JPS6026830B2 - 極めて微細なメツシユ部とスペ−サ−部を有するメツシユ製品の製造方法 - Google Patents
極めて微細なメツシユ部とスペ−サ−部を有するメツシユ製品の製造方法Info
- Publication number
- JPS6026830B2 JPS6026830B2 JP52120006A JP12000677A JPS6026830B2 JP S6026830 B2 JPS6026830 B2 JP S6026830B2 JP 52120006 A JP52120006 A JP 52120006A JP 12000677 A JP12000677 A JP 12000677A JP S6026830 B2 JPS6026830 B2 JP S6026830B2
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- Japan
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- mesh
- metal plate
- photoresist
- parts
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- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は極めて微細なメッシュ部とスベーサー部を有す
るメッシュ製品の製造方法に関するものである。
るメッシュ製品の製造方法に関するものである。
従来デジタル表示管のコントロールグリツド、撮像管の
コントロールグリッド、通常の真空管のアノードまたは
カソード、精度の高い金属製フィルターなどに極めて微
細なメッシュ部とスベーサー部を有するメッシュ製品が
使用されていることは知られている。
コントロールグリッド、通常の真空管のアノードまたは
カソード、精度の高い金属製フィルターなどに極めて微
細なメッシュ部とスベーサー部を有するメッシュ製品が
使用されていることは知られている。
一般に、か）る製品は従来デジタル表示管のコントロー
ルグリッドを例にとって説明すれば、厚さを５０ｒ前後
の金属板を用いてフオトェッチング法により線中３０ム
前後に加工し、これを厚さ０．２肋前後の金属板にて作
製されたスベーサーに点溶接して製造されている。
ルグリッドを例にとって説明すれば、厚さを５０ｒ前後
の金属板を用いてフオトェッチング法により線中３０ム
前後に加工し、これを厚さ０．２肋前後の金属板にて作
製されたスベーサーに点溶接して製造されている。
この方法によるときは、メッシュ部に対す製造技術の著
しい進歩の結果としてメッシュ部の製造の歩留り、品質
などは向上したけれども、スベーサー部にこのメッシュ
部を点溶接する工程において点溶接速度が遅く「 メッ
シュ部の破損、変形が起り、この点において歩留りが悪
く、この工程の合理化が非常に望まれているが未だ解決
されるには至っていない。
しい進歩の結果としてメッシュ部の製造の歩留り、品質
などは向上したけれども、スベーサー部にこのメッシュ
部を点溶接する工程において点溶接速度が遅く「 メッ
シュ部の破損、変形が起り、この点において歩留りが悪
く、この工程の合理化が非常に望まれているが未だ解決
されるには至っていない。
本発明者は上記の点に鑑み、点溶接工程を全く省略して
メッシュ製品を製造することを企図し、種々研究を重ね
た結果フオトェッチング法のみによってメッシュ製品と
を製造することに成功したのである。
メッシュ製品を製造することを企図し、種々研究を重ね
た結果フオトェッチング法のみによってメッシュ製品と
を製造することに成功したのである。
