JPS60247227A - Transmission type electrochromic display device - Google Patents

Transmission type electrochromic display device

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JPS60247227A
JPS60247227A JP59102808A JP10280884A JPS60247227A JP S60247227 A JPS60247227 A JP S60247227A JP 59102808 A JP59102808 A JP 59102808A JP 10280884 A JP10280884 A JP 10280884A JP S60247227 A JPS60247227 A JP S60247227A
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JP
Japan
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transparent
electrode
layer
color
display device
Prior art date
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Pending
Application number
JP59102808A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyoshi Uchikawa
清 内川
Tatsuo Niwa
達雄 丹羽
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Nippon Kogaku KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp, Nippon Kogaku KK filed Critical Nikon Corp
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Publication of JPS60247227A publication Critical patent/JPS60247227A/en
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/153Constructional details
    • G02F1/1533Constructional details structural features not otherwise provided for

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Abstract

PURPOSE:To enable long-period use at high temp. by forming a transparent electrode consisting of a specified metal, oxide or hydroxide thereof as dispersed matter and a transparent, solid and electrically conductive dispersion medium by a vacuum thin film forming technique or a thick film method. CONSTITUTION:An electrochromic (EC) display device is composed essentially of the transparent display electrode A, the EC layer B which develops color by reduction and a counter electrode D. A transparent ionic conductive layer C may be held between the layer B and the electrode D. At this time, a transparent dispersion electrode D1 consisting of one or more kinds of metals selected among Ru, Os, Rh, Pt, Pd and Ni, oxides or hydroxides thereof as dispersed matter D11 and a transparent, solid and electrically conductive dispersion medium D12 is used as the counter electrode D. The electrode D1 is formed by a vacuum thin film forming technique or a thick film method. At least one among the layers B, C and the electrode D1 contains cations necessary for the development of color in the layer B or a cation feeding source which releases said cations under applied voltage. The resulting ECD is colorless and transparent and undergoes little reduction in contrast even after long-period use at high temp.

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の技術分野) 本発明は新規な透過型エレクトロクロミック(以下、「
エレクトロクロミック」をECと略す)表示装置に関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Technical field of the invention) The present invention is a novel transmission electrochromic (hereinafter referred to as "
EC) display device.

(発明の背景) 乾電池程度の電圧を印加することによって発色し、逆電
圧を印加することによっ”ζ元の無色透明に消色するE
C表示装置(以下、ECDと略す)は、日の字型のセブ
ンセグメントを用いた数字その他の表示手段として利用
すべく実用化にむけて盛んに研究されている。その1つ
として−OB 、 Mo(%等の還元発色性EC物質を
用いたECDがある。
(Background of the Invention) E is colored by applying a voltage similar to that of a dry cell battery, and fades to its original colorless and transparent state by applying a reverse voltage.
BACKGROUND ART C display devices (hereinafter abbreviated as ECD) are being actively researched for practical use as a means of displaying numbers and other items using Japanese-shaped seven segments. One of them is ECD using a reducing color-forming EC substance such as -OB or Mo(%).

これらのEC物質が発色するには、電子(e−)とカチ
オン(X+)の同時注入が必要とされ、発色・消色に伴
う反応式は次のように信じられている。
In order for these EC substances to develop color, simultaneous injection of electrons (e-) and cations (X+) is required, and the reaction formula involved in color development and decolorization is believed to be as follows.

消色時:WO3+ne +nX ↓↑ ↓↑ 発色時: XnWO3 そして、カチオン(X”)としては、イオン半径の小さ
く移動の容易なHが主として使用されている。これらの
カチオンは常時カチオンである必要はなく、電圧が印加
され電場が形成されたときカチオンが生ずればよいので
、特にH+の場合には水がカチオン供給源として利用さ
れる。水は電場の中で H20→H+01(− に従って分解する。水は極く微量で十分であるらしく、
大気中から自然にWO3層に取り込まれる量の水分でし
ばしば間に合う。
When decoloring: WO3+ne +nX ↓↑ ↓↑ When developing color: XnWO3 And, as the cation (X”), H, which has a small ionic radius and is easy to move, is mainly used. These cations do not always need to be cations. Water is used as a cation source, especially in the case of H+, since cations only need to be generated when a voltage is applied and an electric field is formed.Water decomposes in the electric field according to H20 → H+01 (- .It seems that a very small amount of water is sufficient.
The amount of water that is naturally drawn into the WO3 layer from the atmosphere often suffices.

しかしながら、単にWO3層を一対の電極で挟んで電圧
を印加して発色させても、容易に消色することができな
い。何故ならば、消色しようとして逆電圧を印加しても
陰極に通じた電極側から電子(e〜)が流入して来るの
で、もしH”があれば、WO3+ ne + nll 
→1lnWo3の反応か起こって着色するからである。
However, even if the WO3 layer is simply sandwiched between a pair of electrodes and a voltage is applied to develop color, the color cannot be easily erased. This is because even if a reverse voltage is applied to erase the color, electrons (e~) will flow in from the electrode side connected to the cathode, so if there is H'', WO3 + ne + nll
→ This is because the reaction of 1lnWo3 occurs and the coloring occurs.

