JPS60263147A - 現像液組成物 - Google Patents

現像液組成物

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Publication number
JPS60263147A
JPS60263147A JP11910584A JP11910584A JPS60263147A JP S60263147 A JPS60263147 A JP S60263147A JP 11910584 A JP11910584 A JP 11910584A JP 11910584 A JP11910584 A JP 11910584A JP S60263147 A JPS60263147 A JP S60263147A
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JP
Japan
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acid
photosensitive
ethylene glycol
developing
org
Prior art date
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Application number
JP11910584A
Other languages
English (en)
Inventor
Chiaki Nakamura
中村 千明
Kouji Oe
小江 紘司
Satoko Yugami
湯上 聡子
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DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd filed Critical Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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Publication of JPS60263147A publication Critical patent/JPS60263147A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322Aqueous alkaline compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、分子中に芳香核に隣接した感光性不飽和二重
結合とフェノール性水酸基を含有する感光性樹脂全感光
層中に含有する感光性画像形成材料の現像液組成物に関
するものである。
〔従来の技術〕
は、特異な光二量化反応をするため、従来より桂皮酸骨
格を分子の側鎖ないし主鎖に導入した種々の感光性樹脂
の検討が行なわれている。例えば、側鎖に桂皮酸骨格を
有するポリビニルアルコール、ポリエピクロルヒドリン
、ポリスチレン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂及び主鎖
に桂皮酸骨格を有するポリエステル、ポリアミドなどか
あジ、そのいくつかは実用化されている。例えば、ポリ
ビニルアルコールと、桂皮酸クロライドの反応により製
造されるポリ桂皮酸ビニル、フェニレンジアクリル酸ジ
エチルと、1.4−ジ−β−ヒドロキシエトキクシクロ
ヘキサンとの縮合によシ製造されるポリエステルがあり
、これらは印刷板、LSI素子などの画像形成材料とし
て利用されている。
前記の如き光二量化型感光性樹脂の中で、フェニレンジ
アクリル酸もしくはそのアルキルエステルとグリコール
との縮合によシ製造された分子主鎖中に桂F3L酸骨格
を有する感光性ポリエステル樹脂は、比較的高い光感度
を有すると言われている。
しかしながら、これらのW&光性樹脂線、有機浴剤に対
してのみ溶解性會示すため、これらの樹脂から作られた
感光層を現像する際には、現像液として有機溶剤が使用
されている。現像液として有機溶剤を使用する場合には
、現像作業性、作業環境の安全衛生性、経済性、大気汚
染等の公害防止などにおいて問題が多く、このため水性
現像液で現像可能な感光性樹脂の開発が望まれている。
本出願人は、先に、水性アルカリ現像液で現像可能で、
且つ、充分な光感度を有し、印刷版として使用した場合
に優れた耐刷性及び感脂性を有する感光性画は形成材料
?特願昭59−59591で提案した。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明の目的は、分子中に芳香核に隣接した感光性不飽
