JPS60261585A - 超純水の製造方法 - Google Patents
超純水の製造方法Info
- Publication number
- JPS60261585A JPS60261585A JP11795484A JP11795484A JPS60261585A JP S60261585 A JPS60261585 A JP S60261585A JP 11795484 A JP11795484 A JP 11795484A JP 11795484 A JP11795484 A JP 11795484A JP S60261585 A JPS60261585 A JP S60261585A
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- Japan
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- water
- temperature
- pure water
- viable bacteria
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- Pending
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は超純水の製造方法に関し、より詳細には、純水
製造工程における一部ｌｂシ＜は全体の処理水の温度を
高めて殺菌し、生菌の混入を阻止することによって超純
水を製造する方法に関するものである。
製造工程における一部ｌｂシ＜は全体の処理水の温度を
高めて殺菌し、生菌の混入を阻止することによって超純
水を製造する方法に関するものである。
純水の製造法としては逆浸透法、イオン交換法、限外濾
過法、精密濾過法等が知られており、これらの方法を単
独で或は２種以上の方法を組合わせて実施することによ
り、使用目的に応じた純度レベルの純水を得ている。又
とつした純水の製造工程で紫外線殺菌処理を施し、上記
の様な物理的処理では除去し難い生菌を殺菌除去する方
法も実施され”Ｃいる。例えば第１図は純水の代表的々
型造法を例示するフロー図であり、１次純水系統と２次
純水系統を直列に接続して構成される。即ち１次純水系
統では、原水に凝集剤及び助剤を加えて前処理し浮遊物
を除去し、次いで処理水に酸を加えた後脱炭酸し、一旦
貯槽に溜めた後熱交換装置及びフィルタを通して逆浸透
装置へ送られる。尚逆浸透処理の為の最適温度は１５〜
３０℃程度であることから、上記の如く逆浸透処理前の
処理水を熱交換装置に通して加温又は冷却を行ない、処
理水の温度を上記最適温度に調整して逆浸透装置へ送り
込む様にしている。逆浸透を終えた透過水は貯槽を経て
イオン交換装置へ送られ、イオンが除去された後フィル
タを通して貯槽へ送られ、１次純水系統の処理を終える
。貯槽では空気の混入をさける為窒素ガスによるシール
が打力われる。
過法、精密濾過法等が知られており、これらの方法を単
独で或は２種以上の方法を組合わせて実施することによ
り、使用目的に応じた純度レベルの純水を得ている。又
とつした純水の製造工程で紫外線殺菌処理を施し、上記
の様な物理的処理では除去し難い生菌を殺菌除去する方
法も実施され”Ｃいる。例えば第１図は純水の代表的々
型造法を例示するフロー図であり、１次純水系統と２次
純水系統を直列に接続して構成される。即ち１次純水系
統では、原水に凝集剤及び助剤を加えて前処理し浮遊物
を除去し、次いで処理水に酸を加えた後脱炭酸し、一旦
貯槽に溜めた後熱交換装置及びフィルタを通して逆浸透
装置へ送られる。尚逆浸透処理の為の最適温度は１５〜
３０℃程度であることから、上記の如く逆浸透処理前の
処理水を熱交換装置に通して加温又は冷却を行ない、処
理水の温度を上記最適温度に調整して逆浸透装置へ送り
込む様にしている。逆浸透を終えた透過水は貯槽を経て
イオン交換装置へ送られ、イオンが除去された後フィル
タを通して貯槽へ送られ、１次純水系統の処理を終える
。貯槽では空気の混入をさける為窒素ガスによるシール
が打力われる。
１次純水化処理を終えた処理水は次いで２次純水系統へ
送られ、紫外線殺菌装置で殺菌処理された後、カートリ
ッジポリラシャを経て限外濾過装置へ送り、一部は紫外
線殺菌装置の前の貯槽へ返還され、一部はフィルタを通
してユースポイントへ送られる。こうした一連の処理に
より原水中の不純物は殆んどが除去され、超純水として
の用途に利用することができる。
送られ、紫外線殺菌装置で殺菌処理された後、カートリ
ッジポリラシャを経て限外濾過装置へ送り、一部は紫外
線殺菌装置の前の貯槽へ返還され、一部はフィルタを通
してユースポイントへ送られる。こうした一連の処理に
より原水中の不純物は殆んどが除去され、超純水として
の用途に利用することができる。
ところで超純水の水質評価は、比抵抗、微粒子量、生菌
数及び有機物量等によって行々われる。
数及び有機物量等によって行々われる。
このうち生菌数は微粒子の１種として測定されるが、生
菌は自己増殖作用を有しており生育条件がそろうと異常
に増加する可能性があるので、超純水の水質評価におけ
