JPS60262914A - ガス冷式真空炉のガス冷却装置 - Google Patents
ガス冷式真空炉のガス冷却装置Info
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- JPS60262914A JPS60262914A JP11709484A JP11709484A JPS60262914A JP S60262914 A JPS60262914 A JP S60262914A JP 11709484 A JP11709484 A JP 11709484A JP 11709484 A JP11709484 A JP 11709484A JP S60262914 A JPS60262914 A JP S60262914A
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- furnace
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- cooled
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- 238000001816 cooling Methods 0.000 title claims abstract description 46
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 claims abstract description 47
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B5/00—Muffle furnaces; Retort furnaces; Other furnaces in which the charge is held completely isolated
- F27B5/06—Details, accessories or equipment specially adapted for furnaces of these types
- F27B5/16—Arrangements of air or gas supply devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/74—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material
- C21D1/767—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material with forced gas circulation; Reheating thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/74—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material
- C21D1/773—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material under reduced pressure or vacuum
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B5/00—Muffle furnaces; Retort furnaces; Other furnaces in which the charge is held completely isolated
- F27B5/06—Details, accessories or equipment specially adapted for furnaces of these types
- F27B2005/062—Cooling elements
- F27B2005/066—Cooling elements disposed around the fan
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B5/00—Muffle furnaces; Retort furnaces; Other furnaces in which the charge is held completely isolated
- F27B5/06—Details, accessories or equipment specially adapted for furnaces of these types
- F27B5/14—Arrangements of heating devices
- F27B2005/143—Heating rods disposed in the chamber
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、ガス冷式真空炉の炉内に冷却ガスを循環さ
せることによって、高温状態の炉内を急速に冷却するガ
ス冷却装置に関する。
せることによって、高温状態の炉内を急速に冷却するガ
ス冷却装置に関する。
まず、崖ス冷式真空炉九ついて説明すると、この炉はい
わゆるガス冷却式の真空熱処理炉であって、高温状態の
炉内が冷却ガスの循環によって急速に冷却されるもので
ある。
わゆるガス冷却式の真空熱処理炉であって、高温状態の
炉内が冷却ガスの循環によって急速に冷却されるもので
ある。
従来、このような炉のガス冷却装置は、第３図（ａ）、
（ｂ）Ｋ表わされるように構成されていた。同図（ｅ）
