JPS60247156A - 探傷方法及び装置 - Google Patents
探傷方法及び装置Info
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- JPS60247156A JPS60247156A JP10404884A JP10404884A JPS60247156A JP S60247156 A JPS60247156 A JP S60247156A JP 10404884 A JP10404884 A JP 10404884A JP 10404884 A JP10404884 A JP 10404884A JP S60247156 A JPS60247156 A JP S60247156A
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/72—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating magnetic variables
- G01N27/82—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating magnetic variables for investigating the presence of flaws
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- Pathology (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Magnetic Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は導電体或いは磁性体の被検査材の表面及び表皮
下に存する疵を検出する探傷方法及び装置に関し、更に
詳述すれば被検査材の表面に渦電流或いは静磁場を形成
せしめ、該表面及び表皮下に疵が存する場合のそれらの
変化により移動する様になしである検査コイルの移動距
離を測定することにより紙検出を行う全く新しい探傷方
法及びその実施に使用する探傷装置を提案するものであ
る。
下に存する疵を検出する探傷方法及び装置に関し、更に
詳述すれば被検査材の表面に渦電流或いは静磁場を形成
せしめ、該表面及び表皮下に疵が存する場合のそれらの
変化により移動する様になしである検査コイルの移動距
離を測定することにより紙検出を行う全く新しい探傷方
法及びその実施に使用する探傷装置を提案するものであ
る。
スラブ、鋼管等の被検査材の表面及び表皮下に存在する
疵を探傷する方法としては、従来より渦流探傷方法、漏
洩磁束探傷方法等積々の方法が実施されているが、これ
らの従来方法にあっては、何れも被検査材の表面及び表
皮下に疵が存在する場合の渦電流、磁場の変動を磁気セ
ンサにて検出することにより紙検出を行うものであった
。
疵を探傷する方法としては、従来より渦流探傷方法、漏
洩磁束探傷方法等積々の方法が実施されているが、これ
らの従来方法にあっては、何れも被検査材の表面及び表
皮下に疵が存在する場合の渦電流、磁場の変動を磁気セ
ンサにて検出することにより紙検出を行うものであった
。
この様な従来方法にあっては、磁気センサの検出感度の
向上を図るためには磁気センサを可及的に被検査材に近
接せしめる必要がある。しかしながら、被検査材は搬送
中に振動するため、該振動が大きい場合は被検査材が磁
気センサに衝突し、これを破損する虞れがある。このた
め磁気センサを被検査材に近接せしめるには限界があり
、探傷感度を向上する上での制約となっていた。
向上を図るためには磁気センサを可及的に被検査材に近
接せしめる必要がある。しかしながら、被検査材は搬送
中に振動するため、該振動が大きい場合は被検査材が磁
気センサに衝突し、これを破損する虞れがある。このた
め磁気センサを被検査材に近接せしめるには限界があり
、探傷感度を向上する上での制約となっていた。
そこで、磁気センサの破損を防止し、また、該磁気セン
サの検出感度の向上を図る方法として、例えば、磁気セ
ンサと被検査材との空隙距11t(以下リフトオフとい
う)を大きくし、そのときの磁気センサの検出感度の低
