が介装されていて、配管１０からの加圧
ガス流は、一定に設定されているため、配管６の残存原
料液を原料タンクに排出し終ってから急激に大きい加圧
ガス流が原料タンクへ送給されることはない。
以上述べた通り、本発明による原料液補給装置によって
多数の原料タンクに原料液を補給する場合でも原料液補
給タンクの空間９を急速に昇圧し、短時間ＶＣ原料液の
送給全開始し、配管６の残存原料液を原料タンクへ排出
した後も過大な加圧ガスが原料タンクへ流入を防止して
いる。装置も従来の場合の如く可変流量調整装置、制御
装置等を必要とせず簡単であり、操作もまた簡単である
。
〈発明の効果〉 本発明による原料液補給装置によれば：原料液補給タン
クに送給される加圧ガスの配管１０に圧力調整装置を設
けたことによって、原料液補給タンクから原料液を原料
タンクに送給するに際し、原料液補給タンク内の原料液
残量によって原料液上部空間の容積が異っても、急速に
加圧ガスが送給され、原料液の残量に関係なく短時間で
原料液の送給の開始ができる。さらに配管１０と配管６
を連通する分岐管に流量調節装置を介装せしめたことに
よシ、配管６に残存した原料液を排出した後に過剰の加
圧ガスが原料タンクへ送給されることなく、安全である
。
また本発明によれば、多数の原料タンクに原料液を補給
する場合でもあるいは対象供給数が変動してもとくに複
雑な装置を附加する必要はなく容易に対応でき、装置も
可変流量調整装置、制御装置、圧力計等を附加する必要
がなく簡単でら）、操作も簡単である。従って装置の費
用も少くて済み経済的に有利である。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来の原料液補給装置の構成図、第２図は第１
図に示すものの開閉弁の状態を異にしたものの構成図、
第３図は本発明による原料液補給装置の構成図、第４図
は第３図に示すものの開閉弁の状態を異にしたものの構
成図、第５図は従来の原料液補給装置で複数の原料タン
クに補給する場合の構成図、第６図は本発明による原料
液補給装置で複数の原料タンクに補給する場合の構成図
である。 図　面　中、 １は原料タンク、２は原料液、３は原料タンク内の空間
、４．５．６．１０は配管、６′は分岐管、７は原料液
補給タンク、８は原料液、９は原料液補給タンクの空間
、１１　、１２　、１３゜１４．１６．２４は開閉弁、
１５．１７は流量調整装置、１８は圧力調整装置、２０
は可変流量調整装置、２１は圧力計、２２は制御装置、
２３’　、　２３′・・・２３ｎは流量調整装置である
。 特許出願人　住友電気工業株式会社 代理人　弁理士　光　石　士　部（他１名ン第１図 第２図 第３図 第４図 第５図 第６図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 原料液補給タンク上部の空間に加圧ガスを導入して原料
    液を原料タンクに補給する原料液補給装置において、上
    記加圧ガスを上記原料液補給タンクへ導入する配管に圧
    力調整装置を設けるとともに、該配管と上記原料液補給
    タンクから原料タンクへ原料液を送給する配管とを連通
    ずる分岐管に流量調節装置を設けたことを特徴とする原
    料液補給装置。
JP59100431A 1984-05-21 1984-05-21 原料液補給装置 Pending JPS60244333A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59100431A JPS60244333A (ja) 1984-05-21 1984-05-21 原料液補給装置
KR1019850003239A KR890001122B1 (ko) 1984-05-21 1985-05-13 원료액 보급장치
AU42553/85A AU570887B2 (en) 1984-05-21 1985-05-16 Liquid replenishing apparatus
US06/735,733 US4622988A (en) 1984-05-21 1985-05-20 Liquid replenishing apparatus
EP85106213A EP0165493B1 (en) 1984-05-21 1985-05-21 Liquid replenishing apparatus
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EP (1) EP0165493B1 (ja)
JP (1) JPS60244333A (ja)
KR (1) KR890001122B1 (ja)
AU (1) AU570887B2 (ja)
CA (1) CA1243250A (ja)
DE (1) DE3565670D1 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6397222A (ja) * 1986-10-15 1988-04-27 Canon Inc 薬液供給装置
JPS6458340A (en) * 1987-08-31 1989-03-06 Shimadzu Corp Compressively transferring type liquid feeding apparatus
JPH035029A (ja) * 1989-05-30 1991-01-10 Kazuyoshi Suzuki 多点位置決め用材料移送装置
JPH0375825U (ja) * 1989-11-28 1991-07-30
JPH08326995A (ja) * 1995-03-28 1996-12-10 Nikon Corp 逆拡散を防止した液体材料供給システム
JPH11244683A (ja) * 1998-02-27 1999-09-14 Japan Atom Energy Res Inst 湿式造粒方法及び装置
JP2000015082A (ja) * 1998-07-03 2000-01-18 Kanto Chem Co Inc 安全検出型薬液供給装置
JP2019520192A (ja) * 2016-04-19 2019-07-18 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ ガス駆動型流体輸送