の装置は、品物人を収めた炉の加熱室Ｒ内に図中の矢印
方向から冷却ガスを強制循環させる７アン１と、このフ
ァン１の前側に備えられてファン１に入る冷却ガスを冷
却するクーラー２を有する構成とされている。一方、同
図（ｂ）の装置は、同図（、）の装置におけるクーラー
２をファン１の後側に備えて、その・７−ア、・ンーＰ
から出る冷却ガスを冷却する構成とされている。
（ｂ）Ｋ表わされるように構成されていた。同図（ｅ）
の装置は、品物人を収めた炉の加熱室Ｒ内に図中の矢印
方向から冷却ガスを強制循環させる７アン１と、このフ
ァン１の前側に備えられてファン１に入る冷却ガスを冷
却するクーラー２を有する構成とされている。一方、同
図（ｂ）の装置は、同図（、）の装置におけるクーラー
２をファン１の後側に備えて、その・７−ア、・ンーＰ
から出る冷却ガスを冷却する構成とされている。
ところが、これら両者の装置にあっては、それぞれ次の
ような問題があった。
ような問題があった。
すなわち、前者の装置は、ファン１に入る冷却ガスをク
ーラー２によって冷却して一定温度に保てるものの、フ
ァン１０ジユール熱によって冷却ガスが加熱されるため
、冷却ガスはある温度以下には下がらない。したがって
、特に５炉内の冷却が進んで冷却の末期となったときに
冷却速度が遅くなる。一方、後者の装置は、ブーアンＩ
からの冷却ガス管クーラー２によって冷却してその温度
を下げるため、冷却の末期となったときの冷却効率は良
い。ところが、ファン１に入る冷却ガスの温度が冷却の
開始時点と終シの時点では大きく異なシ、特に、冷却初
期においては、冷却ガスが高温で低密度であるために７
アン１の効率が悪い。
ーラー２によって冷却して一定温度に保てるものの、フ
ァン１０ジユール熱によって冷却ガスが加熱されるため
、冷却ガスはある温度以下には下がらない。したがって
、特に５炉内の冷却が進んで冷却の末期となったときに
冷却速度が遅くなる。一方、後者の装置は、ブーアンＩ
からの冷却ガス管クーラー２によって冷却してその温度
を下げるため、冷却の末期となったときの冷却効率は良
い。ところが、ファン１に入る冷却ガスの温度が冷却の
開始時点と終シの時点では大きく異なシ、特に、冷却初
期においては、冷却ガスが高温で低密度であるために７
アン１の効率が悪い。
このように、前者の装置にあっては冷却末期の冷却効率
が悪く、後者の装置にあっては冷却初期の冷却効率が悪
い。
が悪く、後者の装置にあっては冷却初期の冷却効率が悪
い。
この発明は、炉内の冷却初期の時点から冷却末期の時点
までの冷却サイクルの全域について、高い冷却効率を保
つことができるガス冷式真空炉のガス冷却装置を提供す
ることを目的とする。
までの冷却サイクルの全域について、高い冷却効率を保
つことができるガス冷式真空炉のガス冷却装置を提供す
ることを目的とする。
〔発明の構成〕
この発明によるガス冷式真空炉のガス冷却装置は、冷却
ガスを炉内にて強制循環させる７アンと、このファンの
前側に備えられて該ファンに入る冷却ガスを冷却するイ
ンナークーラーと、ファンの後側に備見られて該ファン
から出る冷却ガスを冷却するアウタークーラーとを有し
てなるものである。
ガスを炉内にて強制循環させる７アンと、このファンの
前側に備えられて該ファンに入る冷却ガスを冷却するイ
ンナークーラーと、ファンの後側に備見られて該ファン
から出る冷却ガスを冷却するアウタークーラーとを有し
てなるものである。
以下、この発明の一実施例ｆ：第１図および第２図に基
づいて説明する。
づいて説明する。
図中１１はガス冷式真空炉の本体であシ、その前側（第
１図中左側）Ｋは炉蓋１２が備えられている。本体１１
の内部には、断熱壁１３によって加熱室Ｒが形成されて
いて、この加熱室Ｒ内に入れた品物Ａをヒーター１４に
よって加熱するようになっている。１５．１６は、それ
ぞれ加熱室Ｒを開閉可能なドアである。本体１内の後側
（第１図中左側）には、七−夕１７によって回転駆動さ
れるファン１８が備えられている。この７アン１８は、
加熱室Ｒの加熱後に炉内に導入される冷却ガスを炉内に
て強制循環させるものである。その循環路は、第１図中
の矢印方向に、沿うものでおり、ファン１８によって加
圧され九冷却ガスを加熱室Ｒの外側から炉内の前側に送
り、そして加熱室Ｒの前側からその加熱室Ｒ内を通して
、再び加熱室Ｒの外側に送る一連の経路となる。
１図中左側）Ｋは炉蓋１２が備えられている。本体１１
の内部には、断熱壁１３によって加熱室Ｒが形成されて
いて、この加熱室Ｒ内に入れた品物Ａをヒーター１４に
よって加熱するようになっている。１５．１６は、それ
ぞれ加熱室Ｒを開閉可能なドアである。本体１内の後側
（第１図中左側）には、七−夕１７によって回転駆動さ
れるファン１８が備えられている。この７アン１８は、
加熱室Ｒの加熱後に炉内に導入される冷却ガスを炉内に
て強制循環させるものである。その循環路は、第１図中
の矢印方向に、沿うものでおり、ファン１８によって加
圧され九冷却ガスを加熱室Ｒの外側から炉内の前側に送
り、そして加熱室Ｒの前側からその加熱室Ｒ内を通して
、再び加熱室Ｒの外側に送る一連の経路となる。
７７ン１８の前側、つまり７アン１８への冷却ガスの入
口側には、ファン１８に入る冷却ガスを冷却するインナ
ークーラー１９が備えられ、またファン１８の後側、り
まシフアン１８からの冷却ガスの出口側には、ファン１
８から出る冷却ガスを冷却するアウタークーラー２０が
備えられている。これら両クーラー１９．２０の間はバ
ックル２１によって仕切られている。
口側には、ファン１８に入る冷却ガスを冷却するインナ
