JPS6013599A - 装飾物品およびその製造方法 - Google Patents

装飾物品およびその製造方法

Info

Publication number
JPS6013599A
JPS6013599A JP59129925A JP12992584A JPS6013599A JP S6013599 A JPS6013599 A JP S6013599A JP 59129925 A JP59129925 A JP 59129925A JP 12992584 A JP12992584 A JP 12992584A JP S6013599 A JPS6013599 A JP S6013599A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
silicon
decorative article
base layer
article according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59129925A
Other languages
English (en)
Inventor
ジルベ−ル・フエレ−ル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
METAREN SA
Original Assignee
METAREN SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by METAREN SA filed Critical METAREN SA
Publication of JPS6013599A publication Critical patent/JPS6013599A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A44—HABERDASHERY; JEWELLERY
    • A44C—PERSONAL ADORNMENTS, e.g. JEWELLERY; COINS
    • A44C27/00—Making jewellery or other personal adornments
    • A44C27/001—Materials for manufacturing jewellery
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A44—HABERDASHERY; JEWELLERY
    • A44C—PERSONAL ADORNMENTS, e.g. JEWELLERY; COINS
    • A44C27/00—Making jewellery or other personal adornments
    • A44C27/001—Materials for manufacturing jewellery
    • A44C27/005—Coating layers for jewellery
    • A44C27/007—Non-metallic coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B44—DECORATIVE ARTS
    • B44C—PRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
    • B44C1/00—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects
    • B44C1/005—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects by altering locally the surface material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B44—DECORATIVE ARTS
    • B44F—SPECIAL DESIGNS OR PICTURES
    • B44F1/00—Designs or pictures characterised by special or unusual light effects
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
    • C04B41/5025—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with ceramic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
    • C04B41/5053—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials non-oxide ceramics
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81—Coating or impregnation
    • C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
    • C04B41/87—Ceramics
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81—Coating or impregnation