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4859375A (en) * 1986-12-29 1989-08-22 Air Products And Chemicals, Inc. Chemical refill system
AT387291B (de) * 1987-04-29 1988-12-27 Steyr Daimler Puch Aktiengsell Verfahren zum veraendern des luftgefuellten restvolumens einer fluessigkeitsreibungskupplung auf einen vorbestimmten wert
DE3811041A1 (de) * 1988-03-31 1989-10-19 Merck Patent Gmbh Entnahmeventilkopf fuer behaelter
JP2614338B2 (ja) * 1990-01-11 1997-05-28 株式会社東芝 液体ソース容器
JPH04315548A (ja) * 1991-04-16 1992-11-06 Matsuura Kikai Seisakusho:Kk 集中潤滑装置
JPH0781965A (ja) * 1993-07-22 1995-03-28 Sumitomo Electric Ind Ltd ガス生成装置並びに光導波路及び光ファイバ母材を製造する方法及び装置
JP2002143751A (ja) * 2000-10-17 2002-05-21 L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procede S Georges Claude 処理液分配装置及び方法
US6736155B1 (en) * 2002-03-29 2004-05-18 Honda Motor Co., Ltd. Air oiler filler
US8028726B2 (en) * 2006-12-05 2011-10-04 International Business Machines Corporation Automatic venting of refillable bulk liquid canisters
US8037894B1 (en) * 2007-12-27 2011-10-18 Intermolecular, Inc. Maintaining flow rate of a fluid
DE102008010801B4 (de) * 2008-02-23 2011-03-03 Pierburg Gmbh Dosiervorrichtung für Feststoffpellets einer Ammoniak abspaltenden Substanz
DE102008053411A1 (de) * 2008-10-27 2010-05-06 Hahn-Schickard-Gesellschaft für angewandte Forschung e.V. Dosiervorrichtung und Dosierverfahren
US8627835B2 (en) 2011-04-13 2014-01-14 Intermolecular, Inc. In-situ cleaning assembly
US8974606B2 (en) 2011-05-09 2015-03-10 Intermolecular, Inc. Ex-situ cleaning assembly
KR101599343B1 (ko) 2011-05-10 2016-03-03 가부시키가이샤 후지킨 유량 모니터 부착 압력식 유량 제어 장치
JP5755958B2 (ja) * 2011-07-08 2015-07-29 株式会社フジキン 半導体製造装置の原料ガス供給装置
JP5647083B2 (ja) 2011-09-06 2014-12-24 株式会社フジキン 原料濃度検出機構を備えた原料気化供給装置
US9223319B2 (en) * 2012-12-21 2015-12-29 Intermolecular, Inc. High dilution ratio by successively preparing and diluting chemicals
US20150259797A1 (en) * 2014-03-17 2015-09-17 Jiangsu Nata Opto-electronic Material Co., Ltd. Liquid-Metal Organic Compound Supply System
CN113279616A (zh) * 2021-04-14 2021-08-20 杭州试抑贸易有限公司 一种智能制造的游泳池水位高度自动检测装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3698870A (en) * 1971-03-02 1972-10-17 Technicon Instr Apparatus for pumping with viscosity control
US4276243A (en) * 1978-12-08 1981-06-30 Western Electric Company, Inc. Vapor delivery control system and method
US4406517A (en) * 1979-01-02 1983-09-27 Corning Glass Works Optical waveguide having optimal index profile for multicomponent nonlinear glass
JPS5934420B2 (ja) * 1980-05-20 1984-08-22 ジエイ・シ−・シユ−マ−カ−・カンパニ− 化学蒸気分配システム
US4453865A (en) * 1982-07-21 1984-06-12 Stone & Webster Engineering Corp. Automatic pressure sensitive regulation assembly
JPS60122735A (ja) * 1983-12-02 1985-07-01 Sumitomo Electric Ind Ltd 原料ガス供給装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6397222A (ja) * 1986-10-15 1988-04-27 Canon Inc 薬液供給装置
JPS6458340A (en) * 1987-08-31 1989-03-06 Shimadzu Corp Compressively transferring type liquid feeding apparatus
JPH035029A (ja) * 1989-05-30 1991-01-10 Kazuyoshi Suzuki 多点位置決め用材料移送装置
JPH0375825U (ja) * 1989-11-28 1991-07-30
JPH08326995A (ja) * 1995-03-28 1996-12-10 Nikon Corp 逆拡散を防止した液体材料供給システム
JPH11244683A (ja) * 1998-02-27 1999-09-14 Japan Atom Energy Res Inst 湿式造粒方法及び装置
JP2000015082A (ja) * 1998-07-03 2000-01-18 Kanto Chem Co Inc 安全検出型薬液供給装置
JP2019520192A (ja) * 2016-04-19 2019-07-18 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ ガス駆動型流体輸送

Also Published As

Publication number Publication date
KR850008652A (ko) 1985-12-21
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CA1243250A (en) 1988-10-18
KR890001122B1 (ko) 1989-04-24
EP0165493A3 (en) 1986-08-20
AU570887B2 (en) 1988-03-24
AU4255385A (en) 1985-11-28
EP0165493B1 (en) 1988-10-19

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