ークーラー１９が備えられ、またファン１８の後側、り
まシフアン１８からの冷却ガスの出口側には、ファン１
８から出る冷却ガスを冷却するアウタークーラー２０が
備えられている。これら両クーラー１９．２０の間はバ
ックル２１によって仕切られている。
しかして、本ガス冷却装置によって炉内を冷却するＩＣ
Ｆｉ、加熱完了後の高温状態の炉内に冷却ガスを導入し
て７７ン１８を駆動し、これによって冷却ガスを炉内に
て循環させる。そして、両クーラー１９，２０１１Ｃよ
って、ファン１８１Ｃ入る冷却ガスとファン１８から出
る冷却ガスを冷却する。
Ｆｉ、加熱完了後の高温状態の炉内に冷却ガスを導入し
て７７ン１８を駆動し、これによって冷却ガスを炉内に
て循環させる。そして、両クーラー１９，２０１１Ｃよ
って、ファン１８１Ｃ入る冷却ガスとファン１８から出
る冷却ガスを冷却する。
インナークーラー１９は、加熱ＷＬＲ内を通って熱を吸
収してきた冷却ガスを冷却してその熱を奪い、一定の低
い温度としてファン１ｓｔｃ送る。したがつて、炉内の
冷却初期の時点において、ファン１８に入る冷却ガスが
特に高温、低密度となることがない。この結果、冷却初
期の時点におけるファン１８の効率低下が回避されるこ
とになる。一方、アウタークーラー２０は、ファン１８
０ジユール熱忙よって加熱されて出てくる冷却ガスを再
び冷却してそのジュール熱を奪う。したがって、炉内の
冷却末期の時点においても冷却ガスが充分に低い温度に
下けられることになる。
収してきた冷却ガスを冷却してその熱を奪い、一定の低
い温度としてファン１ｓｔｃ送る。したがつて、炉内の
冷却初期の時点において、ファン１８に入る冷却ガスが
特に高温、低密度となることがない。この結果、冷却初
期の時点におけるファン１８の効率低下が回避されるこ
とになる。一方、アウタークーラー２０は、ファン１８
０ジユール熱忙よって加熱されて出てくる冷却ガスを再
び冷却してそのジュール熱を奪う。したがって、炉内の
冷却末期の時点においても冷却ガスが充分に低い温度に
下けられることになる。
このように、インナークーラー１９は、特に冷却初期の
時点で大きな効果を発揮し、一方、アクタ−クーラー２
０は、％に冷却末期の時点で大きな効果を発揮する。こ
の結果、炉内の冷却初期の時点から冷却末期の時点まで
の冷却サイクルの全範囲における冷却効率が常に高い状
態に保たれるととくなシ、加熱室Ｒ内の品物人が急速忙
冷却される。
時点で大きな効果を発揮し、一方、アクタ−クーラー２
０は、％に冷却末期の時点で大きな効果を発揮する。こ
の結果、炉内の冷却初期の時点から冷却末期の時点まで
の冷却サイクルの全範囲における冷却効率が常に高い状
態に保たれるととくなシ、加熱室Ｒ内の品物人が急速忙
冷却される。
ところで、例えは品物人の温度が１２００’Ｃのとき、
加熱室Ｒから出る冷却ガスの温度は６００℃程度、イン
ナークーラー１９の出口では２００”Ｃ程度、アウター
クーラー２０の出口では１５０℃程度となり、ファン１
８の温度が２００℃を越えることはない。したがって、
ファン１８の運転状態は常に安定している。また、ファ
ン１８はジュール熱によって冷却ガスを３０゛Ｃ程度上
昇させる。
加熱室Ｒから出る冷却ガスの温度は６００℃程度、イン
ナークーラー１９の出口では２００”Ｃ程度、アウター
クーラー２０の出口では１５０℃程度となり、ファン１
８の温度が２００℃を越えることはない。したがって、
ファン１８の運転状態は常に安定している。また、ファ
ン１８はジュール熱によって冷却ガスを３０゛Ｃ程度上
昇させる。
しかし、このジュール熱はアウタークーラー２０によっ
て奪われる。
て奪われる。
第２図に、炉内の各ＷＫおける温度変化を冷却時間に対
応して表わす。同図中曲線Ｉは品物人の温度、曲線ｌは
加熱室Ｒ出口の冷却ガス温度、曲線１ｔｌｉ７アン１Ｂ
の出口側の冷却ガス温度、曲線Ｗｔｉファン１８０入口
側の冷却ガス温度、曲線■は加熱室Ｒ入口の冷却ガス温
度の変化曲線である。
応して表わす。同図中曲線Ｉは品物人の温度、曲線ｌは
加熱室Ｒ出口の冷却ガス温度、曲線１ｔｌｉ７アン１Ｂ
の出口側の冷却ガス温度、曲線Ｗｔｉファン１８０入口
側の冷却ガス温度、曲線■は加熱室Ｒ入口の冷却ガス温
度の変化曲線である。
なお、両クーラー１９．２０の容量は、ファン１８０入
口側が７０〜８０％となるようにするのが最も効果的で
あった。
口側が７０〜８０％となるようにするのが最も効果的で
あった。
以上説明したように、この発明によるガス冷式真空炉の
ガス冷却装置は、炉内にて冷却ガスを強制循環させるフ
ァンの前側と後側のそれぞれにり一う−を備えて、７ア
ンに入る冷却ガスとファンから出る冷却ガスを冷却する
構成であるから、ファンに入る冷却ガスを一定の温度に
冷却し、かつファンのジュール熱を奪って充分に冷却し
た冷却ガスを炉内圧送シ出すことができ、この結果、炉
内の冷却初期の時点から冷却末期の時点までの冷却サイ
クルの全域について高い冷却効率を保って炉内を急速に
冷却させることができる。
ガス冷却装置は、炉内にて冷却ガスを強制循環させるフ
ァンの前側と後側のそれぞれにり一う−を備えて、７ア
ンに入る冷却ガスとファンから出る冷却ガスを冷却する
構成であるから、ファンに入る冷却ガスを一定の温度に
冷却し、かつファンのジュール熱を奪って充分に冷却し
た冷却ガスを炉内圧送シ出すことができ、この結果、炉
内の冷却初期の時点から冷却末期の時点までの冷却サイ
クルの全域について高い冷却効率を保って炉内を急速に
冷却させることができる。
第１図は本発明のガス冷却装置を備えたガス冷式真空炉
の縦断面図、第２図は第１図のガス冷式真空炉をガス冷
