JPS602943B2 - 鋳物砂の水分測定及び調節方法 - Google Patents

鋳物砂の水分測定及び調節方法

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JPS602943B2
JPS602943B2 JP11383679A JP11383679A JPS602943B2 JP S602943 B2 JPS602943 B2 JP S602943B2 JP 11383679 A JP11383679 A JP 11383679A JP 11383679 A JP11383679 A JP 11383679A JP S602943 B2 JPS602943 B2 JP S602943B2
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moisture
foundry sand
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slits
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竜三郎 石坂
和男 小田
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は鋳物砂の水分測定及び調節方法に関するもので
ある。
従来に於けるこの種の方法は鋳物砂に附着した水分の量
に併なう鋳物砂の成型性の変動に着目し、これを測定す
ることによって鋳物砂の水分量を知り水分添加を行なう
水分調節方法が良く知られている。
以下第1図〜第4図に基づき従来例について説暁する。
第1図は従来に於ける水分測定装置である。上部トラフ
1の下方に於いて右方にいくにつれて次第に間隔を大き
くしたスリット5,7,9を設け、且つ底が右方にいく
につれて低くなるようにした4ケタの中間トラフ4,6
,8,10を設ける。又、中間トラフ4の上方に位置す
るよう上部トラフ1の底部2へスリット3を設ける。更
に中間トラフ4,6,8,10の下方に下部トラフ11
を設けて上部トラフ1の本体にて支承し、該下部トラフ
11の底部側壁にスリット5,7,9より落下する鋳物
砂18を検出する光電管12P,13P,14P及び投
光器12P′,13P′,14P′(第2図)の透光用
の孔12,13,14を設ける。こうした構成からなる
鋳物砂分離装置1′を振動装置15を備えた弾性支承体
16によって支持し、更に混練装置(図示せず)から前
記鋳物砂18を該鋳物砂分離装置1′へ供給する為のシ
ュート17を設ける。第2図は第1図の−点鎖線部をA
,A′矢視方向から見た断面図である。
1は上部トラフ、2は上部トラフ1の底部、8は中間ト
ラフ、11は下部トラフ、12,13,14は透光用の
孔、12P,13P,14Pは光電管、12P′,13
P′,14P′は投光器である。
次に作用について説明する。
第1図に於いて振動装置15を作動して分離装置1′全
体を振動させながら、混練装置(図示せず)より上部ト
ラフーへ鋳物砂18をシュート17を経て供給する。供
給された鋳物砂18は上部トラフ1上を右方へ移動して
、ほとんどの鋳物砂18はスリット3から落下する。し
かし水分量がある限度以上になると鋳物砂18はスリッ
ト3の間隔より大きく凝集してスリット3からは落下せ
ず、そのま)上部トラフー上を右方へ移動し底部2の右
端より落下する事となる。スリット3から下方の中間ト
ラフ4へ落下した鋳物砂18は更に中間トラフ4,6,
8,10の順に右方へ移動する。この移動する過程に於
いて水分量の少ない程スリット5,7,9の順に落下す
る。しかし水分量がある限度以上になるとスリット5,
7,9の間隔より大きく凝集してスリット5,7,9か
らは落下せず右方へ移動し中間トラフ10の右端より落
下する。スリット5,7,9から落下した鋳物砂18は
トラフ11上を再び右方へ移動する。
この移動過程に於いてスリット5から落下した鋳物砂1
8が孔12の位置に来ると光電管12日こよって検出さ
れる。同様にスリット7,9から落下した鋳物砂18を
夫々孔13,14に於いて光電管13P,14Pにより
検出する。第3図は上記の光電管12P,13P,14
Pの実際の検出結果を示す。
グラフ20,21,22は夫々光電管12P,13P,
14PのON,OFF状況を示す。第4図は水分調節方
法の従来例を示す図である。
第4図に於ける12P,13P,14Pは第1図〜第3
図に於いて述べた光電管である。12S,13S,14
Sは各光電管12P,13P,14PのONの時の出力
信号である。
23,24,25は順に流量を大きくした給水管である
23V,24V,25Vは各出力信号12S,13S,
14Sに基づき作動する制御弁であり、順に流量が大き
