JPS6025875B2 - 加熱装置 - Google Patents

加熱装置

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JPS6025875B2
JPS6025875B2 JP12114279A JP12114279A JPS6025875B2 JP S6025875 B2 JPS6025875 B2 JP S6025875B2 JP 12114279 A JP12114279 A JP 12114279A JP 12114279 A JP12114279 A JP 12114279A JP S6025875 B2 JPS6025875 B2 JP S6025875B2
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JP
Japan
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heating
heating chamber
heated
frequency
metal plate
Prior art date
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Expired
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JP12114279A
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English (en)
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JPS5645594A (en
Inventor
寛 寺崎
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP12114279A priority Critical patent/JPS6025875B2/ja
Publication of JPS5645594A publication Critical patent/JPS5645594A/ja
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Expired legal-status Critical Current

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  • Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は加熱装置における高周波加熱を行なう場合の均
一加熱を具現化する加熱室に対するマイクロ波給電方法
に関するもので、ターンテーブル方式におけるテーブル
の回転の中心部分の電界を加熱中常時変化させた上で外
周部分の累積の電界強度に合わせを目的としたものであ
る。
一般にこの種の加熱装置においては、高周波時の加熱ム
ラの防止の方法として被加熱物を回転させながら加熱す
るいわゆるターンテーブル方式がとられているが、この
場合のターンテーブルの中心部分の加熱の具合が問題と
なっている。
すなわちターンテーブルの中心部分はターンテーブルが
回転してもほとんど電界の変化がなく、加熱室の形状に
対応して生じた露界モ−Hこより常時電界が変化する外
周部分とのバランスがとれにくく、結果として均一加熱
になり得ていない場合が多い。特に中心部の底部は放射
電界が到達しにくく、常に外周部は加熱完了しているに
もかかわらず、中心底部はほとんど加熱されない状態の
ままと言う事が時として発生した。本発明はかかる均一
加熱に対する不具合を排すべくなされたもので、以下そ
の実施例を添付図面とともに説明する。
第1図は本発明の実施例の構成を示す側面断面略図であ
る。
本体1の内部に被加熱物2の加熱にかかる加熱室3を設
け、この加熱室3に対し高周波の給電にかかる開口4お
よび高周波発振装置5の発振した高周波を前記関口に導
びく導波管6を加熱室3外に設けている。
加熱室底壁7には磁石8を有する金属性回転台9をロー
ラ101こより回動自在に設け、回転台の上に被加熱物
2の戦贋にかかる受皿11を設けている。
磁石A8と対向する部分には、前記加熱室底壁7をはさ
んで、加熱室3外に、もう1つの磁石12がプーリ‐1
3に固定されて設けられ、このプーリー13は加熱室底
壁7の略中央部分に設けられた軸受14により回転自在
に麹支されている。プーリー13はモータ15により加
熱室3に高周波を供給している間、絶えず回転する様に
、回路、部品を構成している。加熱室後壁16は加熱室
より外へ15側シボリ加工を施したシボリ部17を設け
ている。このシポリ部17の中に、金属性の板18を回
転自在に鼠支して設けている。この金属性の板18は少
なくとも一部に加熱室後壁16面とのなす角度が平行以
外の角度となる様に曲げ加工がなされており、回転する