却したときの炉内各部の温度変化の特性図、第５図（ａ
、ｌ、（ｂ）Ｆｉそれぞれ従来のガス冷却装置の異なる
例を表わすブロック構成図である。 １１・・・・・・本体、１８・・・・・・７アン、１９
・・・・・・インナークーラー、２０・・・・・・アウ
タークーラー。 第１図 第２図 ＝Ｃ 第３図
の縦断面図、第２図は第１図のガス冷式真空炉をガス冷
却したときの炉内各部の温度変化の特性図、第５図（ａ
、ｌ、（ｂ）Ｆｉそれぞれ従来のガス冷却装置の異なる
例を表わすブロック構成図である。 １１・・・・・・本体、１８・・・・・・７アン、１９
・・・・・・インナークーラー、２０・・・・・・アウ
タークーラー。 第１図 第２図 ＝Ｃ 第３図
Claims (1)
- 高温状態の炉内に冷却ガスを循環させて炉内を急速に冷
却するガス冷式真空炉において、冷却ガスを炉内にて強
制循環させるファンと、このファンの前側に備えられて
該ファンに入る冷却ガスを冷却するインナークーラーと
、ファンの後側圧備えられて該７７ンから出る冷却ガス
を冷却するアウタークーラーとを有してなることｔ−特
徴とするガス冷式真空炉のガス冷却装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11709484A JPS60262914A (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | ガス冷式真空炉のガス冷却装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11709484A JPS60262914A (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | ガス冷式真空炉のガス冷却装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60262914A true JPS60262914A (ja) | 1985-12-26 |
Family
ID=14703244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11709484A Pending JPS60262914A (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | ガス冷式真空炉のガス冷却装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60262914A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62194752U (ja) * | 1986-05-31 | 1987-12-11 | ||
| US6365877B1 (en) * | 2000-11-07 | 2002-04-02 | Industrial Technology Research Institute | Blackbody furnace |
| CN100591778C (zh) | 2007-09-07 | 2010-02-24 | 上海中加电炉有限公司 | 热风循环烘箱 |
| JP2013181222A (ja) * | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Dowa Thermotech Kk | ワークのガス冷却装置 |
| CN105618884A (zh) * | 2016-02-26 | 2016-06-01 | 沈阳广泰真空科技有限公司 | 一种金刚石颗粒钎焊用卧式真空炉 |
| CN108895830A (zh) * | 2018-07-11 | 2018-11-27 | 昆山金美创机械有限公司 | 一种适用于led半导体真空烘烤炉 |
-
1984
- 1984-06-07 JP JP11709484A patent/JPS60262914A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62194752U (ja) * | 1986-05-31 | 1987-12-11 | ||
| US6365877B1 (en) * | 2000-11-07 | 2002-04-02 | Industrial Technology Research Institute | Blackbody furnace |
| CN100591778C (zh) | 2007-09-07 | 2010-02-24 | 上海中加电炉有限公司 | 热风循环烘箱 |
| JP2013181222A (ja) * | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Dowa Thermotech Kk | ワークのガス冷却装置 |
| CN105618884A (zh) * | 2016-02-26 | 2016-06-01 | 沈阳广泰真空科技有限公司 | 一种金刚石颗粒钎焊用卧式真空炉 |
| CN108895830A (zh) * | 2018-07-11 | 2018-11-27 | 昆山金美创机械有限公司 | 一种适用于led半导体真空烘烤炉 |
| CN108895830B (zh) * | 2018-07-11 | 2019-12-06 | 昆山金美创机械有限公司 | 一种适用于led半导体真空烘烤炉 |
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