JPS6029681B2 - ピラゾリウム塩を含有する雑草抑制組成物 - Google Patents

ピラゾリウム塩を含有する雑草抑制組成物

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JPS6029681B2
JPS6029681B2 JP49109427A JP10942774A JPS6029681B2 JP S6029681 B2 JPS6029681 B2 JP S6029681B2 JP 49109427 A JP49109427 A JP 49109427A JP 10942774 A JP10942774 A JP 10942774A JP S6029681 B2 JPS6029681 B2 JP S6029681B2
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    • C07D231/02Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
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    • C07C45/45Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by condensation
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    • C07C49/313Saturated compounds containing keto groups bound to rings polycyclic
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は下記の式1の構造を有するピラゾリウム化合物
を有効成分とする除草剤組成物に関する。
(こ)にR,とR2は夫々メチル基;R3とR4は夫々
シクロアルキル基C3〜C6,アルキル基C2〜C,.
および基よりなる絹 から選ばれた基であり、Xは1,CH3S04またはC
I04を表わし、mは陰イオンの価数に等しい整数であ
り、nは1又は0である。
ただしn=0なる場合 基はR3とR4の内のいずれか一方のみに限られるもの
とする。
)本発明は又、式1の化合物を用いて好ましくない植物
種を抑制する方法に関する。
R,,R2,R3,R4,m及び×が前記の如き次式1
の構造を有するピラゾIJゥム塩の製造に用いられるジ
ケトン前駆物質は、アルカリ金属水素化物、好ましくは
水素化ナトリウムの存在下で、ジメチルスルホキシド(
DMSO),ジメチルホルムアミド(DMF),キシレ
ィ’トルェン,ベンゼン等の如き中性溶媒を用いてメチ
ルケトン0をアルキルカルポン酸ェステル皿好ましくは
メチル又はエチルェステルと反応させて製造される。
この反応は000〜40℃の温度最も好ましくは000
〜25qoで行なわれるのが望ましい。この反応は用い
られた反応体に相当する8−ジケトンを生ずる。メチル
ケトンとカルボン酸ェステルとは当モル量で反応するが
、しかし一般には反応混合物中のカルボン酸ヱステルが
僅か過剰、即ち約10%までの過剰で用いるのが望まし
い。この反応は次の様に説明され得る。(式中のR3及
びR4は前記の如くである。
)式1の化合物を製造するためには、まずW式のジケト
ンをヒドラジン又はアルキルヒドラジンと縮合させて相
当する3,5−ジー置換ピラゾールを作り、これをァル
キル化して所望の式1のピラゾリウム塩を形成させる。
これらの反応を図式的に説明すれば次の如くである。(
こ)にRはメチル基、R,,R2,R3,R4,m及び
Xは上記の如くである。
記号}はR置換基がいずれか一方の所に付くことを示し
ている。)ジケトンとヒドラジンは当モル量で反応する
しかしながら、どちらかの反応物質の約10%までの少
過剰は有利に用いられ得る。この反応は一般にプロトン
性又は非プロトン性いずれかの溶媒の存在下で、約70
qo〜150oo、好ましくは80qo〜120℃の温
度で行なわれる。これらの反応に好ましい溶媒はメタノ
ール,エタノール,nープロパノール,イソプロバノー
ル,n−ブタノール及びイソブタノールを含む低級アル
コール類の如きプロトン性溶媒がある。この反応での使
用に適する非プロトン性溶媒にはキシレィ,トルェン,
ベンゼン,ジメチルスルホキシド,ジメチルホルムアミ
ド及びピリジンがある。pートルェンスルホン酸の如き
酸触媒の使用は、縮合一環化反応の速度を増し、反応が
緩慢に進行する場合は有利に使われ得る。都合の良いこ
とに、ヒドラジンをジケトンの最初の縮合反応に用いる
場合は、生成ピラゾールのアルキル化は公知のアルキル
化剤により、好ましくはアルカリ金属水素化物,アルカ
リ金属アルコキシド又は第三級有機ァミンの如き酸受容
体の存在下で達成される。
好ましい酸受容体としては、ナトリウム、又はカリウム
の水酸化物,ナトリウム又はカリウムのメトキシド,ェ
トキシド,プロポキシド又はt−ブトキシド,トリメチ
ルアミン、トリェチルアミン及びピリジンがある。ピラ
ゾールのアルキル化は溶媒の存在下で5000〜200
00好ましくは9000〜1200○の温度下で行なわ
れるのが望ましい。好ましい溶媒としてはトルェン,キ
シレィ及びクロロベンゼンの如き芳香族炭化水素;メチ
ルィソブチルケトン(MIBK)やメチルプチルケトン
(MBK)の如き炭素原子4から7個を有するケトン;
C2−C5のアルコール;ジメチルスルホキシド(DM
SO),ジメチルホルムアミド(DMF),アセトニト