    • C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G—PHYSICS
    • G04—HOROLOGY
    • G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B19/00—Indicating the time by visual means
    • G04B19/06—Dials
    • G04B19/12—Selection of materials for dials or graduations markings
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24851—Intermediate layer is discontinuous or differential
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24851—Intermediate layer is discontinuous or differential
    • Y10T428/24868—Translucent outer layer
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264—Up to 3 mils
    • Y10T428/265—1 mil or less
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652—Of asbestos
    • Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Toys (AREA)
  • Adornments (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、新規かつ改良された装飾物品および装飾物品
の改良された製造方法に関する。
従来技術 周知の如く、可視光線に対して透明な極めて薄い層は、
反射光中では、色彩干渉現象によって、層自体は実質上
無色の物質から成っているにも拘わらず、肉眼にはあた
かも着色されているかのように見える。このような現象
の例としては、シャボン玉や真珠層、その他装飾物品の
加工に従来使用されている類似の無機物質が挙げられる
。さらに、鉄合金加熱の際発生し、酸化層形成によるも
のとされているいわゆる焼鈍ないし焼戻し色が知られて
いる。この種酸化層の厚さは、その都度適用される「焼
鈍温度」によって変化し、反射光中で見ると、居を形成
している物質が無色であって、実際はそうでないのに、
その酸化層は色彩を有しているように見える（「焼鈍色
」）。
この点で典型的なのは、例えば、時計のねじの青味がか
った色、即ち、焼鈍温度２９５℃ぐ塁礎金属ないし母金
属材料上に形成しＩこ１０００１未満の厚さの酸化鉄の
薄い層の干渉色ひある。
しかしながら、このにうな焼鈍色は一般に装飾的な機能
は備えておらず、一定の材料特性を臂るための温度処理
の偶然な所産に過ぎない。
装飾物品製造用としては、従来の鉄合金から成る層の焼
鈍色層は、従来のラツ、１３−ないし着色層と比較して
、適しているとは言い勤い。その理由は、比較的腐食に
対し敏感Ｃ１１幾械的強度（引っかきに対する敏感性）
も比較的低く、特に再現可能な色彩効果を産み出Ｊのが
困同だからである。
発明の目的 従って、前述の事項を考慮して、本発明の主目的は、新
規かつ改良されＩＣ装飾物品と、前述の欠陥ないし制約
とは無関係のこれらの製造方法を提供覆るにある。
本発明のもう１つの重要な目的の狙いは、シリコン化合
物で被覆され、装飾物品として役立つか、または装飾物
品の一部として使用するだめのシリコン基層を提供する
にある。
本発明のもう１つの重要な目的は、装飾物品の一部とし
ての使用に適し、かつ反射光中で着色されているように
児える表面層ないし装飾層を提供するにあり、この表面
層ないし装飾層は高い化学的抵抗性を備えており、充分
な再製可能性を備えた色彩形成が可能で機械的強度、温
度及び時効抗性に関し、従来装置；ｂ目的として周知の
有機、無機の装飾層と比較して優れている。
発明の構成 本発明の第１発明は、反射光中ｒニー着色したように見
える少なくとも１つの表面から成り、着色したように見
える表面はシリコン基層ど基層に堅固に連結された上部
層とから成り、上部層は可視光線に対し透過性ｒあり、
かつ標準状態において固体で実質的に不活性で、干渉色
光生に充分な厚さを備えたシリコン化合物から成ってい
ることを特徴とする、装飾物品であり、また第２光明は
、物品の少くと１．）１つの表面部域に、基層としてシ
リコン基層を施ずとともに、シリコン基層に上部層を堅
固に連結りる工程から成り、 上部層は可視光線に対し透過性であり、かつ標準状態に
おいて固体で実質的に不活性で、干渉色発生に充分な厚
さを備えＩＣシリ−ｌン化合物から成ることを特徴とＪ
−る、装飾物品の製造方法である。
例えば計器の目帰り盤、時泪の文字盤、宝石その他有用
な装飾品のような装飾物品は、反射光の下で、例えば黄
、赤、青、灰色に着色されているように見える、少なく
とも１つの表面即ち装飾層を備えている。この表面即ち
装飾層は、シリコン基層寸なわら下部層と、この下部層
にたとえば反応ないし溶着によって堅固に連結されてい
る上部層ないし頂部層から成っている。
この頂部層は可視光線を透過し、望ましくは、標準状態