即ち、本発明はスベーサー部の厚さを有する金属板の一
方に面に形成しようとするメッシュ部の形状と同様の形
状のフオトレジストと形成しようとするスベーサー部の
形状と同様の形状のフオトレジストを形成し、他の一方
の面に形成しようとするスベーサー部の形状と同様の形
状のフオトレジストを形成し、該レジストを形成した該
金属板をその金属を溶解する薬液によってエッチングを
行いメッシュ部とスベーサー部とを形成すると共にメッ
シュ部の厚さをスベーサー部の厚さより小とし、ついで
フオトレジストを除去することを特徴とする極めて微細
ななメッシュ部とスベーサー部を有するメッシュ製品の
製造方法である。
方に面に形成しようとするメッシュ部の形状と同様の形
状のフオトレジストと形成しようとするスベーサー部の
形状と同様の形状のフオトレジストを形成し、他の一方
の面に形成しようとするスベーサー部の形状と同様の形
状のフオトレジストを形成し、該レジストを形成した該
金属板をその金属を溶解する薬液によってエッチングを
行いメッシュ部とスベーサー部とを形成すると共にメッ
シュ部の厚さをスベーサー部の厚さより小とし、ついで
フオトレジストを除去することを特徴とする極めて微細
ななメッシュ部とスベーサー部を有するメッシュ製品の
製造方法である。
本発明によるときは、点溶接工程を全く必要とせずフオ
トェッチング法のみによりスベーサー部の厚さを有する
金属板からメッシュ部とスべ−サー部とが同質の材料で
一体となっておりかつメッシュ部の厚さをスベーサー部
の厚さより小とした極めて微細なメッシュ部とスベーサ
ー部を有するメッシュ製品を比較的簡単で容易な工程の
みを以て歩蟹りよく精度高く製造することができるとい
う利点がある。本発明において使用し得る金属板は厚さ
に特別に制限はないけれども０．２５側以下の厚さが適
当である。
トェッチング法のみによりスベーサー部の厚さを有する
金属板からメッシュ部とスべ−サー部とが同質の材料で
一体となっておりかつメッシュ部の厚さをスベーサー部
の厚さより小とした極めて微細なメッシュ部とスベーサ
ー部を有するメッシュ製品を比較的簡単で容易な工程の
みを以て歩蟹りよく精度高く製造することができるとい
う利点がある。本発明において使用し得る金属板は厚さ
に特別に制限はないけれども０．２５側以下の厚さが適
当である。
この金属板の材質は任意の金属および合金でよく、例え
ば鉄、銅、合金銅、銅、銅合金、アルミニウム、アルミ
ニウム合金、亜鉛、亜鉛合金などを使用することができ
る。特にデジタル表示管およびその類似管について鉄系
合金の４２併合金（ニッケル４２％、クロム６％、鉄残
部）およびステンレス鋼を使用することが好ましい。本
発明においてレジストの形成に使用し得る感光液は市販
の任意のもの、例えば岡本化学工業株式会社製のＴＥＳ
Ｈ．ＤＯＯＬ（ポリビニルアルコール・重クロム酸アン
モニウム系），ＴＥＳＨ．Ｇｌｕｅ（グルー・重クロム
酸アンモニウム系）、ＴＥＳＨ．ＧＩ雌Ｕ−１００（グ
ルー・重クロム酸アンモニウム系）．ＡＺＯ．ＴＥＳＨ
（ポリビニルアルコール・ジアゾ化合物系）およびＣＸ
．ＣＯＬＤ（ポリピニルアルコール・ジアゾ化合物系）
；富士薬品工業株式会社のＦｕｉｉ−ＬＯＮ−Ｄ船．０
．３ ５（ボリビニルアルコール・重クロム酸アンモニ
ウム系）・フジレジストＮｏ．７．９，１４，１８（ポ
リビニルアルコール・重クロム酸アンモニウム系），フ
ジレジストＮｏ．１５，ＩＧ １７，１９２０（カゼイ
ン・重クロム酸アンモニウム系）・ホトノール（カゼイ
ン・重クロム酸アンモニウム系）およびフジスクリーン
コート（ポリビニルアルコール・重クロム酸アンモニウ