そのため、WO,層と一方の電極との間に絶縁層例えば
5i02. MgF、を設けたECDが提案された(特
公昭52−46098号)。このECDの絶縁層は、電
子の移動はできないが、OH−イオンの移動は自由であ
り、このOH″″イオンが電気を運び、絶縁層と電極と
の間で 20H−H2O+ (1/ 2 ) 02↑+2e−の
反応に従って電子を陽極側に放出しているものと思われ
る。
Therefore, between the WO layer and one electrode, an insulating layer such as 5i02. An ECD equipped with MgF was proposed (Special Publication No. 46098/1983). The insulating layer of this ECD does not allow the movement of electrons, but allows the movement of OH- ions, and these OH'''' ions carry electricity, and 20H-H2O+ (1/2) is generated between the insulating layer and the electrode. It seems that electrons are released to the anode side according to the reaction 02↑+2e-.

つまり発色時には、 (陰極側) WO3+ne +nH−=tlnWO3(
陽極側)n(OH−)→ nH2O+ (n /2 ) 021 +2ne−とい
う反応が推定され、消色時には、 (陽極側) Hnl’103 →WO,+ne−+nH
”(陰極側)n1120+2ne−→ nOH”−+ (n /2 ) H2↑という反応が生
じるものと推定される。
In other words, when developing color, (cathode side) WO3+ne +nH-=tlnWO3(
Anode side) n(OH-) → nH2O+ (n/2) 021 +2ne- reaction is estimated, and at the time of decolorization, (anode side) Hnl'103 →WO, +ne-+nH
It is estimated that the following reaction occurs: "(Cathode side) n1120+2ne-→nOH"-+ (n/2) H2↑.

これらの式からも明らかであるが、現実にも特公昭52
−46098号は駆動により水が消費されるので大気中
から速やかに水が供給されないと発色しなくなり、また
、駆動に伴って02ガスや■2ガスが放出されるので層
間剥離を生じるという欠点があった。
It is clear from these formulas that in reality
No. -46098 has the disadvantage that water is consumed by driving, so if water is not quickly supplied from the atmosphere, the color will not develop, and 02 gas and ■2 gas are released during driving, which causes delamination. there were.

そのため、WO3層の隣に「イオン良導体である電子絶
縁層/酸化発色性EC層」を設けた全固体型ECDが提
案された(特開昭56−4679号)。これは酸化発色
性EC層として水酸化イリジウム又は水酸化ニッケルを
使用し、同3の発色時に、陽極側で Ir (On) m + n (OH″″)(無色透明
) ↓ Tr (Oll) 1−pH□0+qH20+ r (
e−)と反応し、−03の消色時に陰極側で Ir (Oll) 12− pi2o+ql12o+ 
r (e−)↓ Tr (0旧11+n(OH″″) と反応するものと考えられている。従って、水が再生さ
れるので水が消費されず、また112ガスや02ガスの
発生もない。
Therefore, an all-solid-state ECD was proposed in which an "electronic insulating layer that is a good ion conductor/oxidation color-forming EC layer" was provided next to the WO3 layer (Japanese Patent Laid-Open No. 56-4679). This uses iridium hydroxide or nickel hydroxide as the oxidative color-forming EC layer, and when coloring in 3, Ir (On) m + n (OH'''') (colorless and transparent) ↓ Tr (Oll) 1 on the anode side. -pH□0+qH20+ r (
e-), and when -03 is decolored, Ir (Oll) 12- pi2o+ql12o+ is formed on the cathode side.
It is thought that it reacts with r (e-)↓ Tr (0 old 11 + n (OH''''). Therefore, water is regenerated, so no water is consumed, and no 112 gas or 02 gas is generated. .

しかしながら、水酸化イリジウム又は水酸化ニッケル層
を使用すると、長時間の高温耐久性試験に供した場合、
消色時にも色が残り、元の無色透明にならず、そのため
発消色のコントラストが低下することが判った。
However, when using an iridium hydroxide or nickel hydroxide layer, when subjected to long-term high temperature durability tests,
It was found that the color remained even when the color was erased, and the color did not become the original colorless and transparent, resulting in a decrease in the contrast between development and erasure.

(発明の目的) 従って、本発明の目的は、水酸化イリジウム又は水酸化
ニッケル層を使用したときの欠点、即ち長時間の高温耐
久性試験に供したときのコントラストの低下を改善する
ことにある。
(Object of the Invention) Therefore, the object of the present invention is to improve the drawback when using an iridium hydroxide or nickel hydroxide layer, namely, the decrease in contrast when subjected to a long-term high temperature durability test. .