において固体をなし、実買上不活性で、・代表的には５
０ないしｉ　ｏｏｏナノメートル（１０億分の１メー１
−ル、以上ｎｍど記１−）、なるべく９０ないし５００
　ｎｎ＋の干渉色の形成に充分な厚さを備えた二酸化シ
リコンであるシリコン化合物から成っている。表面即ち
装飾層は、例えば計器の目盛り盤、時Ｂ１の文字盤のご
とき装飾の物品自体を構成でる場合もあり、また例えば
シガレット・ライターのごとき装飾物品の一部をなして
いる場合もある。
本発明により、以外にも判Ｉｌｌ　ｔ、たのは、組成及
び厚みに関し、明確に定軸されている層の形成のための
半導体技術から発したこれｄ、ｔ’　ｔこ知られている
方法が、これらの層がシリコン化合物から形成され、シ
リコン基層−１−に溶着さｔＬでいるので、装飾目的に
使用され、前）！の目ＯＪを実現Ｊる、着色されたよう
に見える層のＩ！ｊＭに使用覆るのによく適しているこ
とである。
ここにいう「装飾物品」ないし類似の表現【ま、単に宝
石製品として解釈されるのみならず、あたかも着色され
ている如き外観を備え、単色または多色の構成が可能で
、画像、飴記文字または模様状のコントラストを備える
ことが可能な少なくとも１つの表面を備えた極めて多様
なタイプの有用な物品としても解釈せねばならない。
本発明による装飾物品（よ、少なくとも１つの反射光（
日光または多色人工光線）中で着色されているように見
える表面（装飾層ともいう）を備えている。この着色さ
れ（いるように見える表面即ち装飾図は、平面、曲面、
ドーム状または輪郭状に構成されてもよいし、単一形状
でも多種形状でもよいし、また９Ｔみにより、画像、箱
記文字及び／または模様状のコントラストを備えた外観
を備えていてもよい。
本発明による物品は、反射光中では、例えば黄、赤、青
または灰色に着色されているように見え、シリコン基層
即ち下部層と、この基層即ち下部層に、例えば反応及び
／また（よ溶着によって堅固に連・結された上部図ない
し頂部層とにより形成されている少なくとも１つの表面
即ち装飾層という特徴により明示される。この頂部層な
いし上部層は、可視光線に対し透過性を備え、標準状態
では固体をなし、実質的に不活性で、なるべくは無色の
シリコン化合物から成っている。特にシリコン化合物は
、二酸化シリ−１ンでもよい。この頂部層ないし上部層
は、代表的には５０ないし〕１０００ｒ書ｍ１なるべく
は９０ないし５００　ｎｍの範囲の干渉色形成に適づる
厚さである。
例えば時削の文字盤または宝石製品のような装飾物品は
、実際上全体的に装飾層、覆なわら自立しているシリコ
ン基層から成り、基層の装飾は少なくとも部分的に干渉
色を表ｔ　Ｉｌ’４部層ないし上部層から成っている。
これは例えば均一ないし模様状まｌ（は不規１１１Ｊな
容色表面であってもよく、表面上には、たとえば不透明
な物質から形成され、押捺または蒸着その他通貨の方法
、たとえば頂８１ｉ層の厚みの差により、装飾的模様ま
たは通常の符号を設けてもよい。
装飾物品は、しかしながら、シリコン以外の物質から成
っていてもよい。この装飾物品は少なくとも一方の外面
において、ハンダづけ、接竹剤による接着、その他通貨
の方法でＩ７１！ｉされる、シリコン基層の形の装飾層
を備えている。この装飾層が、シリコン化合物から形成
される頂部層ないし上部層と連結して、所望の単一形状
または多種形状の装ｃｍを形成する。
以下の詳細説明を考慮することにより、本発明の理解が
深まり、前述以外の目的が明らかになろう。説明には、
別添図面を参照する。
図面を参照して説明すると、第１図には装飾物品（１０
）の部分拡大断面図を示し、図の表面（月）はく装飾層
と称することもある）反０・１光中では着色されている
ように見える。この装飾物品（１０）は、例えば技術的
に得られたシリコンから成る自立シリコン板まｌ〔は円
板のような、シリコン元素から成る下部層即ち基部層４
ｙいし基層（１４）により形成されでいる。特に高純度
のシリコンで基層（１４）を作ることは不必要であるが
、といっても不利く・もない。一般的に、半導体生産用
の基礎材料または丹金屈とし【用いられるシリコンが適
当であり、かつこのシリコンは単結晶でも多結晶でｂよ
い。シリコン基層（１４）は、例えばｏ、ｏ５ないし５
ｍｍ以上の厚さである。
シリコン基層（１４）が、例えば第２図に関して説明す
る如く、別の物ｒＩ！ｔから成る搬送部に固定されてい
る場合には、シリコン基層（１４）は自立である必要が
ないから、相対的にＲ？　＜でよい。必要な場合は、以
下に詳述する如く、頂部層ないしょ部１ｉＳ（１１３＞
の反応による加工の間に、例えば温度を上げての酸化（
Ｓｉ０２）によって、基層の一部が消費されるのが観察
される。
例えば０．２ｎｌＩｌの５ｆＯ２の各々につき、０゜１
ｎｍの３ｉが消費されるから、この点で基層（１４）の
厚さを確保しておかねばならない。
少なくとも基層（１４）の上面（１４０）が、従来の方
法、即ち機械加工その他の然るべき方法で平滑化され、
つや消しまたはつや有りに表面を仕上げるのが望ましい
。これはシリコン基層上に通常明白に定義された組成及
び厚さを備えた層を施Ｊかまたは形成りる従来の方法に
よる半導体加工の間に現われる表面に対応する上部面な
いし頂部面が得られるように行なうのである。頂部層（
１６）の表面仕上げ（つや消しまｌζはつやあり）は一
般に基層ないし下部！ｆｌ（１４）の仕上げに対応する
。
技術上、経流上の理由から、本発明に従って採用される
のは、通常二酸化シリコンから形成される上部層ないし
頂部層（１６）である。しかしながら、可視光線に対し