事により、前記開□4よりこの金属板18までの距離が
変化する様にしている。19は該金属板18を回転させ
る駆動装置で、金属板18を軸支する回転軸20の一部
にプーリ−21を設け、前記モータ15の出力軸との間
をゴムベルト22により結合し、少なくとも高周波加熱
を行なう間、常時金属板18を回転させる様にしている
第2図は導波管6周辺を示す斜視図で、前記閉口4は短
辺が加熱室後壁16に平行となる様な平行四辺形とし、
導波管6の側壁23は加熱室後壁16と平行となる様に
加熱室上壁24に設ける。
すなわち平行四辺形の関口4の短辺にそったものとする
。導波管6の高周波発振器5側の終端部25は、この側
壁23に直角となる角度をもって短絡し、その位置は前
記高周波発生装置5のアンテナ26との整合が十分にと
れるところとしている。本実施例においてはアンテナ2
6の中心と終端部25間ピッチを21柳としている。一
方導波管のもう1つの終端部27は前記閉口4の長辺の
なす角度に合わせ終端部25と直角、平行以外のQ(0
<90o)なる角度をなす様に設けた。
さらにこの終端部27のなす面は加熱室上壁24と直角
および平行以外の一定角度8(0<8<90o)なる角
度をなすようにしている。本実施例ではQ=27.80
,B=49.30としている。又開ロ4傷短辺の力0熱
室後壁16側ま反対側の辺よりも高周波発振装置5のア
ンテナ26からの距離を遠くなる様にしている。さらに
、該加熱室3内には他の加熱手段として電熱加熱を可能
となすヒータ28が、碍右29により加熱室上壁24近
傍に支持固定されている。
さらに、本体1前面の一部に操作パネル30上には前記
高周波発振装置5およびヒータ28への電力の切換を可
能ならしめる切襖スイッチ31のッマミ32が設けられ
ており、使用者は、このッマミ32に操作する事により
、高周波加熱と電熱加熱のいずれか一方あるいは、同時
にと、任意に選択して加熱する事を可能ならしめている
。さて、以上の構成をとることにより、従来のこの種の
加熱装置にくらべ次のごとき特長をもたせる事が可能と
なった。すなわちアンテナ26を発した電波は導波管6
の終端部27のなす面により反射されその進行方向が変
化する反射波は、第3図に示すごとく、加熱室後壁16
側へ向かう。
加熱室後壁16近傍に放射された電波はさらに金属性板
18の状態に対応してその板面に対する入射角と同じ角
度をもって反射され、被加熱物に向い被加熱物を加熱す
る。導波管6の終端部27のなす面の角度Q,Bを変化
させることで、加熱室後壁に向う電波の量と、角度すな
わち、被加熱物に向う量と角度を調整する事が可能とな
った。すなわち従来用いられた方法であれば関口4を出
た電波は直接被加熱物2に向い、その進入角度を調整す
るだけであったため、きめの狙い調整しかできなかった
。本発明によれば関口4を出た電波は直接被加熱物2へ
向うものと、加熱室後壁16へ向うものとに分割され、
分割された段階で分割の割合とともに少なくともその一
部分は被加熱物に対しもう1つの方向から進入角を調整
して進入できる様になり、非常にきめのこまかし、電界
の調整が可能となった。さらに、加熱室後壁16へ向っ
た電波は、金属板18に到達するが、金属板18の状態
が常時変化し、前記閉口よりの距離を変化させているた
めこの金属板18に到達した電波が反射し再び加熱室内
へ向おうとするときのその方向、位相が常時変化する事
になり(等価的にシボリ部17の一部の深さを変化させ
る効果を得ることができる)、これにより被加熱物2に
達する電波は、いわゆる境拝された電波で、常に一部分
に電界が集中し局部的な加熱がなされたり、またある部
分は全く加熱されないといった不都合をなくす事ができ
る様になつた。この横拝された電波と、開□4から直接
被加熱物へ向う電波との比は、前述のごとく、終端部の
なす角Qおよび8により任意に調整することがきるため
、加熱室の大きさ等に応じて適当な角度となる様にQお
よび8を決定すれば頭切にのべたターンテーブル中心近
傍の電界は必要な幅をもって変化する事ができるように
なり、例えば被加熱物2の形状、材質、量等により変化
するターンテーブルの中心部分の電界を常にほとんど一
定の値にする事ができる様になり大幅な加熱ムラ防止性
能の向上を得る事ができたのである。
本実施例における加熱ムラ性能(出き上がり状態での温
度差)の実験データを第5図に示す。
上記に示すごとく本発明により、高周波加熱の加熱ムラ
防止性能に単にターンテーブル機能のみしか有しない従
釆の加熱装置に比較し大幅な加熱ムラ防止性能の向上を
得ることができたのであるが、さらにこの発明の実施に
より次のごとき効果を得る事ができた。まず受皿11を
金属性にする事が可能となり、電熱加熱やガスの燃焼に
よる加熱装置をもつ、いわゆるオープンレンジの電熱加
熱と高周波加熱の切換が受皿を交換する事なく可能とな
り使い勝手を大幅に向上させる事ができる様になった。
従来この種の加熱装置においては、電熱加熱の金属性受
