JPS6027680Y2 - 薄板平板状装飾品 - Google Patents
薄板平板状装飾品Info
- Publication number
- JPS6027680Y2 JPS6027680Y2 JP10849978U JP10849978U JPS6027680Y2 JP S6027680 Y2 JPS6027680 Y2 JP S6027680Y2 JP 10849978 U JP10849978 U JP 10849978U JP 10849978 U JP10849978 U JP 10849978U JP S6027680 Y2 JPS6027680 Y2 JP S6027680Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin plate
- pattern
- thin film
- film
- film thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Laminated Bodies (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は薄板平板状装飾品に関する。
更に詳しくは、深い色調の色彩模様をその表面に有する
人工の薄板平板状装飾品、例えばバッチ、ブローチ等の
身辺装飾品、シガレットケース等の身回品の内外装にそ
の材料として用いる装飾品、額縁、置物台、宝石箱等の
屋内装飾品を装飾するためにその材料として用いる装飾
品等に関する。
人工の薄板平板状装飾品、例えばバッチ、ブローチ等の
身辺装飾品、シガレットケース等の身回品の内外装にそ
の材料として用いる装飾品、額縁、置物台、宝石箱等の
屋内装飾品を装飾するためにその材料として用いる装飾
品等に関する。
このような装飾品としては、人工のものとして、種々の
平板状材料にカラー印刷したものが用いられるが、天然
のものが呈するような深い色調とは程遠いのが現状であ
る。
平板状材料にカラー印刷したものが用いられるが、天然
のものが呈するような深い色調とは程遠いのが現状であ
る。
しかし人工のもので深い色調のものが得られれば、任意
の模様を付すことができ、又同−のものをいくつも作る
ことができる点でも有用である。
の模様を付すことができ、又同−のものをいくつも作る
ことができる点でも有用である。
従って、本考案の目的は、深い色調を有し装飾的価値の
大きい薄板平板状装飾品を提供するにある。
大きい薄板平板状装飾品を提供するにある。
本考案の他の目的は、種々多様の色彩からなる図柄を任
意に組合せてなる模様を容易に形成しうる装飾品を提供
するにある。
意に組合せてなる模様を容易に形成しうる装飾品を提供
するにある。
本考案の更なる目的は、量産可能性を有し、１７７１７
７１程度以下の薄板であっても強度に富み、また一定程
度の大型化も可能であり、更には密度も２〜３と適当で
あり、有害性もない装飾品を提供するにある。
７１程度以下の薄板であっても強度に富み、また一定程
度の大型化も可能であり、更には密度も２〜３と適当で
あり、有害性もない装飾品を提供するにある。
本考案者等は上記目的につき種々研究を重ねた結果、従
来電子工業界で半導体材料として広く使用されているシ
リコンウェハ上に、それ自身としてはほぼ透明な薄膜、
例えば二酸化シリコン薄膜を形成し、この薄膜を所定の
図柄の組合せに従い図柄毎に４５００Ａ以下の所定の膜
厚にエツチングしたとき、図柄毎に生じるシリコン−薄
膜界面での光の反射と薄膜表面での光の反射との干渉に
よって生じる膜厚固有の干渉色によって独特の深い色調
を有する模様が形成され、上記諸口的を全て達成する装
飾品が得られることを見出した。
来電子工業界で半導体材料として広く使用されているシ
リコンウェハ上に、それ自身としてはほぼ透明な薄膜、
例えば二酸化シリコン薄膜を形成し、この薄膜を所定の
図柄の組合せに従い図柄毎に４５００Ａ以下の所定の膜
厚にエツチングしたとき、図柄毎に生じるシリコン−薄
膜界面での光の反射と薄膜表面での光の反射との干渉に
よって生じる膜厚固有の干渉色によって独特の深い色調
を有する模様が形成され、上記諸口的を全て達成する装
飾品が得られることを見出した。
以下本考案を第１図〜第４図に示される実施例に従い説
明する。
明する。
本実施例においては、シリコン基板１として、第１図ａ
、 ｂに示されるごとく直径５〜７ｃｍ、厚さ３００〜
５００μの表面鏡面仕上げ裏面荒仕上げの単結晶半導体
工業用シリコンウェハを用いる。
、 ｂに示されるごとく直径５〜７ｃｍ、厚さ３００〜
５００μの表面鏡面仕上げ裏面荒仕上げの単結晶半導体
工業用シリコンウェハを用いる。
このシリコンウェハを９００℃〜１１００℃の温度で酸
素雰囲気中におきシリコンウェハ表面を醸化する。
素雰囲気中におきシリコンウェハ表面を醸化する。
例えば１０００℃で１時間水蒸気中で醸化すれば、第２
図ａ、 ｂに示すごとく厚さ約４０００〜４５００Δの
黄色〜オレンジ色の二酸化シリコン薄膜２が形成される
。
図ａ、 ｂに示すごとく厚さ約４０００〜４５００Δの
黄色〜オレンジ色の二酸化シリコン薄膜２が形成される
。
次に二酸化シリコン表面の所定部分を第３図ａに示すご
とくワックス３で覆い、ウエノ＼全体を例えば水で薄め
た沸酸でエツチングすると、ワックス３で覆われない部
分がエツチングされ、その部分の二酸化シリコン膜の膜
厚は薄くなり、エツチング時間に従い二酸化シリコン膜
による干渉色は刻々変化する。
とくワックス３で覆い、ウエノ＼全体を例えば水で薄め
た沸酸でエツチングすると、ワックス３で覆われない部
分がエツチングされ、その部分の二酸化シリコン膜の膜
厚は薄くなり、エツチング時間に従い二酸化シリコン膜
による干渉色は刻々変化する。
希望の色になるまでエツチングを続けた後、水で洗浄し