て透過性でさえあれば、上部層ないし頂部層（１６）が
、伯のシリコン化合物、例えば層として干渉色の形成に
必餞な厚さを備え、かつ実質１ガラスと同様の澄明度を
備え、せいぜい低い固有色を備えた化合物でも、基本的
には適当である。なるべくは、透過光が存在する場合、
層の透明度は９０％を越えていることが望ましい。すな
わち、絶縁層としてシリコン化合物から形成される層は
、透過光の吸収率が１０％未満であることが望ましい。
しかしながら不透明な下部層ない１ノ基層（１４）上の
頂部層ないし上部層（１６）においても、入射光の１０
％より幾分多い部分が、境界層ないし中間面における反
射ロスにＪ：って失われることになるとしても、それに
Ｊ：り上部層（１６〉にＪ３ける干渉色形成は損われな
い。この上部層（１６）は、標準状態にお【ノる使用、
加工にａ３いて、温度的、化学的に安定であるという意
味において、固体をなし、一般的に実際上不活性なシリ
コン化合物から成っている。換言すれば、例えば水の活
動や、１００℃までの温度では、有意的な変化はしない
。そのようなシリコン化合物の例としては、酸化物以外
に、シリ−１ン窒化物及び炭化物がある。低コストであ
るため、二酸化シリコンが特に望ましい。
周知の如く、シリコン化合物から形成される層は、シリ
コン基層上に反応的に形成づるＣとができる。換言すれ
ば、元素の形または化合物として存在しかつ望むらくは
いずれの場合も気体の形で存在りる必要な反応パートナ
−ど、イの場でのシリコン基礎Ｕｌ’！１まｌ〔はｇｈ
金金属の化学反応によるのである。しかしながら、シリ
」ン化合物によって形成される層は、溶着によっても形
成できる。づなわち、蒸看や既成の化合物の使用による
溶着技術を用いるのＣある。
このような然るべき方法は、業界や関連出版物では周知
である。例えばマイレル・ブラングの薄膜技術ハンドブ
ックを挙げることができる。
一般に、本発明の目的のためシリコン化合物から形成さ
れた透明層の形成のための容認し得る技術的費用によつ
Ｃ達成し得る、反応方法が望ましい。望ましい例として
は、基層シリコンを酸化し、活性化エネルギーを、例え
ば加熱及び／または電気的に、例えば発光放電によって
温度的に与え１ｑるように１゛る。例えば、シリコン基
層を、酸素または酸素を含有する気体（例えば空気）の
存在づるところで、一定の圧ノ］Ｓ湿庶その他の条件下
で加熱し、５００　’Ｃを越える反応湿度にＪ゛ること
が可能である。
一般に、半導体加工用の基礎物質として適切な厚さを佑
えた例えばＳ！Ｏｚの如きある種のシリコン化合物から
形成される被覆ないし保護層を備えた、技術的に入手可
能なシリコン基層が必る。干渉色形成に適した頂部層な
いし上部層（１６〉の厚さは、１）θ述の如く、通常５
０ないし１０００ｎＩ１１である。適切な即ち、最適な
上部層（１Ｇ）の厚さは、ある種の干渉色については、
個々の光学的性質、即ち、屈折率、光の濃淡、清濁等に
よる影響を受ける。すなわち、上部層（１６）を形成づ
るシリコン化合物の性質と、層形成に用いる方法の双り
から由来する性質に影響されるのである。
実施例として、透明な３ｉ０ｚ層の色彩と厚さとの相関
関係に関する値を、以下に示す。
干渉色　層の１９さくｎｍ） 白褐色　６８．５ 淡褐色　７３．３ 濃褐色　７９．５ 赤褐色　８５．０ 紫　８８．４ 濃ずみれ　９２．５ 紺　９５．９ 淡青色（水色＞　１１２　、０ 白縁色　１７６．０ 淡黄色　１９３．０ 黄金色　２０６．０ オレンジ　２４１．０ 赤　２５５．０ 濃紫色　２６５，０ 瀧すみれ　２７４．５ 紺　２７７．９ 淡青色（水色）　２９４．０ 白縁色　３！１８．０ 淡黄色　３７５．０ 黄金色　３８８．０ オレンジ　４２３．０ 赤　４３７．０ 濃紫色　４４７．０ 干渉色と厚さとの関係ないし割合は、周知の如く、入射
光の波長λによ−）で変動する。づなわち、干渉効果は
λ／４、λ／１の時に特に梵生ずる。従って、所望の色
は上部層（１６）の厚さの差によつ′Ｃ実現できる。Ｓ
ｉＯ２の干渉境界は、例えば９１．２７３．４５５．６
３７．８１９．１１００２ｎのときにある。
層の厚さを正確に測定するのは基本的に重要でも必要ｒ
もなく、実用上色彩比較と匝き換え、かつ拡大Ｊること
ができる。さらに、頂部層ないし上部層（１６）の厚さ
は層の反応による形成と、溶着による形成の条件を長く
したり激しくしたりして大きくできるし、一方、例えば
１ツチング等、制御可能な層形成物質除去方法により、
全体的または部分的に小さくできる結果、色彩効果は、
各場合ごとに変化させることができる。
上部ＦＪ（１６）には、例えば印刷インキ、金属、ｔｉ
ｌ、瑯その他の光学的に不）■明な物質から形成されで
いる、地域的に限定ないし制限されている上塗りないし
コーティングを、印刷（例えば絹ごし印刷）、蒸着（真
空コーティング〉、接着剤ににる接着、塗装その他によ
り、例えば写真ラッカーのような周知のマスクを使い、
または使わづに、施ずことができる。これは例えば５１
器類、陳列品、詩ｈ１などの目盛り盤、文字盤などのと
ころで適切な引用文、発光点、前記による詳記、番号そ
の他を形成する／Ｃめに行なわれる。
それとも、基層（１４〉に、頂部層ないし上部層（１６
）の形成に先立って、金属コーティングまたは上塗りを
、例えば蒸着によって一定の範囲（勿論、適切なマスク
その他一時的保護層を利用して）に施し、その後頂部層
ないし−Ｌ部層（１６）が形成される如く処１ユ１シ、
つぎに上塗りないしコーティングが挿入部（１９）とし
て現われる。この場合、頂部層ないし上部層（１６）は