下を補うべく磁気センサに連なる信号処理系に感度補償
のだめの回路を設ける方法がある。
サの検出感度の向上を図る方法として、例えば、磁気セ
ンサと被検査材との空隙距11t(以下リフトオフとい
う)を大きくし、そのときの磁気センサの検出感度の低
下を補うべく磁気センサに連なる信号処理系に感度補償
のだめの回路を設ける方法がある。
しかしながら、このような方法による場合は信号処理系
が複雑になる等の理由により磁気センサの検出感度の低
下を補う上での制約があり、結局リフトオフを大きくす
るには限界があった。
が複雑になる等の理由により磁気センサの検出感度の低
下を補う上での制約があり、結局リフトオフを大きくす
るには限界があった。
本発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、検査
コイルを被検査材の表面に接離移動可能に設け、また、
該被検査材の表面に前記検査コイルと機械的に独立に臨
設しである励磁コイルに、被検査材の表面の検査コイル
と対向する部分に渦電流を形成せしめるべく励磁電流を
通流し、被検査材の表面及び表皮下に疵が存在する場合
の前記渦電流の乱れに起因する検査コイルの移動距離を
測定することにより紙検出を行うこととして、複雑な信
号処理系を要さず従来方法よりもリフトオフを大きくし
得、更にこれに加えて被検査材の表面の検査コイルと対
向する部分にこれに沿う向きとなる静磁場を形成せしめ
るべく、直流を通流される電磁石を設け、該電磁石と励
磁コイルへの通流を交互に行ない、被検査材の表面及び
表皮下に疵が存在する場合の前記渦電流又は静磁場の乱
れに起因する検査コイルの移動距離を測定することによ
り疵の種類に関係なく検出が行なえる探傷方法及びその
実施に使用する探傷装置を提供することを目的とする。
コイルを被検査材の表面に接離移動可能に設け、また、
該被検査材の表面に前記検査コイルと機械的に独立に臨
設しである励磁コイルに、被検査材の表面の検査コイル
と対向する部分に渦電流を形成せしめるべく励磁電流を
通流し、被検査材の表面及び表皮下に疵が存在する場合
の前記渦電流の乱れに起因する検査コイルの移動距離を
測定することにより紙検出を行うこととして、複雑な信
号処理系を要さず従来方法よりもリフトオフを大きくし
得、更にこれに加えて被検査材の表面の検査コイルと対
向する部分にこれに沿う向きとなる静磁場を形成せしめ
るべく、直流を通流される電磁石を設け、該電磁石と励
磁コイルへの通流を交互に行ない、被検査材の表面及び
表皮下に疵が存在する場合の前記渦電流又は静磁場の乱
れに起因する検査コイルの移動距離を測定することによ
り疵の種類に関係なく検出が行なえる探傷方法及びその
実施に使用する探傷装置を提供することを目的とする。
本発明に係る探傷方法は、検査コイルを被検査材の表面
に対して接離移動可能に設け、また、該被検査材の表面
の前記検査コイルと対向する部分に渦電流を形成せしめ
るべく励磁電流を通流される励磁コイルを前記検査コイ
ルと機械的に独立に設け、被検査材の表面及び表皮下に
疵が存在する場合の前記渦電流の乱れに起因する前記検
査コイルの移動の距離を測定することにより疵を検出す
ることとし、更には検査コイルと対向する被検査材の表
面に電磁石を設け、被検査材の当該部分に渦電流及びこ
れに沿う静磁場を交互に形成せしめるべく、励磁コイル
に励磁電流を、また、電磁石に直流を交互に通流するこ
ととし、前記被検査材の表面及び表皮下に疵が存在する
場合の前記渦電流又は静磁場の乱れに起因する前記検査
コイルの移動距離を測定することにより疵を検出するこ
とを特徴とする。
に対して接離移動可能に設け、また、該被検査材の表面
の前記検査コイルと対向する部分に渦電流を形成せしめ
るべく励磁電流を通流される励磁コイルを前記検査コイ
ルと機械的に独立に設け、被検査材の表面及び表皮下に
疵が存在する場合の前記渦電流の乱れに起因する前記検
査コイルの移動の距離を測定することにより疵を検出す
ることとし、更には検査コイルと対向する被検査材の表
面に電磁石を設け、被検査材の当該部分に渦電流及びこ
れに沿う静磁場を交互に形成せしめるべく、励磁コイル
に励磁電流を、また、電磁石に直流を交互に通流するこ