る重要力位置を占めている。
菌は自己増殖作用を有しており生育条件がそろうと異常
に増加する可能性があるので、超純水の水質評価におけ
る重要力位置を占めている。
しかし上記の様な超純水の製造法では、固形浮遊物やイ
オン等の除去はほぼ完全に行なうことができるものの、
生菌の除去については必ずしも十分に行ない得る訳では
々い。即ちイオン交換はもとｌ より限外濾過等によっ
ても水中の微細な生菌を完全に除去することは不可能で
あり、また第１図で説明した様な紫外線殺菌処理にして
も、生菌の増殖を抑える程度の効果しか得ることができ
ず完全殺菌効果を期待することはできない。その結果超
純水中に僅かに残った生菌がデッドスペースにおいて増
殖して品質低下を招く恐れがあり、又超純水の製造工程
でもユースポイントからの逆汚染によって水質が低下す
ることもしばしば経験されている。
オン等の除去はほぼ完全に行なうことができるものの、
生菌の除去については必ずしも十分に行ない得る訳では
々い。即ちイオン交換はもとｌ より限外濾過等によっ
ても水中の微細な生菌を完全に除去することは不可能で
あり、また第１図で説明した様な紫外線殺菌処理にして
も、生菌の増殖を抑える程度の効果しか得ることができ
ず完全殺菌効果を期待することはできない。その結果超
純水中に僅かに残った生菌がデッドスペースにおいて増
殖して品質低下を招く恐れがあり、又超純水の製造工程
でもユースポイントからの逆汚染によって水質が低下す
ることもしばしば経験されている。
本発明者等はこうした事情に着目し、殊に生菌の完全除
去に主眼を置いて種々研究を進めてきた。
去に主眼を置いて種々研究を進めてきた。
その結果、超純水の製造工程で処理水を７０〜１１０℃
に加温してやれは生菌を撲滅させるととができることを
知り、対に本発明の完成をみた。
に加温してやれは生菌を撲滅させるととができることを
知り、対に本発明の完成をみた。
即ち本発明に係る超純水の製造法の構成とは、逆浸透、
イオン交換、限外濾過、精密濾過及び紫外線殺菌の各単
位操作を単独もしくは組合わせて純水を製造する方法に
おいて、処理系の一部もしくは全体における処理水の温
度を７０〜ｉｌｏ℃に保持するところに要旨を有するも
のである。
イオン交換、限外濾過、精密濾過及び紫外線殺菌の各単
位操作を単独もしくは組合わせて純水を製造する方法に
おいて、処理系の一部もしくは全体における処理水の温
度を７０〜ｉｌｏ℃に保持するところに要旨を有するも
のである。
本発明では、超純水の製造ラインもしくは貯槽にヒータ
又は熱交換器を配設して水温を７０〜１１０℃に保持す
るもので、この加温によって水中の生菌はほぼ完全に死
滅し、生菌の混入乃至増殖による超純水の品質低下をほ
ぼ完全に防止することができる。例えば第２図は第１図
に示した公知の純水製造プロセスにおける２次純水系統
の紫外線殺菌装置に代えてヒータを設け、水温を７０〜
１１０℃に高め得る様にした本発明の実施例フローであ
り、この構成であれば、該ヒータの下流側に配置される
カートリッジポリラシャ、限外濾過装置及びフィルタの
各位置における処理水の温度を任意の温度に高めること
ができる。従って該ヒータによって水温を７０〜１１０
℃に高めてやれば、微生物繁殖の温床となりやすいカー
トリツジボリツシャを滅菌できる上に処理水中の生菌を
ほぼ完全に撲滅させることができる。しかも死滅した菌
体は限外濾過工程でほぼ完全に除去されると共に、限外
濾過装置からフィルタを通過する処理水の温度も高温に
保たれているのでユースポイントからの生菌による逆汚
染も全く起こらず、超高純度の純水を得ることができる
。ところで処理水の加熱温度は、生菌の撲滅を可能にす
るうえで７０℃以上、好ましくは８０℃以上にしなけれ
ばならないが、温度が高すぎるとカートリッジポリラシ
ャのイオン交換樹脂から有機物が溶出するおたれがあシ
、１：だ処理水が沸騰する為操業性及びメンテナンス性
が低下する。尚本発明における処理系統は濾過部を除い
て常圧のもとで操作されるので、加熱温度は１００℃以
下に抑えるのが最も一般的であるが、限外濾過等の加圧
≦１（件のもとて同時に加熱する方法を採用すれば１０
０℃を超える高温に加熱することもでき、それにより生
菌撲滅効果は一層確実となる。しかしながらイオン交換
樹脂や限外濾過膜及び配管等の耐熱性を考バして実用性
のある加熱温度を考えれば、１１０℃程度が上限と考え
られる。尚との様な高温処理系外を採用する場合を考慮
すれば、配管やパルプ、タンク類等は溶出物質がほとん
ど無く耐熱性の優れたポリ塩化ビニリデン樹脂等で形成
し或は内張シしたもので形成しておくのがよく、又限外
濾過膜も耐熱性合成樹脂モジュールとしでおくのがよい
。
又は熱交換器を配設して水温を７０〜１１０℃に保持す
るもので、この加温によって水中の生菌はほぼ完全に死
滅し、生菌の混入乃至増殖による超純水の品質低下をほ
ぼ完全に防止することができる。例えば第２図は第１図
に示した公知の純水製造プロセスにおける２次純水系統
の紫外線殺菌装置に代えてヒータを設け、水温を７０〜
１１０℃に高め得る様にした本発明の実施例フローであ