(発明の概要) 本発明者らは鋭意研究の結果、水酸化イリジウム又は水
酸化ニッケル層と対向電極との2層に代えて、’Ru、
Os、Rb+Pt+Pd及びNiから選ばれた一種また
は二種以上の金属それ自体又はその酸化物もしくは水酸
化物からなる分散質と透明固体導電性分散媒とからなり
、真空薄膜形成技術または厚膜法で形成さた透明電極」
を使用することによって、水酸化イリジウム層の持つ前
記欠点が解消されることを見い出し、本発明を成すに至
った。
(Summary of the Invention) As a result of intensive research, the present inventors discovered that 'Ru,
It consists of a dispersoid consisting of one or more metals selected from Os, Rb+Pt+Pd, and Ni or their oxides or hydroxides, and a transparent solid conductive dispersion medium, and is formed using a vacuum thin film forming technique or a thick film method. Formed transparent electrode
It has been discovered that the above-mentioned drawbacks of the iridium hydroxide layer can be overcome by using the iridium hydroxide layer, and the present invention has been completed.

従って、本発明は、透明表示電極(A)、還元発色性エ
レクトロクロミック層(B)、必要に応して透明イオン
導電層(C)、及び対向電極(D)からなるエレクトロ
クロミック表示装置に於いて、前記対向電極(D)とし
て、Ru、Os、Rh、Pt、Pd及び旧から選ばれた
一種または二種以上の金属それ自体又はその酸化物もし
くは水酸化物からなる分散質(D 11)と透明固体導
電性分散媒(D 12)とからなり、真空薄膜形成技術
または厚膜法で形成された透明分散電極(Dl)を使用
し、かつ前記(B)、(C)及び(DI)の少なくとも
一層が前記(B)の発色に必要なカチオン又は電圧印加
によってカチオンを放出するカチオン供給源を含むこと
を特徴とするECDを提供する。
Therefore, the present invention provides an electrochromic display device comprising a transparent display electrode (A), a reductive color-forming electrochromic layer (B), a transparent ion conductive layer (C) if necessary, and a counter electrode (D). The counter electrode (D) is a dispersoid (D11) consisting of one or more metals themselves or their oxides or hydroxides selected from Ru, Os, Rh, Pt, Pd, and the like. and a transparent solid conductive dispersion medium (D12), using a transparent dispersion electrode (Dl) formed by a vacuum thin film formation technique or a thick film method, and using the above (B), (C) and (DI). Provided is an ECD characterized in that at least one layer of (B) contains cations necessary for color development or a cation source that releases cations upon application of voltage.

本発明に於いて使用される透明表示電極(A)としては
、例えば5n02. In2O3、TTO(In、O,
に5%程度の5n02を混入させたもの)等が挙げられ
る。電極(A)の厚さとしては、透明度及び抵抗にもよ
るが、一般には0.01〜0.5μmである。従って、
電極(A)は一般には、真空蒸着、反応性蒸着、イオン
ブレーティング、反応性イオンブレーティング、スパッ
タリング等の真空薄膜形成技術で作られるが、場合によ
っては有機金属化合物例えば金属アルコラードまたはそ
のオリゴマーの溶液を塗布し、焼成して被膜を形成する
、いわゆる厚膜法で作ってもよい。
As the transparent display electrode (A) used in the present invention, for example, 5n02. In2O3, TTO(In, O,
mixed with about 5% of 5n02). The thickness of the electrode (A) is generally 0.01 to 0.5 μm, although it depends on the transparency and resistance. Therefore,
The electrode (A) is generally made by a vacuum thin film forming technique such as vacuum evaporation, reactive evaporation, ion blating, reactive ion blating, or sputtering, but in some cases, it may be made using an organometallic compound such as a metal alcoholade or its oligomer. It may be made by a so-called thick film method in which a solution is applied and baked to form a film.

還元発色性EC層(B)は既に知られているように非晶
質−03又はMooBが使用される。これらのEC層は
真空薄膜形成技術により、一般に0.01〜数μmの厚
さに形成される。
As already known, amorphous-03 or MooB is used for the reduction color-forming EC layer (B). These EC layers are generally formed to a thickness of 0.01 to several μm by vacuum thin film formation technology.