和二重結合とフェノール性水酸基全含有する感光性樹脂
を感光層中に含有する水性アルカリ現像液で現像可能な
感光性画像形成材料の現像液組成物として、最も良好な
現像性を有する現像液組成物を提供することKある。
〔問題を解決するための手段〕
本発明は上記の画像形成材料の現像液組成物として、ベ
ンジルアルコール、α−メチルベンジルアルコール、エ
チレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリ
コールモノフェニルエーテルより成る群から選ばれる少
なくとも1111の有機溶剤とアルカリ剤を含有する水
性現像液組成物を提供する吃のである。
本発8AKおける芳香核に隣接した感光性不飽和二重結
合とフェノール性水酸基全含有する感光性樹脂をアルカ
リ性水塔液だけで現像するのは一般に極めて困難である
ため、有機溶剤を使用せざるお兄ない。しかし、前に本
述べたように有機溶剤の使用は、大気汚染等の作業環境
に与える影響などから考えて好1しくない。このような
社会的要請を達成するためKは、該感光性樹Hf1K対
する溶解性が極めて高く、且つ、揮発性の低い有機酸剤
を見い出す事が必要であるが、このような2つの性質を
合わせ持つ有機溶剤は限定されて来る。本発明の現像液
組成物に必須的に含まれるベンジルアルコール、α−メ
チルベンジルアルコール、エチレングリコールモノベン
ジルエーテル及びエチレングリコールモノフェニルエー
テルは、いずれも前記したような2つの性質を合わせも
つ有機溶剤である。従って、これら必須成分の有機溶剤
の含有!#は、現像液組成物中11童%で光分であって
、その上限は強いて限定されないが、現像作業性、作業
環境の安全衛生性、大気汚染等の公害防止などの観点か
ら20重蓋%以下が好ましい。
本発明の現像液組成物はアルカリ性の水浴液であり、ア
ルカリ剤とし1μ、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、メ
タ珪酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重
炭酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カ
リウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリン酸ナトリウ
ム、第二リン酸カリウム%第ニリン散アンモニウム、硼
酸ナトリウム、硼酸アンモニウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等の無機
アルカリ:および、モノエタノールアミン、ジェタノー
ルアミン、トリエタノールアミン、2−ジエチルアミノ
エタノール、エチレンジアミン等の有機アミン:等があ
九これらは単独もしぐは2種以上混合して使用できる。
現像液組成物中のアルカリ剤の含有量は最終的な現像液
組成物の液性がアルカリ性となるような鎗が含有されて
いれば、特にその制限はないが、好ましくは、現像液組
成物の0.05〜10重量%の範囲で用いるのが好適で
あり、より好ましくは0.1〜5Nit%である。0.
051r蓋%以下では、未硬化感光層の除去がしにくく
なり、10重量%以上ではアルミニウム等の金属支持体
への腐食作用が強くなり支持体の強度が低下する傾向に
あるし、ま九、露光部分の機械的、化学的な強度も低下
する傾向にある。
本発明で使用される現像液には、必須成分の有機溶剤の
J 7″カリ水溶液に対する混和性の向上・現像液の未
露光部感光層に対する浸透性の向上等の現倫促進のため
に界面活性割管含有させることができる。
界面活性剤としては、アニオン型界面活性剤、ノニオン
型界面活性剤、及び両性型界面活性剤が使用でき、アニ
オン型界面活性剤としては、例えば、ラウリルアルコー
ルサルフェートのナトリウム塩、オクチルアルコールサ
ルフェートのナトリウム塩等の高級アルコール硫酸エス
テル塩;セチルアルコール燐酸エステルのナトリウム塩
等の脂肪族アルコール燐酸エステル塩;ドデシルベンゼ
ンスルホン酸のナトリウム塩、インプロピルナフタ1/
ンスルホン醪のナトリウム塩等のアルキルアリールスル
ホン酸塩;ジ(2−エチルヘキシル)スルホコハク酸の
ナトリウム塩等の二塩基性脂肪酸エステルのスルホン酸
塩;アルキルアミドのスルホン酸塩;ナフタレンスルホ
ン酸塩のホルマリン縮合物等がある。ノニオン型界面活
性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテ
ル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビ
タンアルキルエステル類、ポリオキシエチレンポリオキ
シプロピレンエーテル類1等がある。