ととし、前記被検査材の表面及び表皮下に疵が存在する
場合の前記渦電流又は静磁場の乱れに起因する前記検査
コイルの移動距離を測定することにより疵を検出するこ
とを特徴とする。
先ず本発明の原理について説明する。第1図に示すよう
に白抜矢符方向に移送されるスラブ1の上方に励磁コイ
ル2を、その軸心がスラブエの表面に直交する様にして
設け、これにパルス電流(交流電流であってもよい)を
通流する。これにより励磁コイル2の下方に位置するス
ラブ1の表層部にはその表面に対して垂直となる断続磁
場が形成される。そして、該断続磁場によりスラブ1の
表面には渦電流が発生せしめられる。励磁コイル2の真
上には該励磁コイル2と軸心を共通にして検査コイル3
をコイルバネ7.7を介して上下方向への移動可能に吊
支しである。
に白抜矢符方向に移送されるスラブ1の上方に励磁コイ
ル2を、その軸心がスラブエの表面に直交する様にして
設け、これにパルス電流(交流電流であってもよい)を
通流する。これにより励磁コイル2の下方に位置するス
ラブ1の表層部にはその表面に対して垂直となる断続磁
場が形成される。そして、該断続磁場によりスラブ1の
表面には渦電流が発生せしめられる。励磁コイル2の真
上には該励磁コイル2と軸心を共通にして検査コイル3
をコイルバネ7.7を介して上下方向への移動可能に吊
支しである。
検査コイル3の真上には検査コイル3との距離を測定す
る距離センサ4、例えば光学センサ、マイクロ波センサ
、超音波センサを設けである。
る距離センサ4、例えば光学センサ、マイクロ波センサ
、超音波センサを設けである。
今、下記+1)式で示される電流1pを励磁コイル2に
通流すると、 1p−Io exp(−αt) ・sinβt −(1
1但し、 Io :電流Ipの初期振幅値 α :減衰率 t :時間(秒) β :角周波数(rad/秒) スラブ1の励磁コイル2の直下部表面に疵が存在しない
場合に発生せしめられる渦電流密度Jp(A/rrr)
は下記(2)式で示される。
通流すると、 1p−Io exp(−αt) ・sinβt −(1
1但し、 Io :電流Ipの初期振幅値 α :減衰率 t :時間(秒) β :角周波数(rad/秒) スラブ1の励磁コイル2の直下部表面に疵が存在しない
場合に発生せしめられる渦電流密度Jp(A/rrr)
は下記(2)式で示される。
但し、
δはδ−−IT7Tエフで示される渦電流の侵入深さで
ある。
ある。
、Joニスラブ1の表面における渦電流密度(八/mF
) 2 ニスラブ1の厚み方向における表面からの距離(m
) μ :透磁率(07m ) σ :導電率(S/m) 而して、スラブlの表面に疵が存在する場合は(2)式
において2が変化するので、このときの渦電流密度は変
化する。今、その変化分をΔJρとすると、このときの
渦電流密度はJp−ΔJpになる。渦電流密度が変化す
ると検査コイル3に作用する励磁コイル2の磁場の半径
方向成分も変化する。一方、検査コイル3には励磁コイ
ル2を流れる電流の誘導電流が流れており、励磁コイル
2の磁場の半径方向成分の磁場変化によって検査コイル
3にはフレミングの左手の法則に従う電磁力が上下方向
に作用する。検査コイル3の電流値を1(A)とすると
、スラブ1の検査コイル3直下部表面に疵がない場合の
電磁力Foは下記(3)式で示される。
) 2 ニスラブ1の厚み方向における表面からの距離(m
) μ :透磁率(07m ) σ :導電率(S/m) 而して、スラブlの表面に疵が存在する場合は(2)式
において2が変化するので、このときの渦電流密度は変
化する。今、その変化分をΔJρとすると、このときの
渦電流密度はJp−ΔJpになる。渦電流密度が変化す
ると検査コイル3に作用する励磁コイル2の磁場の半径
方向成分も変化する。一方、検査コイル3には励磁コイ
ル2を流れる電流の誘導電流が流れており、励磁コイル
2の磁場の半径方向成分の磁場変化によって検査コイル
3にはフレミングの左手の法則に従う電磁力が上下方向
に作用する。検査コイル3の電流値を1(A)とすると
、スラブ1の検査コイル3直下部表面に疵がない場合の
電磁力Foは下記(3)式で示される。
Fo =K −i −Jp (kg) −・・(3)但