透明イオン導電層(C)は、本発明0ECDにメモリ性
即ち発色させた後、電圧印加を止めても、発色状態が保
持される性質をもたせるために必要に応じて設けられる
もので、その具体的材料としては次のものが例示される
The transparent ion conductive layer (C) is provided as necessary in order to give the 0ECD of the present invention a memory property, that is, a property that the coloring state is maintained even after the voltage application is stopped after coloring. Examples of materials include:

■少量の水分を含む酸化タンタル(Taz% )、酸化
ニオブ(Nb、05 ) 、酸化ジルコニウム(Zr0
2)酸化チタン(Ti02) 、酸化ハフニウム(Il
fO2)、酸化イツトリウム(Y、O,) 、酸化ラン
タン(La203)、酸化珪素(S102> 、フッ化
マグネシウム、リン酸ジルコニウムあるいはこれらの混
合物質(これらの物質は、電子に対して絶縁体であるが
、プロトン(H+)及びヒドロキシイオン(Oll−)
に対しては良導体である。); ■塩化ナナトリウム塩化カリウム、臭化ナトリウム、臭
化カリウム、Na5Zr2S+2P0,2、Na14.
(Zrstxp3−XO,、、N a s Y S +
 + 012、llbAg、I、等の固体電解質; ■水又はプロトン供給源含有合成樹脂、例えばメタクリ
ル酸β−ヒドロキシエチルと2−アクリルアミド−2−
メチルプロパンスルホン酸との共重合体、含水メタクリ
ル酸メチル共重合体のような含水ビニル重合体、含水ポ
リエステルなど;■電解液、例えば硫酸、塩酸、リン酸
、酢酸、酪酸、しゅう酸のような酸またはその水溶液、
水酸化ナトリウム、′水酸化カリウムのようなアルカリ
の水溶液、塩化ナトリウム、塩化リチウム、塩化カリウ
ム、硫酸リチウムのような固体強電解質の水溶液; ■半固体ゲル電解質、例えば電解質水溶液をゲル化剤例
えばポリビニルアルコール、CMC,寒天、ゼラチン等
でゲル化させたもの; などが挙げられる。
■Tantalum oxide (Taz%), niobium oxide (Nb, 05), zirconium oxide (Zr0) containing a small amount of water
2) Titanium oxide (Ti02), hafnium oxide (Il)
fO2), yttrium oxide (Y, O,), lanthanum oxide (La203), silicon oxide (S102>), magnesium fluoride, zirconium phosphate, or a mixture thereof (these substances are insulators for electrons) are protons (H+) and hydroxy ions (Oll-)
It is a good conductor. ); ■Sodium chloride Potassium chloride, sodium bromide, potassium bromide, Na5Zr2S+2P0,2, Na14.
(Zrstxp3-XO,,, Na s Y S +
+ Solid electrolyte such as 012, llbAg, I, etc.; ■ Water or a synthetic resin containing a proton source, such as β-hydroxyethyl methacrylate and 2-acrylamide-2-
Copolymers with methylpropanesulfonic acid, hydrated vinyl polymers such as hydrated methyl methacrylate copolymers, hydrated polyesters, etc.; Electrolytes such as sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, acetic acid, butyric acid, oxalic acid, etc. acid or its aqueous solution,
Aqueous solutions of alkalis such as sodium hydroxide, 'potassium hydroxide, aqueous solutions of solid strong electrolytes such as sodium chloride, lithium chloride, potassium chloride, and lithium sulfate; ■ Semi-solid gel electrolytes, such as electrolyte aqueous solutions with gelling agents such as polyvinyl Examples include gels made with alcohol, CMC, agar, gelatin, etc.

従って、透明イオン導電層(C)は、真空薄膜形成技術
、厚膜法、封入、注入、塗布、その他の手段で形成され
る。(C)層の厚さは材料によってo、ooi μm−
IN位まで様々となる。
Therefore, the transparent ion conductive layer (C) is formed by vacuum thin film forming technology, thick film method, encapsulation, injection, coating, or other means. (C) The thickness of the layer is o, ooi μm- depending on the material.
It varies up to IN rank.

対向電極は、本発明に於いては分散質(Dll)と透明
固体導電性分散媒(D I2)とから成る透明分散電極
(Dl)を使用するが、まず分散質(Dll)について
説明する。
In the present invention, a transparent dispersion electrode (Dl) consisting of a dispersoid (Dll) and a transparent solid conductive dispersion medium (DI2) is used as the counter electrode. First, the dispersoid (Dll) will be explained.

分散質(D 11)は、Ru、Os、Rh、Pt、Pd
及びNiから選ばれた一種または二種以上の金属それ自
体又はその酸化物もしくは水酸化物からなるが、なかで
も酸化物もしくは水酸化物が好ましい。
Dispersoid (D 11) is Ru, Os, Rh, Pt, Pd
and Ni or their oxides or hydroxides, of which oxides or hydroxides are preferred.

分散媒(D 12)としては、例えばSnO2+ In
2O3゜ITO,ZnO等の透明固体導電性化合物が使
用される。
As the dispersion medium (D12), for example, SnO2+ In
Transparent solid conductive compounds such as 2O3°ITO and ZnO are used.

