JPS60245236A - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
- Publication number
- JPS60245236A JPS60245236A JP10050284A JP10050284A JPS60245236A JP S60245236 A JPS60245236 A JP S60245236A JP 10050284 A JP10050284 A JP 10050284A JP 10050284 A JP10050284 A JP 10050284A JP S60245236 A JPS60245236 A JP S60245236A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- chamber
- transfer
- automatic control
- control device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Recrystallisation Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は分子線エピタキシ装置等の半導体製造装置に係
り、特に基板搬送の信頼度を高めるのに好適な半導体製
造装置に関する。
り、特に基板搬送の信頼度を高めるのに好適な半導体製
造装置に関する。
半導体製造装置の一つ1;分子線エピタキシ装置がある
。
。
第1図は従来の分子線エピタキシ装置の構成図、第2図
および第3図は第1図の搬送室内の基板移送機構の平面
図および正面図、第4図は基板受は渡し機構の斜視図を
示している。第1図において、分子線エピタキシ装置は
、真空をやぶらずに基板をチャンバ内に送り込むための
導入室1、結晶成長前の基板表面を焼き出したり、結晶
成長後の基板表面を観察する分析室2、基板表面の結晶
成長を行う成長室3、結晶成長後の基板を真空をやぶら
ずに装置外部に取り出す搬出室4、これらの導入室19
分析室2.成長室3.搬出室4の全てとゲートバルブ7
を介して直結する搬送室5.その搬送室5内の基板を各
室の前へ移送する基板移送機構および各室と搬送室間の
基板の受け渡しを行う基板受は渡し機構から構成されて
いる。
および第3図は第1図の搬送室内の基板移送機構の平面
図および正面図、第4図は基板受は渡し機構の斜視図を
示している。第1図において、分子線エピタキシ装置は
、真空をやぶらずに基板をチャンバ内に送り込むための
導入室1、結晶成長前の基板表面を焼き出したり、結晶
成長後の基板表面を観察する分析室2、基板表面の結晶
成長を行う成長室3、結晶成長後の基板を真空をやぶら
ずに装置外部に取り出す搬出室4、これらの導入室19
分析室2.成長室3.搬出室4の全てとゲートバルブ7
を介して直結する搬送室5.その搬送室5内の基板を各
室の前へ移送する基板移送機構および各室と搬送室間の
基板の受け渡しを行う基板受は渡し機構から構成されて
いる。
前記基板移送機構は、第2図および第3図に示す如く、
搬送室5内に敷設されたレール6と、そのレール6上を
移動でき、かつ基板Kを平置きで積載できるトロッコ7
と、レール6の両端部に取付けられた駆動プーリ8およ
び従動プーリ9と、両端をトロッコ7の前後に係止し、
途中を駆動プーリ8.従動プーリ9に掛は渡したトロッ
コ牽引用のワイヤ10と、駆動プーリ8を回転導入機1
2を介して回転させるモータ11とから成っている。そ
して前記トロッコ7は、搬送室5内に設けたセンサ13
およびモータ11の制御器14によって任意位置での発
進、停止ができるようになっている。
搬送室5内に敷設されたレール6と、そのレール6上を
移動でき、かつ基板Kを平置きで積載できるトロッコ7
と、レール6の両端部に取付けられた駆動プーリ8およ
び従動プーリ9と、両端をトロッコ7の前後に係止し、
途中を駆動プーリ8.従動プーリ9に掛は渡したトロッ
コ牽引用のワイヤ10と、駆動プーリ8を回転導入機1
2を介して回転させるモータ11とから成っている。そ
して前記トロッコ7は、搬送室5内に設けたセンサ13
およびモータ11の制御器14によって任意位置での発
進、停止ができるようになっている。
前記基板受は渡し機構は、第4図に示す如く、基板積載
場所15Aを有し、トロッコ7の側方から矢印a方向に
進退可能なトランスファマニプレータ(以下単にマニプ
レータと称す)15と、基板保持部16Aを有し、レー
ル6の下方から上下動可能(矢印す方向)な部材16と
から成っている。そして、トロッコ7からマニプレータ
15が基板Kを受けとる時は、基板Kを積載して所定位
置に停止したトロッコ7の下方から前記部材16が上昇
し、その基板保持部16Aで基板Kを保持してさらに上
昇する。次いで上昇した基板にとトロッコ7との間にマ
ニプレータ15が侵入し、その後部材16が下降して基
板にはマニプレータ15の基板積載場所15Aに積載さ
れる。この状態でマニプレータ15がトロッコ7から離
れる方向に移動することにより基板には各室内へ搬入さ
れる。尚、前記マニプレータ15の動作は第1′図に示