し、 K:換算係数であって、検査コイル3とスラブ1表面と
の空隙距離によって定まる。
し、 K:換算係数であって、検査コイル3とスラブ1表面と
の空隙距離によって定まる。
従って、疵が存在する場合の電磁力F、は下記(4)式
で示される。
で示される。
Fl =K −1(Jp−ΔJp) (kg) ・・・
(4)而して、疵が検査コイル3の直下部に到来して通
過する場合にはその前後において電磁力が相違するので
、その差Fo−F、により検査コイル3は第2図に示す
様に上下方向に振動する。従って、この振動の振幅ΔL
i (疵が存在しない場合の距離センサ4〜検査コイル
3間の空隙距離Loと疵が存在する場合の距離センサ4
〜検査コイル3間の空隙距離L1との差に相当する)を
検出することにより疵検出が行なえるのである。
(4)而して、疵が検査コイル3の直下部に到来して通
過する場合にはその前後において電磁力が相違するので
、その差Fo−F、により検査コイル3は第2図に示す
様に上下方向に振動する。従って、この振動の振幅ΔL
i (疵が存在しない場合の距離センサ4〜検査コイル
3間の空隙距離Loと疵が存在する場合の距離センサ4
〜検査コイル3間の空隙距離L1との差に相当する)を
検出することにより疵検出が行なえるのである。
第3図は第1図に示した構成に加えてスラブ1の表面の
検査コイル3と対向する部分に、検査コイル3よりもス
ラブ1の表面に近接せしめて電磁石5を臨設した構成を
示しており、励磁コイル2及び電磁石5には夫々パルス
電流及び直流を交互に通流するようになしである。励磁
コイル2通流時は前述した通りであるので、電磁石5通
流時について説明する。
検査コイル3と対向する部分に、検査コイル3よりもス
ラブ1の表面に近接せしめて電磁石5を臨設した構成を
示しており、励磁コイル2及び電磁石5には夫々パルス
電流及び直流を交互に通流するようになしである。励磁
コイル2通流時は前述した通りであるので、電磁石5通
流時について説明する。
電磁石5に直流を通流すると、スラブ1表面の検査コイ
ル3直下部には表面に沿う向きの静磁場が形成される。
ル3直下部には表面に沿う向きの静磁場が形成される。
而して、スラブ1の表面に疵が存在する場合は該庇部か
ら磁束が漏洩し、疵が検査コイル3直下を通過する前後
にはこの漏洩磁束により静磁場が変化する。そして、こ
の静磁場の水平方向成分の変化により検査コイル3には
電流が流れ、従って、フレミングの左手の法則により上
下方向の電磁力が作用する。この結果その前後において
検査コイル3が上下に振動する。この振動の振幅ΔL2
を同様に距離センサ4にて検出することにより電磁石5
通流時における疵検出が行なえる。
ら磁束が漏洩し、疵が検査コイル3直下を通過する前後
にはこの漏洩磁束により静磁場が変化する。そして、こ
の静磁場の水平方向成分の変化により検査コイル3には
電流が流れ、従って、フレミングの左手の法則により上
下方向の電磁力が作用する。この結果その前後において
検査コイル3が上下に振動する。この振動の振幅ΔL2
を同様に距離センサ4にて検出することにより電磁石5
通流時における疵検出が行なえる。
なお、説明の便宜上第3図では電磁石5の磁極N極、S
極をスラブ1の移送方向に対設しであるが、リフトオフ
を大きくするにはN極、S極をスラブ1の板幅方向に対
設するのがよい。また、励磁コイル2.検査コイル3の
上下位置は逆であってもよい。而して、この場合にリフ
トオフはスラブ1の表面〜励磁コイル2又は検査コイル
3間の空隙距離になる。そして、励磁コイル2.検査コ
イル3及び電磁石5への通電電流を高めることによりリ
フトオフを大きくすることができる。
極をスラブ1の移送方向に対設しであるが、リフトオフ
を大きくするにはN極、S極をスラブ1の板幅方向に対
設するのがよい。また、励磁コイル2.検査コイル3の
上下位置は逆であってもよい。而して、この場合にリフ
トオフはスラブ1の表面〜励磁コイル2又は検査コイル
3間の空隙距離になる。そして、励磁コイル2.検査コ
イル3及び電磁石5への通電電流を高めることによりリ
フトオフを大きくすることができる。
而して、公知のようにスラブ1の板厚方向に延出する穴
