JPS60257842A - 脱ふ装置 - Google Patents

脱ふ装置

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JPS60257842A
JPS60257842A JP11586384A JP11586384A JPS60257842A JP S60257842 A JPS60257842 A JP S60257842A JP 11586384 A JP11586384 A JP 11586384A JP 11586384 A JP11586384 A JP 11586384A JP S60257842 A JPS60257842 A JP S60257842A
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JP
Japan
Prior art keywords
rubber
paddy
contact
rolls
rice
Prior art date
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Pending
Application number
JP11586384A
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Inventor
水内 謹一
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  • Adjustment And Processing Of Grains (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〆ゞ」;のUJU 本発明は籾の扁平な両側面をゴム版の間に挾んで摩擦し
て籾殻を剥き、内部より玄米を傷付けることなく取出す
装置である。
従」旨列玉kq 従来は第5図に示すように外周を線接触する1対の円筒
形ゴムロールA、Bを周速度を変えて互いに内向きに回
転させ、その間に上方より籾を供給して脱桴していた。
しかし従来の脱桴装置の1対のづムロールA、Bの対向
面は第5図に示すようにV字状に」三方に向(′1.p
、く開さ、しかもゴムロールA、Bは線接触Cしている
にすきないので、1一方より落下する扁平な籾はその尖
った周縁を両ロールA、B間の1一方に向は広く開いた
対向面に接触させつつ下降して内部の玄米に強い衝撃を
与えて破砕したり、又は、籾は両側の扁平面を両ロール
A、Bに接触させるとしても両ロールA、Bは線接触し
ているにすぎないので、その籾が両ロールに接触する時
間は僅か100分の1秒にすぎず、脱桴しない籾も多い
しかして従来装置のゴムロールA、Hの硬度は85度で
あるから両ロール間を近付けて強く籾を摩擦すると脱I
I′¥率は向上するが玄米の扁平な両側 □面に傷を伺
け、所謂胴摺り米を生ずるし、そうだからといってゴム
ロールの硬度をドげると、籾は軟らかい両ロールA、B
の線接触Cの部分に100分の1秒という短時間包み込
まれるのにすぎず摩擦する力が弱くて脱桴できない。
−3[Iか ・ しようと る間 へ 本発明は相対するゴム層の対向面を従来のV字状よりも
狭少にして籾の扁平な内側面が確実に両ゴj・層に接す
ると共にゴム硬度を手げて軟らかいコム層の夕、1向而
に長時間接触させて籾にあらゆる方向の力を′j−えて
完全に脱桴させ、脱桴率を高めることをt、j的とする
ubL幻[Fυ]るためのL旦 本発明は、回転円盤1の表面に形成するゴム層21、に
外周にゴム層3を形成する回転筒体4を周速度を変えて
接触させ、しかして両ゴム層2.3のゴt、硬度を85
度より低くすることを特長とする1悦憚装置である。
f」 桟を回転円盤1の表面に供給すると、周速度の異なる筒
体4との間で脱桴し、円盤1の外に玄米と籾殻は排出す
る。
γ1鷹 9′S2図に小すように回転円盤lの枯山側の表面に、
:^・q壁5をのぞませて、玄米と籾殻を機外に排出す
るとよい。
まj−第1図およυ第2図に示す第1実施例は筒体4を
円筒形に形成し、第3図および第41ノに示す第2実施
例は筒体4aを円錐形に形成する。6は基台で、ボール
ヘアリングを介して回転円盤lを回転自在に搭載する。
皮更二丈課 本発明によるときは、回転円盤1の平らな表面に回転筒
体2が接触するので、両者の対向方面は第5Vに示す従
来品のV字状の籾摺間隙の2等分線による約2分の1に
相当する狭少な間隙が両者1.2の接触線の前後に生ず
る。
従っでこの狭少な間隙中に回転円盤1の平らな表rri
jに扁平な一側面を乗せた籾が案内されて筒体4と円J
fAlの接触線の前後に生ずる狭少なゴム層2.3間に
供給さね、周速度を異にししかもゴム硬度を85度より
低くした軟らかいゴム層2.3間に籾は包まれて面接触
しつつ100分の1秒より長い時間をかげて籾が通過す
るので、その間に籾はあらゆる方向の力を受けて傷付く
ことなく完全に脱皮する、という効果を生ずる。
【図面の簡単な説明】
第1 INおよび第2図は本発明の第1実施例の縦断+
l而IAおよび平面図を示す。第3図および第4図は第
2実施例の縦断止面図および平面図を示す。第5図は従
来品の平面図。 1は回転円盤、2.3はゴム層、4は回転筒体代理人 
弁理士 牧 舌部(ほか2名)第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 回転円盤の表面に形成するゴム層」−に外周にゴト層を
    形成する回転筒体を周速度を変えて接触させ、しかして
    両ゴム層のゴム硬度を85度より低くすることを特長と
    する脱桴装置。
JP11586384A 1984-06-06 1984-06-06 脱ふ装置 Pending JPS60257842A (ja)

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JP11586384A JPS60257842A (ja) 1984-06-06 1984-06-06 脱ふ装置

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JP11586384A JPS60257842A (ja) 1984-06-06 1984-06-06 脱ふ装置

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JPS60257842A true JPS60257842A (ja) 1985-12-19

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JP11586384A Pending JPS60257842A (ja) 1984-06-06 1984-06-06 脱ふ装置

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JP (1) JPS60257842A (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS594450A (ja) * 1982-06-29 1984-01-11 宇部興産株式会社 回転式加圧型セパレ−タをそなえた粉砕機
JPS5929047A (ja) * 1982-08-12 1984-02-16 三菱重工業株式会社 固形物質の粉砕方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS594450A (ja) * 1982-06-29 1984-01-11 宇部興産株式会社 回転式加圧型セパレ−タをそなえた粉砕機
JPS5929047A (ja) * 1982-08-12 1984-02-16 三菱重工業株式会社 固形物質の粉砕方法

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