したパイプ17内を通して行われる。またマニプレータ
15および部材16の動作は、位置決め用センサ、駆動
装置(いずれも図示せず)によって行われる。
場所15Aを有し、トロッコ7の側方から矢印a方向に
進退可能なトランスファマニプレータ(以下単にマニプ
レータと称す)15と、基板保持部16Aを有し、レー
ル6の下方から上下動可能(矢印す方向)な部材16と
から成っている。そして、トロッコ7からマニプレータ
15が基板Kを受けとる時は、基板Kを積載して所定位
置に停止したトロッコ7の下方から前記部材16が上昇
し、その基板保持部16Aで基板Kを保持してさらに上
昇する。次いで上昇した基板にとトロッコ7との間にマ
ニプレータ15が侵入し、その後部材16が下降して基
板にはマニプレータ15の基板積載場所15Aに積載さ
れる。この状態でマニプレータ15がトロッコ7から離
れる方向に移動することにより基板には各室内へ搬入さ
れる。尚、前記マニプレータ15の動作は第1′図に示
したパイプ17内を通して行われる。またマニプレータ
15および部材16の動作は、位置決め用センサ、駆動
装置(いずれも図示せず)によって行われる。
しかるに、前述した分子線エピタキシ装置においては、
オペレータが基板毎に種々の異なった順序で基板を搬送
するため(−例として、基板によっては成長室3で結晶
成長後、分析室2に再度戻して結晶表面の観察を行う場
合がある)、終始一貫して一定の自動搬送パターンでも
って基板を搬送することが難しい。
オペレータが基板毎に種々の異なった順序で基板を搬送
するため(−例として、基板によっては成長室3で結晶
成長後、分析室2に再度戻して結晶表面の観察を行う場
合がある)、終始一貫して一定の自動搬送パターンでも
って基板を搬送することが難しい。
本発明の目的は、基板を自動搬送しようとする際に生ず
る困難性を解消し、種々のパターンの基板の自動搬送を
可能とした半導体製造装置を提供することにある。
る困難性を解消し、種々のパターンの基板の自動搬送を
可能とした半導体製造装置を提供することにある。
本発明は、基板の移送動作と、基板の受け渡し動作とを
互に独立して自動化することにより、種種のパターンの
基板搬送を可能としたものである。
互に独立して自動化することにより、種種のパターンの
基板搬送を可能としたものである。
即ち、本発明は基板移送機構の自動制御装置と。
基板受は渡し機構の各自動制御装置とを備え、各自動制
御装置への入力指令に応じて前記の各機構を互に独立し
て動作させるようにしたことを特徴とする。
御装置への入力指令に応じて前記の各機構を互に独立し
て動作させるようにしたことを特徴とする。
以下、本発明の一実施例を分子線エピタキシ装置を例に
とって第5図により説明する0図において、この分子線
エピタキシ装置は、導入室内基板の搬送室への渡しを制
御する自動制御装置21と、搬送室内基板の導入室への
渡しを制御する自動制御装置22と、搬送室内基板の分
析室への渡しを制御する自動制御装置23と、分析室内
基板の搬送室への渡しを制御する自動制御装置24と、
搬送室内基板の成長室への渡しを制御する自動制御装置
25と、成長室内基板の搬送室への渡しを制御する自動
制御装置26と、搬出室内基板の搬送室への渡しを制御
する自動制御装置27と、搬送室内基板の搬出室への渡
しを制御する自動制御装w28と、搬送室内のトロッコ
の移送機構を制御する自動制御装置29とを備えている
。そして、これら各自動制御装置21〜29はそれぞれ
操作スイッチ(図示せず)を有していて、各々独立に操
作できるようになっている。
とって第5図により説明する0図において、この分子線
エピタキシ装置は、導入室内基板の搬送室への渡しを制
御する自動制御装置21と、搬送室内基板の導入室への
渡しを制御する自動制御装置22と、搬送室内基板の分
析室への渡しを制御する自動制御装置23と、分析室内
基板の搬送室への渡しを制御する自動制御装置24と、
搬送室内基板の成長室への渡しを制御する自動制御装置
25と、成長室内基板の搬送室への渡しを制御する自動
制御装置26と、搬出室内基板の搬送室への渡しを制御
する自動制御装置27と、搬送室内基板の搬出室への渡
しを制御する自動制御装w28と、搬送室内のトロッコ
の移送機構を制御する自動制御装置29とを備えている
。そして、これら各自動制御装置21〜29はそれぞれ
操作スイッチ(図示せず)を有していて、各々独立に操
作できるようになっている。
次、に本発明の作用について説明する。
結晶成長した後の基板を直ちに外部に取り出したい時は
、自動制御装置26の操作スイッチを押して基板を搬送
室へ移送した後、自動制御装置29の操作スイッチを押
してトロッコにより成長室前から搬出室前へ移送し、次
いで自動制御装置28の操作スイッチを押して基板を搬
出室に移す。
、自動制御装置26の操作スイッチを押して基板を搬送
室へ移送した後、自動制御装置29の操作スイッチを押
してトロッコにより成長室前から搬出室前へ移送し、次
いで自動制御装置28の操作スイッチを押して基板を搬
出室に移す。
また、結晶成長後の基板を再度分析室に戻して表面観察