このような透明分散電極(Dl)の製造法を説明すれば
次の通りである。以下の説明でり、は分散質(D 11
)を構成する金属単体を、Mloはその酸化物を意味し
、Mlは分散媒(Dl2)を構成する金属単体を、M、
0はその酸化物を意味する。
A method of manufacturing such a transparent dispersion electrode (Dl) will be explained as follows. In the following explanation, is the dispersoid (D 11
), Mlo means its oxide, Ml means a metal element constituting the dispersion medium (Dl2), M,
0 means its oxide.

(i)抵抗加熱、電子ビーム加熱、高周波加熱又はレー
ザービーム加熱による真空蒸着:(i−a)非反応性の
場合 蒸発源材料として ◎M、、MIO 0Ml0゜ を使用する。
(i) Vacuum deposition by resistance heating, electron beam heating, radio frequency heating or laser beam heating: (ia) In the case of non-reactivity, ◎M, , MIO 0Ml0° is used as the evaporation source material.

(i−b)反応性の場合 02ガスの存在下に活性化手段(例えば高周波印加又は
加熱)と共に、 蒸発源材料として ◎M、、 Mlo 0M2.M20 を使用する。
(ib) In the case of reactivity, in the presence of 02 gas and with an activation means (for example, high frequency application or heating), as an evaporation source material ◎M,, Mlo 0M2. Use M20.

(ii )高周波スパッタリング: (ii −a )非反応性の場合 不活性ガスの存在下に、多元又は複合ターゲットとして
、 1 ◎M、 、 M、 0 0Ml0 を使用する。
(ii) High frequency sputtering: (ii-a) In the case of non-reactivity, in the presence of an inert gas, 1 ◎M, , M, 0 0Ml0 is used as a multi-element or composite target.

(ii−b)反応性の場合 02ガス(不活性ガスを加えてもよい)の存在下に、多
元又は複合ターゲットとして、0M1. M、 0 0M2.M20 を使用する。
(ii-b) In the presence of reactive 02 gas (inert gas may be added), 0M1. M, 0 0M2. Use M20.

(iii )直流スパッタリング: 0□ガス(不活性ガスを加えてもよい)の存在下に、多
元又は複合ターゲットとして、0M1 0M2 を使用する。
(iii) Direct current sputtering: 0M1 0M2 is used as a multi-element or composite target in the presence of 0□ gas (an inert gas may be added).

(iv )その他 前記(i) 、(ii) 、(iii)のいずれかの方
法で、MlとMlとの混合金属薄膜を形成した後、加熱
例えば250〜300 ”cに加熱することにより酸化
して、MlとM2Oとの分 2 散層(Dl)又はMloとM2Oとの分散層(DI)に
変える。この方法が可能なMlとしては、Sn、 In
などが挙げられる。
(iv) In addition, after forming a mixed metal thin film of Ml and Ml by any of the methods (i), (ii), and (iii) above, it is oxidized by heating, for example, to 250 to 300 ''c. Then, the layer is changed to a dispersed layer (Dl) of Ml and M2O or a dispersed layer (DI) of Mlo and M2O.Ml that can be used in this method include Sn, In,
Examples include.

なお、先にMloは酸化物を意味すると述べたが、水が
Mloの近くに存在する場合には、Mlo ・H,0は
Ml (OH)2とも書けることから理解されるように
、酸化物ではなく水酸化物とも受け取れる。従って、分
散質(Dll)を構成する金属の酸化物と水酸化物とは
厳密に区別されるものではない。
As mentioned above, Mlo means an oxide, but if water is present near Mlo, it can be understood that Mlo ・H,0 can also be written as Ml (OH)2, so it becomes an oxide. It can also be treated as a hydroxide. Therefore, the metal oxide and hydroxide constituting the dispersoid (Dll) are not strictly distinguished.

ともかく分散質(Dll)は透明分散媒(D 12)中
に極微粒状態で分散していることが必要で、そのために
分散層(DI)の製造には、上述の真空薄膜形成技術を
利用することが好ましい。また、分散層(DI)は有機
金属化合物例えば金属アルコラードまたはそのオリゴマ
ーの混合液を塗布し、焼成して被膜を形成する厚膜法で
形成してもよい。
In any case, the dispersoid (Dll) must be dispersed in the transparent dispersion medium (D12) in the form of extremely fine particles, and for this purpose, the above-mentioned vacuum thin film formation technology is used to manufacture the dispersion layer (DI). It is preferable. Further, the dispersion layer (DI) may be formed by a thick film method in which a mixed solution of an organic metal compound such as a metal alcoholade or an oligomer thereof is applied and baked to form a film.

これにより、透明な分散電極(Dl)が得られる。This results in a transparent dispersion electrode (Dl).

透明分散層(Dl)の膜厚としては、一般に0゜005
μm〜11■位あれば十分である。
The thickness of the transparent dispersion layer (Dl) is generally 0°005
A thickness of about 11 μm to 11 μm is sufficient.

