JPS6028278A - 光電変換素子 - Google Patents
光電変換素子Info
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- JPS6028278A JPS6028278A JP58138224A JP13822483A JPS6028278A JP S6028278 A JPS6028278 A JP S6028278A JP 58138224 A JP58138224 A JP 58138224A JP 13822483 A JP13822483 A JP 13822483A JP S6028278 A JPS6028278 A JP S6028278A
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- conductive material
- layer
- conversion element
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/20—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising organic-organic junctions, e.g. donor-acceptor junctions
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/50—Photovoltaic [PV] devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は新規な光電変換素子に関する。
従来、光電変換素子としては、主としてシリコン半導体
の表面近くにP−n接合をつくることによシ得られるい
わゆる太陽電池が考案され実用化されている。しかし、
これとは別にもつと安価な有機材料、たとえばポリアセ
チレンなどの導電性高分子材料を半導体として利用した
ものや、たとえばフタロシアニンなどの有機色素の光増
感能を利用したものなどの検討も行われている。
の表面近くにP−n接合をつくることによシ得られるい
わゆる太陽電池が考案され実用化されている。しかし、
これとは別にもつと安価な有機材料、たとえばポリアセ
チレンなどの導電性高分子材料を半導体として利用した
ものや、たとえばフタロシアニンなどの有機色素の光増
感能を利用したものなどの検討も行われている。
これら有機材料を用いたサンドイッチタイプの光電変換
素子は主としてオ1図に示したような構造のものである
。
素子は主としてオ1図に示したような構造のものである
。
この動作原理は、透明または半透明電極(1)を通過し
た光(8)が、有機化合物層(2)に入射すると。
た光(8)が、有機化合物層(2)に入射すると。
透明または半透明電極Il+と有機化合物層(2)の界
面に電位差が生じ、リード線(5)および(7)の間に
光誘起電力が発生するというものである。この場合、透
明または半透明電極+11と有機化合物層(2)との間
には異方接合(例えばP−n接合)やショットキー接合
などができていることが必要で、さらに有機化合物層と
電極(3)は等方接合、例えばオーミック接触になって
いることが必要である。さらに詳しく言うと、光照射下
でのそれ自身の仕事関数(フェミル準位)の値が透明ま
たは半透明電極〉有機化合物層上電極、または透明また
は半透明電極く何機化合物層2電極となっていることが
必要で、リード線(6)%(7)間の電力は、通常前者
の場合には(5)が正極、後者の場合には(7)が正極
となる。有機光電変換素子とは、このような動作原理全
応用しようとするものである。
面に電位差が生じ、リード線(5)および(7)の間に
光誘起電力が発生するというものである。この場合、透
明または半透明電極+11と有機化合物層(2)との間
には異方接合(例えばP−n接合)やショットキー接合
などができていることが必要で、さらに有機化合物層と
電極(3)は等方接合、例えばオーミック接触になって
いることが必要である。さらに詳しく言うと、光照射下
でのそれ自身の仕事関数(フェミル準位)の値が透明ま
たは半透明電極〉有機化合物層上電極、または透明また
は半透明電極く何機化合物層2電極となっていることが
必要で、リード線(6)%(7)間の電力は、通常前者
の場合には(5)が正極、後者の場合には(7)が正極
となる。有機光電変換素子とは、このような動作原理全
応用しようとするものである。
しかしながらこのような有機材料を用いた光電変換素子
は、いずれも光電変換効率が低く、得られる光起電力が
不安定で、寿命が短いというような欠点があシ、実用化
のためには解決すべき問題点が多数残されている。
は、いずれも光電変換効率が低く、得られる光起電力が
不安定で、寿命が短いというような欠点があシ、実用化
のためには解決すべき問題点が多数残されている。
この発明は上記従来のものの欠点を除去するためになさ
れたもので、少なくとも一方が透光性であるオニ1第2
4醒材料並びにこのオl。
れたもので、少なくとも一方が透光性であるオニ1第2
4醒材料並びにこのオl。
第24電材料の間に介在されたπ−共役系高分子層及び
有機色素層を備えることによシ、応答波長域が拡大し、
光電変換効率が高く、安価で、長寿命の光電変換素子を
提供することを目的とする。
有機色素層を備えることによシ、応答波長域が拡大し、
光電変換効率が高く、安価で、長寿命の光電変換素子を
提供することを目的とする。
第2図は、この発明の一実施例の光電変換素子の断面図
である。即ち、(9)およびHは導電材料で、基板上に
専心材料層を設けることによっても得られるが図は簡単
のため4慰材料単独で用いた場合を示す。又、少なくと
も光照射側の尋電材料國は透光性である。導電材料(9
)上にπ−共役系高分子層(10)を設け、その上に有
機色素層(1りを設け、さらに導電材料Hを被着してな
るものであシ、導電材料(9)および(Iりにリード線