したい時は、自動制御装置26の操作スイッチを押して
基板を成長室から搬送室へ移送した後、自動制御装置2
9の操作スイッチを押してトロッコにより成長室前から
分析室前へ移送し、次いで自動制御装置23の操作スイ
ッチを押して基板を分析室内に移す。
したい時は、自動制御装置26の操作スイッチを押して
基板を成長室から搬送室へ移送した後、自動制御装置2
9の操作スイッチを押してトロッコにより成長室前から
分析室前へ移送し、次いで自動制御装置23の操作スイ
ッチを押して基板を分析室内に移す。
第6図は本発明の他の実施例を示し、第5図と異なるの
は、各自動制御装置21〜29をコンピュータまたはプ
ログラマブルリレー30の制御器に接続し、そのコンピ
ュータまたはプログラマブルリレー30に各作業の順序
をプログラミングした点にある。
は、各自動制御装置21〜29をコンピュータまたはプ
ログラマブルリレー30の制御器に接続し、そのコンピ
ュータまたはプログラマブルリレー30に各作業の順序
をプログラミングした点にある。
この実施例では、基板を導入室に挿入した後、搬出室に
取り出すまでの間を一貫して自動化することができる。
取り出すまでの間を一貫して自動化することができる。
そして、この実施例は、多数の基板をすべて同じパター
ンで搬送する際に特に有効である。
ンで搬送する際に特に有効である。
第7図も本発明の他の実施例を示し、前もってプログラ
ミングされた手順に従ってコンピュータまたはプログラ
マブルリレー30から指令を出すと同時に、各作業に対
応した基板の位置をディスプレー装置31の画面に描き
出すようにしたものである。
ミングされた手順に従ってコンピュータまたはプログラ
マブルリレー30から指令を出すと同時に、各作業に対
応した基板の位置をディスプレー装置31の画面に描き
出すようにしたものである。
この実施例では、同時に複数枚の基板を遠隔操作により
自動搬送する場合でも、オペレータが回部することなく
次に行うべき作業を適確に判断できる。
自動搬送する場合でも、オペレータが回部することなく
次に行うべき作業を適確に判断できる。
以上説明したように、本発明によれば、基板の移送動作
と、基板の受け渡し動作とを各々独立して自動化したの
で、種々のパターンの基板搬送を行える。
と、基板の受け渡し動作とを各々独立して自動化したの
で、種々のパターンの基板搬送を行える。
第1図は従来の分子線エピタキシ装置の構成図、第2図
および第3図は第1図の搬送室内の基板移送機構の平面
図および正面図、第4図は基板受は渡し機構の斜視1図
、第5図は本発明の一実施例として示した分子線エピタ
キシ装置の制御ブロック図、第6図および第7図は本発
明の他の実施例を示す制御ブロック図である。 1・・・導入室、2・・・分析室、3・・・成長室、4
・・・搬出室、5・・・搬送室、7・・・トロッコ、1
5・・・トランスファマニプレータ、16・・・部材、
21〜29・・・自動制御装置、30・・・コンピュー
タ(プログラマブルリレー)、31・・・ディスプレー
装置。 代理人 弁理人 高橋明夫 第 1 図 第 2 図 y4 国 5 第1頁の続き [相]発明者田村 直行 @発明者立花 先広 下松市東豊井794番地 株式会社日立製作所笠戸工場
内央研究所内
および第3図は第1図の搬送室内の基板移送機構の平面
図および正面図、第4図は基板受は渡し機構の斜視1図
、第5図は本発明の一実施例として示した分子線エピタ
キシ装置の制御ブロック図、第6図および第7図は本発
明の他の実施例を示す制御ブロック図である。 1・・・導入室、2・・・分析室、3・・・成長室、4
・・・搬出室、5・・・搬送室、7・・・トロッコ、1
5・・・トランスファマニプレータ、16・・・部材、
21〜29・・・自動制御装置、30・・・コンピュー
タ(プログラマブルリレー)、31・・・ディスプレー
装置。 代理人 弁理人 高橋明夫 第 1 図 第 2 図 y4 国 5 第1頁の続き [相]発明者田村 直行 @発明者立花 先広 下松市東豊井794番地 株式会社日立製作所笠戸工場
内央研究所内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基板の搬送室と、その搬送室に直接連結された複数
個の真空処理室と、前記搬送室内の基板を各真空処理室
前へ移送する基板移送機構と、各真空処理室と搬送室間
の基板の受け渡しを行う基板受は渡し機構と、これら各
機構を入力指令に応じて互に独立して動作させる自動制
御装置とを備えたことを特徴とする半導体製造装置。 2、前記各自動制御装置は、コンピュータまたはプログ
ラマフルリレーの制御器に接続され。 そのコンピュータまたはプログラマブルリレー比は前記
基板移送機構および前記基板受は渡し機構の動作順序を
プログラミングしであることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の半導体製造装置。 3、前記コンピュータまたはプログラマブルリレーは、
基板の移送作業および受け渡し作業に対応した基板の位
置を表示するディスプレー装置を具えていることを特徴