ム系）：四輪産業株式会社製のィノェナール（ポリピニ
ルアルコール・クロム酸アンモニウム系），ィノェナロ
ン（ポリビニルアルコール・クロム酸アンモニウム系）
，ＪＩカンコール（カゼイン・重クロム酸アンモニウム
系），イノェコールドェナメル（カゼイン・重クロム酸
アンモニウム系）およびホーゾン（ポリビニルアルコー
ル・ジアゾ化合物系）；ィノーストマン・コダック社製
のＫＰＲ（コダック・フオト．レジスト），ＫＰＲ一２
コダック．フオト．レジスト．タイプ一２），ＫＰＲ−
３（コダック．フオト．レジスト．タイプ一３）ＫＰＬ
（コダック．フオト．センシテイブ．ラッカー）、ＫＯ
Ｒ（コダック。
ば鉄、銅、合金銅、銅、銅合金、アルミニウム、アルミ
ニウム合金、亜鉛、亜鉛合金などを使用することができ
る。特にデジタル表示管およびその類似管について鉄系
合金の４２併合金（ニッケル４２％、クロム６％、鉄残
部）およびステンレス鋼を使用することが好ましい。本
発明においてレジストの形成に使用し得る感光液は市販
の任意のもの、例えば岡本化学工業株式会社製のＴＥＳ
Ｈ．ＤＯＯＬ（ポリビニルアルコール・重クロム酸アン
モニウム系），ＴＥＳＨ．Ｇｌｕｅ（グルー・重クロム
酸アンモニウム系）、ＴＥＳＨ．ＧＩ雌Ｕ−１００（グ
ルー・重クロム酸アンモニウム系）．ＡＺＯ．ＴＥＳＨ
（ポリビニルアルコール・ジアゾ化合物系）およびＣＸ
．ＣＯＬＤ（ポリピニルアルコール・ジアゾ化合物系）
；富士薬品工業株式会社のＦｕｉｉ−ＬＯＮ−Ｄ船．０
．３ ５（ボリビニルアルコール・重クロム酸アンモニ
ウム系）・フジレジストＮｏ．７．９，１４，１８（ポ
リビニルアルコール・重クロム酸アンモニウム系），フ
ジレジストＮｏ．１５，ＩＧ １７，１９２０（カゼイ
ン・重クロム酸アンモニウム系）・ホトノール（カゼイ
ン・重クロム酸アンモニウム系）およびフジスクリーン
コート（ポリビニルアルコール・重クロム酸アンモニウ
ム系）：四輪産業株式会社製のィノェナール（ポリピニ
ルアルコール・クロム酸アンモニウム系），ィノェナロ
ン（ポリビニルアルコール・クロム酸アンモニウム系）
，ＪＩカンコール（カゼイン・重クロム酸アンモニウム
系），イノェコールドェナメル（カゼイン・重クロム酸
アンモニウム系）およびホーゾン（ポリビニルアルコー
ル・ジアゾ化合物系）；ィノーストマン・コダック社製
のＫＰＲ（コダック・フオト．レジスト），ＫＰＲ一２
コダック．フオト．レジスト．タイプ一２），ＫＰＲ−
３（コダック．フオト．レジスト．タイプ一３）ＫＰＬ
（コダック．フオト．センシテイブ．ラッカー）、ＫＯ
Ｒ（コダック。
オルソレジスト），ＫＭ旧Ｒ（コダック．メタルエッチ
．レジスト）およびＫＴＦＲ（コダック。シンフイルム
．レジスト）：富士薬品工業株式会社製のＦＳＲ（フジ
スーパーレジスト）つＦＳＲ■（フジスーパーレジスト
■），ＦＣＲ（フジケミカルレジスト），ＦＰＥＲ（フ
ジホトエツチレジスト），ＦＮＰＲ（フジニユーホトレ
ジスト），ＦＭＲＮ（フジマイクロレジストネガ），Ｆ
ＲＲ（フジラビツトレジスト）およびＦＰＰＲ（フジポ
ジテイブホトレジスト）；東京応化工業株式会社製のオ
ーカレジスト（硬質ゴム系），フオトゾール（ジアゾ化
合物系）ＴＰＲ（ポリ珪皮酸ビニル），ＥＰＰＲ（硬質
ゴム系），ＯＰＲ（硬質ゴム系）．０俺Ｒ（硬質ゴム系
）およびＧ−９０カゼイン・重クロム酸アンモニウム系
）などである。これらの公知の感光液を使用し、パター
ンを介して露光、現像、水洗、乾燥を行ってレジストを
形成する手段は通常の公知の手段によって行うことがで
きる。
．レジスト）およびＫＴＦＲ（コダック。シンフイルム
．レジスト）：富士薬品工業株式会社製のＦＳＲ（フジ