くなっている。
26は鋳物砂18の泥練装置である。
27は各出力信号12S,13S,14Sを制御弁23
V,24V,25Vの操作信号に変換する為の調節器で
ある。
次に作用について説明する。
各光電管12P,13P,14Pの検出による夫々の出
力信号12S,13S,14Sは調節器27により制御
弁23V,24V,25Vの操作信号12S′,13S
′,14S′に変換される。こうして制御弁23V,2
4V,25Vを開閉することによって混練装置26に於
いて鋳物砂18への水分添加量を調節する。こうした従
来例に依る水分測定及び水分調節方法には次の大きな3
つの問題点がある為に通常の鋳物砂の水分管理に対して
利用価値は極めて低いものであった。
先ず第一に水分測定に関しては、第3図のグラフ20,
21,22にて示される様に、鋳物砂の実際の水分を数
値(%)として人が目議する為の指示が出来なかった点
である。
従って目標水分量と比較することが出来ない為、漉練過
程に於ける水分添加量が適切か否かの判断を人間に依っ
てすることが極めて困難であった。即ち水分の測定指示
装置として利用する事が出来なかった。第二に水分調節
に関しては、第3図のグラフ20,21,22にて示さ
れるように各光電管のONからOFF、あるいはOFF
からONに移る時間が極めて短い為に制御弁の開閉動作
が追従出来ない点である。
第三に同じく水分調節に関する問題点として次の事が挙
げられる。
第1図に於いて鋳物砂の水分の少ない程、光電管12P
,13P,14Pの順に検出するのであるが、スリット
5,7,9から鋳物砂が落下する場合、全体として同一
水分でありながら、濠練の不均一やダマの影響等により
、ある鋳物砂はスリット5から落下し、ある鋳物砂はス
リット7から落下する場合があることである。更に同じ
光電管、例えば光電管12Pにて検出する鋳物砂に於い
ても、当然水分量に、或る中、即ちバラツキがある。こ
れはスリット数に限度がある以上当然の事である。しか
しながらこれに対し従来例の水分添加は同一光電管で検
出した場合には単一の水分添加しか行なわれない。従っ
て通常の鋳物砂の水分管理上に於いて、目標水分値に対
する水分調節の厳密な精度を維持することが困難となる
。本発明の目的は第1図に示す測定装置を利用して、以
上の3つの従来欠点を解消した鋳物砂の水分測定及び調
節方法を可能とすることである。
本発明について第5図〜第7図の実施例に基づき説明す
る。第5図は本発明の鋳物砂の水分測定指示及び調節方
法の一実施例図である。
12P,13P,14Pは第1図〜第3図に於いて述べ
た光電管である。
12S,13S,14Sは各々の光電管12P,13P
,1 4PのONの時の出力信号である。
30は入力信号12S,13S,14Sにより演算を行
なう記憶演算装置、30′は入力信号30Sにより水分
値(%)を表示する指示制御装置、32は操作信号31
Sにより作動する制御弁、33は給水管である。
18,26は第4図に示す鋳物砂及び鷹連装置である。
次に本発明の作用について説明する。各光電管12P,
13P,14Pからの出力信号12S.13S,14S
は従来例に於いて説明した様に第3図にて示される。こ
の出力信号12S,13S,14Sの組合せ、即ち各光
電管12P,13P,14PのON,OFFの組合せに
基づき水分量を数値(%)として指示する。
これは第1表に示す様に予め第1表各光電管12P,1
3P,14PのON,OFFの組合せに対応する水分値
(%)を求めておくものとする。
(但し第1表に示すのは主な組合せのみである。)この
第1表の水分値(%)を以下設定水分値と呼ぶこと)す
る。この設定水分値を求める方法は、各種の水分値(%
)に混練調整した鋳物砂を第1図の測定装置にて実際に
測定して各種水分値(%)に対応する各光電管12P,
13P,14PのON,OFF状態を知る事によって撮
られる。この設定水分値(%)と、これに対応する各光
電管のON,OFFの組合せを記憶演算装置30に記憶
させておき、第6図に於いて示す様なグラフ20,21
,22(第3図に同じ)からなる出力信号12S,13
S,14Sの組合せとを記憶演算装置30にて比較を行
ない、例えば第6図に於けるa,b,c,d……i(%
)という様に0.1秒毎に水分量を数値(%)に置換す
る為の換算を行なう。
そしてこの換算水分値(%)の100ケ毎について第7
図に示す様に、平均水分値を,b′,c′・・・・・・
e′(%)・・・・・・を算出する。即ち0.1秒毎に
点線部で示す様に1ケの換算水分値(%)を次々に更新
して、常に100ケの換算水分値(%)についての平均
を行ない、平均水分値(%)を算出する。そしてこの平
均水分値(%)を指示制御装置30′へ入力信号30S
として人が自訴出来るように指示する。(これにて従来