両性型界面活性剤としては、例えば、イミダシリン誘導
体、ベタイン型化合物等が有る。これらの界面活性剤は
、単独もしくは2s以上混合して使用でき、また、使用
量は特に限定されるものではないが、好ましい範囲は、
現像液組成物の10]1量%以下である。
また、露光部の膨潤防止、未露光部分の樹脂の溶解性の
調整、および、必須成分の有機溶剤のアルカリ水酸液に
対する混和性の向上等を目的として、必須成分以外の有
機溶剤も必要に応じて含有させることができる。
本発明において使用できる他の有機酸媒としては、例え
ば、ジアセトンアルコール、テトラヒドロフルフリルア
ルコール、n−7”ロビルアルコール、シクロヘキサノ
ール。
エチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセ
リン、乳酸メチル、乳酸エチル等のアルコール糸敵媒;
エチレンクリコール七ツメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブ
チルエーテρ1ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエ
チレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレング
リコールモノエチルエーテル等のグリコールモノアルキ
ルエーテル系醪媒;エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート等のグリコールモノアルキルエーテル
アセテート系醍媒;テトラヒドロフラン、ジオキサン、
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒;メチルエ
チルケトン、メチルインブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、4−メチル−4−メトキシ−2−ペンタノン等のケ
トン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢
酸さンジル、レブリン酸メチル、レブリン酸エチル等の
エステル系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、N−メチルピロリドン等の含窒素系溶媒など
がお先これらは単独または2種以上混合して使用できる
これらの有機溶媒の使用量は特に限定されるものではな
いが好ましい範囲は、現像液組成物の15重量%以下で
ある。
更に、消泡剤、湿潤剤、親油性改良剤等の添加剤を必要
に応じて含有させることができる。
以上のようにして調製された本発明の現像液組成物は分
子中に芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合とフェノ
ール性水酸基を含有する感光性樹脂を感光層に含有する
感光性画像形成材料の現像の際に使用されるものである
前記感光性樹脂は、例えば、次のような方法、fil芳
香核に隣接した感光性不飽和二重結合を有するジカルボ
ン酸(以下、感光性不飽和ジカルボン酸という。)及び
フェノール性水酸基を有するジカルボン酸又はそれらの
誘導体を含む多価カルボン酸成分と多価アルコール成分
kj3L応させることにより得る方法: (2)感光性
不飽和ジカルボン酸及びフェノール性水酸基を有するジ
カルボン酸又はそれらの誘導体倉吉む多価カルボン酸成
分と多価アルコール成分をアルコール性水酸基がカルボ
キシル基に対して過剰となる割合で反応させることによ
りアルコール性水酸基を有するポリエステルを製造し、
次いでこのポリエステルにフェノール性水酸基よりアル
コール性水酸基に対して高い反応性を有する官能基金分
子中に少なくとも2個有する鎖伸長剤を反応させること
により得る方法、で製造することができ感光性不飽和ジ
カルボン酸としては、例えば、下記一般式+11〜(7
)で表わされるジカルボン酸を挙げることができ、これ
らジカルボン酸の誘導体としては、これらジカルボン酸
のジメチルエステル、ジエチルエステルの如きジアルキ
ルエステル、ジ(エチレングリコール)エステル、ジ(
プロピレングリコール)エステルの如キジ(アルキレン
グリコール)エステルやジカルボン酸クロライドの如き
ジカルボン酸ハライド等を挙げることができる。
・・・・・・(3) (上記一般式(11〜(7)中、R1及びRrはそれぞ
れ水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4
のアルコキシル基、ハロゲン原子又はニトロ基金表わし
、R2は炭素数2〜4のアルキレン基を表わし、lは1
〜5の整数を表わし、nは1〜4の整数を表わし、mは
