JPS6029358B2 - 印刷法 - Google Patents

印刷法

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JPS6029358B2
JPS6029358B2 JP11757478A JP11757478A JPS6029358B2 JP S6029358 B2 JPS6029358 B2 JP S6029358B2 JP 11757478 A JP11757478 A JP 11757478A JP 11757478 A JP11757478 A JP 11757478A JP S6029358 B2 JPS6029358 B2 JP S6029358B2
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JP
Japan
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ink
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Expired
Application number
JP11757478A
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English (en)
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JPS5544813A (en
Inventor
達夫 正木
豊司 西本
恵二 宮島
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 近年エレクトロニクス分野において、電子部品、あるい
は表示装置の一部に、配線パタ・‐ン、あるいは抵抗パ
ターン、蛍光体パターンなどを印刷手段により、パター
ニングする厚膜印刷技術の進歩は自覚しいものであるが
、その技術の主体は旧来のスクリーン印刷技術であり、
0.1肋以下の微細線パターンは原則として印刷不可能
であるなど、満足のゆくものではない。
最近になって0.1肋以下の微細線パターン形成用とし
て、グラビア(凹版)オフセット陰印刷方式が開発され
つつある。この方式では固いインキを用いねばならない
微細線の再現については、大きなインキ膜厚で精度の高
いものが得られる。しかし皮肉なことにべタ柄或いは線
幅1柵といった太いパターンになると版の凹部に均一に
インキングをすることが驚かし〈、周辺部ではインキが
沢山つくが、パターンの中心部ではインキがつきにくい
という中抜け現象を起す。そのためべタ柄或いは大線と
紬線が混在するようなパターンは、厚膜形成が驚かしか
つた。その他普通の印刷方式としては、凸版オフセット
印刷方式や平版オフセット印刷方式などがあるが、いず
れも、インキ膜厚が5r以下と薄く、またパターンその
ものも輪郭が鯵んで、きれいなものは得られにくい。本
法は、これら印刷法におけるク0点を解消した厚膿印刷
用の新規な印刷法である。
以下詳細に説明する。印刷形態としてはオフセット形角
式をとる。
第1図〜第3図に示した印刷順にしたがって説明する。
第1図転写体1上の転写層2にスクリーン印刷版3のス
キージ4の移動と、転写体の回転を同期ごせて均一イン
キ皮膜を形成する。転写層2にインキ5を施す手段は、
ロールコーター法、スクリーン印刷法、あるいはドブ漬
け法などがあり、適当に選択できる。転写体1はタコ印
刷法で用いられるような釣り鐘状でもよいが、普通は精
度の良い再現が期待できる円筒シリンダー形状がよい。
転写体1上の転写層2はインキ5の授受を円滑におこな
うためと、版や被印刷物を傷づけたりしないために設け
られるもので、通常の場合は、天然ゴム、スチレンープ
タジェン共重合体、ニトリレゴム、クooプレンゴム、
プチルゴム、エチレンプロピレンゴム、ウレタンゴムな
どを被覆したゴムブランケットを用いるが、本発明では
ィンキの転移、特に転写体1上につけたインキ層を次に
接触するインキ除去版に完全に移すことが必要なため剥
利性の良い、シリコーン化合物、もしくはフッ素化合物
、あるいは双方の混合体などを用いるか、あるいはこれ
らにより表面被覆したもので形成することが望ましい。
剥離性の良い転写層を形成するためには、上記合成ゴム