の第一の問題点を解消できることとなる。)次に水分の
調節に関しては指示制御装置30′にて前記平均水分値
(%)と、目標水分値(%)との偏差値を求めて、これ
に応じた適切は水分添加を行なう様に制御弁32の操作
信号31Sに変換する。
そしてこの操作信号31Sは0.1秒毎に、規則的に出
力されることによって確実に制御弁32の動作が追従し
て、弁開度を調節するこをが出来る。間、前記平均水分
値(%)は0.1秒毎に算出する場合を示したが、制御
弁32の動作特性に応じてこの算出時間の間隔を適宜増
減することにより、正確に制御弁32の動作を追従せし
め得ることは明らかである。
(これにて従来の第二の問題点を解消できることとなる
。)次に先に例示した様に換算水分値(%)100ケ毎
について平均する目的について述べる。
このことは、先に述べた測定指示精度を向上させると共
に、従来の第三の問題点を解消することに結びつくもの
であり、本発明の最も重要な点である。従来の第三の問
題点で述べた様に同一の光電管にて、検出される鋳物砂
にも水分量のバラッキがあり、更にスリット5,7,9
(第1図)から鋳物砂が落下する場合に、同一水分量で
ありながら、ある鋳物砂はスリット5から落下し、ある
鋳物砂はスリット7から落下する場合が起り得る。これ
に加えて前記設定水分値(第1表)の設定誤差等を考慮
すれば、第6図に示す0.1秒毎の換算水分値(%)a
,b,c・・・・・・i(%)は単に数値化した丈に過
ぎず、その数値(%)の信頼度は極めて低いものとなる
。従ってこれを解消する為に以上例示した通り、100
ケの換算水分値(%)を0.1秒毎に平均した、平均水
分値(%)を求めることによって、測定精度のバラッキ
を挟正しようとするものである。こうして求めた平均水
分値(%)に基づいて前に説明した様に第5図の制御弁
32を制御する為、目標水分値に対する厳密な精度を維
持しつつ適切な水分添加を行なうことが可能となる。具
体的に数値で表現すれば従来精度士0.3%〜士0.5
%を±0.1%以下に向上できることとなる。以上本発
明の効果を纏めて繰り返し述べると、第一に従来に於い
て出来なかった水分値(%)の監視を可能とし、しかも
指示精度を向上させた鋳物砂の水分測定指示装置を可能
とした。
第二に水分測定指示装置からの操作信号に対して、水分
添加調節部の作動が確実に追従出釆るような鋳物砂の水
分調節装置を可能とした。第三に上記水分調節装置に於
ける調節精度を従釆の士0.3%〜土0.5%から土0
.1%以下に向上させることが出来る点である。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の水分測定装置を示す断面図、第2図は第
1図の一点鎖線部をA,A′矢視方向から見た断面図、
第3図は第1図の測定装置による測定結果を示す図、第
4図は従来の水分調節方法の実施例図、第5図は本発明
の水分測定及び調節方法の実施例図、第6図は本発明に
於いて第3図の測定結果から水分値を換算する実施例図
、第7図は本発明による換算水分値の平均値を求める実
施例図である。 1,4,6,8,10:トラフ、3,5,7.9:スリ
ット、12P,13P,14P:センサー、18:鋳物
砂、26:混練装置、30:記憶演算装置、30′:指
示制御装置、a,b,c〜−i:換算水分値、a′,b
′,c′〜e′:平均水分値。 ナー図 才2図 才3図 才4図 才5図 才る図 オ7図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 鋳物砂を混練装置から巾の異なる複数個のスリツト
    を設けたトラフに供給し、前記スリツトのいずれから落
    下したことを複数個のセンサーで検出して水分値を測定
    し、且つこれに基づいて目標水分値を維持するよに、水
    分添加量を調節する鋳物砂の水分測定及び調節方法に於
    いて、予め前記複数個のセンサーの検出作動の組合せ状
    態に対応する水分値を設定し、該設定水分値を記憶させ
    た記憶演算装置により、前記複数個のセンサーから送ら
    れる検出作動の組合せを、或る一定時間々隔毎に水分値
    に換算を行ない、該換算水分値の或る一定個数について
    の平均値を、前記一定時間々隔毎に求め、該平均水分値
    の指示制御装置への入力とし、監視可能に指示すると共
    に、前記混練装置にて水分添加量を調節することを特徴
    とする鋳物砂の水分測定及び調節方法。
JP11383679A 1979-09-05 1979-09-05 鋳物砂の水分測定及び調節方法 Expired JPS602943B2 (ja)

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