、挿入部（１９）の材料ないし金属がいかなる不利な変
化、も象らない条件で形成されねは′ならない。
一般に、第１図、第２図Ｃは、各場合の層の厚さないし
層のＩ９ざの関係は、」法的に実際とは全く対応してお
らないことを強調しておかねばならない。第２図では、
第１図と同様、装飾物品（２０）の頂部ないし上部表面
の部分断面図が示されている。シリコンによって形成さ
れる基層ないし下部層（２４）が、第１の部域（２１）
で、上述の如くシリコン化合物（Ｓ！０２が望ｔｌＪし
ている。頂部層ないし上部層（２６）は、第２の部域（
２２２）　（２２３）の各々で、より薄い４７１２造と
なっている。これは、上部層（２６）が形成される間、
関連部分を適切に被覆することにより実現してもよいが
、なるべくは、エツチングを施Ｊべきでない部分に然る
べき被覆ないしマスキングを施して、例えば通常の化学
エラ除去により、露出中に部分的な層除去部域（２２２
）または全体的な層除去部域（２２３）ができ、さらに
、所望があれば、シリ」ン基礎材料ないし母金属のエツ
チングも可１指となる。
しかしながら、第２の部域（２２４）はより厚く施した
第２干渉色層（２１）によって形成されてもよい。どち
らの場合も、即ら、上部層（２Ｇ）の厚さを減じまたは
部分的に除去Ｊる場合も、部分的な厚さの増加、材料の
ｉ「積ないしは上塗りを行なう場合でも、第１の部域（
２１）と、第２の部域（２２２＞　（２２３）　（２２
４）との間に光学的に識別可能なコントラストが得られ
る。再び、不透明物質によって形成されるコーティング
ないし上塗り（２８）は、第１図に示す如く直接、また
は間接に厚さの増大した層の部域（２２４）を用い−Ｃ
上部層（２６〉の上に施してもｊ：り、装飾及び／また
は情報伝達１！を質その他類似の特質を有づる、４＝Ｊ
随的コン］−ラストを生り゛る結果となる。
装飾物品（２０）について、その表面が通１；鬼シリコ
ンから成っておらず、例えば実用的装飾物品即ちシガレ
ット・ライターの如ぎものの場合は、既に説明した如く
、シリコン基層（２４）を、シリコン元素から成ってい
ない物品の表面（２９０〉に、例えばハンガないし接着
層（２９１）を用い、あるいは他の周知の固定技術すな
わちビス止め、鋲止めの如き技術を用いて、固定１−る
ことかできる。
本発明による装飾物品の利点は、上部層（１６）（２６
）の干渉色が充分再現可能であること、祠料費と加工費
が比較的低いこと、代表的モース硬度７を備えた二酸化
シリコンのごとき固体シリコン化合物により形成される
層の抜ＩｉＹのｌ幾械的及び化学的抵抗性、その耐光性
、及びこれら層の比較的高い耐熱性にある。これら諸要
素により、比較的厳しい条件下での使用が可能であると
共に、例えば搬送部ないし支持部（２９）へのハンダ伺
けの如き加工作業が簡単に行なえる。
例えば、シリコン基層（２４）の下側（２４０）には、
例えば浴コーディングないし蒸着ににリハンダ金属の層
（２９１）を設りることかでき、搬送部ないし支持部（
２９）への連結のためのハンダイ」け温度までの加熱が
、特別な防乃手段の必要なく行い１５する。
従来の軟ハンダ温度は、空気中ひの加熱によるシリコン
酸化に要づる温度のノｊが＾いのＣ゛、色彩した上部層
（２６）には何ら０害な影響を及ぼさない。所望の場合
は、搬送部ないし支持部（２９）との熱結合用に、ヘリ
ウム、アルゴンの如き不活性ガスを用いて、より高温（
ｌｉｆｆｉハンダ）を用いてしよい。酸素まＩこは空気
が存在づる場合、シリコンは通富７００℃を越える？晶
度（・始めて酸化Ｊ−る。元素シリコン加熱にＪ：る酸
化シリコンの上部層（１６）　（２（ｉ）の反応による
形成の代表的濡疾は７００　’Ｃないしシリコンの溶融
点（１４１４℃）の範囲にあるが、なるべくは最高１３
８０°Ｃ，４：ｊに９００℃ないし１１００℃の間で、
加熱時間は３０分ないし６０分を標準とするのが望まし
い。
本発明の注目に値Ｊる利点の１つは、たとえば亜鉛メッ
キの如き従来の方法と比較して生産工程中の環境汚染が
少ないことである。
本発明による実用装飾物品または宝石製品の例どしては
、例えばペン、ボールペン、６°１）筆、化粧鏡、手鏡
、白わ）コンパクト、口紅用カートリッジ及びスリーブ
その他化粧品、時計ケース及び腕バンド、宝石製品ｌこ
とえぽブローチ、ペンダント、カフスボタン、ネクタイ
止め、宝石箱、腕輪、ネックレス、イアリング、化粧品
たとえばメーキャップベンシルのカーミーリッジ、香水
入れ、ボグット鏡、手鏡、ポクットヘアゾラシ、家ヘア
ブラシ、ひけ剃り用具及びブラシ、マニキュア用具及び
その信実用品たとえばシガレット・ライター、キーホル
ダー類（リング、］］ンデノーー、筆記具、シガレツ１
〜・ケース、宗教上の道具類、筆記物品、花びん、ポッ
ト、ソーザー、デープルの脚、電気スタンド、ろうそく
立て、モザイク、モ１アイク部品、家具、象眼細工、遊
戯デープル及びボードその他多数あるが、いずれも耐摩
耗性及び時効抗性を備えた１つまたは複数の鮮明な装ｆ
ｌｔｊを心間とりる。
イ光明の現在におけるりｆましい実施例を示し、説明し
ているわけであるが、本発明はこれに限定されるもので
はなく、１４ｒ［請求の範囲内で他にも種々実施される
ことを明白に理Ｆ］’？ゼねばならない。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明により作成した物品の表面構造の第１の
典型的実施例の部分断面図、第２例は本発明による物品
の表面構造の別の実施例の部分［Ｄｉ面図である。 （１０）　（２０）・・・装ｆ１１１１物品、（１１）