や天然ゴムを被覆したゴムロール、あるいはプランケン
トの表面に、シリコーンオイル、シリコーンワニスで代
表される離型剤を塗っても良いし、あるいはシリコーン
ゴムの薄膜層を形成してもよい。またシIJコーンゴム
により転写層そのものを形成してもよい。また同じ目的
でフッ素系樹脂、フッ素系ゴムも利用されうるし、フッ
素樹脂微粉末をシリコーンゴムあるいは、普通のゴムに
混ぜて剥離性を出すなどの使い方をしてもよい。いずれ
も適度のインキ受容性を有すると同時に、一度受容した
インキの完全なインキ剥離性を有することが望ましい。
具体的なシリコーンとしては、ジメチルポリシロキサン
の各種分子量のもの、その他メチルハイドロジエンポリ
シロキサン、メチルフエニルシリコーンオィル、メチル
塩素化フェニルシリコーンオィル、あるいはこれらポリ
シロキサンと有機化合物との共重合体など、変成したも
のが使われうる。
シリコーンゴムとしては、二液型のジオルガノポリシロ
キサンと架橋剤としての三官能性以上のシラン、または
シロキサン及び硬化触媒を組み合わせたもの、あるいは
一液型ではジオルガノポリシロキサンとアセトンオキシ
ム、各種メトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン
等の組合わせなどが用いられ、その他ゴム硬度を調節す
るためのポリシロキサンが適宜用いられる。フッ素樹脂
としては、ポリテトラフルオロェチレン、テトラフルオ
ロエチレンーへキサフルオロプロピレン共重合体、ポリ
クロロトリフルオロェチレン、ポリフッ化ビニリデンな
どがフィルムあるし、は離型剤といった形で用いられう
る。転写層2上に或る一定の厚さで形成されるインキ層
6aは、スクリーン印刷が、パターン形成が可能なこと
、厚膜形成ができるなどの面で有利だが、ベタ柄に関し
ては、ナイフコーター、ロールコーターで塗布しても良
いし、フレキソ印刷版、グラビア印刷板などを通常の印
刷法にてインキを供給しても良い。
本法において適用されるインキとしては、膜厚、固形分
含有比などによって、多少変化するが、約5,000〜
2加oise程度の粘度を持ったものが望ましい。
この粘度範囲には通常平版オフセット印刷、凸版印刷な
どに用いられるインキ粘度が該当する。この範囲よりは
ずれる、例えば凹版(直刷り)用のインキでは、粘度が
高すぎて(5,000〜8,00蛇oise)転写層2
上に均一皮膜形成が驚かしい。また逆に、この粘度範囲
より低いもの、例えばグラビアインキ、一部グラビアオ
フセットインキでは、フローが大きく、微細な厚膜形成
には不向きである。また更に言えば、インキに用いられ
る揮発溶剤類は、印刷安定性の面から高沸点系溶剤が好
ましく、沸点150℃以上のものを主成分とすることが
望ましい。転写層2上に均一インキ層6aを形成した転
写1‘ま、第2図に示すごとく回転移動して、インキ除
去版7上を転がり、その凸部パターン7aの形状に従っ
てィンキ層6Dを移す。この時、インキ除去版7に形成
されている凸部パターン7aは、被印刷物8を最終的に
移されるパターンのネガパターンである。この時に転写
層2面が剥離性を有するので印圧を調節することにより
、接触した凸部パターン7aにのみインキが完全に転移
し、転写層2には、除去版7の凹部に相当するインキ層
6cがポジパターンとなって残る。次に第3図に示すよ
うにかかるインキ層6cを転写体1を更に回転させ、被
印刷物8上に転写させて、ポジパターンを形成する。更
に次の印刷にそなえて、インキ6bは、クリーニングロ
ールなどを通して清浄化されて、印刷のワンサィクルが
終了する。従って、かかる被印刷物上のポジパターンの
印刷品質は、第2図の凸版7の精度によるが、凸版には
通常印刷で用いられる、亜鉛、銅などの金属版、あるい
は、樹脂版を用いることにより、凹版グラビアなみの高
精度のものを得ることができる。特に不安定で、耐刷力
のないスクリーン印刷では再現できない高精度な、印刷
パターンを金属版が再現できる。また通常の凸版直刷り
法にくらべて、剥離性転写層2‐上のインキがごく軽い
印圧で被印刷物にうつるため、凸版印刷特有のマージナ
ルゾーンなどでパターン形状が悪くなることもほとんど
なく、良好な画質が得られる。更にグラビア印刷法など
の凹版特有のべタ柄の再現が難かしいという欠点を本法