り、この構成であれば、該ヒータの下流側に配置される
カートリッジポリラシャ、限外濾過装置及びフィルタの
各位置における処理水の温度を任意の温度に高めること
ができる。従って該ヒータによって水温を７０〜１１０
℃に高めてやれば、微生物繁殖の温床となりやすいカー
トリツジボリツシャを滅菌できる上に処理水中の生菌を
ほぼ完全に撲滅させることができる。しかも死滅した菌
体は限外濾過工程でほぼ完全に除去されると共に、限外
濾過装置からフィルタを通過する処理水の温度も高温に
保たれているのでユースポイントからの生菌による逆汚
染も全く起こらず、超高純度の純水を得ることができる
。ところで処理水の加熱温度は、生菌の撲滅を可能にす
るうえで７０℃以上、好ましくは８０℃以上にしなけれ
ばならないが、温度が高すぎるとカートリッジポリラシ
ャのイオン交換樹脂から有機物が溶出するおたれがあシ
、１：だ処理水が沸騰する為操業性及びメンテナンス性
が低下する。尚本発明における処理系統は濾過部を除い
て常圧のもとで操作されるので、加熱温度は１００℃以
下に抑えるのが最も一般的であるが、限外濾過等の加圧
≦１（件のもとて同時に加熱する方法を採用すれば１０
０℃を超える高温に加熱することもでき、それにより生
菌撲滅効果は一層確実となる。しかしながらイオン交換
樹脂や限外濾過膜及び配管等の耐熱性を考バして実用性
のある加熱温度を考えれば、１１０℃程度が上限と考え
られる。尚との様な高温処理系外を採用する場合を考慮
すれば、配管やパルプ、タンク類等は溶出物質がほとん
ど無く耐熱性の優れたポリ塩化ビニリデン樹脂等で形成
し或は内張シしたもので形成しておくのがよく、又限外
濾過膜も耐熱性合成樹脂モジュールとしでおくのがよい
。
尚図例では浮遊物、イオン、生菌及び有機物等のあらゆ
る種類の不純物を含む原水を処理の対象とし、前処理、
逆浸透、イオン交換、限外濾過の各装置を組合わせた構
成のものを示したが、これら各装置の配列順等は必要に
応じて任意に変更することができ、また原水の種類（不
純物の種類等）によっては上記装置の一部を省略するこ
とも可能である。また殺菌の為の加熱部も第２図の例に
限られる訳では々く、各処理装置固有の浄化能力を阻害
しない範囲で他の配管ラインや貯槽で加熱殺菌処理を行
なうことも可能である。しかしユースポイントからの生
菌の逆汚染を防止すると共に、生菌をより完全に除去す
る為には、第２図に示した様に浄化処理の最終ラインを
高温の殺菌雰囲気に保持す・るのがよい。尚加熱殺菌手
段と共に紫外線殺菌装置を併設して生菌撲滅のより完全
を期すことも有効である。
る種類の不純物を含む原水を処理の対象とし、前処理、
逆浸透、イオン交換、限外濾過の各装置を組合わせた構
成のものを示したが、これら各装置の配列順等は必要に
応じて任意に変更することができ、また原水の種類（不
純物の種類等）によっては上記装置の一部を省略するこ
とも可能である。また殺菌の為の加熱部も第２図の例に
限られる訳では々く、各処理装置固有の浄化能力を阻害
しない範囲で他の配管ラインや貯槽で加熱殺菌処理を行
なうことも可能である。しかしユースポイントからの生
菌の逆汚染を防止すると共に、生菌をより完全に除去す
る為には、第２図に示した様に浄化処理の最終ラインを
高温の殺菌雰囲気に保持す・るのがよい。尚加熱殺菌手
段と共に紫外線殺菌装置を併設して生菌撲滅のより完全
を期すことも有効である。
： 本発明は以上の様に構成されており、処理系統の任
意の場所で処理水を７０〜１１０℃に加熱することによ
り、生菌をほぼ完全に除去することができる。ちなみに
下記第１表及び第２表は、第１図に示した従来法及び第
２図に示１７た本発明法（ヒータによる加熱温度＝８０
℃）で得た各処理水（超純水）の水質試験結果を示した
ものであル、殊に本発明法を採用することによって生菌
の混入量は皆無となっている。
意の場所で処理水を７０〜１１０℃に加熱することによ
り、生菌をほぼ完全に除去することができる。ちなみに
下記第１表及び第２表は、第１図に示した従来法及び第
２図に示１７た本発明法（ヒータによる加熱温度＝８０
℃）で得た各処理水（超純水）の水質試験結果を示した
ものであル、殊に本発明法を採用することによって生菌
の混入量は皆無となっている。
第１図は従来の超純水製造法を示すフロー図、第２図は
本発明の実施例を示すフロー図である。 出願人 久保田鉄工株式会社
本発明の実施例を示すフロー図である。 出願人 久保田鉄工株式会社
Claims (1)
- （１）逆浸透、イオン交換、限外濾過、精密濾過及び紫
外線殺菌の各単位操作を単独もしくは組合わせて純水を
製造する方法において、 処理系の一部もしくは全体における処理水の温度を７０
〜１１０℃に保持することを特徴とする超純水の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11795484A JPS60261585A (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | 超純水の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11795484A JPS60261585A (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | 超純水の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60261585A true JPS60261585A (ja) | 1985-12-24 |
