JPS60254692A - 薬液保護層形成法 - Google Patents
薬液保護層形成法Info
- Publication number
- JPS60254692A JPS60254692A JP11249684A JP11249684A JPS60254692A JP S60254692 A JPS60254692 A JP S60254692A JP 11249684 A JP11249684 A JP 11249684A JP 11249684 A JP11249684 A JP 11249684A JP S60254692 A JPS60254692 A JP S60254692A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin sheet
- core material
- protective layer
- chemical liquid
- liquid protective
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Chemically Coating (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分舒〕
本発明は、金属芯両面プリント配線基板を製造するため
のエツチング工程または無電解メッキの前処理工程にお
いて、芯材が露出して薬液に接触することにより生ずる
芯材および薬液の損傷を防止するための薬液保護層の形
成法に関する〇〔従来技術〕 従来、金属芯両面プリント配線基板は、第一4図に示す
ように、アルミニウム、鉄などの芯材(8)の両面に絶
縁層(2)を介して良導体薄膜(1)を形成し、エツチ
ング法によりパターン化したり、芯材の両面に設けられ
た絶縁層上に、無電解メッキ法によりパターンを形成し
たりなどして製造されていや〇それゆえ、いずれの方法
を採用するにしても、薬液であるエツチング液あるいは
無電解メッキをするばあいの前処理液であるPdfJl
B 、SnO/2および塩酸などからなる溶液中に、金
属芯両面プリント配線用基板を浸漬して処理する必要が
あり、芯材(8)が露出している件、薬液と反応がおこ
り、芯材および薬液のいずれもに損傷が生ずる。とくに
芯材の厚さが1mm程度以上になると、金属芯両面プリ
ント配線用基板の周辺部に露出部が生じるのが常である
・したがって、該周辺部に生じる露出部をなくすため、
通常はエポキシ系塗料などを用いて薬液保護層(4)が
設けられ、露出部が生じないようにされている。
のエツチング工程または無電解メッキの前処理工程にお
いて、芯材が露出して薬液に接触することにより生ずる
芯材および薬液の損傷を防止するための薬液保護層の形
成法に関する〇〔従来技術〕 従来、金属芯両面プリント配線基板は、第一4図に示す
ように、アルミニウム、鉄などの芯材(8)の両面に絶
縁層(2)を介して良導体薄膜(1)を形成し、エツチ
ング法によりパターン化したり、芯材の両面に設けられ
た絶縁層上に、無電解メッキ法によりパターンを形成し
たりなどして製造されていや〇それゆえ、いずれの方法
を採用するにしても、薬液であるエツチング液あるいは
無電解メッキをするばあいの前処理液であるPdfJl
B 、SnO/2および塩酸などからなる溶液中に、金
属芯両面プリント配線用基板を浸漬して処理する必要が
あり、芯材(8)が露出している件、薬液と反応がおこ
り、芯材および薬液のいずれもに損傷が生ずる。とくに
芯材の厚さが1mm程度以上になると、金属芯両面プリ
ント配線用基板の周辺部に露出部が生じるのが常である
・したがって、該周辺部に生じる露出部をなくすため、
通常はエポキシ系塗料などを用いて薬液保護層(4)が
設けられ、露出部が生じないようにされている。
前記薬液保護層(4)を設けると、薬液処理時における
芯材と薬液との接触によるトラブルは減少するが、主と
してフーティングにより形成される薬液保護層形成時に