先に述べたように還元発色性EC層(B)の発3 色にはカチオンが必要であり、層(B)、層(C)及び
層(Dl)の少なくとも1層にはカチオンまたは電圧印
加によりカチオンを放出するカチオン供給源を含ませる
ことが必要であるが、層(B)および層(Dl)に含ま
せる場合にはカチオンは実用上プロトン(H+)に限ら
れ、カチオン供給源は実用上、水(H2O)に限られる
。水の場合には、ECDの製造時に格別含有させること
をしなくとも、しばしば大気中から自然に層中に侵入す
る。
As mentioned above, cations are necessary for the color development of the reduction color-forming EC layer (B), and at least one of the layers (B), (C), and (Dl) has cations or voltage applied. It is necessary to include a cation source that releases cations due to Above, limited to water (H2O). In the case of water, water often naturally enters the layer from the atmosphere even if it is not specifically included during the production of ECD.

こうして本発明0ECDが構成される。本発明のECD
は、一般には表示電極(A)、EC層(B)、場合によ
りイオン導電層(C)、分散電極(Di)の3層又は4
層構造からなるが、第2A図及び第2B図に示すような
構造であってもよい。
In this way, the 0ECD of the present invention is constructed. ECD of the present invention
generally consists of three or four layers: a display electrode (A), an EC layer (B), in some cases an ion conductive layer (C), and a dispersion electrode (Di).
Although it has a layered structure, it may also have a structure as shown in FIGS. 2A and 2B.

図中、(E)は補助電極である。In the figure, (E) is an auxiliary electrode.

このECDに1.0〜1.8ボルト程度の直流電圧を印
加すると0.01〜数秒で青色に発色し、この発色状態
は(C)層が存在する場合には電圧印加を止めても比較
的長時間保持され、同程度の逆電圧4 を印加すると、発色に要した時間よりやや短時間で元の
無色透明に戻る。時間はかかるが電極(A)と(Dl)
を短絡しても消色する。
When a DC voltage of about 1.0 to 1.8 volts is applied to this ECD, it develops a blue color in 0.01 to several seconds, and this coloring state remains unchanged even when the voltage application is stopped when the (C) layer is present. If it is held for a long time and a similar reverse voltage 4 is applied, it returns to its original colorless and transparent state in a slightly shorter time than the time required for color development. Although it takes time, the electrodes (A) and (Dl)
Even if it is short-circuited, the color will disappear.

以下、実施例により、本発明を具体的に説明する。Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to Examples.

(実施例1) ガラス基板(S)を用意し、その上に下記条件:蒸発源
:金属Sr+、金属Rhの2元系真空度: 5 XIO
Torr 02分圧: 3 XIOTorr 基板温度=20°C の下に高周波イオンブレーティングにより、酸化レテニ
ウムを分散質(Dll)とし酸化スズを分散媒(Dl2
)とする膜厚700人の透明分散電極(Dl)を形成さ
せた。この分散電極(Dl)は、分散質(Dll)の割
合は20重量%であり、シート抵抗は500Ω/口であ
った。
(Example 1) A glass substrate (S) is prepared, and the following conditions are applied on it: Evaporation source: Binary system of metal Sr+ and metal Rh Vacuum degree: 5 XIO
Torr 02 partial pressure: 3
) A transparent dispersion electrode (Dl) with a film thickness of 700 people was formed. This dispersion electrode (Dl) had a dispersoid (Dll) ratio of 20% by weight and a sheet resistance of 500Ω/hole.

次にその上に下記条件: 蒸発源: Ta2% 真空度:5X10−≦ Torr 5 4 0□分圧: 4 XIOTorr 基板温度:150℃ の下に真空蒸着により、膜厚5000人の透明イオン導
電層(C)を形成させた。
Next, a transparent ion conductive layer with a thickness of 5,000 yen is deposited on top of it by vacuum evaporation under the following conditions: Evaporation source: Ta 2% Degree of vacuum: 5X10-≦Torr 5 4 0□ Partial pressure: 4 XIO Torr Substrate temperature: 150°C (C) was formed.

その上に更に下記条件: 蒸発源:WO2 真空度: 5 XIOTorr Ar分圧: 4 xlo−” Torr基板温度:15
0°C の下に真空蒸着により、膜厚500〇への透明な非晶胃
弱03層(B)を形成させた。
In addition, the following conditions: Evaporation source: WO2 Degree of vacuum: 5 XIO Torr Ar partial pressure: 4 xlo-” Torr Substrate temperature: 15
A transparent amorphous 03 layer (B) with a thickness of 5000 was formed by vacuum deposition at 0°C.