α荀およびHを結着し、電力を取り出せるようにしたも
のである。なお晴、州はリード接続端である。
である。即ち、(9)およびHは導電材料で、基板上に
専心材料層を設けることによっても得られるが図は簡単
のため4慰材料単独で用いた場合を示す。又、少なくと
も光照射側の尋電材料國は透光性である。導電材料(9
)上にπ−共役系高分子層(10)を設け、その上に有
機色素層(1りを設け、さらに導電材料Hを被着してな
るものであシ、導電材料(9)および(Iりにリード線
α荀およびHを結着し、電力を取り出せるようにしたも
のである。なお晴、州はリード接続端である。
この発明の一実施例の光電変換素子は上記のように構成
されておシ、この光電変換素子の動作原理の詳#1は現
時点では不明であるが、この発明者等は以下に述べるよ
うな光電変換機構のいずれか、又は二つ以上の混り合っ
た機構を考えている。即ち、 (I) Z−共役系高分子がP型の材料であシ、有機色
素がngである場合ではπ−共役系高分子と有機色素と
の間でP−n型のへテロ接合が形成され、光照射下では
接合領域で発生したキャリアー(′−子および正孔]が
接8頭域内での電界によって電荷分離を起こし外部に起
電力(または電流)を誘起させる機、構が考えられる。
されておシ、この光電変換素子の動作原理の詳#1は現
時点では不明であるが、この発明者等は以下に述べるよ
うな光電変換機構のいずれか、又は二つ以上の混り合っ
た機構を考えている。即ち、 (I) Z−共役系高分子がP型の材料であシ、有機色
素がngである場合ではπ−共役系高分子と有機色素と
の間でP−n型のへテロ接合が形成され、光照射下では
接合領域で発生したキャリアー(′−子および正孔]が
接8頭域内での電界によって電荷分離を起こし外部に起
電力(または電流)を誘起させる機、構が考えられる。
ここでπ−共役系高分子がnaL有機色素がP型である
場合でも同様の結果が得られるものと考えられる。
場合でも同様の結果が得られるものと考えられる。
(■)2−共役系高分子がP型またはn型の物質であれ
ば、P型の五−共役系高分子と仕事関数の小さい金属と
の間でショットキー型の接合が形成できると思われる。
ば、P型の五−共役系高分子と仕事関数の小さい金属と
の間でショットキー型の接合が形成できると思われる。
n型のπ−共役系高分子であれは仕事関数の大きい金属
との間でショットキー型の接合が形戎できると期待され
る。
との間でショットキー型の接合が形戎できると期待され
る。
ショットキー型の接合素子はそれ自身で光電変換素子と
して利用できるが光電変換能を高めるためにMIS型素
子(M:金属、ニー誘電体。
して利用できるが光電変換能を高めるためにMIS型素
子(M:金属、ニー誘電体。
S:半導体)が考えられておシ、この素子では単なるシ
ョットキー型の素子に比べ開放端電圧が上昇することが
知られている。
ョットキー型の素子に比べ開放端電圧が上昇することが
知られている。
このMIS型素子における誘電体として有機色素を用い
るという考え方である。
るという考え方である。
こ0で有機色素は単なる誘電体ではなく生得体部で利用
できない波長の光を吸収してキャリアーを発生させ、そ
のキャリアーを半導体および金属に電荷を注入し変換効
率を高めようとする考え方である。この場合、誘電体と
して用いる何機色素の厚膜(層膜〕はトンネル機構で電
流が流れる程度に薄くなければならない。
できない波長の光を吸収してキャリアーを発生させ、そ
のキャリアーを半導体および金属に電荷を注入し変換効
率を高めようとする考え方である。この場合、誘電体と
して用いる何機色素の厚膜(層膜〕はトンネル機構で電
流が流れる程度に薄くなければならない。
@I) (II)の考え方と良く似ているが、有機色素
が誘電体でありかつ(II)の場合程薄膜でない場合が
ある。この場合、導電材料(9)の仕事関数と辱′眠材
料04の仕事関数が異なる時雨4亀材料の仕事関数差に
基づき素子内部に′電位勾配が生じ有機色素層およびπ
−共役系高分子層中で光照射によって発生した電子−正
孔対を効率よく分離することによって外部に起電力(ま
たは電流〕を取シ出す機構でおる。この時両導電材料間
の仕事関数差が大きい程変換効率は大きくなると考えら
れる。この時、π−共役系高分子層がドーピング処理等
の方法でその抵抗が有機色素層のそれに比べて著しく低
ければ、両4亀材料の仕事関数差により発生する電位差
は有機色素層に殆んど印加され、有機色素層内で発生す
る光による電子−正孔対全より効率よく分離することが
できると考えられる。
が誘電体でありかつ(II)の場合程薄膜でない場合が
ある。この場合、導電材料(9)の仕事関数と辱′眠材
料04の仕事関数が異なる時雨4亀材料の仕事関数差に
基づき素子内部に′電位勾配が生じ有機色素層およびπ
−共役系高分子層中で光照射によって発生した電子−正
孔対を効率よく分離することによって外部に起電力(ま
たは電流〕を取シ出す機構でおる。この時両導電材料間
の仕事関数差が大きい程変換効率は大きくなると考えら
れる。この時、π−共役系高分子層がドーピング処理等
の方法でその抵抗が有機色素層のそれに比べて著しく低
ければ、両4亀材料の仕事関数差により発生する電位差
は有機色素層に殆んど印加され、有機色素層内で発生す
る光による電子−正孔対全より効率よく分離することが
できると考えられる。
以上のように光′電変換機構としては種々考えられるが
、いずれの場合も有機色画とπ−共役系高分子を組み合
わせて用いることによって利用可能な光の波長頭載を広
げ光電変換効率を著しく上げようとするものである。
、いずれの場合も有機色画とπ−共役系高分子を組み合
わせて用いることによって利用可能な光の波長頭載を広
げ光電変換効率を著しく上げようとするものである。
この発明の一英A例に用いるJJ!亀材料としては、金
臼企、クロムおよびパラジウムなどの仕事関数の大きい
金属、インジウム、アルミニツム、ガリクムおよびイン