塗り斑やピンホールが生じ、充分露出部を保護すること
ができないばあいがある、また作業中に飛散した;−テ
ィング剤が良導体薄膜上に付着するなどの問題や、薬液
保護層(4)の形成が主に人手を介して行なわれるため
、大変な時間と労力とを要するなどの新たな問題が発生
している。
芯材と薬液との接触によるトラブルは減少するが、主と
してフーティングにより形成される薬液保護層形成時に
塗り斑やピンホールが生じ、充分露出部を保護すること
ができないばあいがある、また作業中に飛散した;−テ
ィング剤が良導体薄膜上に付着するなどの問題や、薬液
保護層(4)の形成が主に人手を介して行なわれるため
、大変な時間と労力とを要するなどの新たな問題が発生
している。
本発明者らは前記のごとき実情に鑑み、簡単、容易かつ
信頼性の高い薬液保護層を形成するため鋭意研究を重ね
た結果、本発明を完成するに至った。
信頼性の高い薬液保護層を形成するため鋭意研究を重ね
た結果、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、金属芯両面プリント配線基板を製造
するためのエツチング工程または無電解メッキの前処理
工程において、芯材が露出して薬液に接触することによ
り生ずる芯材および薬液の損傷を防止するために行なう
薬液保護層を形成するにあたり、絶縁層形成材料に加え
、樹脂シートを芯材と絶縁層形成材料との間に介在させ
て熱圧着することを特徴とする薬液保護層形成法に関す
る。
するためのエツチング工程または無電解メッキの前処理
工程において、芯材が露出して薬液に接触することによ
り生ずる芯材および薬液の損傷を防止するために行なう
薬液保護層を形成するにあたり、絶縁層形成材料に加え
、樹脂シートを芯材と絶縁層形成材料との間に介在させ
て熱圧着することを特徴とする薬液保護層形成法に関す
る。
本発明に用いる芯材としては、たとえばアルミニウム、
鉄などの金属素材から製造された芯材があげられ、通常
使用されている金属製の芯材であればとくに限定なく使
用しうる。
鉄などの金属素材から製造された芯材があげられ、通常
使用されている金属製の芯材であればとくに限定なく使
用しうる。
本発明に用いる絶縁層形成材料としては、たとえばガラ
ス繊維やポリエステル繊維を基材としてエポキシ樹゛脂
やポリエステル樹脂を含浸させたプリプレグシートがあ
げられるが、これらに限定されるものではない。これら
のうちではガラス繊維を基材としたエポキシ樹脂プリプ
レグが、取扱いが容易である、耐熱性が良好である、プ
リント配線を施す良導体薄膜あるいは無電解メッキ法に
より形成されたパターンおよび芯材との接着性が良好で
あるなどの点から好ましい。
ス繊維やポリエステル繊維を基材としてエポキシ樹゛脂
やポリエステル樹脂を含浸させたプリプレグシートがあ
げられるが、これらに限定されるものではない。これら
のうちではガラス繊維を基材としたエポキシ樹脂プリプ
レグが、取扱いが容易である、耐熱性が良好である、プ
リント配線を施す良導体薄膜あるいは無電解メッキ法に
より形成されたパターンおよび芯材との接着性が良好で
あるなどの点から好ましい。
本発明に用いる樹脂シートとしては、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリメチルペンテン、フェノキシ樹脂な
どの熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、
シリコン樹脂、イミド樹脂などの熱硬化性樹脂あるいは
これらの樹脂に石英粉末、アルミナ粉末などの充填材を
加えた樹脂組成物から製造された厚さ0,1〜5mm程
度のシートがあげられるが、これらに限定されるもので
はないOつぎに本発明の薬液保護層形成法を本発明の一
実施態様に関する説明図にもとづき説明する。
リプロピレン、ポリメチルペンテン、フェノキシ樹脂な
どの熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、