状のビット疵の検出には上記した渦流による探傷方法が
適しており、また、割れ疵の検出には漏洩磁束による探
傷方法が適している。従ってピント疵のみを検出する場
合には第1図に示す方法によれば良く、割れ疵の検出を
も併せて行なう場合には第3図に示す方法によればよい
。
状のビット疵の検出には上記した渦流による探傷方法が
適しており、また、割れ疵の検出には漏洩磁束による探
傷方法が適している。従ってピント疵のみを検出する場
合には第1図に示す方法によれば良く、割れ疵の検出を
も併せて行なう場合には第3図に示す方法によればよい
。
以下本発明をその実施例を示す図面に基づいて詳述する
。
。
第4図は本発明に係る探傷方法の実施に使用する装置を
その信号処理系と共に示す模式的側面図である。
その信号処理系と共に示す模式的側面図である。
本実施例は第3図で示した探傷方法を行なうためのもの
である。
である。
図中1はスラブであって、図示しない搬送装置により白
抜矢符で示す長手方向に移送される。スラブ1の移送域
の所定の位置には磁極N極、S極をスラブ1の板幅方向
に対向(図面では手前側のN極が現れている)し、その
間にスラブ1を通過させるようにして電磁石5を設けで
ある。電磁石5は切換スイッチ13を介して直流電源1
1に接続されており、該直流電源11から直流を通流さ
れると、その直下に位置するスラブ1の表層部に板幅方
向に向かう静磁場を形成する。電磁石5の上方には支持
部材6を設けである。支持部材6は板幅方向の走査のた
めに図示しない駆動手段によりスラブ1の板幅方向に移
動されるようになっている。支持部材6には励磁コイル
2をその軸心をスラブ1の表面に垂直にして、その表面
から適長だけ離して堅固に取付けである。支持部材6に
は、また、コイルバネ7.7を介して検査コイル3を励
磁コイル2の少し上方にその軸心をこれと同方向にして
上下方向への移動可能に吊支しである。励磁コイル2は
切換スイッチ13を介してパルス電流発生回路12に接
続されており、該パルス電流発生回路12から第5図(
a)に示すパルス電流を通流されると、その直下に位置
するスラブ1の表層部に渦電流を発生せしめる。
抜矢符で示す長手方向に移送される。スラブ1の移送域
の所定の位置には磁極N極、S極をスラブ1の板幅方向
に対向(図面では手前側のN極が現れている)し、その
間にスラブ1を通過させるようにして電磁石5を設けで
ある。電磁石5は切換スイッチ13を介して直流電源1
1に接続されており、該直流電源11から直流を通流さ
れると、その直下に位置するスラブ1の表層部に板幅方
向に向かう静磁場を形成する。電磁石5の上方には支持
部材6を設けである。支持部材6は板幅方向の走査のた
めに図示しない駆動手段によりスラブ1の板幅方向に移
動されるようになっている。支持部材6には励磁コイル
2をその軸心をスラブ1の表面に垂直にして、その表面
から適長だけ離して堅固に取付けである。支持部材6に
は、また、コイルバネ7.7を介して検査コイル3を励
磁コイル2の少し上方にその軸心をこれと同方向にして
上下方向への移動可能に吊支しである。励磁コイル2は
切換スイッチ13を介してパルス電流発生回路12に接
続されており、該パルス電流発生回路12から第5図(
a)に示すパルス電流を通流されると、その直下に位置
するスラブ1の表層部に渦電流を発生せしめる。
直流電源11と電磁石5との接続及びパルス電流発生回
路12と励磁コイル2との接続、つまりスイッチ13の
切換えはスイッチ制御回路14から与えられるスイッチ
切換信号により行われる。スイッチ制御回路14は同期
パルス発生回路15に接続されており、同期パルス発生
回路15は第5図(blに示すデユーティ比2のタイミ
ングパルスをスイッチ制御回路14に与え、スイッチ制
御回路14は、そのハイ。
路12と励磁コイル2との接続、つまりスイッチ13の
切換えはスイッチ制御回路14から与えられるスイッチ
切換信号により行われる。スイッチ制御回路14は同期
パルス発生回路15に接続されており、同期パルス発生
回路15は第5図(blに示すデユーティ比2のタイミ
ングパルスをスイッチ制御回路14に与え、スイッチ制
御回路14は、そのハイ。
ローに応じてスイッチ13の切換えを行なう。なお、こ
