JPH04345788A - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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JPH04345788A
JPH04345788A JP12027391A JP12027391A JPH04345788A JP H04345788 A JPH04345788 A JP H04345788A JP 12027391 A JP12027391 A JP 12027391A JP 12027391 A JP12027391 A JP 12027391A JP H04345788 A JPH04345788 A JP H04345788A
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JP
Japan
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high frequency
heating chamber
heating
turntable
frequency waves
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JP12027391A
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Satoru Ezaki
哲 江崎
Junji Murata
潤二 村田
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Sanyo Electric Co Ltd
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Sanyo Electric Co Ltd
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    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B2206/00—Aspects relating to heating by electric, magnetic, or electromagnetic fields covered by group H05B6/00
    • H05B2206/04—Heating using microwaves
    • H05B2206/044—Microwave heating devices provided with two or more magnetrons or microwave sources of other kind

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  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子レンジ等の高周波加
熱装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図4は実公昭59−34073号公報等
に示される電子レンジを示す。加熱室20内の上下の中
央付近に回転アンテナ21、22を設け、これらアンテ
ナの先端から、高周波発生手段であるマグネトロン23
、24が発生する高周波を上記加熱室20内に放射して
いる。
【0003】このような構成は加熱むらを改善するのに
かなりの効果があるが、詳細にみてみると、各回転アン
テナ21、22から放射される高周波は矢印の如く加熱
室側壁に向かう方が比較的強い。従って、加熱むらの改
善を十分には行えない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、加熱室内に
上下から高周波を放射する構成において、加熱むらを顕
著に改善しようとするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の高周波加熱装置
は、第1の構成として、加熱室と、この加熱室内の底部
に配置され食品を回転するターンテーブルと、このター
ンテーブルの周辺を支持するローラと、このローラを支
持する金属製ローラ支持体と、高周波発生手段と、上記
加熱室内の上部に配置され、上記高周波発生手段が発生
する高周波を上記加熱室内に放射する回転アンテナと、
上記高周波発生手段が発生する高周波を上記加熱室の下
側へ導く導波手段と、上記加熱室の底壁であって上記ロ
ーラ支持体より加熱室中央側に形成され、上記導波手段
が導いた高周波を上記加熱室内に供給する高周波供給部
とからなる。
【0006】第2の構成としては、加熱室と、この加熱
室の底壁に形成されたターンテーブル収容凹所と、この
凹所内に配置され食品を回転するターンテーブルと、高
周波発生手段と、上記加熱室内の上部に配置され、上記
高周波発生手段が発生する高周波を上記加熱室内に放射
する回転アンテナと、上記高周波発生手段が発生する高
周波を上記加熱室の下側へ導く導波手段と、上記凹所の
側壁に形成され、上記導波手段が導いた高周波を上記加
熱室内に供給する高周波供給部とからなる。
【0007】
【作用】第1及び第2のいずれの構成においても、加熱
室内に高周波が満遍無く拡がる。
【0008】
【実施例】図1及び図2は本発明の第1実施例の電子レ
ンジの構造を示す。1は加熱室、2はこの加熱室1の底
壁3に形成されたターンテーブル収容凹所、4は上記加
熱室1内の底部であって上記凹所2に配置され、食品を
回転する誘電体製ターンテーブル、5、5・・・はこの
ターンテーブル4の下面周辺を支持する樹脂製ローラ、
6はこれらローラを支持するローラ支持体で、この支持
体は金属製のローラ軸7、7・・・及びこれらローラ軸
を連結する金属製のリング体8とからなる。9は上記タ
ーンテーブル4を駆動するモータ、10、11は高周波
を発生する第1及び第2マグネトロン、12、13はこ
れらマグネトロンからの高周波を上記加熱室1の上側及
び下側へ導く第1及び第2導波管、14は上記加熱室1
内の上部中央付近に配置され、上記第1導波管12で導
かれた第1マグネトロン10からの高周波を加熱室1内
に放射する回転アンテナ、15は上記加熱室1の底壁3
であって上記支持体6より加熱室中央側即ち上記支持体
6の内側に形成され、上記第2導波管13が導いた高周
波を加熱室1内に供給する高周波供給口で、この供給口
15と上記ターンテーブル4との間隔Lは高周波の波長
をλとするとほぼλ/4の奇数倍具体的にはλ/4に決
められている。
【0009】このような構成においては、上記回転アン
テナ14から放射される高周波は矢印Aの如く加熱室側
壁に向かう方が比較的強いが、上記供給口15から放射
される高周波は矢印Bの如く加熱室中央付近に向かう方
が比較的強く、従って、加熱室1内には全体的に高周波
が満遍無く拡がり、食品の加熱むらが著しく改善される
。更に、上記供給口15からの高周波は金属製のローラ
軸7、7・・・及びリング体8からなる支持体6の内側
にあってこの支持体に邪魔されることなく加熱室内の中
央付近に向かい、ターンテーブル上の食品の効率よい加
熱がなされる。しかも、上記ターンテーブル4は供給口
15に対してλ/4の位置にあるためターンテーブル上
の食品は電界強度の強い高周波に晒され一層効率よい加
熱がなされる。
【0010】図3は本発明の第2実施例の電子レンジの
構造を示す。上記第1実施例と同一部分は同一符号を記
してその説明を省略し、相違する部分のみ説明するに、
第2導波管13が導いた高周波を加熱室1内に放射する
高周波供給口15は凹所2の傾斜側壁16に形成されて
おり、この供給口15は樹脂製の蓋17により塞がれて
いる。
【0011】この場合、回転アンテナ14から放射され
る高周波は矢印aの如く加熱室側壁に向かう方が比較的
強く、上記供給口15から放射される高周波は矢印bの
如く加熱室中央付近に効率よく向かいこれが比較的強く
、従って、同様に、加熱室1内に全体的に高周波が満遍
無く拡がり、食品の加熱むらが著しく改善される。更に
、上記供給口15が側壁16にあるため、食品が加熱室
1内でこぼれてもこれは上記供給口15から外部へ漏れ
にくい。
【0012】
【発明の効果】本発明によれば、加熱室内に上下から高
周波を放射する構成において、加熱室内に高周波を満遍
無く拡げることができ、加熱むらを顕著に改善すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例の電子レンジの正面断面図
である。
【図2】同電子レンジにおいてターンテーブルを取り外
した状態の平面断面図である。
【図3】本発明の第2実施例の電子レンジの正面断面図
である。
【図4】従来の電子レンジの正面断面図である。
【符号の説明】
1    加熱室 2    ターンテーブル収容凹所 4    ターンテーブル 5    ローラ 6    ローラ支持体 10  第1マグネトロン 11  第2マグネトロン 12  第1導波管 13  第2導波管 14  回転アンテナ 15  高周波供給口