シリコン樹脂、イミド樹脂などの熱硬化性樹脂あるいは
これらの樹脂に石英粉末、アルミナ粉末などの充填材を
加えた樹脂組成物から製造された厚さ0,1〜5mm程
度のシートがあげられるが、これらに限定されるもので
はないOつぎに本発明の薬液保護層形成法を本発明の一
実施態様に関する説明図にもとづき説明する。
第1図において、(8)はアルミニウムや鉄などの金属
から製造された芯材であり、その両面には銅箔などで代
表される配線用の良導体薄膜(1)が設置され、両者の
間にはガラス基材エポキシプリプレグなどで代表される
絶縁層形成材料(5)が、また一方の絶縁層形成材料(
6)と芯材(8)との間には、第2図に示す薬液保護層
(γ)を形成するための樹脂シート(6)が設置されて
いる。
から製造された芯材であり、その両面には銅箔などで代
表される配線用の良導体薄膜(1)が設置され、両者の
間にはガラス基材エポキシプリプレグなどで代表される
絶縁層形成材料(5)が、また一方の絶縁層形成材料(
6)と芯材(8)との間には、第2図に示す薬液保護層
(γ)を形成するための樹脂シート(6)が設置されて
いる。
第1図に示すような順序で積層されたものを、100〜
200°a程度の温度、10〜ID0kg10m2−Q
程度の圧力にて熱圧着すると、樹脂シート(6)が芯材
(3)の同辺方向に押出され、第2図に示すように、芯
材(8)の両面上に絶縁層(2)を介して良導体薄膜(
1)が接着され、芯材(3)と良導体薄膜(1)とが絶
縁される。
200°a程度の温度、10〜ID0kg10m2−Q
程度の圧力にて熱圧着すると、樹脂シート(6)が芯材
(3)の同辺方向に押出され、第2図に示すように、芯
材(8)の両面上に絶縁層(2)を介して良導体薄膜(
1)が接着され、芯材(3)と良導体薄膜(1)とが絶
縁される。
同辺方向に押出された樹脂シート(6)は、芯材(8)
の周辺において薬液保護層(7)を形成し、芯材(8)
をほぼ完全に覆い、信頼性の高い保護層が簡単かつ容易
に形成される。
の周辺において薬液保護層(7)を形成し、芯材(8)
をほぼ完全に覆い、信頼性の高い保護層が簡単かつ容易
に形成される。
第1図および第2図においては、エツチング法によりパ
ターン化する良導体薄膜(1)を両面に有する金属芯両
面プリント配線用基板を製造するばあいについて説明し
たが、良導体薄膜(1)を用いずに、上記同様にして金
属芯両面プリント配線用基板を製造すると、第3図に示
すように、無電極電解メッキ法によりパターンを形成す
るような、薬液保護層(γ)を有する金属芯両面プリン
ト配線用基板かえられる。
ターン化する良導体薄膜(1)を両面に有する金属芯両
面プリント配線用基板を製造するばあいについて説明し
たが、良導体薄膜(1)を用いずに、上記同様にして金
属芯両面プリント配線用基板を製造すると、第3図に示
すように、無電極電解メッキ法によりパターンを形成す
るような、薬液保護層(γ)を有する金属芯両面プリン
ト配線用基板かえられる。
つぎに本発明の薬液保護層形成法を実施例にもとづき説
明する。
明する。
実施例1
厚さ1.6mm s 175mm X 220mmのア
ルミニウム製芯材、厚さ0.05mm s 175mm
X 220mmのガラス基材エポキシ樹脂プリプレグ
(三菱瓦斯化学■製のGIPL −170)、厚さ0.
135mm s 175mm X 220mmの三菱瓦
斯化手製の銅張積層板および厚さ3mm 1175mm
X 220mmの樹脂シート(菱電化成■製)を第1
図に示すように積層し、170°’tl X 40kg
10n2−GX1時間熱圧着し、厚さ2.1mmの金属
芯両面プリント配線用基板を30枚製造した0 えられたプリント配線用基板を目視観察したところ、す
べての基板の周辺部には薬液保護層が形成されており、
芯材露出部はなかった。
ルミニウム製芯材、厚さ0.05mm s 175mm
X 220mmのガラス基材エポキシ樹脂プリプレグ
(三菱瓦斯化学■製のGIPL −170)、厚さ0.