ジウムとガリクムの合金などの仕事関数の小さい金属、
錫酸化物、殴化イ/ジクム、およびインジウム・錫酸化
物(工To)などの金属酸化物、並びにカーボンなどが
あげられる。
臼企、クロムおよびパラジウムなどの仕事関数の大きい
金属、インジウム、アルミニツム、ガリクムおよびイン
ジウムとガリクムの合金などの仕事関数の小さい金属、
錫酸化物、殴化イ/ジクム、およびインジウム・錫酸化
物(工To)などの金属酸化物、並びにカーボンなどが
あげられる。
又、オl導電材料がπ−共役系高分子層f!c電界重合
により直接合成・被着させる場合には、導電材料として
は、上記仕事関数の大きい金属、上記金属酸化物および
カーホ゛ンなどが好んで用いられる。
により直接合成・被着させる場合には、導電材料として
は、上記仕事関数の大きい金属、上記金属酸化物および
カーホ゛ンなどが好んで用いられる。
さらに有機色素層と接する第2導電材料としては、前記
光電変換機構(1)のP−n型のへテロ接合が形成され
る場合は有機色素層とオーミック接触をとり得る導電材
料が選ばれ、有機色素層がn型の時には上記仕事関数の
小さい金属が用いられ、有機色素層がP型の時には上記
仕事関数の大きい金属が用いられる。光電変換機溝(n
) 、 (III)のMlS型の素子構造を利用した光
電変換素子ではπ−共役系高分子とショットキー型接合
を形成すると期待される金属、すなわち、L−共役系高
分子がP型である場合には上記仕事関数の小さい金属が
、n型のπ−共役系高分子を用いる時には上記仕事関数
の大きい金属〃5用いられる。勿論、各場合において、
上記導電材料を2つ以上重ねて用いても良い。
光電変換機構(1)のP−n型のへテロ接合が形成され
る場合は有機色素層とオーミック接触をとり得る導電材
料が選ばれ、有機色素層がn型の時には上記仕事関数の
小さい金属が用いられ、有機色素層がP型の時には上記
仕事関数の大きい金属が用いられる。光電変換機溝(n
) 、 (III)のMlS型の素子構造を利用した光
電変換素子ではπ−共役系高分子とショットキー型接合
を形成すると期待される金属、すなわち、L−共役系高
分子がP型である場合には上記仕事関数の小さい金属が
、n型のπ−共役系高分子を用いる時には上記仕事関数
の大きい金属〃5用いられる。勿論、各場合において、
上記導電材料を2つ以上重ねて用いても良い。
この発明の一実施例に用いる透光性の等型材料で形成さ
れる電極構造としては透明電極を用いる時は特に問題は
ないが、通常、半透明になるように金属を有機色素層ま
たはπ−P、役系高分子上に真空蒸着、スパッタリング
、CVD(ケミカル・ベーパ・デボジショノ)およびメ
ッキ等の方法によって被着させる〇 この時の導電材料の光透先手としては導電材料と有機色
素層またはπ−共役系高分子層との接触抵抗や導電材料
自身の抵抗を考慮して決められ通常5から90%の間に
制御される。−万、p−n型の光電変換素子においては
光照射側のII電極構造しては入射光を有効にとり入れ
るべく、くシ型の電極構造が好んで用いられる。
れる電極構造としては透明電極を用いる時は特に問題は
ないが、通常、半透明になるように金属を有機色素層ま
たはπ−P、役系高分子上に真空蒸着、スパッタリング
、CVD(ケミカル・ベーパ・デボジショノ)およびメ
ッキ等の方法によって被着させる〇 この時の導電材料の光透先手としては導電材料と有機色
素層またはπ−共役系高分子層との接触抵抗や導電材料
自身の抵抗を考慮して決められ通常5から90%の間に
制御される。−万、p−n型の光電変換素子においては
光照射側のII電極構造しては入射光を有効にとり入れ
るべく、くシ型の電極構造が好んで用いられる。
なお、この発明の一実施例の光電変換素子において導電
材料が基板上に設けられている場合、基板としては、ガ
ラス、セラミック、およびグラスチックなどがあげられ
る0 この発明の一実施例に用いるπ−共役系高分子としては
、例えはポリアセチレン、ポリピロール、ポリチェニレ
/、ポリアニリン、ポリフェニレン類、ポリフェニレン
スルフィド、ポリフェニレンオキシドなど化学構造の骨
格に共役二重結合を有するものが用いられる。
材料が基板上に設けられている場合、基板としては、ガ
ラス、セラミック、およびグラスチックなどがあげられ
る0 この発明の一実施例に用いるπ−共役系高分子としては
、例えはポリアセチレン、ポリピロール、ポリチェニレ
/、ポリアニリン、ポリフェニレン類、ポリフェニレン
スルフィド、ポリフェニレンオキシドなど化学構造の骨
格に共役二重結合を有するものが用いられる。
又、π−共役系高分子の内部抵抗を下げる目的でドーピ
ング処理を行なうことが好ましい。通常、π−共役系高
分子はそれ自身では絶縁体であるが電子受容体(例えば
臭素、ヨウ素、ヨク化臭素、五フッ化ヒ累、および過塩
素酸素等]および電子供与体(例えばNa@ K I
r、i lおよびアミン等)をドーピングすることによ
って、それぞれP型およびn型の材料にすることができ
、その電専度も半欅体頭域から金属H域まで幅広く制御
万能である。
ング処理を行なうことが好ましい。通常、π−共役系高
分子はそれ自身では絶縁体であるが電子受容体(例えば
臭素、ヨウ素、ヨク化臭素、五フッ化ヒ累、および過塩
素酸素等]および電子供与体(例えばNa@ K I
r、i lおよびアミン等)をドーピングすることによ
って、それぞれP型およびn型の材料にすることができ
、その電専度も半欅体頭域から金属H域まで幅広く制御
万能である。
π−共役系高分子の中でも電解重合によって合成可能な
ものは合成時にドーピング処理が同時に行なわれること
、生じた高分子膜の厚みを通電電荷量によって制御でき
る等の利点を有していることから好んで用いられる。こ
のような電解重合法で合成できるπ−共役系高分子とし
てはビロールのホモポリマー、N−m換ピロールのホモ
ポリマー、ピロールトN−1fi換ピロールの共重合体
、ポリチェニレン(ポリチオフェン)會ポリアニリン、