スーパーレジスト）つＦＳＲ■（フジスーパーレジスト
■），ＦＣＲ（フジケミカルレジスト），ＦＰＥＲ（フ
ジホトエツチレジスト），ＦＮＰＲ（フジニユーホトレ
ジスト），ＦＭＲＮ（フジマイクロレジストネガ），Ｆ
ＲＲ（フジラビツトレジスト）およびＦＰＰＲ（フジポ
ジテイブホトレジスト）；東京応化工業株式会社製のオ
ーカレジスト（硬質ゴム系），フオトゾール（ジアゾ化
合物系）ＴＰＲ（ポリ珪皮酸ビニル），ＥＰＰＲ（硬質
ゴム系），ＯＰＲ（硬質ゴム系）．０俺Ｒ（硬質ゴム系
）およびＧ−９０カゼイン・重クロム酸アンモニウム系
）などである。これらの公知の感光液を使用し、パター
ンを介して露光、現像、水洗、乾燥を行ってレジストを
形成する手段は通常の公知の手段によって行うことがで
きる。
本発明において使用するエッチング液は従来知られる使
用する金属板の金属に対する公知のエッチング液を使用
し得るのであるが例えば鉄に対しては塩化第二鉄液、濃
硝酸＋水，塩酸十硝酸を、鋼に対しては塩化第二鉄液、
濃硝酸＋水、塩酸＋硫酸を、合金鋼に対して塩化第二鉄
液、濃硝酸＋水、塩酸十硫酸を、銅に対しては塩化第二
鉄液、過硫酸アンモニウム＋塩化第二水銀を、鋼合金に
対し‘ま塩化第二鉄液、過硫酸アンモニウム＋塩化第二
水銀を、アルミニウムに対しては水酸化ナトリウム液、
塩酸＋水、塩化第二鉄液を、アルミニウム合金に対して
は水酸化ナトリュウム液、塩酸＋水、塩化第二鉄液を、
亜鉛に対しては硝酸を、亜鉛合金に対しては硝酸を、ニ
ッケルに対しては塩化第二鉄液、塩酸＋硝酸を、ニッケ
ル合金に対しては塩化第二鉄液，塩酸十硝酸を使用すぬ
ことができる。
用する金属板の金属に対する公知のエッチング液を使用
し得るのであるが例えば鉄に対しては塩化第二鉄液、濃
硝酸＋水，塩酸十硝酸を、鋼に対しては塩化第二鉄液、
濃硝酸＋水、塩酸＋硫酸を、合金鋼に対して塩化第二鉄
液、濃硝酸＋水、塩酸十硫酸を、銅に対しては塩化第二
鉄液、過硫酸アンモニウム＋塩化第二水銀を、鋼合金に
対し‘ま塩化第二鉄液、過硫酸アンモニウム＋塩化第二
水銀を、アルミニウムに対しては水酸化ナトリウム液、
塩酸＋水、塩化第二鉄液を、アルミニウム合金に対して
は水酸化ナトリュウム液、塩酸＋水、塩化第二鉄液を、
亜鉛に対しては硝酸を、亜鉛合金に対しては硝酸を、ニ
ッケルに対しては塩化第二鉄液、塩酸＋硝酸を、ニッケ
ル合金に対しては塩化第二鉄液，塩酸十硝酸を使用すぬ
ことができる。
本発明においてエッチングは金属板をエッチング液に浸
潰するかあるいは金属板にエッチング液をスプレーする
ことによって行うことができる。
潰するかあるいは金属板にエッチング液をスプレーする
ことによって行うことができる。
本発明において、金属板としては上記の金属の板を使用
し得る。またＫＯＶ（Ｆｅ一Ｎｉ一Ｃｏ合金）、４２合
金（４２％Ｎｉ−Ｆｅ合金）、４２針合金（４２％Ｎｉ
−６％Ｃｒ−Ｆｅ合金，ＮＳ−】（Ｆｅ５０％、Ｎｉ５
０％合金）、ＳＵＳ（ステンレス鋼），ＳＫ（工具鋼）
，ＫＫ（工具鋼），タフピッチ鋼，脱酸鋼，リン青鋼，
黄鋼，ベリリウム鋼，洋白などの板を使用できる。本発
明においてフオトレジストの除去は重クロム酸系レジス
トについては４の重量％苛性曹達液を５０ｑｏに加湿し
たものに浸贋することによって行い、溶剤型フオトレジ
ストについては専用剥離液又は市販有機溶剤（トリクレ
ン．キシレン’ベンゼン等）によって行うことができる
。
し得る。またＫＯＶ（Ｆｅ一Ｎｉ一Ｃｏ合金）、４２合
金（４２％Ｎｉ−Ｆｅ合金）、４２針合金（４２％Ｎｉ
−６％Ｃｒ−Ｆｅ合金，ＮＳ−】（Ｆｅ５０％、Ｎｉ５
０％合金）、ＳＵＳ（ステンレス鋼），ＳＫ（工具鋼）
，ＫＫ（工具鋼），タフピッチ鋼，脱酸鋼，リン青鋼，