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  加熱室と、この加熱室内の底部に配置
    され食品を回転するターンテーブルと、このターンテー
    ブルの周辺を支持するローラと、このローラを支持する
    金属製ローラ支持体と、高周波発生手段と、上記加熱室
    内の上部に配置され、上記高周波発生手段が発生する高
    周波を上記加熱室内に放射する回転アンテナと、上記高
    周波発生手段が発生する高周波を上記加熱室の下側へ導
    く導波手段と、上記加熱室の底壁であって上記ローラ支
    持体より加熱室中央側に形成され、上記導波手段が導い
    た高周波を上記加熱室内に供給する高周波供給部とから
    なる高周波加熱装置。
  2. 【請求項2】  加熱室と、この加熱室の底壁に形成さ
    れたターンテーブル収容凹所と、この凹所内に配置され
    食品を回転するターンテーブルと、高周波発生手段と、
    上記加熱室内の上部に配置され、上記高周波発生手段が
    発生する高周波を上記加熱室内に放射する回転アンテナ
    と、上記高周波発生手段が発生する高周波を上記加熱室
    の下側へ導く導波手段と、上記凹所の側壁に形成され、
    上記導波手段が導いた高周波を上記加熱室内に供給する
    高周波供給部とからなる高周波加熱装置。
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CN1301040C (zh) * 1994-10-20 2007-02-14 松下电器产业株式会社 高频电波加热装置
WO2013121288A1 (en) 2012-02-14 2013-08-22 Goji Ltd. A device for applying rf energy to a cavity

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