乾燥した後トリクレン等の有機溶剤でワックス３を除去
すると、２色に色分けされた模様が形成される。
乾燥した後トリクレン等の有機溶剤でワックス３を除去
すると、２色に色分けされた模様が形成される。
この作業をワックス塗布部分を何回か変えて繰返せば、
数色に色分けされた模様がウェハ表面に形成される。
数色に色分けされた模様がウェハ表面に形成される。
第４図では、第３図ａにおけるワックス３の塗布領域を
ウェハ中心に対し１２０°づつ回転させて３回エツチン
グした例であり、この場合は■〜■の７色の色分は模様
が出現する。
ウェハ中心に対し１２０°づつ回転させて３回エツチン
グした例であり、この場合は■〜■の７色の色分は模様
が出現する。
以上のようにして、ワックス塗布部分を変え被エツチン
グ部分をその都度変えることにより、またそのエツチン
グ時間を任意に変えることにより、４５００Ａ以下の任
意の膜厚を有する所定の図柄の組合せが得られ、各図柄
毎に生じる膜厚固有の干渉色により深い色調を有する種
々の模様が容易に作成されることになる。
グ部分をその都度変えることにより、またそのエツチン
グ時間を任意に変えることにより、４５００Ａ以下の任
意の膜厚を有する所定の図柄の組合せが得られ、各図柄
毎に生じる膜厚固有の干渉色により深い色調を有する種
々の模様が容易に作成されることになる。
下表に膜厚と干渉色の関係を示すが、製造にあたっては
、膜厚とエツチング時間の関係を予め求めておき、エツ
チング時間により製造を制御すればよい。
、膜厚とエツチング時間の関係を予め求めておき、エツ
チング時間により製造を制御すればよい。
なお、上述の実施例では、シリコン基板として単結晶ウ
ェハを用いたが、多結晶ウェハや再生ウェハを用いても
全く同様に安価に優れた装飾品を得ることができる。
ェハを用いたが、多結晶ウェハや再生ウェハを用いても
全く同様に安価に優れた装飾品を得ることができる。
また、それ自身として透明な薄膜としては二酸化シリコ
ン膜を用いたが、薄膜としては５０００Ａ程度の膜厚の
とき４０００〜６０００Ａの光に対し６０％程度の透過
率を有するものであれば十分であり、例えば化学気相成
長法で得られるシリコン窒化膜、リン化ホウ素化合物膜
等を用いてもよい。
ン膜を用いたが、薄膜としては５０００Ａ程度の膜厚の
とき４０００〜６０００Ａの光に対し６０％程度の透過
率を有するものであれば十分であり、例えば化学気相成
長法で得られるシリコン窒化膜、リン化ホウ素化合物膜
等を用いてもよい。
更にワックス塗布のかわりにホトレジストを塗布し写真
食刻法を用いれば、微細な幾可学的パターンが繰返し細
板でも作成できるので量産性を有する。
食刻法を用いれば、微細な幾可学的パターンが繰返し細
板でも作成できるので量産性を有する。
第１図ａ、第２図ａおよび第３図ａは本考案の薄板平板
状装飾品の製造法の一例を示す正面図であり、第１図ｂ
１第２図すおよび第３図すはそれぞれ第１図ａのＩ−Ｉ
’線、第２図ａのｎ−ｎ’線および第３図ａのｍ−ｍ’
線切断部端面図であり、第４図は本考案の一実施例を示
す正面図である。 １・・・・・・シリコン基板、２・・・・・・薄膜。
状装飾品の製造法の一例を示す正面図であり、第１図ｂ
１第２図すおよび第３図すはそれぞれ第１図ａのＩ−Ｉ
’線、第２図ａのｎ−ｎ’線および第３図ａのｍ−ｍ’
線切断部端面図であり、第４図は本考案の一実施例を示
す正面図である。 １・・・・・・シリコン基板、２・・・・・・薄膜。
Claims (1)
- シリコン基板上に、表面層としてそれ自身ではほぼ透明
な薄膜を具え、当該薄膜は所定の図柄毎に４５００Ａ以
下の所定の膜厚にエツチングされており、当該図柄毎に
生じる膜厚固有の干渉色によって模様が形成されてなる
薄板平板状装飾品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10849978U JPS6027680Y2 (ja) | 1978-08-09 | 1978-08-09 | 薄板平板状装飾品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10849978U JPS6027680Y2 (ja) | 1978-08-09 | 1978-08-09 | 薄板平板状装飾品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5525935U JPS5525935U (ja) | 1980-02-20 |
| JPS6027680Y2 true JPS6027680Y2 (ja) | 1985-08-21 |
Family
ID=29053603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10849978U Expired JPS6027680Y2 (ja) | 1978-08-09 | 1978-08-09 | 薄板平板状装飾品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6027680Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6908064B2 (ja) * | 2019-03-14 | 2021-07-21 | セイコーエプソン株式会社 | 時計用部品、時計用ムーブメントおよび時計 |
-
1978
- 1978-08-09 JP JP10849978U patent/JPS6027680Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5525935U (ja) | 1980-02-20 |
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