黄鋼，ベリリウム鋼，洋白などの板を使用できる。本発
明においてフオトレジストの除去は重クロム酸系レジス
トについては４の重量％苛性曹達液を５０ｑｏに加湿し
たものに浸贋することによって行い、溶剤型フオトレジ
ストについては専用剥離液又は市販有機溶剤（トリクレ
ン．キシレン’ベンゼン等）によって行うことができる
。
つぎに、本発明方法の工程を図面について説明する。
第１図はスベーサ一部の厚さを有する金属板１の断面図
、第２図は第１図の金属板１の両面に感光液を塗布して
感光膜２，２′を形成した態様を示す断面図、第３図は
金属板１に形成した感光膜２に形成しようとするメッシ
ュ部の形状と同様の形状と形成しようとするスベーサー
部の形状と同様の形状とを有するパターン３を密着しか
つ金属板１に形成した感光膜２′に形成しようとするス
ベーサー部の形状と同様の形状を有するパターン４を密
着した態様を示す断面図、第４図は第３図のパターン３
を密着した感光膜２とパターン４を密着した感光膜２′
に露光し、現像し、フオトレジスト５，５′をそれぞれ
形成し、パターン３，４を除去した態様を示す断面図、
第５図は第４図のフオトレジスト５，５′を形成した金
属板１をエッチングした後の態様を示す断面図で６はス
ベーサー部、７はメッシュ部、８はメッシュ部７の孔を
示し、第６図は第５図に示す中間製品からフオトレジス
ト５，５′を除去した本発明製品の断面図である。
、第２図は第１図の金属板１の両面に感光液を塗布して
感光膜２，２′を形成した態様を示す断面図、第３図は
金属板１に形成した感光膜２に形成しようとするメッシ
ュ部の形状と同様の形状と形成しようとするスベーサー
部の形状と同様の形状とを有するパターン３を密着しか
つ金属板１に形成した感光膜２′に形成しようとするス
ベーサー部の形状と同様の形状を有するパターン４を密
着した態様を示す断面図、第４図は第３図のパターン３
を密着した感光膜２とパターン４を密着した感光膜２′
に露光し、現像し、フオトレジスト５，５′をそれぞれ
形成し、パターン３，４を除去した態様を示す断面図、
第５図は第４図のフオトレジスト５，５′を形成した金
属板１をエッチングした後の態様を示す断面図で６はス
ベーサー部、７はメッシュ部、８はメッシュ部７の孔を
示し、第６図は第５図に示す中間製品からフオトレジス
ト５，５′を除去した本発明製品の断面図である。
つぎに本発明を実施例を挙げて具体的に説明する。
実施例
鉄５２％、ニッケル４２％、クロム６％、からなる鉄系
合金の寸法３０仇岬×３０比奴、厚さ０．１５側の金属
板を、４の重量％の苛性曹達水溶液を５０午Ｃに加熱し
たものに５分間浸潰して表面の汚れおよび油脂類を溶解
除去し乾燥する。
合金の寸法３０仇岬×３０比奴、厚さ０．１５側の金属
板を、４の重量％の苛性曹達水溶液を５０午Ｃに加熱し
たものに５分間浸潰して表面の汚れおよび油脂類を溶解
除去し乾燥する。
ついで２５ｑｏの常温で東京応化工業株式会社製のＧ−
９０（カゼイン一重クロム酸アンモニウム系）感光液中
に上記の処理をした金属板を５〜１町砂浸潰し、むらの
ないように静かに引き上げて感光液を金属板の全面に均
一に感光液厚６仏前後であるように塗布する。このよう
に感光液を塗布した金属板を約５分間常温にて放置し、
ついで８ぴ０のオーブン内へ入れ２０分間乾燥を行い感
光膜を形成する。金属板をオーブンから取り出し、空気
中に５分間放置冷却し、パターンを金属板の表裏が正確
に合致するように密着し、表裏からキセノンランプを使
用して１２０〜１８硯妙露光競付する。ついで現像を行
う。露光部分は硬化し、水又は温水に不溶性となり未露
光部分は水（または４０℃の温水）により２０〜３０秒