」〜5の整数を表わす。)上記のジカルボン酸又はその
誘導体の好適例としてp −フェニレンジアクリル酸2
m−フェニレイジ7り!Jル酸。
2.5−ジメトキシ−p−フェニレンジアクリル酸、2
−二トローp−フ二二レンジアクリル酸、p−カルボキ
シ桂皮W1%シンナミリデンマロン酸、ビス(p−II
[酸)ジエチレンクリコールエーテル、ビス(p−カル
ボキシベンザル)シクロヘキサノン、ビス(p−カルボ
キシベンザル)シクロペンタノン、p、p’−力ルコン
ジカルボン醒等のジカルボン酸又はその誘導体を挙げる
ことができる。
フェノール性水酸基を有するジカルボン酸としては、例
えば、下記一般式(8)〜a2で表わされる単位を挙げ
ることができる。
<gs)j ・・・・・・(8) (Rs)g (OR)h (O)i)h’ (上記一般式(8)−aa中、R1は、水素原子、炭素
数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシル基
、ハロゲン原子又は−トロ基を表わし%R4及びR1は
水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、又はシアノ基を表
わし、lは1〜5の整数全表わし、jけ(5−i)の整
数を表わし、には0又は1を表わし、fはO又は1を表
わし、h及びh′は1〜4の整数を表わし、gは(4−
h)の整数を表わし、g’ti(4−h’)の整数を表
わし、Xは炭素数1〜乙のアルキレンυ フェノール性水酸基金有するジカルボン酸及びその誘導
体としては、例えば、4−ヒドロキシベンジリデンマロ
ン酸、3−ヒドロキシベンジリデンマロン酸、3.4−
ジヒドロ中ジベンジリデンマロン醪、4−ヒドロキシ−
5−メトキシベンジリデンマロン酸、5−ヒドロキシ−
4−メトキシベンジリデンマロン酸、4−ヒドロキシ−
6−二トロペンジリデンマロン醪、4−ヒドロキシシン
ナミリデンマロン酸、6−ヒドロキシシンナミリデンマ
ロン酸、4−ヒドロキシ−3−メトキシシンナミリデン
マロン酸、4−ヒドロキシ−6−ニドロシンナミリテン
マロン酸等の如きジカルボン酸;6−ヒドロキシフタル
酸、4−ヒドロキシフタル酸、4−ヒドロキシイソフタ
ル酸、5−ヒドロキシイソフタル酸、ヒドロギシテレフ
タルr、3+6−シヒドロキシフタル酸、2.5−ジヒ
ドロキシイソフタル酸、4゜5−ジヒドロキシイソフタ
ル#2.5−ジヒドロキシテレフタル酸、2.5−ジヒ
ドロキシテレフタル酸、2,4゜6−ドリヒドロキシイ
ソフタル酸、4,5.6−)リヒドロキシイソフタl#
 4−ヒドロキク−5−二トロイソフタル酸、4−ヒド
ロキシ−5−クロロイソフタル酸、6−ビトロキシ−6
−メトΦシフタル@、2.4−ジヒドロキシー6−メチ
ルイソフタル酸等の如きジカルボン酸;3,5’−メチ
レンビス(4−ヒドロキシ安息香り、4,6′−ジヒド
ロキシ−6,3′−ビフェニルジカルボン酸、6.6’
−ジヒドロキシ−5,5′−ジメトΦシー5,3′−ビ
フェニルジカルボン酸、4.5−ジヒドロキシ−2,4
′−オキシジ安息香酸等の如きジカルボン酸;2−ヒド
ロキシ−p−ベンゼンニ酢酸、2 、5−ジヒドロキシ
−p−ベンゼンニ酢酸、α、α′−ジシアノー2,5−
ジヒドロキシ−p−ベンゼンニ酢酸、α、α′−ジニト
ロー2,5−ジヒドロキシ−p−ベンゼンニ酢酸、α、
α′−ジクロロー2,5−ジヒドロキシ−p−ベンゼン
ニ酢rI!、5−ヒドロキシ−m−フェニレンジ(オ中
シ酢酸)等の如き、ジカルボン酸;前記ジカルボン酸の
ジメチルエステル、ジエチルエステルの如きジアルキル
エステル;前記ジカルボン酸のジ(エチレングリコール
)エステル、ジ(プロピレングリコール)ニスチルの如
きジ(アルキレングリコール)エステル等金挙げること
ができる。
感光性樹脂の製造に際して上記の感光性不飽和ジカルボ
ン酸又はその誘導体と共に他の多価カルボン酸又はその
誘導体を併用することができ、このような化合物として
、コハクff、アジピン酸、アゼライン酸、セパチン酸
、フタル酸、イソフタル?!!1%テレフタル酸、テト
ラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラブロ
ムフタル酸、テトラクロルフタル酸、1.4−シクロヘ
キサンジカルボン階、マレイン酸、フマル酸、イタコン
酸、5−ナトリウムスルホインフタル酸、ハイミック酸
、カルボキシノルボルナン酢酸、トリメリット酸、ピロ
メリット酸等が挙けられる。
一方、多価アルコール成分としては、特に制限なく6釉
のものを使用でき1例えばエチレングリコール、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコール、プロピレン
グリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルク
リコール、1.5−ブチレングリコール、1.6−ヘキ
サンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール、2.2
.4−トリメチル−1,5−ベンタンジオール、1,4
−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、シク
ロヘキサンジメタツール、トリシクロデカンジメタツー
ル、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF1ビ
スフエノールAのエチレンオキサイド付加体、ビスフェ
ノールAのプロピレンオキサイド付加体、ビスフェノー
ルFのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールFの
グロビレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールAの
エチレンオキサイド付加体、水添ビスフェノール人のプ
ロピレンオキサイド付加体、トリシクロデカンジメタツ
ールのエチレンオキサイド付加体、トリシクロデカンジ
メタツールのプロピレンオキサイド付加体、5−ノルボ
ルネン−2,6−ジメタツール、5−ノルボルネン−2
,2−ジメタツール、トリメチロールプロパン、ペンタ
エリスリトール等會挙げることができる。
フェノール性水酸基よジアルコール性水酸基に対して高
い反応性を有する官能基全分子中に少なくとも2個有す
る鎖伸長剤としては、例えば、ジアリールオギザレート
化合物、ジアリールフタレート化合物、ジアリールカー
ボネート化合物およびテトラカルボン酸二無水物が績げ
られる。
ジアリールオギザレート化合物としては、下記 k式0
3で表わされる化合物、ジアリールフタレート化合物と
しては下記一般式Iで表わされる化合物、ジアリールカ
ーボネート化合物としては下記一般式(I9で表わされ
る化合物をそれぞれ挙げることができる。
00 0 0 RTO−C−0−R,−・−+149 1 (上記一般式ahas中、R6及びR7はそれぞれ独立
的に置換基を有してもよい芳香族炭化水素基を表わす。
)J できる。
デトラカルボン酷二無水物としては、下記一般式ai!
で表わされる化合物を挙げることができる。
0 0 (上記一般式ae中、R,Vi、少なくとも2個の炭素
原子を官有する4価の有機基を表わす。) 本発明で使用するテトラカルボン酸二無水物の好適例と
しては、ピロメリット酸二無水物、3,3’、 4.4
’−ヘンシフエノンテトラカルボン酸二無水物、3.3
’、 4.、i’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水
物、2.3,6.7−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物、1.d、5.8−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物% 4.41−スルホニルシフタル酸二無水物、
2,2−ビス(6,4−ジカルボキシフェニル)プロパ
ンニ無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エ
ーテルニ無水物、4.4’−C5,5’−(アルキルホ
スホリルジフェニレン)−ビス(イミノカルボニル)〕
シフタル酸二無水物、ヒドロキノンジアセテートとトリ
メリット酸無水物の付加体、ジアセチルジアミンとトリ
メリット酸無水物の付加体などの芳香族テトラカルボン
酸二無水物;5−(2,5−ジオキ、ソテトラヒドロフ
リル)−5−メチル−5−シクロヘキセン−1,2−ジ
カルボン酸無水物(大日本インキ化学工業■製、エピク
ロンB−4400)、ブタン−1,2,3,4−テトラ
カルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸
二無水物などの脂肪族テトラカルボン酸二無水物を挙げ
ることができる。
感光性画像形成材料は、一般に前記の感光性≠ナチ芳テ
#樹脂を適当な溶媒に溶解したものか、或は更に必要に
応じて増感剤、顔料、染料、充填剤、安定剤、架橋剤等
を添加したものを周知の方法によって支持体上に塗布乾
燥することにより製造できる。
支持体の具体例としては、アルミニウム板、亜鉛板、鋼
板、ステンレス鋼板、その他の金Pi4Jポリエチレン
テレフタレート、ポリカーボネート、セルロース誘導体
等の合成樹脂のシート状物や鈑状物:合成俯脂t−g融
塗布あるいは合成樹脂溶液を塗布した紐、合成樹脂に金
f%層を真空蒸着、ラミネートなどの技術により設けた