のタイミングパルスの1周期はパルス電流発生回路12
が発するパルス電流の周期に比して十分長い。これによ
ってスラブ1の励磁コイル2の直下部表面には渦電流及
び静磁場が交互に形成されることになる。前記タイミン
グパルスは後述する信号処理装置17にも与えられるよ
うになっている。
のタイミングパルスの1周期はパルス電流発生回路12
が発するパルス電流の周期に比して十分長い。これによ
ってスラブ1の励磁コイル2の直下部表面には渦電流及
び静磁場が交互に形成されることになる。前記タイミン
グパルスは後述する信号処理装置17にも与えられるよ
うになっている。
検査コイル3は既述した如く渦電流発生時又は静磁場形
成時にスラブ1の表面の検査コイル3と対向する部分に
疵が存在する場合に、その前後において変動する電磁力
の相違により上下方向に振動する。支持部材6の検査コ
イル3の真上に相当する下面には距離センサ4を取付け
である。距離センサ4は距離センサ4〜検査コイル3間
の空隙距1i11tLを測定する。距離センサ4の測定
結果は信号処理装置17に入力される。
成時にスラブ1の表面の検査コイル3と対向する部分に
疵が存在する場合に、その前後において変動する電磁力
の相違により上下方向に振動する。支持部材6の検査コ
イル3の真上に相当する下面には距離センサ4を取付け
である。距離センサ4は距離センサ4〜検査コイル3間
の空隙距1i11tLを測定する。距離センサ4の測定
結果は信号処理装置17に入力される。
信号処理装置17はスイッチ制御回路14からのタイミ
ングパルスによって距離センサ4による測定結果が励磁
コイル2又は電磁石5の何れへの通電時のものかを判別
する。そして、下記f51. (61式に示す演算を実
行する。
ングパルスによって距離センサ4による測定結果が励磁
コイル2又は電磁石5の何れへの通電時のものかを判別
する。そして、下記f51. (61式に示す演算を実
行する。
励磁コイル2への通流のとき
ΔL+=L1a L −(5)
電磁石5への通流のとき
ΔL 2 = L25− L・・’ (61但し、
Ll、:励磁コイル2への通流時において、検査コイル
3直下のスラブ1の表面に疵 がない場合の検査コイル3と距離セン サ4間の空隙距離 L2.:電磁石5への通流時において、検査コイル3直
下のスラブ1の表面に疵がな イ場合の検査コイル3と距離センサ4 との空隙距離 そしてΔL1. ΔL2を夫々所定の闇値と比較し、Δ
L1+ ΔL2がそれらよりも大である場合はビット疵
9割れ疵が存在するとし警報器18a、18bを作動さ
せ、また、図示しないマーキング装置に所定信号を発す
る。
3直下のスラブ1の表面に疵 がない場合の検査コイル3と距離セン サ4間の空隙距離 L2.:電磁石5への通流時において、検査コイル3直
下のスラブ1の表面に疵がな イ場合の検査コイル3と距離センサ4 との空隙距離 そしてΔL1. ΔL2を夫々所定の闇値と比較し、Δ
L1+ ΔL2がそれらよりも大である場合はビット疵
9割れ疵が存在するとし警報器18a、18bを作動さ
せ、また、図示しないマーキング装置に所定信号を発す
る。
この様な本発明による場合はスラブ1の表面の検査コイ
ル3と対向する部分に渦電流又は静磁場を交互に形成せ
しめ、スラブ1の表面に疵が存在する場合と存在しない
場合の検査コイル3に作用する電磁力の相違による検査
コイル3の上下方向への移動量を検出することにより疵
検比を行なうものであるので、励磁コイル2及び電磁石
5への通流電流の値を適宜に選定することにより感度上
昇を図ることができ、従ってリフトオフを大きくするこ
とができる。
ル3と対向する部分に渦電流又は静磁場を交互に形成せ
しめ、スラブ1の表面に疵が存在する場合と存在しない
場合の検査コイル3に作用する電磁力の相違による検査
コイル3の上下方向への移動量を検出することにより疵
検比を行なうものであるので、励磁コイル2及び電磁石
5への通流電流の値を適宜に選定することにより感度上
昇を図ることができ、従ってリフトオフを大きくするこ
とができる。
また、その構成により感度補償のための複雑な回路構成
を要せず、従来方法に比しより一層簡潔な構成にて疵検
比が行なえる。
を要せず、従来方法に比しより一層簡潔な構成にて疵検