ポリフランおよびポリアズレン等があげられ、いずれも
電解重合によって容易に合成できる。これらπ−共役系
高分子をこの発明の一実施例の光tL質質素素子用いる
場合は単独もしくは上記高分子材料を材料の光吸収特性
VC応じて二種以上重ねて用いても艮へこの発明の一実
施例に用いる有機色素としては、特定の波長の光を吸収
する能力を有するものであれば使用可能であるが、光電
変換効率を考慮すると、色素内でのホールの再結合を抑
えて、π−共役系高分子側に能率良く移動させることに
より、π−共役系高分子層を増感する能力を有するもの
が好ましく、Cのような色素化合物としては、たとえば
ローダミンBなどのキサンチン系、サフラニンTなどの
7エナジン系、チオニン、メチレンブルーなどのフェノ
チアジン系およびメロシアニン、フタロシアニンなどの
シアニン系のものなどがあげられる。これらは第2図に
示したようにπ−共役系高分子層上に層状に形成される
。この形成方法は通常の溶謀キャスト法(スピナーコー
ト、スズノーコート法なども含む)や蒸着法などでもよ
いが、ピンホールレスであることや色素の内部インピー
ダンスが犬きくな)すぎないことを考1ばすると厚膜2
00久〜1μmの範囲内とするのが好ましい。2oal
以下ではピーンホールが生じやすくなり、111m以上
では色素の内部インピーダンスが犬きくなシすぎる。
ものは合成時にドーピング処理が同時に行なわれること
、生じた高分子膜の厚みを通電電荷量によって制御でき
る等の利点を有していることから好んで用いられる。こ
のような電解重合法で合成できるπ−共役系高分子とし
てはビロールのホモポリマー、N−m換ピロールのホモ
ポリマー、ピロールトN−1fi換ピロールの共重合体
、ポリチェニレン(ポリチオフェン)會ポリアニリン、
ポリフランおよびポリアズレン等があげられ、いずれも
電解重合によって容易に合成できる。これらπ−共役系
高分子をこの発明の一実施例の光tL質質素素子用いる
場合は単独もしくは上記高分子材料を材料の光吸収特性
VC応じて二種以上重ねて用いても艮へこの発明の一実
施例に用いる有機色素としては、特定の波長の光を吸収
する能力を有するものであれば使用可能であるが、光電
変換効率を考慮すると、色素内でのホールの再結合を抑
えて、π−共役系高分子側に能率良く移動させることに
より、π−共役系高分子層を増感する能力を有するもの
が好ましく、Cのような色素化合物としては、たとえば
ローダミンBなどのキサンチン系、サフラニンTなどの
7エナジン系、チオニン、メチレンブルーなどのフェノ
チアジン系およびメロシアニン、フタロシアニンなどの
シアニン系のものなどがあげられる。これらは第2図に
示したようにπ−共役系高分子層上に層状に形成される
。この形成方法は通常の溶謀キャスト法(スピナーコー
ト、スズノーコート法なども含む)や蒸着法などでもよ
いが、ピンホールレスであることや色素の内部インピー
ダンスが犬きくな)すぎないことを考1ばすると厚膜2
00久〜1μmの範囲内とするのが好ましい。2oal
以下ではピーンホールが生じやすくなり、111m以上
では色素の内部インピーダンスが犬きくなシすぎる。
この場合においても再愼色素の光吸収特性に形じて二種
以上を嵐ねて用いてもよい。また、ドーピング処理され
たπ−共役系高分子層上に有機色素を被着させることは
π−共役系高分子層の保護膜とも成シ助作安定性を一段
と増す結果につながっている。
以上を嵐ねて用いてもよい。また、ドーピング処理され
たπ−共役系高分子層上に有機色素を被着させることは
π−共役系高分子層の保護膜とも成シ助作安定性を一段
と増す結果につながっている。
なお、前記第2図では、上方から照射を行なっているか
、辱電材料(9)を透光性とすれば下方から光照射を行
なっても差しつかえない。また、この発明の一英地例の
光電変換素子の片面あるいは全面金光透光性を損わない
材料もしくは例えば紫外線のみ遮断する材料など、例え
ばシリコン便力凱 エポキシ樹脂などで封止してもよい
。
、辱電材料(9)を透光性とすれば下方から光照射を行
なっても差しつかえない。また、この発明の一英地例の
光電変換素子の片面あるいは全面金光透光性を損わない
材料もしくは例えば紫外線のみ遮断する材料など、例え
ばシリコン便力凱 エポキシ樹脂などで封止してもよい
。
以下実施例によりこの発明の詳細な説明するが、これに
よりこの発明を限定しない。
よりこの発明を限定しない。
χ元側1゜
3.5 am X 7 cInのガラス基板上に真空蒸
着法によって厚さ1ooolのクロム(Cr)+−を設
け、更にこの上に金(Au )層をgooofの厚さに
真空蒸着法によって設けたものを作用電極(イ)とし足
(何効作用成極囲槓は2aルX 8.5 cm )、1
00m1のアセトニトリルにビロール(o、o7P)、
N−メチルビロール(0,85P)およびテトラエチル
アンモニクムパークロレー) (0,7y )e[解さ
せた液を反応溶液(イ)とした。対極として白金(pt
)電極を、参照電極としてBOB(飽和カロメル電極
)を使用し、反応接液(イ)中に、作用電極(イ)と共
に浸し、窒素ガス雰囲気下で、作用′i!極を陽極とし
て対極との間に一定電流(0,15mA Jを90分間
流し、作用電極(イ)上にπ−共役系高分子層を約40
0θXの厚さに形成し、アセトニトリルで洗浄後真空乾
燥を行い、π−共役系高分子試料(イ)を得た。次にπ
−共役系高分子層試料(イ)上にさらに真空蒸着法でメ
ロシアニン色素(日本感光色素社製:NK−2045)
を800xの厚さで設け、さらにその上にアルミニクム
(A、/)層を真空蒸着した。このときのAJ層単独の
光透過率は500Mの単色光に対して10%であった。
着法によって厚さ1ooolのクロム(Cr)+−を設
け、更にこの上に金(Au )層をgooofの厚さに
真空蒸着法によって設けたものを作用電極(イ)とし足
(何効作用成極囲槓は2aルX 8.5 cm )、1
00m1のアセトニトリルにビロール(o、o7P)、