複合材料:シリコンウェハー等が挙げられる。
印刷版の支持体としては、機械的、化学的、電気化学的
に、粗面化したアルミニウム、銅、亜鉛等の金属板等が
使用され、この上に通常0.1〜2.5μの厚さを持つ
感光層が形成される。
本発明の現像液組成物による現像は、一般の作業手順に
従って行うことができる。例えば上記の感光性画像形成
材料の感光層にネガ画像による像露光を行って感光層の
露光部分を硬化させて不溶化せしめた後%感光層表面に
、現像液組成物を供給して、未露光部の樹脂組成物を支
持体表面から除去し、引続き水洗処理が施される。感光
性画像形成材料を印刷板に適用する場合は、上記のよう
な現像作業によって、未露光部の樹脂組成物を除去後、
引続き水洗及び/又は水系の不感脂化剤による処理が施
される。
水系の不感脂化剤としては、例えば、アラビアゴム、デ
キストリン、カルボキシメチルセルロース等の水溶性天
然高分子;ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン。
ポリアクリルη等の水溶性天然高分子等の水溶液で必要
に応じて、ぼや界面活性剤等が挙げられる。
以下、本発明を実施例FCより、具体的に説明するが、
不発BAはその要旨を越えない限9.以下の実施例に限
定されるものではない。
実施例及び比較例 p−フ二二レンジアクリル酸ジエチル005モル、4−
ヒドロキシベンジリデンマロノ酸ジエチル005モル、
ビスフェノールA(1モル)のエチレンオキtイト(6
,2−E−ル)付加体α1モル及ヒエチレングリコール
[11モルとから、感光性樹脂(llt平均分子112
2,000)を合成した。
(以下、樹脂Aという。) この樹脂A2019と、ジフェニルテレフタレート(鎖
伸長剤)1.2gを反応させて、感光性樹脂(!を平均
分子量51.200)’!−合成した。(以下、樹脂B
という。)樹脂A又はBの4重量%ジクロロエタン酸液
に、2−ベンゾイルメチレン−1−メチル−β−ナフト
チアゾリン(樹脂に対して5重量%)を加えて感光性樹
脂組成物を調整した。
ユ/11に(芽りを」ν′yr1江lイ(、fもθ郁へ
メしし丁ヒ力しミ啼シ4fg<前記のようにして得られ
た感光性画像形成材料にテストパターンのネガフィルム
を密着させ、これから11L離れた位置に設けた出力1
訳のメタルハライドランプ(岩崎電気−社製「アイドル
フィン100(ll)t−用いて露光した。
次いで、第1表に示した種々の組成の瑠像液に60秒間
浸漬し、その後、セルローススポンジで軽くふキトるこ
とによハ現像し、その現像性を評価した。次いで、水洗
により版面の現俸液奢除去し、不感脂化液(大日本イン
キ化学工業■社製「ディック不感脂化液DO−70J)
で処理して印刷版を製作した。このようにして製作され
た印刷版をオフセット印刷機罠取フ付け、平版印刷用標
準インキを用いて実際の平版印刷と同様の条件下で印刷
を行い、5万枚印刷した時点で網点のつぶれ、地汚れ等
が発生せずにNWMK忠実な印刷物が得られるが否がを
もって、印刷適性の評価を行った。
以上の各側の内容及び結果を第1表にまとめて掲た。
尚、表中の蒼1)及び簀2)は以下をて示す通りである
÷1)・・曲花王アトラス四社製、tert−ブチルナ
フタレンスルホン酸ナトリウム糸アニオン型界面活性剤
肴2)・・・・・・日光ケミカルズ■社製、ノニオン型
界面活件剤。
〔発明の効果〕
本発明の現像液組成物は、感光性不飽和二重結合とフェ
ノール性水酸基を含有する感光性樹脂を感光層中に含有
する感光性画像形成材料に対して極めて良好な現像性を
有するものであム印刷版の現像VC極めて有効なもので
あるが。
本発明の現像液組成物の用途は必ずしも印刷版の現像に
限鼠されるものでなく、例えば各種の微細加工のための
フォトレジストの現像液としても使用し得るものである
代理人 弁理士 高 橋勝利

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 分子中に、芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合
    とフェノール性水酸基を含有する感光性樹脂を感光層中
    に含有する感光性画像形成材料の現像液組成物において
    、該現像液組成物カヘンジルアルコール、α−メチルベ
    ンジルアルコール、エチレングリコールモノベンジルエ
    ーテル及びエチレングリコールモノフェニルエーテルよ
    り成る群から選ばれる少なくとも1種の有機酸剤を含有
    するアルカリ性水廖液であることを特徴とする現像液組
    成物。
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