比が行なえる。
更にスラブ1の搬送中の上下変動を何等かの手段にて検
出し、この変動分を補正量として距離センサ4の測定結
果に加味する場合は疵の存否のみならず、その深さも検
出することができる。
出し、この変動分を補正量として距離センサ4の測定結
果に加味する場合は疵の存否のみならず、その深さも検
出することができる。
また、励磁コイル2に通流されるパルス電流の周波数を
適宜に選定する場合には表面疵のみならず内面底の検出
も可能となる。
適宜に選定する場合には表面疵のみならず内面底の検出
も可能となる。
また、電磁石5に替えて永久磁石を用いることも可能で
あり、この場合はこれによる静磁場が検査コイル3に及
ぼす影響を補償すればよい。
あり、この場合はこれによる静磁場が検査コイル3に及
ぼす影響を補償すればよい。
第6図は本発明装置の他の実施例を示す模式的側面図で
ある。この実施例は電磁石を設けず、渦流探傷型の疵検
比、つまりピット疵の検出のみを行なうためのものであ
り、前述の実施例と対応する部分には同一の番号を付し
て説明を省略する。
ある。この実施例は電磁石を設けず、渦流探傷型の疵検
比、つまりピット疵の検出のみを行なうためのものであ
り、前述の実施例と対応する部分には同一の番号を付し
て説明を省略する。
この実施例による場合は上述の実施例と同様、従来方法
に比してリフトオフを大きくとれることは勿論、スイッ
チ13.スイッチ制御回路14等を要せず、簡潔な構成
にてピント疵の検出が行なえる。
に比してリフトオフを大きくとれることは勿論、スイッ
チ13.スイッチ制御回路14等を要せず、簡潔な構成
にてピント疵の検出が行なえる。
以上の如き本発明は、検査コイルを被検査材の表面に接
離移動可能に設け、また該被検査材の表面に前記検査コ
イルと機械的に独立に臨設しである励磁コイルに、被検
査材の表面の検査コイルと対向する部分に渦電流を形成
せしめるべく励磁電流を通流し、被検査材の表面及び表
皮下に疵が存在する場合の前記渦電流の乱れに起因する
検査コイルの移動距離を測定することにより疵検比を行
なうものであるので、複雑な信号処理系を要さずに従来
方法よりもリフトオフを大きくし得る。更にまた、上述
の如き電磁石を併設する実施例による場合は、割れ疵、
ピット疵等の多種類の疵検比を同時に行なえる。
離移動可能に設け、また該被検査材の表面に前記検査コ
イルと機械的に独立に臨設しである励磁コイルに、被検
査材の表面の検査コイルと対向する部分に渦電流を形成
せしめるべく励磁電流を通流し、被検査材の表面及び表
皮下に疵が存在する場合の前記渦電流の乱れに起因する
検査コイルの移動距離を測定することにより疵検比を行
なうものであるので、複雑な信号処理系を要さずに従来
方法よりもリフトオフを大きくし得る。更にまた、上述
の如き電磁石を併設する実施例による場合は、割れ疵、
ピット疵等の多種類の疵検比を同時に行なえる。
なお、上述の実施例では本発明をスラブの探傷に適用す
る場合について述べたが、鋼管等の他の導電体、磁性体
の疵検比についても適用できることは勿論である。
る場合について述べたが、鋼管等の他の導電体、磁性体
の疵検比についても適用できることは勿論である。
第1図は本発明の原理説明のための模式図、第2図は検
査二lイルの振動波形図、第3図は原理説明のための模
式図、第4図は本発明装置をその信号処理系と共に示す
模式的側面図、第5図はスイッチ切換の動作説明のため
の信号波形図、第6図は本発明装置の他の実施例を示す
模式的側面図である。 ■・・・スラブ 2・・・励磁コイル 3・・・検査コ
イル4・・・距離センサ 5・・・電磁石 13・・・
スイッチ14・・・スイッチ制御回路 17・・・信号
処理装置時 許 出願人 住友金属工業株式会社代理人
弁理士 河 野 登 夫 富2図 第3図
査二lイルの振動波形図、第3図は原理説明のための模
式図、第4図は本発明装置をその信号処理系と共に示す
模式的側面図、第5図はスイッチ切換の動作説明のため
の信号波形図、第6図は本発明装置の他の実施例を示す
模式的側面図である。 ■・・・スラブ 2・・・励磁コイル 3・・・検査コ
イル4・・・距離センサ 5・・・電磁石 13・・・
