JPS60251919A - ガス洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、洗浄塔内で、触媒をけん濁状態で含む洗浄
液によりガス洗浄を行なう装置に関する。

ガス洗浄装置は、ガス中の特定成分を洗浄液に吸収させ
るために充填材を介して気液接触させるもので、一般に
脱臭や排ガスの洗浄などに広く用いられている。例えば
、脱臭装置の例をあげると、洗浄液としてアルカリ水溶
液を用い、し尿処理塔などの悪臭ガスを洗浄して、ガス
中の硫化水素を吸収、アルカリ反応させて除去するもの
があり、また、その洗浄液に触媒をけん濁状態で含才せ
て吸収効率を高めたものがある。

これらは、洗浄液に吸収した物質の酸化生成物が蓄積さ
れ、才だ、洗浄ガスが乾燥していると、洗浄液中の水分
が蒸発するため、溶解物質が濃縮されることとなり、カ
ルシウム、マグネジ１クムなどのスケールが生成しやす
くなる。このため、濃縮率を高めないように補給水を加
え、溶解物質を常に排出させる必要がある。この排出さ
れた洗浄液には触媒などかけん濁物として含まれている
ため、従来から種々の工夫がなされて、触媒を回収再利
用し、けん濁物のない上澄水として排出している。

その従来の一例を示せば、第１図に示すように充填材１
を内装した洗浄塔２内上部のスプレーノズル３から洗浄
液を噴出流下させるとともに、ブロアー４により洗浄塔
２内に下部から被洗浄ガスを送り込み、その洗浄ガスを
充填材１中で洗浄液と気液接触させ、デミスタ−５にて
同伴するミストを除去したのち、外気に放出する。一方
、充填材１からの洗浄水は洗浄塔２下部の貯留槽６に流
下し、スラリーポンプ７によりスプレーノズル３に循環
される。

循環する洗浄水は、ｐＨ計８によりｐＨ値が測定され、
その値に基つき、調整器９によりアルカリ濃厚液１０が
ポンプ１１を介して洗浄塔２内に適宜に流入されて洗浄
水のｐＨ調整がなされる。

また、悪臭成分あるいは悪臭成分の酸化生成物が洗浄液
中に蓄積濃縮されるのを防ぐため、一定量の補給水１２
が加えられ、その加えた量の洗浄液が貯留槽６の下部開
口１３から隣接する沈降分離槽１４に流入して上部から
溢流する。

この従来例においては、沈降分離槽１４の側面を傾斜さ
せているため、ここでの液の流れはゆっくりとなり、更
に上部へ行（はど流速は遅くなり、けん濁している触媒
が沈降分離されるとしている。

しかしながら、貯留槽６と分離槽１４とは下部開口１３
によって連通しているため、貯留槽６下部に集積する触
媒が流水と共に分離槽１４に流入して大量となり、沈降
せずに溢流水とともに外部に流れ出る問題がある。すな
わち、円滑な沈降分離がなされない問題がある。

この発明は、触媒の円滑な沈降分離を行ない得るガス洗
浄装置を提供することを目的とする。

この目的を達成するため、この発明にあっては上記従来
のガス洗浄装置において、洗浄塔内下部の洗浄液貯留槽
に隣接して沈降分離槽を形成するとともに、両槽間上部
に貯留槽からの溢流堰を形成し、分離槽下部から貯留槽
上部にポンプを介設した沈降触媒返送用通路を設けたも
のである。

この様に構成することにより、従来と同様に気液接触に
よってガス洗浄が行なわれ、貯留槽の洗浄液は溢流して
沈降分離槽に流れ込み、その上澄液が溢流して外部に排
出される。分離槽内の沈降　□触媒はポンプにより返送
用通路を通って貯留槽に戻される。この作用時、貯留槽
の上部は触媒のけん制用も少なく、その上部の洗浄水が
溢流によって分離槽に流入するため、触媒の流入量も少
ない。

したかつて、この発明によると、ガス洗浄装置から流れ
出る触媒が極めて少なくなるため、操業コストの低減を
図り得る効果がある。

以下、この発明の実施例を添付図面第２図に基ついて説
明する。なお前記と同一符号は同一物を示す。

図に示すように、前述のガス洗浄装置において、貯留槽
６と沈降分離槽１４との隔壁上部に溢流堰１５を形成１
．て、貯留槽６」二部の洗浄水を溢流可能とし、分因（
槽１４下部から貯留槽６上部にタクト１６を設け、この
ダクト１６下部にブロアー１７から電磁弁１８を介して
エアーを流入可能とし、このエアーのリフト効果により
分離槽１４下部の沈降触媒を貯留槽６に返送する。

才だフロア−１７からは、貯留槽６下部に設けた散気具
１９にエアーを供給可能とし、この散気具１９の散気に
より貯留槽６内における触媒の沈降堆積を防止する。

沈降分離槽１４は、図示のことくその側壁を傾斜面とす
れは、触媒沈降作用の点て有利となる。

また、分離槽１４の整流板２０を設けれは、貯留槽６か
らの洗浄液と上澄液か混合しない効果がある。

実施例は思」二のように構成されており、つぎにその作
用を説明する。

従来と同様にスプレーノズル３から洗浄液が噴出流下し
ている状態において、ブロアー４により洗浄塔２内に被
洗浄ガスが送り込まれると、その被洗浄ガスは充填材１
中で洗浄液と気液接触し、デミスタ−５にて同伴するミ
ストを除去されたのち、外気に放出される。一方、充填
材１からの洗浄水は洗浄塔２下部の貯留槽６に流下し、
スラリーポンプ７によりスプレーノズル３に循環される
。

循環する洗浄水はｐＴ−１計８によりｐ　Ｔ−１値が測
定され、その値に基づき、調整器９によりアルカリ濃厚
液１０かポンプ１１を介して洗浄塔２内に適宜に流入さ
れて洗浄水のｐＨ調整がなされる。

また、洗浄水の濃度調整のため補給水１２が適宜吊、適
時に加えられ、その加えた量の洗浄液が堰１５から溢流
して分離槽１４に流入し、その上部の堰２１から上澄液
が外部に溢流する。この作用時、貯留槽６の上部は触媒
のけん燭量も少なく、その上部の洗浄水が溢流によって
分離槽１４に流入するため、触媒の流入量も少ない。

分離槽１４に沈降堆積した触媒は、エアーリフト効果に
より、タクト１６を通して貯留槽６に適宜又は定期的に
返送する。通常、ブロアー１７は、このガス洗浄装置を
含む　処理設備に設けられている既存のものを使用すれ
はよく、この点て、エアーリフトによる返送は有利であ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のガス洗浄装置の概略図、第２図はこの発
明のガス洗浄装置の一実施例の概略図である。 １・・充填材、２・・・洗浄塔、６・・・貯留槽、１４
・・・沈降分離槽、１５・・・堰、１６・・・ダクト特
許出願人　久保田鉄工株式会社 第１図 洗浄ガス ↑ 第２図 洗浄ガス ↑

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （［）洗浄塔内で、触媒をけん濁状態で含む洗浄液によ
   りガス洗浄を行なう装置において、前記洗浄塔内下部の
   洗浄液貯留槽に隣接して沈降分離槽を形成するとともに
   、両槽間上部に貯留槽からの溢流堰を形成し、分離槽下
   部から貯留槽上部にポンプを介設した沈降触媒返送用通
   路を設けたことを特徴とするガス洗浄装置。 （２）　上記ポンプをエアーリフト型式にしたことを特
   徴とする特許請求の範囲第（１）項に記載のガス洗浄装
   置。