JPS60263000A - 電着装置 - Google Patents

電着装置

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Publication number
JPS60263000A
JPS60263000A JP11706684A JP11706684A JPS60263000A JP S60263000 A JPS60263000 A JP S60263000A JP 11706684 A JP11706684 A JP 11706684A JP 11706684 A JP11706684 A JP 11706684A JP S60263000 A JPS60263000 A JP S60263000A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
substrate
electrodeposition
suction cup
defective
Prior art date
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Pending
Application number
JP11706684A
Other languages
English (en)
Inventor
Kunihiro Fujiwara
藤原 邦弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP11706684A priority Critical patent/JPS60263000A/ja
Publication of JPS60263000A publication Critical patent/JPS60263000A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/24Reinforcing of the conductive pattern
    • H05K3/241Reinforcing of the conductive pattern characterised by the electroplating method; means therefor, e.g. baths or apparatus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/06Suspending or supporting devices for articles to be coated
    • C25D17/08Supporting racks, i.e. not for suspending

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、例えば回路基板および半導体基板等の基板
表面に金属膜を形成する際に使用される電着装置1:関
する。
〔発明の技術的背景〕
一般に、回路基板の表面に金属膜を形成するには、例え
ば$2図に示すような、薬液中のイオン移動を利用した
電着装置が使用される。すなわち、例えばウェハ状の基
板1ノを、吸盤電極12の吸着面13にバキューム(真
空圧)により吸着固定し電着液14中穫;浸すと共に、
吸盤電極12にはDC(直流)電源装置15からマイナ
ス電圧Hを印加する。そして、上記DC電源装置15か
らプラス電圧用の印加された電界棒16を上記′tIl
看液14中に浸す。これにより、電着液14中の金属イ
オンを矢印aおよびbで示すように移動させ、基板11
面に金属膜を形成している。
この場合、吸盤電極12と基板1ノとの接触状態が悪く
、電気的導通が完全でないと、金属イオンを基板11に
対して充分な量で移動させることができないため、吸盤
電極12と基板11との電気的接触状態は、予め電着前
の大気中にてチェックされる。
〔背景技術の問題点〕
しかしこのような電着装置C:あっては、電着液14中
における基板と吸盤電極12との電気的接触状態を監視
することができないため、例えば電着中に基板11と吸
盤電極12との接触状態が低下した場合でも、そのまま
電層は継続されるようになり、充分な金属膜の形成され
ない品質の低い回路基板が形成されてしまう。
〔発明の目的〕
この発明は上記のような間O点に鑑みてなされたもので
、例えば電着中に基板と吸盤電極との接触状態が低下し
た場合でも、その接触低下状態を監視することができ、
電層後の基板の品質低下を未然C二防止できるようにな
る141岩装置を提供すること2目的とする。
〔発明の概要〕
すなわちこの発明に係る亀!装置は、吸盤電極の基板吸
着面内(二電気的に絶縁した副電極を露出して設は上記
吸盤電極と副電極との導通性を常にチェックするように
したものである。
〔発明の実施例〕
以下図面(二よりこの発明の一実施例を説明する。
第1図はその構成を示すもので、この電層装置は吸盤電
極2)を倫えている。この吸盤電極21(二はその基板
吸着面22に連通する複数のバキューム孔23a、23
b、・・・が形成されるもので、この基板吸着面22の
中央部には、露出する副電極24を設ける。この晶り電
極24の先端部24aは、吸着する基板1)との電気的
接触性の高信頼度を得るために例えばノコギリピン状(
二形成されるもので、この副電極24は上記吸盤電極2
)の内部にて円筒形の絶縁材料25+二より絶縁支持さ
れる。次に、吸盤電極2ノと副電極24との間には、電
線を導出して通電チェック端子26を設け、この端子2
6と上記副電極24との間(−は、通電チェックスイッ
チ27!介在する。このチェックスイッチ27のオフ時
には、上記吸盤電極21と副電極24とが短絡するよう
に構成する。そして、吸盤電極2)をDC(直流)電源
装置15のマイナス端子(@(二接続し、この電源装置
15のグラス端子(+(二は電界棒16を接続する。
すなわちこのように構成される′J!着装着装腕いて、
回路基板の電着を行なう(−は、まず、基板111に吸
盤電極2ノの吸着面22にバキュームこより吸着固定す
る。そして、吸盤電極21と電界棒16とを対向した状
態で電着液14中に浸す。これ(二より、電着液14中
の金属イオンは矢印aおよびbで示すよう(二移動し、
基板11表面に付着するようになる。ここで、通電チェ
ック端子26に電流計等!接続し、通電チェックスイッ
チ27fオンすることにより、電流計には吸盤11E梯
2ノと副電極24との導通性、つまり、副電極24と基
板1ノとの接触信頼性は高いので、吸盤電極2ノと基板
1ノとの電気的接触性(二対応した磁流量が示されるよ
うになる。すなわち、例えば吸盤電極2ノと基板11と
の接触性が低下した場合(:は、通電チェック端子26
に流れる電流量が低減したことにより、その接触性の低
下が知らされるようになり、そのままの接触不良状態で
電着を継続してしまうことはない。
尚、上記実施例では、通電チェック時においても、電着
用のDC’シ源装置15fL−利用しているが、例えば
破線Xで囲って示すような通電チェック専用の電源部を
設け′Cもよい。この場合、第1図の例では、26′で
示す様に、通電チェック端子の極性は、上記実施例と異
なる。
〔発明の効果〕
以上のようにこの発明によれば、電着中においても吸盤
電極と基板との接触不良を早期発見することができ、基
板(二対して電着不良を生じさせることなく、品質の低
下を未然に防止することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例に係る′@着装置を示す構
成図、第2因は従来の電着装置を示す構成図である。 1)・・・基板、21・・・吸盤電極、22・・・基板
吸着面、23a、23b、・・・バキューム孔、24・
・・副電極、25°・・絶縁材料、26.26’・・・
通電チェック端子、27・・・通電チェックスイッチ。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 複数のバキューム孔が形成された基板吸着面を有する吸
    盤電極と、この吸盤電極の基板吸着面に絶縁露出して設
    けられる副電極と、上記吸盤電極と副電極との導通性を
    チェックする回路手段とを具備したことを特徴とする電
    着装置。
JP11706684A 1984-06-07 1984-06-07 電着装置 Pending JPS60263000A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11706684A JPS60263000A (ja) 1984-06-07 1984-06-07 電着装置

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11706684A JPS60263000A (ja) 1984-06-07 1984-06-07 電着装置

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JPS60263000A true JPS60263000A (ja) 1985-12-26

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ID=14702576

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JP11706684A Pending JPS60263000A (ja) 1984-06-07 1984-06-07 電着装置

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