スイッチ14・・・スイッチ制御回路 17・・・信号
処理装置時 許 出願人 住友金属工業株式会社代理人
弁理士 河 野 登 夫 富2図 第3図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、検査コイルを被検査材の表面に対して接離移動可能
に設け、また、該被検査材の表面の前記検査コイルと対
向する部分に渦電流を形成せしめるべく励磁電流を通流
される励磁コイルを前記検査コイルと機械的に独立に設
け、被検査材の表面及び表皮下に疵が存在する場合の前
記渦電流の乱れに起因する前記検査コイルの移動の距離
を測定することにより疵を検出することを特徴とする探
傷方法。 2、検査コイルを被検査材の表面に対して接離移動可能
に設け、また、該被検査材の表面の前記検査コイルと対
向する部分に渦電流を形成せしめるべく励磁電流を通流
される励磁コイルを前記検査コイルと機械的に独立に設
け、更に当該部分にその表面に沿う静磁場を形成せしめ
るべく直流を通流される電磁石を設け、前記励磁コイル
及び電磁石への通流を交互に行ない、前記被検査材の表
面及び表皮下に疵が存在する場合の前記渦電流又は静磁
場の乱れに起因する前記検査コイルの移動の距離を測定
することにより疵を検出することを特徴とする探傷方法
。 3、被検査材の表面に対して接離移動可能に設けである
検査コイルと、 前記被検査材の表面に前記検査コイルと機械的に独立に
臨設しである励磁コイルと、被検査材の表面に渦電流を
形成せしめるべき励磁電流を励磁コイルに通流する励磁
電源と、 前記検査コイルに対設してあって、それとの離隔寸法を
測定する距離針と を具備することを特徴とする探傷装置。 4、被検査材の表面に対して接離移動可能に設けである
検査コイルと、 前記被検査材の表面に前記検査コイルと機械的に独立に
臨設しである励磁コイルと、被検査材の表面に渦電流を
形成すべき励磁電流を励磁コイルに通流する励磁電源と
、被検査材の表面に沿う静磁場を形成する磁化手段と、 前記検査コイルに対設してあって、それとの離隔寸法を
測定する距離針と を具備することを特徴とする探傷装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10404884A JPS60247156A (ja) | 1984-05-22 | 1984-05-22 | 探傷方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10404884A JPS60247156A (ja) | 1984-05-22 | 1984-05-22 | 探傷方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60247156A true JPS60247156A (ja) | 1985-12-06 |
Family
ID=14370328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10404884A Pending JPS60247156A (ja) | 1984-05-22 | 1984-05-22 | 探傷方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60247156A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20220098020A (ko) * | 2019-12-20 | 2022-07-08 | 제이에프이 스틸 가부시키가이샤 | 누설 자기 검사 장치 및 결함 검사 방법 |
-
1984
- 1984-05-22 JP JP10404884A patent/JPS60247156A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20220098020A (ko) * | 2019-12-20 | 2022-07-08 | 제이에프이 스틸 가부시키가이샤 | 누설 자기 검사 장치 및 결함 검사 방법 |
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