最後に一03層(B)の上に下記条件:蒸発源: In
20B と5n02との混合物真空度: 5 xio 
Torr 計分圧: 3 xio−’ Torr 基板温度:150°C の下に高周波イオンブレーティングにより、膜厚250
0人の透明表示電極(A)を形成させた。
Finally, the following conditions: Evaporation source: In
Mixture of 20B and 5n02 Degree of vacuum: 5 xio
Torr Partial pressure: 3 xio-' Torr Substrate temperature: 150°C by high frequency ion blating to reduce the film thickness to 250°C.
0 transparent display electrodes (A) were formed.

こうして、第1図に示す構造を有するECDが得られた
。このECDをエポキシ樹脂で封1トした6 後、電極(A)、(DI)を通じて1.4ボルトの発色
電圧を印加すると、400 m5ecで青色に発色し、
発色時の透過率(Tc)は波長λ−600nmで20%
であり、この発色状態は電圧印加を止めても保持された
。次に−1,4ボルトの消色電圧を印加すると、350
 m5ecで元の無色透明に戻り、消色時の透過率(T
b)は80%であった。
In this way, an ECD having the structure shown in FIG. 1 was obtained. After sealing this ECD with epoxy resin, when a coloring voltage of 1.4 volts was applied through the electrodes (A) and (DI), it developed a blue color at 400 m5ec.
Transmittance (Tc) during color development is 20% at wavelength λ-600nm
This coloring state was maintained even after the voltage application was stopped. Next, when applying a decoloring voltage of -1.4 volts, 350
m5ec returns to the original colorless transparency, and the transmittance at decolorization (T
b) was 80%.

(実施例2) 実施例1で用いたガラス基板(S)を用意し、その上に
下記条件: 蒸発源: In2O3とSnO□との混合焼結体(IT
O)と金属Rhの混合ターゲット 真空度: 5 xlOTorr Ar分圧:’ 5 Xl0−’ Torr基板温度:室
温 の下に高周波スパッタリングにより、金属Rhを分散質
(Dll)とし、In2O3と5n02との混合物を分
散媒(Dl2)とする膜厚約500人の透明分散電極(
Di)を形成した。この透明分散電極(DI)は分散質
(D 11)の割合が25%であり、シート抵7 抗は180Ω/口であった。
(Example 2) The glass substrate (S) used in Example 1 was prepared, and the following conditions were placed on it: Evaporation source: A mixed sintered body of In2O3 and SnO□ (IT
Mixture target of O) and metal Rh Vacuum degree: 5 xlOTorr Ar partial pressure: ' 5 A transparent dispersion electrode (with a film thickness of about 500 mm) using Dl2 as a dispersion medium (Dl2)
Di) was formed. This transparent dispersion electrode (DI) had a dispersoid (D11) ratio of 25% and a sheet resistance of 180Ω/hole.

以下、実施例1と同様に透明イオン導電層(C> 、 
wo、層(B)及び表示電極(A)を形成させ、ECD
を作成した。
Hereinafter, as in Example 1, transparent ion conductive layers (C>,
wo, form layer (B) and display electrode (A), and ECD
It was created.

エポキシ樹脂で封止後、発消色テストを行うと、+1.
4 vで250 m5ec 、 Tc=25%であり、
−1,4Vで200 m5ec 、 Tb=75%(λ
−600 nm)であった。
After sealing with epoxy resin, a color development and fading test was performed and the result was +1.
250 m5ec at 4v, Tc=25%,
200 m5ec at -1,4V, Tb=75% (λ
-600 nm).

(比較例1) 厚さ0.15μmのITO対向電極(D)の形成された
ガラス基板(S)を用意し、その電極(D)の上に下記
条件: 蒸発源:金属Ir 真空度: 5 Xl0−’ Torr −十 02分圧: 3 XIOTorr 基板温度:20℃ の下に高周波イオンブレーティングにより、酸化イリジ
ウムだけからなる膜厚700人の透明EC層を形成させ
た。
(Comparative Example 1) A glass substrate (S) on which an ITO counter electrode (D) with a thickness of 0.15 μm was formed was prepared, and the following conditions were applied on the electrode (D): Evaporation source: metal Ir Vacuum degree: 5 A transparent EC layer having a thickness of 700 mm and consisting only of iridium oxide was formed by high-frequency ion blasting under Xl0-' Torr -102 partial pressure: 3 XIO Torr substrate temperature: 20°C.

その後、実施例1と同様に(C)、(B)及び8 (A>層を積層してECDを作成し封止したところ、得
られたECDは発色電圧印加前から、やや褐色に着色し
ており、大気中で±1.54ルー・のOoj。
Thereafter, in the same manner as in Example 1, layers (C), (B), and 8 (A>) were laminated to form an ECD and sealed. The resulting ECD was colored slightly brown even before the coloring voltage was applied. and an Ooj of ±1.54 Roux in the atmosphere.