では生じない。また、エッチング凹版を使用した時にで
きるインキ皮膜の不均一性もない。またインキ膜厚は、
転写層に印刷するのにスクリーン印刷を用いた場合、1
0〜40ムといった厚膜の形成が可能である。微細線の
再現については、普通印刷用の写真凸版で用いられる絹
版が30〜100ム位のドットで形成されていることを
みてもわかるように、50仏前後の微細線を凸版上べ形
成することは十分可能であり、直か刷り方式でなく、オ
フセット形式で、更に印圧は、オフセット形式の中でも
小さいから版の損耗も少なく、樹脂版のようなものでも
かなりの耐刷力が認められる。
被印刷物に転写すべきインキ層6c以外のインキ層6b
は除去版7上に移されて、洗浄されたりすることにより
、除去されてしまうが、転写層2に形成される均一厚味
インキ層6aを作るに際して、不要部分除去版7にとら
れてしまう部分)を最小限度になるよう、スクリーン印
刷等でできる限りの印刷精度で、転写体1にパターン状
のインキ層6aを施せば、ごくわずかの損失ですむ、以
上の方法により10〜40山といった厚膜パターンの形
成において、総て均一な厚味でべタ柄と微細線の混在て
いるようなパターン形成に有効な手段を提供できる。
以下実施例に従い具体的に説明する。
実施例 平台オフセット平版印刷機(大日本スクリーン製造■製
)のプランケット腕に下記組成のシリコーンゴム層を2
.3肌厚に形成し、転写層とした。
プランケット胴(転写体)上の転写層に、バーコーター
にて、インキ層を均一に形成した。インキ層の厚味は、
約15〃前後であった。インキは下記組成のものを使用
した。
べタ柄インキパターンを転写層上に形成したプランケツ
ト8同を、あらかじめ版定盤の上にのせてあるインキ除
去版上を回転・移動させ除去版の凸部にインキ転移した
この時の除去版は、120仏ピッチで60仏線幅のライ
ンがならんだものと、10肋×1仇吻の市松模様が凹凸
となって形成されたパターンである。連続印刷した場合
の結果は次表に示す。
上表に示されたように精密なパターンと大柄なべタパタ
ーンの両方を精確かつ耐刷性も良好に印刷している点、
本発明の優れた特徴が出ている。
【図面の簡単な説明】
第1図から第3図までは、本発明の印刷法の実施例を工
程順に示す説明図である。 1・・・・・・転写体、2・・・・・・転写層、3・・
…・スクリ−ン印刷版、4……スキージ、5……インキ
、6a,6b,6c・・・・・・インキ層、7・・・・
・・インキ除去版、8……被印刷体。 第1図 第2図 第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 表面にシリコーンもしくはフツ素化合物あるいはそ
    の混合体よりなるインキ剥離性の転写層を有する転写体
    上に適当な膜厚分布に応じたインキ皮膜を形成する工程
    と、該転写体を所望の凸部パターンを有するインキ除去
    版上に接触させ凸部パターン上にインキ皮膜を転移させ
    ることにより転写体上のインキ皮膜をパターン化する工
    程と、該転写体を被印刷体に圧着し転写体上に残るイン
    キ皮膜のパターンを被印刷体に転写する工程とを具備す
    ることを特徴とする転写印刷法。
JP11757478A 1978-09-25 1978-09-25 印刷法 Expired JPS6029358B2 (ja)

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JPS5544813A JPS5544813A (en) 1980-03-29
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JP2007268870A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Toppan Printing Co Ltd 印刷物の製造方法

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JP4513430B2 (ja) * 2004-07-02 2010-07-28 凸版印刷株式会社 エレクトロルミネッセンス素子の製造方法

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