・・・表面、（１４）　（２４）・・・基層（基部層な
いし下部層）、（１６）　（２Ｇ＞・・・上部層く頂部
層）。 以　上 外４名

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 （１）　反射光中で着色しＩＣように見える少なくとも
    １つの表面から成り、 着色したように見える表面はシリコン基層と基層に堅固
    に連結された上部層とから成り、上部層は可視光線に対
    し透過性であり、かつ標準状態において固体で実質的に
    不活性で、干渉色発生に充分な厚さを備えたシリコン化
    合物から成っていることを特徴とする、装飾物品。 （２）　上部層が実質的に二酸化シリコンから成ること
    を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の装飾物品。 （３）　上部層が少なくとも部分的に、不透明な物質製
    のコーティングを備えでいることを特徴とする特許請求
    の範囲第２項記載の装飾物品。 く４）　上部層が少な、くとも部分的に、不透明な物質
    製の挿入物を備えていることを特徴とする特許請求の範
    囲第２項記載の装ｆｉｉｌｉ物品。 （５）　上部層が少なくとも部分的に、不透明な物質製
    のコーティングを備え−（いることを特徴とする特許請
    求の範囲第１項記載の装飾物品。 （６）　上部層が少なくとも部分的に、不透ＩＩＩ′Ｓ
    な物質製の挿入物を備えていることを特徴とする特許請
    求の範囲第１項記載の装飾物品。 （７）　上部層が第１の表面部域で、干渉色形成に充分
    な第１の厚さを備え、かつ第２の表面部域で第１の表面
    部域の光学的特性と明確に異なる第２の表面部域に光学
    的特性を賦与Ｊる第２の厚さを備え、その結果肉眼で識
    別し得るコントラストを発生することを特徴とする特許
    請求の範囲第１項記載の装飾物品。 （８〉　第２の表面部域が模様状の配列を備えているこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第７項記載の装飾物品。 （９）　第２の表面部域が画像状の配列を備え−Ｃいる
    ことを特徴とする特許請求の範囲第７項記載の装飾物品
    。 （１０）　第２の表面部域が筆記文字状の配列を備えて
    いることを特徴とする特許請求の範囲第７項記載の装飾
    物品。 （１１）　シリコン化合物により形成される上部層がほ
    ぼガラスと同様の澄明度を備えた実質的に１１ｃ色の物
    体から成ることを特徴とする特許請求の範囲第７項記載
    の装飾物品。 （１２）　シリコン化合物により形成される上部層が約
    ５０ないし１１０００ｎの範囲の厚さｒあることを特徴
    とする特許請求の範囲第１項記載の装飾物品。 （１３）　実質的にシリコン基層と上部層と：］−ディ
    ングまたは挿入物とから成ることを特徴とする特許請求
    の範囲第１項記載の装飾物品。 〈１４）　上部層が種々に変化する厚さを備えているこ
    とを特徴とする特ム′］請求の範囲第１３項記載の装飾
    物品。 （１５）　さらに、シリコン以外の物質から形成される
    キＶリアを含み、かつキャリアにシリコン基層が固定さ
    れていることを特徴とする、竹５′［請求の範囲第１項
    記載の装飾物品。 （１６）　物品の少くとも１つの表面部域に、基層とし
    てシリコン基層を施すとともに、シリコン基層に上部層
    を堅固に連結づる工程から成り、上部層は可視光線に対
    し透過性であり、かつ標準状態において固体で実質的に
    不活性で、干渉色発生に充分な厚さを備えたシリコン化
    合物から成ることを特徴どする、装飾物品の製造方法。 （１７）　上部層が実質的に、基層の酸化反応によって
    形成される二酸化シリコンから成ることを特徴とする特
    Ｖｆ請求の範［８１第１６項記載の方法。 （１８〉　さらに、上部層の複数部域に、不透明な物質
    により形成されるコーティングを／ＩＩ　ｉ工程を含む
    ことを特徴とする特許請求の範囲第１６項記載の方法。 （１９）　不透明な物質のコーティングが金属コーティ
    ングであることを特徴とする特許請求の範囲第１８項記
    載の方法。 （２０）　さらに、上部層の複数部域に、不透明な物質
    により形成される挿入物を設ける工程を含むことを特徴
    とする特許請求の範囲第１６項記載の方法。 （２１）　不透明な物質の挿入物が金属挿入物であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第２０項記載の方法。 （２２）　さらに、予め定めた上部層の複数部域を選択
    的に溶着または選択的に除去し、第１の干渉色発生表面
    部域と、第２の干渉色を発生しない表面部域との間に、
    肉眼で見えるコン］〜ラストを生せしめる工程を含むこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第１６項記載の方法。 （２３）　さらに、予め定めた上部層の複数部域を選択
    的に溶着または選択的に除去し、第１の干渉色発生表面
    部域と、別の干渉色を備えＩＣ第２の表面部域との間に
    、肉眼で見えるコントラストを生せしめる工程を含むこ
    とを特徴とする特ａ′１請求の範囲第１６項記載の方法