511z交流電圧を500分印加しても、完全には無色
透明にならなかった。消色した後、発消色テストを行っ
たところ、150 m5ecでTc = 15%、 1
00 m5ecでTb = 50%であった。
Even after applying the 511z AC voltage for 500 minutes, it did not become completely colorless and transparent. After decoloring, a color development/decolorization test was performed, and it was found that Tc = 15%, 1 at 150 m5ec.
Tb = 50% at 00 m5ec.

(高温耐久性試験) 実施例1.2及び比較例1で作成した封止ECDを、コ
ントラスト比をめた上で80℃、200時間の高温耐久
性試験に供し、その後コントラスト比をめた。この結果
を下記第1表に示す。尚、コントラスト比は次のように
めた。
(High-temperature durability test) The sealed ECDs prepared in Example 1.2 and Comparative Example 1 were subjected to a high-temperature durability test at 80° C. for 200 hours after the contrast ratio was determined, and then the contrast ratio was determined. The results are shown in Table 1 below. The contrast ratio was determined as follows.

コントラスト比−1og (TI/T2)T1−消色時
の飽和透過率(%) T2−発色時の飽和透過率(%) 測定波長λ−600nm 第1表(高温耐久性試験データ) (発明の効果) 以上の通り、本発明によれば、製造後に着色のない無色
透明なECDが得られ、しかも高温耐久性試験後にコン
トラストの低下の極めて少ないECDが得られる。また
、従来の水酸化イリジウムまたは水酸化ニッケル層が不
要であるので、ECD全体の構造が簡単になる。
Contrast ratio - 1 og (TI/T2) T1 - Saturated transmittance when decoloring (%) T2 - Saturated transmittance when coloring (%) Measurement wavelength λ - 600 nm Table 1 (High temperature durability test data) (Invention Effects) As described above, according to the present invention, a colorless and transparent ECD with no coloration after production can be obtained, and an ECD with extremely little decrease in contrast after a high-temperature durability test can be obtained. Also, since the conventional iridium hydroxide or nickel hydroxide layer is not required, the overall structure of the ECD is simplified.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明の実施例1にかかるECDの断面図で
ある。第2A図及び第2B図は、本発明の他の実施例に
がかるECDの断面図である。 〔主要部分の符号の説明〕 A・・・透明表示電極 B・・・還元発色性EC層 C・・・透明イオン導電層 Dl・・・透明分散電極(対向電極) E・・・補助電極 S・・・基板 出願人 日本光学工業株式会社 代理人渡辺 隆男 1 0
FIG. 1 is a sectional view of an ECD according to Example 1 of the present invention. 2A and 2B are cross-sectional views of an ECD according to another embodiment of the present invention. [Explanation of symbols of main parts] A...Transparent display electrode B...Reduction color forming EC layer C...Transparent ion conductive layer Dl...Transparent dispersion electrode (counter electrode) E...Auxiliary electrode S ...Substrate applicant: Nippon Kogaku Co., Ltd. Agent Takao Watanabe 1 0

Claims (1)

【特許請求の範囲】 透明表示電極(A)、還元発色性エレクトロクロミック
層(B)、必要に応じて透明イオン導電層(C)及び対
向電極(D)からなるエレクトロクロミック表示装置に
於いて、 前記対向電極(D)として、Ru、 Os、 Rh、 
Pt、 Pd及びNiから選ばれた一種または二種以上
の金属それ自体又はその酸化物もしくは水酸化物からな
る分散質(Dll)と透明固体導電性分散媒(D I2
)とからなり、真空薄膜形成技術又は厚膜法で形成され
た透明分散電極(Dl)を使用し、かつ前記(B)、(
C)、及び(Dl)の少なくとも一層が前記(B)の発
色に必要なカチオンまたは電圧印加によってカチオンを
放出するカチオン供給源を含むことを特徴とする透過型
エレクトロクロミック表示装置。
[Claims] In an electrochromic display device comprising a transparent display electrode (A), a reductive color-forming electrochromic layer (B), a transparent ion conductive layer (C) and a counter electrode (D) as required, As the counter electrode (D), Ru, Os, Rh,
A dispersoid (Dll) consisting of one or more metals selected from Pt, Pd and Ni or their oxides or hydroxides and a transparent solid conductive dispersion medium (DI2).
), using a transparent dispersion electrode (Dl) formed by vacuum thin film formation technology or thick film method, and (B), (
A transmission type electrochromic display device, characterized in that at least one layer of (C) and (Dl) contains cations necessary for color development in (B) or a cation supply source that releases cations upon application of voltage.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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FR2688614A1 (en) * 1992-03-16 1993-09-17 Schlumberger Ind Sa ELECTRONIC MEMORY CARD WITH DISPLAY OF THE CONSUMPTION OF THE BALANCE AVAILABLE IN ITS MEMORY.

Cited By (2)

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EP0564012A1 (en) * 1992-03-16 1993-10-06 Schlumberger Industries Electronic Memory Card with memory available balance display

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