N−メチルビロール(0,85P)およびテトラエチル
アンモニクムパークロレー) (0,7y )e[解さ
せた液を反応溶液(イ)とした。対極として白金(pt
)電極を、参照電極としてBOB(飽和カロメル電極
)を使用し、反応接液(イ)中に、作用電極(イ)と共
に浸し、窒素ガス雰囲気下で、作用′i!極を陽極とし
て対極との間に一定電流(0,15mA Jを90分間
流し、作用電極(イ)上にπ−共役系高分子層を約40
0θXの厚さに形成し、アセトニトリルで洗浄後真空乾
燥を行い、π−共役系高分子試料(イ)を得た。次にπ
−共役系高分子層試料(イ)上にさらに真空蒸着法でメ
ロシアニン色素(日本感光色素社製:NK−2045)
を800xの厚さで設け、さらにその上にアルミニクム
(A、/)層を真空蒸着した。このときのAJ層単独の
光透過率は500Mの単色光に対して10%であった。
このようにして得た光電変。
換素子試料を試P+(イ)とする。
実施例2゜
実施例1で得たπ−共役系高分子層試料(イ)を用いて
、この上に実施例1と同様に、有機色素の′−ローダミ
ンBftloooiLの厚さに真空蒸着し、さらにその
上に実施例1と同様の条件でAI!層を真空蒸着した。
、この上に実施例1と同様に、有機色素の′−ローダミ
ンBftloooiLの厚さに真空蒸着し、さらにその
上に実施例1と同様の条件でAI!層を真空蒸着した。
このようにして得た光電変換素子試P+を試料(ロ)と
する@ 実施例8.。
する@ 実施例8.。
実施例1で得た作用電極(イ)、および実施例1で用い
た対極および参M電極を用い、金庫らの方法C出版物
J、o、B、0h611. Oommun 、JP、8
82,1988年に従って約1 pm厚のポリチオフェ
ン膜を合成し、π−共役系高分子層試P+を口)を得た
0次にπ−共役系高分子層試料(ロ)上に、実施例1と
同様にメロシアニン色素およびAI!層を真空蒸着し、
光電変換素子試料を得た。
た対極および参M電極を用い、金庫らの方法C出版物
J、o、B、0h611. Oommun 、JP、8
82,1988年に従って約1 pm厚のポリチオフェ
ン膜を合成し、π−共役系高分子層試P+を口)を得た
0次にπ−共役系高分子層試料(ロ)上に、実施例1と
同様にメロシアニン色素およびAI!層を真空蒸着し、
光電変換素子試料を得た。
これを試料(ハ)とする。
比較例1゜
実施例1で得たπ−共役系高分子層試料(イj上に実施
例1と同様にkl)鹸を真空蒸着した。これを比較試料
(イ)とする。
例1と同様にkl)鹸を真空蒸着した。これを比較試料
(イ)とする。
比較例2゜
実施例1で得た作用電極(イ)上に、実施例1と同様に
メロシアニン色素およびAJ層を真空蒸着した。これを
比較試料(ロ)とする。
メロシアニン色素およびAJ層を真空蒸着した。これを
比較試料(ロ)とする。
比較例8
実施例1で得た作用電極(イ)上に、実施例2と同様に
ローダミンBおよびAJ層を真を蒸着した。これを比較
試料(ハ)とする。
ローダミンBおよびAJ層を真を蒸着した。これを比較
試料(ハ)とする。
上記実施例111〜(3)および比較例111〜+31
でNた試料(イ)〜(ハ)および比較試料(イ)〜(ハ
)について光電変換特性を、各試料のAu側と正、Al
側を負として以下に示す各試験によシ行なった。
でNた試料(イ)〜(ハ)および比較試料(イ)〜(ハ
)について光電変換特性を、各試料のAu側と正、Al
側を負として以下に示す各試験によシ行なった。
光起電力試験
gsowのクセノンランプおよび紫外線カツトフィルタ
ー(東芝製UV−88)、熱線カットフィルター(保谷
ガラス製HA−80)を用いて受光面で10mW/7の
光を各試料のAA’電極側から照射した。光照射開#1
3分後に各試料が発生した開放端電圧Voc(mV)お
よび短絡電流工sc(μA/cd)を表1にまとめて示
す。
ー(東芝製UV−88)、熱線カットフィルター(保谷
ガラス製HA−80)を用いて受光面で10mW/7の
光を各試料のAA’電極側から照射した。光照射開#1
3分後に各試料が発生した開放端電圧Voc(mV)お
よび短絡電流工sc(μA/cd)を表1にまとめて示
す。
表1. 各試料のVocおよび工8Q
(−:観測されなかった]
上表から、この発明の光電変換素子は優れた光起電力を
示し、特に大きな厄流密度の鍔られるのが特徴であると
いえる。
示し、特に大きな厄流密度の鍔られるのが特徴であると
いえる。
波長依存性試験
250Wのクセノンランプおよびバンドパスフィルター
東芝干渉フィルター:KL−4fli〜KL65)i用
いて、受光面で1mW!の光を試料(イ)および比較試
料(ロ)のAI!成極側から照射し、Voc (mv
)光波長(mm依存性を測定した。
東芝干渉フィルター:KL−4fli〜KL65)i用
いて、受光面で1mW!の光を試料(イ)および比較試
料(ロ)のAI!成極側から照射し、Voc (mv
)光波長(mm依存性を測定した。
測定結果を第8図に示す。
図中囚は試料(イl、tBlは比較試料(ロ)の特性で
ある。
ある。
第8図から、本発明の光電変換素子は特徴的に長波長側
の光に対しても応答することがわかる。
の光に対しても応答することがわかる。
また、光起電力試験および波長依存性試験の結果から、
この発明の光電変換素子は可視光に対して優れた変換効
率を示すものであることがわかる。
この発明の光電変換素子は可視光に対して優れた変換効
率を示すものであることがわかる。
安定・応答性試験
光起電力試験の光照射下で、試料(イl[ついて1周期
1分の割合で光照射の0N10 F Fの繰シ返しによ
るToe(mv)の愛他を測定した。測定結果のレコー
ダー・トレースを第4図に示す。
1分の割合で光照射の0N10 F Fの繰シ返しによ
るToe(mv)の愛他を測定した。測定結果のレコー
ダー・トレースを第4図に示す。
図中+C1tDl tBl (Flはそれぞれ1回目、
2回目、200回目、201回目のVoc(mv)の値