浸薄することによって溶解除去する。さらに乾燥し、２
００〜３００ｏｏにて４分間加熱処理して露光部分を完
全に硬化させる。かくしてフオトレジストを形成した金
属板を５０ｏボーメの塩化第二鉄溶液中に５０℃でＩＱ
分間浸潰し、フオトレジストを形成した以外の部分を溶
解除去する。
９０（カゼイン一重クロム酸アンモニウム系）感光液中
に上記の処理をした金属板を５〜１町砂浸潰し、むらの
ないように静かに引き上げて感光液を金属板の全面に均
一に感光液厚６仏前後であるように塗布する。このよう
に感光液を塗布した金属板を約５分間常温にて放置し、
ついで８ぴ０のオーブン内へ入れ２０分間乾燥を行い感
光膜を形成する。金属板をオーブンから取り出し、空気
中に５分間放置冷却し、パターンを金属板の表裏が正確
に合致するように密着し、表裏からキセノンランプを使
用して１２０〜１８硯妙露光競付する。ついで現像を行
う。露光部分は硬化し、水又は温水に不溶性となり未露
光部分は水（または４０℃の温水）により２０〜３０秒
浸薄することによって溶解除去する。さらに乾燥し、２
００〜３００ｏｏにて４分間加熱処理して露光部分を完
全に硬化させる。かくしてフオトレジストを形成した金
属板を５０ｏボーメの塩化第二鉄溶液中に５０℃でＩＱ
分間浸潰し、フオトレジストを形成した以外の部分を溶
解除去する。
この場合メッシュ部のフオトレジストは片面であるので
フオトレジストのある部分は溶解せずフオトレジストの
無い部分から溶解される。この溶解はメッシュ部の厚さ
がスベーサー部の厚さの１／２〜１／３になるように行
う。かくしてメッシュ部とスベーサー部とが一本として
同時に形成せられる。ついで、上記で得られた中間製品
を４の重量％の苛性曹達水溶液に５０午○で浸潰してフ
オトレジストを溶解条去し、ついで乾燥してメッシュ部
１６×１３肋、スベーサー部１８×１５側、メッシュ線
中４０〜６０仏、スべ−サー部の厚さ０．１５肌、メッ
シュ部の厚さ０．０５胸のメッシュ製品を得た。
フオトレジストのある部分は溶解せずフオトレジストの
無い部分から溶解される。この溶解はメッシュ部の厚さ
がスベーサー部の厚さの１／２〜１／３になるように行
う。かくしてメッシュ部とスベーサー部とが一本として
同時に形成せられる。ついで、上記で得られた中間製品
を４の重量％の苛性曹達水溶液に５０午○で浸潰してフ
オトレジストを溶解条去し、ついで乾燥してメッシュ部
１６×１３肋、スベーサー部１８×１５側、メッシュ線
中４０〜６０仏、スべ−サー部の厚さ０．１５肌、メッ
シュ部の厚さ０．０５胸のメッシュ製品を得た。
第１図はスベーサー部の厚さを有する金属板の断面図、
第２図は第１図の金属板の両面に感光膜を形成した態様
を示す断面図、第３図はメッシュ部のパタ−ンおよびス
ベーサー部のパターンを密着した態様を示す断面図、第
４図はフオトレジストを形成した態様を示す断面図、第
５図は第４図のものをエッチングした後の態様を示す断
面図、第６図は第５図のものからフオトレジストを除去
した本発明製品の断面図である。 １・・・・・・金属板、２および２′・・・・・・感光
膜、３および４……パターンへ ５および５′……フオ
トレジスト、６……スベーサー部、７……メッシュ部、
８……メッシュ部の孔。 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図 第６図
第２図は第１図の金属板の両面に感光膜を形成した態様
を示す断面図、第３図はメッシュ部のパタ−ンおよびス
ベーサー部のパターンを密着した態様を示す断面図、第
４図はフオトレジストを形成した態様を示す断面図、第
５図は第４図のものをエッチングした後の態様を示す断
面図、第６図は第５図のものからフオトレジストを除去