135mm s 175mm X 220mmの三菱瓦
斯化手製の銅張積層板および厚さ3mm 1175mm
X 220mmの樹脂シート(菱電化成■製)を第1
図に示すように積層し、170°’tl X 40kg
10n2−GX1時間熱圧着し、厚さ2.1mmの金属
芯両面プリント配線用基板を30枚製造した0 えられたプリント配線用基板を目視観察したところ、す
べての基板の周辺部には薬液保護層が形成されており、
芯材露出部はなかった。
つぎにえられたプリント配線用基板を脱脂、水洗後、4
0°0前後の塩化第2鉄溶液(塩化第2鉄509を水で
うすめて11にした液)に5分間浸漬し一必要な個所の
エツチングを行ない回路パターンを形成した。
0°0前後の塩化第2鉄溶液(塩化第2鉄509を水で
うすめて11にした液)に5分間浸漬し一必要な個所の
エツチングを行ない回路パターンを形成した。
えられたプリント配線基板を50倍の実体顕微鏡による
表面観察および銅箔引はがし試験にて評価したところ、
基板表面あるいは周辺部の黒化現象や引はがし強度の低
下は認められず、すべての基板に対して合格の判定かえ
られた0まだ上記エツチング処理後のエツチング液には
変色、沈でん物などの異常は見出せなかった。
表面観察および銅箔引はがし試験にて評価したところ、
基板表面あるいは周辺部の黒化現象や引はがし強度の低
下は認められず、すべての基板に対して合格の判定かえ
られた0まだ上記エツチング処理後のエツチング液には
変色、沈でん物などの異常は見出せなかった。
本発明の方法により金属芯両面プリント配線用基板の薬
液保護層を形成すると、該プリント配線用基板製造上必
要な工程を利用して、すばやくかつ容易に薬液保護層を
形成することができる。このようにして形成された薬液
保護層は、従来から主として行なわれているコーティン
グ法によるばあいと比較して、塗り斑やビンボールが少
なく、またコーティング剤の飛散などが生じないため信
頼性の高いものである0
液保護層を形成すると、該プリント配線用基板製造上必
要な工程を利用して、すばやくかつ容易に薬液保護層を
形成することができる。このようにして形成された薬液
保護層は、従来から主として行なわれているコーティン
グ法によるばあいと比較して、塗り斑やビンボールが少
なく、またコーティング剤の飛散などが生じないため信
頼性の高いものである0
第1図および第2図は本発明の方法の一実施態様に関す
る説明図、第3図は本発明の方法の他の実施態様に関す
る説明図、第4図は従来法による金属芯両面プリント配
線基板に関する説明図であるO (図面の主要符号) (8):芯 材 (5):絶縁層形成材料 (6):樹脂シード (γ)+薬液保護層 代理人 大岩増雄(ほか2名)
る説明図、第3図は本発明の方法の他の実施態様に関す
る説明図、第4図は従来法による金属芯両面プリント配
線基板に関する説明図であるO (図面の主要符号) (8):芯 材 (5):絶縁層形成材料 (6):樹脂シード (γ)+薬液保護層 代理人 大岩増雄(ほか2名)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)金属芯両面プリント配線基板を製造するためのエ
ツチング工程または無電解メッキの前処理工程において
、芯材が露出して薬液に接触することにより生ずる芯材
および薬液の損傷を防止するために行なう薬液保護層を
形成するにあたり、絶縁層形成材料に加え、樹脂シート
を芯材と絶縁層形成材料との間に介在させて熱圧着する
ことを特徴とする薬液保護層形成法。 (2)前記絶縁層形成材料がガラス基材エポキシ樹脂プ
リプレグである特許請求の範囲第(1)項記載の形成法
。 (8)前記樹脂シートが熱可塑性樹脂シートである特許
請求の範囲第(1)項記載の形成法〇(4)前記樹脂シ
ートが熱硬化性樹脂シートである特許請求の範囲第(1
)項記載の形成法〇(6)前記樹脂シートが充填材を含
まない樹脂シートである特許請求の範囲第(1)項記載
の形成法0(6)前記樹脂シートが充填材を含む樹脂シ
ートである特許請求の範囲第(1)項記載の形成法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11249684A JPS60254692A (ja) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | 薬液保護層形成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11249684A JPS60254692A (ja) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | 薬液保護層形成法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60254692A true JPS60254692A (ja) | 1985-12-16 |
Family
ID=14588102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11249684A Pending JPS60254692A (ja) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | 薬液保護層形成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60254692A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006228919A (ja) * | 2005-02-17 | 2006-08-31 | Nec Corp | 配線基板及び半導体装置並びにそれらの製造方法 |
-
1984
- 1984-05-30 JP JP11249684A patent/JPS60254692A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006228919A (ja) * | 2005-02-17 | 2006-08-31 | Nec Corp | 配線基板及び半導体装置並びにそれらの製造方法 |
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