を示す。
2回目、200回目、201回目のVoc(mv)の値
を示す。
第4図から、この発明の光電変換素子は、優れた安定性
および優れた応答性を示すことがわかる。
および優れた応答性を示すことがわかる。
寿命試験
試料(イ)をシリコーン樹脂(信越シリコン社製:KF
j−1063で封止し、光起電力試験の光照射条件下で
連続800時間光照射を行い、VocおよびよりQの経
時変化を測定した。その結果、Vocおよびlec共初
期の90%以上の保持率部を示した。
j−1063で封止し、光起電力試験の光照射条件下で
連続800時間光照射を行い、VocおよびよりQの経
時変化を測定した。その結果、Vocおよびlec共初
期の90%以上の保持率部を示した。
このことから、この発明の光電変換素子は有機系素子と
しては長寿命のものであるといえる。
しては長寿命のものであるといえる。
以上説明したとうり、この発明は、夕なくとも一方が透
光性であるオl、第2尋電材料並びにこの第11第2導
電材料の間に介在されたπ−共役系高分子層及び有機色
素層を備えることによシ、応答波長域が拡大し、光電変
換効率が高く、安価で、長寿命の光′vIL変換素子を
得ることができ、例えば太陽電池、カラーセンサー、お
よび色彩認識センサーなどに広く適用・できる。
光性であるオl、第2尋電材料並びにこの第11第2導
電材料の間に介在されたπ−共役系高分子層及び有機色
素層を備えることによシ、応答波長域が拡大し、光電変
換効率が高く、安価で、長寿命の光′vIL変換素子を
得ることができ、例えば太陽電池、カラーセンサー、お
よび色彩認識センサーなどに広く適用・できる。
第1凶は従来の光電変換素子の断面図、第2凶はこの発
明の一実施例の光電変換素子の断面図、第8凶はこの発
明の一実施例の光電変換素子との比較例のそれの照射光
波長(mm)による開放端電圧Toe (mv )友化
を示す特性図、第4図はこの発明の一実施例の光電変換
素子の、光照射の0N10FF繰返し回数による開放端
電圧Voc(mv)f化を示す特性図である。 図において%+11は透明または半透明電極、+21は
何機化合物層、ta+は′a極、(4)、(6)はリー
ド接続端、(5)、(7)はリード線、(8)は照射光
、(9)、02は導電性材料、(lO)はπ−共役系高
分子層、(11)//′i有機色素層、σ私(Iりはリ
ード接続端、0蜀、9句はリード線、IAJは試料(イ
)の光電特性、(B)は比較試料(ロ)の光電特性、+
C1ρl (El iFlは各々光照射のON/6Il
?繰返し回数1回目、2回目、200回目、2(111
回目光電特性を示す。 なお図中同一符号は同−又は泪当部分を示す。 代理人 大台 増雄 11酌旧びシト1月−し目表出 特許庁長官殿 1、事件の表示 特”■召58−188224号2゛9
”1(7) @ 4?p光、変換素子3、補正をする者 氷衣[有] ’!81mBaGO−28278(8)5、補正の対象 6、 補正の内容 (1)明細書の特許請求の範囲を別紙のとおり訂正する
。 (2)同第7頁第20行の「金白金」を「金、白金」に
訂正する。 (3)同第10頁第20行の「制御万能」を「制御可能
」に訂正する。 (4)同第14頁第4行の「反応接液」を「反応溶液」
に訂正する。 (5)同第14頁第15行のl’−500mmJを「5
00 nm Jに訂正する。 (6)同第17頁下から第8行の「フィルター東芝干渉
フィルター」を「フ・イルター(東芝干渉フィルター)
」に訂正する。 (7)同第17頁下から5行の「光波長(mm Jを[
光波長(nm)Jに訂正する。 J(8)同第19頁第18行の「(mm)Jをr(nm
)Jに訂正する。 7、 添付書類の目録 補正後の特許請求の範囲を記載した書面1通 以上 特許請求の範囲 (1)少なくとも一方が透光性である第1、第2等電材
料、並び屯ここの第11第2導電材料の間に介在された
π−共役系高分子層及び有機色素ノーを備えた光電変換
素子。 (2)π−共役系高分子層が、ポリアセチレン、ポリフ
ェニレン類、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレ
ンオキシド、ピロールとN−置換ピa−ルの共重合体、
ピロールのホモポリン−1N−置換ピロールのホモポリ
ン−、ポリチェニレン、ポリアニリン、ポリフランおよ
びポリアズレンの円の少なくともmmで形成される特許
請求の範囲第1項記載の光電変換素子。 (3)有機色素層がπ−共役系高分子ノーを増感する゛
能力を有する化合物で形成されている特許請求の範囲
第1項または第2項記載の光電変換素子。
明の一実施例の光電変換素子の断面図、第8凶はこの発
明の一実施例の光電変換素子との比較例のそれの照射光
波長(mm)による開放端電圧Toe (mv )友化
を示す特性図、第4図はこの発明の一実施例の光電変換
素子の、光照射の0N10FF繰返し回数による開放端
電圧Voc(mv)f化を示す特性図である。 図において%+11は透明または半透明電極、+21は
何機化合物層、ta+は′a極、(4)、(6)はリー
ド接続端、(5)、(7)はリード線、(8)は照射光
、(9)、02は導電性材料、(lO)はπ−共役系高
分子層、(11)//′i有機色素層、σ私(Iりはリ
ード接続端、0蜀、9句はリード線、IAJは試料(イ
)の光電特性、(B)は比較試料(ロ)の光電特性、+
C1ρl (El iFlは各々光照射のON/6Il
?繰返し回数1回目、2回目、200回目、2(111
回目光電特性を示す。 なお図中同一符号は同−又は泪当部分を示す。 代理人 大台 増雄 11酌旧びシト1月−し目表出 特許庁長官殿 1、事件の表示 特”■召58−188224号2゛9
”1(7) @ 4?p光、変換素子3、補正をする者 氷衣[有] ’!81mBaGO−28278(8)5、補正の対象 6、 補正の内容 (1)明細書の特許請求の範囲を別紙のとおり訂正する
。 (2)同第7頁第20行の「金白金」を「金、白金」に