Family
ID=14724350
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11795484A Pending JPS60261585A (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | 超純水の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60261585A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62234507A (ja) * | 1986-04-02 | 1987-10-14 | Japan Organo Co Ltd | 限外濾過膜装置の殺菌方法 |
| JPS62266193A (ja) * | 1986-05-13 | 1987-11-18 | Japan Organo Co Ltd | 末端濾過膜装置の処理方法 |
| JPS63248407A (ja) * | 1987-03-31 | 1988-10-14 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 膜モジユ−ル保存法 |
| JPS63258700A (ja) * | 1987-04-15 | 1988-10-26 | Toray Ind Inc | 超純水製造装置 |
| JPH01245817A (ja) * | 1988-03-29 | 1989-10-02 | Toray Ind Inc | 熱超純水製造装置 |
| JPH01284385A (ja) * | 1988-05-10 | 1989-11-15 | Iwasaki Electric Co Ltd | 純水及び超純水の製造方法及びその製造装置 |
| BE1001854A4 (nl) * | 1988-06-29 | 1990-03-20 | Innovate Plus B V | Werkwijze voor het zuiveren van een vloeistof en inrichting die deze werkwijze toepast. |
| US5272091A (en) * | 1992-07-27 | 1993-12-21 | Millipore Corporation | Water purification method and apparatus |
| WO1998009916A1 (en) * | 1996-09-05 | 1998-03-12 | Millipore Corporation | Water purification system and ultrapure water product |
| JP2007160231A (ja) * | 2005-12-14 | 2007-06-28 | Japan Organo Co Ltd | 超純水システム |
| JP2021506562A (ja) * | 2017-12-20 | 2021-02-22 | エヴォクア ウォーター テクノロジーズ エルエルシーＥｖｏｑｕａ Ｗａｔｅｒ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ ＬＬＣ | 温水カート調整システムおよび方法 |
-
1984
- 1984-06-07 JP JP11795484A patent/JPS60261585A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2021506562A (ja) * | 2017-12-20 | 2021-02-22 | エヴォクア ウォーター テクノロジーズ エルエルシーＥｖｏｑｕａ Ｗａｔｅｒ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ ＬＬＣ | 温水カート調整システムおよび方法 |
| US11975294B2 (en) | 2017-12-20 | 2024-05-07 | Evoqua Water Technologies Llc | Vanox hot water cart conditioning method |
| US12383869B2 (en) | 2017-12-20 | 2025-08-12 | Evoqua Water Technologies Llc | Hot water cart conditioning system and method |
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