した本発明製品の断面図である。 １・・・・・・金属板、２および２′・・・・・・感光
膜、３および４……パターンへ ５および５′……フオ
トレジスト、６……スベーサー部、７……メッシュ部、
８……メッシュ部の孔。 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図 第６図
Claims (1)
- １ スペーサー部の厚さを有する金属板の一方に面に形
成しようとするメツシユ部の形状と同様の形状のフオト
レジストと形成しようとするスペーサー部の形状と同様
の形状のフオトレジストを形成し、他の一方の面に形成
しようとするスペーサー部の形状と同様の形状のフオト
レジストを形成し、該レジストを形成した該金属板をそ
の金属を溶解する薬液によつてエツチングを行いメツシ
ユ部とスペーサー部を形成すると共にメツシユ部の厚さ
をスペーサー部の厚さより小とし、ついでフオトレジス
トを除去することを特徴とする極めて微細なメツシユ部
とスペーサー部を有するメツシユ製品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52120006A JPS6026830B2 (ja) | 1977-10-07 | 1977-10-07 | 極めて微細なメツシユ部とスペ−サ−部を有するメツシユ製品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52120006A JPS6026830B2 (ja) | 1977-10-07 | 1977-10-07 | 極めて微細なメツシユ部とスペ−サ−部を有するメツシユ製品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5453641A JPS5453641A (en) | 1979-04-27 |
| JPS6026830B2 true JPS6026830B2 (ja) | 1985-06-26 |
Family
ID=14775559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52120006A Expired JPS6026830B2 (ja) | 1977-10-07 | 1977-10-07 | 極めて微細なメツシユ部とスペ−サ−部を有するメツシユ製品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6026830B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6311680A (ja) * | 1986-06-30 | 1988-01-19 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | フオトエツチング法によるシヤドウマスクの製造方法 |
| JPH0773029B2 (ja) * | 1986-11-29 | 1995-08-02 | 大日本印刷株式会社 | 螢光表示管用部品の製造方法 |
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-
1977
- 1977-10-07 JP JP52120006A patent/JPS6026830B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5453641A (en) | 1979-04-27 |
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