訂正する。 (3)同第10頁第20行の「制御万能」を「制御可能
」に訂正する。 (4)同第14頁第4行の「反応接液」を「反応溶液」
に訂正する。 (5)同第14頁第15行のl’−500mmJを「5
00 nm Jに訂正する。 (6)同第17頁下から第8行の「フィルター東芝干渉
フィルター」を「フ・イルター(東芝干渉フィルター)
」に訂正する。 (7)同第17頁下から5行の「光波長(mm Jを[
光波長(nm)Jに訂正する。 J(8)同第19頁第18行の「(mm)Jをr(nm
)Jに訂正する。 7、 添付書類の目録 補正後の特許請求の範囲を記載した書面1通 以上 特許請求の範囲 (1)少なくとも一方が透光性である第1、第2等電材
料、並び屯ここの第11第2導電材料の間に介在された
π−共役系高分子層及び有機色素ノーを備えた光電変換
素子。 (2)π−共役系高分子層が、ポリアセチレン、ポリフ
ェニレン類、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレ
ンオキシド、ピロールとN−置換ピa−ルの共重合体、
ピロールのホモポリン−1N−置換ピロールのホモポリ
ン−、ポリチェニレン、ポリアニリン、ポリフランおよ
びポリアズレンの円の少なくともmmで形成される特許
請求の範囲第1項記載の光電変換素子。 (3)有機色素層がπ−共役系高分子ノーを増感する゛
能力を有する化合物で形成されている特許請求の範囲
第1項または第2項記載の光電変換素子。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 [11少なくとも一方が透光性である第11第2導電材
料、並びにこの第11第2導電材料の間に介在されたπ
−共役系高分子層及び有機色素層を備えた光電変換素子
0 (2) π−共役系高分子層が、ポリアセチレン、ポリ
フェニレン類、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニ
レンオキシドピロールとN−置換ピロールの共重合体、
ピロールのホモポリマー、N−置換ピロールのホモポリ
マー、ポリチェニレン、ポリアニリン、ポリフランおよ
びポリアズレンの内の少くとも一種で形成される特許請
求の範囲オ1項記載の光電変換素子。 (3) 有機色素層がπ−共役系高分子層を増感する能
力を有する化合物で形成されている特許請求の範囲オ1
項または牙2項記載の光電変換素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58138224A JPS6028278A (ja) | 1983-07-26 | 1983-07-26 | 光電変換素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58138224A JPS6028278A (ja) | 1983-07-26 | 1983-07-26 | 光電変換素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6028278A true JPS6028278A (ja) | 1985-02-13 |
Family
ID=15216986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58138224A Pending JPS6028278A (ja) | 1983-07-26 | 1983-07-26 | 光電変換素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6028278A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61202481A (ja) * | 1985-03-06 | 1986-09-08 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 有機太陽電池 |
| JPS61256764A (ja) * | 1985-05-10 | 1986-11-14 | Nitto Electric Ind Co Ltd | シヨツトキ−接合素子 |
| JPS61256765A (ja) * | 1985-05-10 | 1986-11-14 | Nitto Electric Ind Co Ltd | ヘテロ接合素子 |
| JPS6345869A (ja) * | 1986-08-13 | 1988-02-26 | Nok Corp | 有機光電変換素子 |
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| US7057209B2 (en) | 2001-12-28 | 2006-06-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device, method of manufacturing the same and manufacturing apparatus therefor |
| US7199521B2 (en) | 2003-01-29 | 2007-04-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Electroluminescence device |
| US7239081B2 (en) | 2002-08-09 | 2007-07-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organic electroluminescent device |
| US7420203B2 (en) | 2001-12-05 | 2008-09-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organic semiconductor element |