    。 （２４）　シリコンから成る基層が、また物品の基層を
    成していることを特徴とする特許請求の範囲第１６項記
    載の方法。 （２５〉　シリコンから成る基層が、シリコン以外の物
    質から成る物品の表面に固定されていることを特徴とす
    る特許請求の範囲第１６項記載の方法。 （２Ｇ）　さらに、上部層の形成に先立って、基層がつ
    やのない外観を呈するに至るまでこれを平滑にし、その
    後につやなしの外観を備えた平滑な上部層を形成する工
    程を含むことを特徴とする特許請求の範囲第１６項記載
    の方法。 （２１）　さらに、上部層の形成に先立って、基層がつ
    やのある外観を呈りるに至るまでこれを平滑にし、その
    後につやのある外観を備えた平滑な上部層を形成する工
    程を含むことを特徴とする特許請求の範囲第１６項記載
    の方法。 （２８）　シリコン基層がシリコンにより形成された基
    層から成り、固体で不活性なシリコン化合物により形成
    される干渉色発生コーティングを支持しており、かつ装
    飾物品の少なくとも一部として役立つことを特徴とする
    特許請求の範囲第１項記載の装飾物品。 （２９）　シリコン化合物が二酸化シリ、、］ン′Ｃあ
    ることを特徴とする特Ｖ１請求の範囲第２８１ｎ記載の
    装飾物品。
JP59129925A 1983-06-23 1984-06-22 装飾物品およびその製造方法 Pending JPS6013599A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR8310412 1983-06-23
FR8310412A FR2547775B1 (fr) 1983-06-23 1983-06-23 Procede de decoration d'un article, application d'un procede de traitement d'un element de silicium, utilisation d'une plaque de silicium traitee et article decore

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6013599A true JPS6013599A (ja) 1985-01-24

Family

ID=9290107

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59129925A Pending JPS6013599A (ja) 1983-06-23 1984-06-22 装飾物品およびその製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4599251A (ja)
JP (1) JPS6013599A (ja)
CH (1) CH654791A5 (ja)
DE (1) DE3422356A1 (ja)
FR (1) FR2547775B1 (ja)
GB (1) GB2143181B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993017593A1 (fr) * 1992-03-06 1993-09-16 Komatsu Electronic Metals Co., Ltd. Article decoratif en silicium
US5922213A (en) * 1994-08-01 1999-07-13 Komatsu Electronic Metals Co., Ltd. Method for the manufacture of ornamental silicon articles

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3533463C1 (de) * 1985-09-19 1987-04-30 Swarovski & Co Effektmaterial
DE3635567C2 (de) * 1985-10-29 1993-10-14 Andreas Biedermann Dekorierter Gegenstand
EP0399072B1 (de) * 1989-05-23 1992-12-09 BOCK & SCHUPP GMBH & CO. KG Schmuckstück
DE4238380B4 (de) * 1992-11-13 2004-02-19 Merck Patent Gmbh Verfahren zum Beschichten von Substratmaterialien mit einer glänzenden Beschichtung
US6197428B1 (en) 1994-08-26 2001-03-06 Deposition Sciences, Inc. Gemstones and decorative objects comprising a substrate and an optical interference film
US20040160414A1 (en) * 1996-07-05 2004-08-19 Armstrong Brad A. Image controller
ES2172227T3 (es) * 1997-09-30 2002-09-16 Winter Cvd Technik Gmbh Piedra para joyeria.