とする特許請求の範囲第2項記載の半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10050284A JPS60245236A (ja) | 1984-05-21 | 1984-05-21 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10050284A JPS60245236A (ja) | 1984-05-21 | 1984-05-21 | 半導体製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60245236A true JPS60245236A (ja) | 1985-12-05 |
Family
ID=14275710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10050284A Pending JPS60245236A (ja) | 1984-05-21 | 1984-05-21 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60245236A (ja) |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56169343A (en) * | 1980-05-30 | 1981-12-26 | Fujitsu Ltd | Manufacture of semiconductor device |
| JPS5730319A (en) * | 1980-07-31 | 1982-02-18 | Fujitsu Ltd | Automatic manufacturing equipment of integrated circuit device |
| JPS5753663A (en) * | 1980-09-18 | 1982-03-30 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Speed detector for electric motor |
| JPS57117232A (en) * | 1981-01-13 | 1982-07-21 | Toshiba Corp | Centralized control system for semiconductor manufacturing device |
| JPS57188340A (en) * | 1981-05-15 | 1982-11-19 | Bando Chem Ind Ltd | Manufacture of v-belt with arch |
| JPS5816825A (ja) * | 1981-06-03 | 1983-01-31 | ロ−ヌ−プ−ラン・スペシアリテ・シミ−ク | ガス不透過性の耐水性被覆を備えた熱可塑性樹脂製二軸延伸中空体の製造方法及び同方法により得られた中空体 |
| JPS594039A (ja) * | 1982-06-30 | 1984-01-10 | Hitachi Ltd | ウエ−ハ搬送装置 |
-
1984
- 1984-05-21 JP JP10050284A patent/JPS60245236A/ja active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56169343A (en) * | 1980-05-30 | 1981-12-26 | Fujitsu Ltd | Manufacture of semiconductor device |
| JPS5730319A (en) * | 1980-07-31 | 1982-02-18 | Fujitsu Ltd | Automatic manufacturing equipment of integrated circuit device |
| JPS5753663A (en) * | 1980-09-18 | 1982-03-30 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Speed detector for electric motor |
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| JPS57188340A (en) * | 1981-05-15 | 1982-11-19 | Bando Chem Ind Ltd | Manufacture of v-belt with arch |
| JPS5816825A (ja) * | 1981-06-03 | 1983-01-31 | ロ−ヌ−プ−ラン・スペシアリテ・シミ−ク | ガス不透過性の耐水性被覆を備えた熱可塑性樹脂製二軸延伸中空体の製造方法及び同方法により得られた中空体 |
| JPS594039A (ja) * | 1982-06-30 | 1984-01-10 | Hitachi Ltd | ウエ−ハ搬送装置 |
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