| US8154193B2 (en) | 2002-08-09 | 2012-04-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organic electroluminescent device |
| US8183559B2 (en) | 2002-05-21 | 2012-05-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organic field effect transistor |
-
1983
- 1983-07-26 JP JP58138224A patent/JPS6028278A/ja active Pending
Cited By (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61202481A (ja) * | 1985-03-06 | 1986-09-08 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 有機太陽電池 |
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| US7473923B2 (en) | 2001-12-05 | 2009-01-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organic semiconductor element |
| US11217764B2 (en) | 2001-12-05 | 2022-01-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organic semiconductor element |
| US7982206B2 (en) | 2001-12-28 | 2011-07-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device, method of manufacturing the same, and manufacturing apparatus therefor |
| US7420210B2 (en) | 2001-12-28 | 2008-09-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device, method of manufacturing the same, and manufacturing apparatus therefor |
| US9048203B2 (en) | 2001-12-28 | 2015-06-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device, method of manufacturing the same, and manufacturing apparatus therefor |
| US10497755B2 (en) | 2001-12-28 | 2019-12-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device, method of manufacturing the same, and manufacturing apparatus therefor |
| US7719014B2 (en) | 2001-12-28 | 2010-05-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device, method of manufacturing the same, and manufacturing apparatus therefor |
| US7057209B2 (en) | 2001-12-28 | 2006-06-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device, method of manufacturing the same and manufacturing apparatus therefor |
| US9450030B2 (en) | 2001-12-28 | 2016-09-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Active matrix light-emitting device with overlapping electroluminescent layers |
| US8183559B2 (en) | 2002-05-21 | 2012-05-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organic field effect transistor |
| US8154193B2 (en) | 2002-08-09 | 2012-04-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organic electroluminescent device |
| US9650245B2 (en) | 2002-08-09 | 2017-05-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organic electroluminescent device |
| US8339036B2 (en) | 2002-08-09 | 2012-12-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organic electroluminescent device |
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