FI19992776L (fi) * 1999-12-23 2001-06-24 Nokia Mobile Phones Ltd Menetelmä optisen pinnan kuvioimiseksi värisellä heijastuksella
FR2855651A1 (fr) * 2003-06-02 2004-12-03 Jean Francois Lanier Procede de realisation de cadran d'afficheur par traitement de substrat en silicium
US8018852B2 (en) * 2003-08-22 2011-09-13 Alcatel Lucent Equal-cost source-resolved routing system and method
US8964513B2 (en) * 2005-06-14 2015-02-24 The Swatch Group Research And Development Ltd Technical or decorative piece associating a transparent material and a silicon based amorphous material and method of manufacturing the same
DE602005017620D1 (de) * 2005-09-06 2009-12-24 Eta Sa Mft Horlogere Suisse Uhr mit einem halbleitenden Zifferblatt
HK1190568A2 (en) * 2013-05-21 2014-07-04 Master Dynamic Limited A method and apparatus for frabricating a coloured component for a watch
EP3141966B1 (fr) * 2015-09-08 2018-05-09 Nivarox-FAR S.A. Procede de formation d'une surface decorative sur une piece micromecanique horlogere et ladite piece micromecanique horlogere
EP4016200A1 (fr) * 2020-12-21 2022-06-22 The Swatch Group Research and Development Ltd Procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage digital et dispositif d'affichage digital
JP2023140590A (ja) * 2022-03-23 2023-10-05 セイコーエプソン株式会社 時計用部品、時計用ムーブメントおよび時計

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB763336A (en) * 1952-12-09 1956-12-12 Nat Res Dev Improvements in or relating to surface treatment of metals
BE550586A (ja) * 1955-12-02
NL285088A (ja) * 1961-11-18
DE1621762B1 (de) * 1967-02-02 1976-07-08 Nautschno Inssledowatelskij Verfahren zur herstellung eines dekorativen gegenstandes mit einem aufgrund des interferenzeffektes mehrfarbig erscheinenden bild auf seiner oberflaeche
JPS4912033B1 (ja) * 1968-10-03 1974-03-20
US3647535A (en) * 1969-10-27 1972-03-07 Ncr Co Method of controllably oxidizing a silicon wafer
CH522516A (fr) * 1970-03-25 1972-06-30 Metaux Precieux Sa Procédé pour décorer la surface d'un objet métallique
DE2129053A1 (de) * 1971-06-11 1972-12-28 Steigerwald Strahltechnik GmbH, 8000 München Verfahren zur Herstellung von Oberflächen-Dessinierungen
JPS5216072B2 (ja) * 1971-12-29 1977-05-06
US4472240A (en) * 1981-08-21 1984-09-18 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Method for manufacturing semiconductor device
JPS5881976A (ja) * 1981-11-06 1983-05-17 Toru Mashida 装飾体の製造法
US4499147A (en) * 1981-12-28 1985-02-12 Ibiden Co., Ltd. Silicon carbide substrates and a method of producing the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993017593A1 (fr) * 1992-03-06 1993-09-16 Komatsu Electronic Metals Co., Ltd. Article decoratif en silicium
US5922213A (en) * 1994-08-01 1999-07-13 Komatsu Electronic Metals Co., Ltd. Method for the manufacture of ornamental silicon articles

Also Published As

Publication number Publication date
US4599251A (en) 1986-07-08
DE3422356A1 (de) 1985-01-03
CH654791A5 (de) 1986-03-14
GB8415234D0 (en) 1984-07-18
GB2143181B (en) 1987-02-11
FR2547775A1 (fr) 1984-12-28
GB2143181A (en) 1985-02-06
FR2547775B1 (fr) 1987-12-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4599251A (en) Decorated article, method of fabricating the same and substrates used in connection therewith
US4809417A (en) Method of making a multiplet jewelry product with internally embedded visual indicia
US20200293001A1 (en) Ceramic-based timepiece or jewellery component with a structured decoration
DE3135344A1 (de) "schutzbeschichtung fuer gegenstaende wie z.b. vergoldeten schmuck oder uhrenteile und verfahren zum herstellen solcher schutzbeschichtungen"
JP2018104814A (ja) 黄色層でコーティングされた真珠母基材
CN112631111A (zh) 钟表组件
KR20040100911A (ko) 보석장신구를 제조하는 방법
JP2025525847A (ja) 時計部品及び時計部品の製造方法
CN113495482A (zh) 钟表组件的制造方法
US5087528A (en) Fashion article
KR100894023B1 (ko) 패턴무늬 핫픽스 및 그 제조방법
JPS62270774A (ja) 硬質透光膜で被覆した装飾品
KR960041402A (ko) 금속제품의 장식용발색 제조방법
KR101985738B1 (ko) 장식부 내측에 외측으로 투시되는 문양이 형성된 장신구 제조 방법
JPH08103310A (ja) 宝飾品
US237085A (en) Thomas benfield
US1001013A (en) Decorated article.
JPH0339102A (ja) 板状金属装飾品または同様なバツジ、メダルまたは文字盤
JPH04122203A (ja) シリコン装飾品
US275569A (en) Method of ornamenting watch-cases and other articles of jewelry
JP2025530022A (ja) 時計部品及び時計部品の製造方法
JPS6027680Y2 (ja) 薄板平板状装飾品
CN2218095Y (zh) 景泰蓝工艺品
JP2009100857A (ja) 装飾品
HK40049412A (en) Horological component