皿と、高周波加熱時の耐熱ガラス性の受皿と各々の特性
に合わせ二種が必要であった。その理由の1つとして高
周波加熱時に均一加熱を行なおうとすれば、ガラス等の
絶縁物により被加熱物を加熱室壁(金属)より浮かした
状態でなければならなかったためである。これをしなけ
ればたとえターンテーブル方式であっても、中央の底部
がほとんど加熱されないためであった。ところが本発明
により、前述のQ,8を金属板18で調整することで中
央底部を外周と同等に加熱できる様に設定する事ができ
る様になった。ここにおいて高周波加熱時の受皿を金属
性にする事ができる様になり、この事はすなわち、電熱
加熱に都合の良い金属皿と受皿と共通のものとする事が
出釆ると言う事であった。その結果高周波加熱と電熱加
熱は受皿の交換なしで瞬時に切換える事ができ、さらに
は同時に加熱ムラなく加熱ができる様になり、その使い
勝手、加熱性能を大幅に向上させる事ができたのである
。もちろんガラス性受皿を金属性受皿に変更できた事で
製品のコストを低減できた事はいうまでもない。そして
さらに本発明における、金属板18の形状を回転する事
により空気の流れを生じさせる構造をももたせる事によ
り高周波加熱時以外の熱による加熱時にも回転させる事
により、いわゆる、熱風循環機能をも有す事になり、こ
のことが熱加熱時の加熱効率の向上と加熱ムラの防止に
大いに効果を発揮することができた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す高周波加熱装置の側面
断面図、第2図は同姿部導波警部分の拡大斜視図、第3
図は本発明のQによる電波の進行方向を示す図、第4図
は本発明金属板18の回転による電磁の進行方向の変化
を示す図、第5図は加熱ムラを示す図である。 4・・・・・・閉口、5・・・…高周波発振装置、6・
・・・・・導波管、7・・・・・・加熱室底壁、16・
・・・・・加熱室後壁、17・・・・・・シボリ部、1
8・・・・・・金属板。 第1図第2図 第3図 第4図 第5図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 本体内に被加熱物を収納して加熱する加熱室を設け
    、この加熱室を形成する加熱室上壁の一部に高周波の給
    電にかかる長方形以外の平行四辺形の開口を設け、この
    開口と加熱室外に設けた高周波発生装置とを開口側終端
    面を該開口の長辺のなす角度に合わせさらに高周波発生
    装置のアンテナ側終端面と直角および平行を除く角度で
    終端させた導波管により、結合させ、さらに加熱室後壁
    に加熱室外へ突出するシボリ部を設け、かつ上記シボリ
    部近傍に少なくとも高周波加熱時に回転し電波を撹拌す
    る金属板を設け、さらに加熱室底壁近傍に被加熱物を回
    転せしめるターンテーブル機構とを設けたことを特徴と
    する加熱装置。 2 ターンテーブル機構において被加熱物の載置にかか
    る受皿を金属性とした事を特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の加熱装置。
JP12114279A 1979-09-19 1979-09-19 加熱装置 Expired JPS6025875B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12114279A JPS6025875B2 (ja) 1979-09-19 1979-09-19 加熱装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12114279A JPS6025875B2 (ja) 1979-09-19 1979-09-19 加熱装置

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Publication Number Publication Date
JPS5645594A JPS5645594A (en) 1981-04-25
JPS6025875B2 true JPS6025875B2 (ja) 1985-06-20

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ID=14803892

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12114279A Expired JPS6025875B2 (ja) 1979-09-19 1979-09-19 加熱装置

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JPS5645594A (en) 1981-04-25

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