リル,ニトロベンゼン及びN,Nージメチルアセタミド
の如き双性非プロトン性溶媒;及びジオキサンやテトラ
ヒドロフランの如き環状エーテルがある。アルキル化剤
の例としてはハロゲン化アルキル,硫酸ジアルキル,り
ん酸アルキル,硫酸水素アルキル,トルェンスルホン酸
アルキルがあり、これらのアルキル化剤で夫々のアルキ
ル基は炭素原子1〜4個を有する。
好ましいアルキル化剤としては、メチル,エチル,nー
プロピル,イソプロピル,n−ブチル,イソブチル及び
tーブチルの塩化物及び臭化物の如きハロゲン化アルキ
ル;硫酸ジアルキル;硫酸水素アルキル及びトルェンス
ルホン酸アルキルがある。3,5ージ置換ピラゾールが
当モル量のアルキル化剤と結合するのであるが、過剰の
アルキル化剤を用いるのが良い方法である。
アルキル化剤のピラゾールに対するモル比は、1:1か
ら15:1の範囲内であるのが好ましい。ヒドラジンを
使用する場合は明らかにアルキル化剤の2倍のモル量を
必要とする。これらのアルキル化反応に於ては、反応混
合物を冷却すると固体又は油状のピラゾリウム塩が分離
し、有機層からの分離によって精製されることがいまい
まある。
しかしながら、或る例特にR3とR5が非常に親油性で
ある場合(例えば3,5−ジシクロヘキシル,3−シク
ロヘキシルー5ーフェニルおよび3−ドデシルー5ーフ
ェニル化合物)には、有機層からのピラゾ1」ゥム塩の
分離は容易には達成することが出来ない。この様な場合
には生成物は溶媒を蒸発し、残澄をクロロホルムに溶解
し、クロロホルム層を水洗し、次いでクロロホルムを蒸
発することによって残澄としてピラゾリウム塩を得て生
成物を得ることができる。アルキル化剤としてトルェン
スルホン酸ェステルまたは硫酸メチルを用いると、陰イ
オン汚染(HS04′又はS04″の如き)によって不
純又は吸湿性物質がいまいま得られる。この様な場合に
は、この混合物の水溶液を陰イオン交換筋を通過させる
ことにより、混合した陰イオンを精製する。また別法と
して混合された陰イオンの水溶液は沃化カリウム飽和水
溶液又は沃化ナトリウム溶液を用いて沃化物に転換され
得る。この後者の処理では比較的水に溶けにくい沃化物
を生ずる。水に不溶の過塩素酸塩を得る為に、ピラゾリ
ウム塩水溶液に過塩素酸の稀水溶液を添加して過塩素酸
塩を製造する。更にCH3S04−,HS04−,S0
4=又はC夕‐等の純粋のピラゾリウム塩が前記の陰イ
オン交換クロマトグラフィー法により、新規ピラゾリウ
ム塩が上記の如き沃化物及び過塩素酸塩に転換され得る
。この反応が約100q0に保たれた密閉容器又はガラ
スライニングしたボンベ内で行なわれるということを除
き上記の如くしてピラゾリウムハロゲン化物を製造する
ことが出来る。本発明の他の面は、1式の化合物の除草
有効量を好ましからざる植物の葉に適用することを含む
これらは、1エーカー当り約0.25〜10.0ポンド
、好ましくは0.50〜5.0ポンド/ェーカーの割合
で使われる。驚くべきことにこれら化合物は又、1エー
カー当り約0.25〜10.0ポンドの割合で植物の葉
に適用する場合は、抗うどん粉病剤として有用である。
本発明において重要なることはR3で表わされる基と、
R4で表わされる基の選択による組合せである。
R3がフェニル基である場合R4がC2〜C,.(好ま
しくはC5〜C,.)のアルキル基でR,,R2,m及
び×が上記の如き1式のピラゾリウム塩であるとき、大
麦、小麦、米の如き穀草の栽培に際して、広葉植物を発
芽後に、選択的に極めてよく抑制することができる。こ
れはR4がメチル基であるすでに公知の低級同族体では
全然このような除草作用がないことから全く驚歎すべき
ことである。さらにR3,R4両基ともフェニル基であ
り、R,,R2,m及び×が上記の如き1式のピラゾリ
ウム塩、すなわち、3,5ージフェニルピラゾリウム塩
はこれも発芽後の雑草抑制組成物としてすでに公知であ
るがこのような3,5−ジフェニルピラゾ1」ゥム塩に
は発芽前の雑草抑制作用が全然見られないという欠点が
あった。
本発明の化合物ではこの点発芽前の雑草抑制作用が著し
く見られるのでこれまた驚くべき特性を有するものいわ
ねばならない。なお同じ発芽後の抑制作用においても本
発明の化合物は3,5ージフェニルピラゾリウム塩に対
してェーカー当りポンド使用量が小さい場合に特に広葉
雑草に有効であるからこのことも一層有利な特色である
。実際には水性濃縮物は液状スプレーとして好ましから
ざる広葉雑草や草性植物の葉に直接適用することが出来
る。また別法としてこれらを更に水で稀釈して稀水性ス
プレーとしてこれらの好ましくない植物に適用しても良
い。水と混合する濃縮物は、化合物15%から95%を
水浪合性溶媒85%から5%に溶解して製造される。水
温合性溶媒には水自身、2−メトキシェタノール,メタ
ノール,プロピレングリコール,ジエチレングリコール
,ジエチレングリコールモノエチルエーテル,ホルムア
ミドおよびジメチルホルムアミドの如き他の犠牲水混合
性溶媒がある。本物質の適用は、水混合性濃縮物の一定
量をスプレータンクに入れ、そのま)、またはこれに更
に加える水とか若し〈は上記の極性溶媒の一つのような
適当な稀釈剤と組み合せて行なわれる。液状スプレーと
して適用される上記のすべての組成物における製品の挙
動は、1種又は混合した界面活性剤を加えることによっ
て予想も出来ない程改良される。通常の陰イオン性、腸
イオン性及び陰イオン−非イオン性界面活性剤を用いる
ことが出来る。非イオン性界面活性剤の例としては次の
ものがある。
アルキルポリオキシヱチレンエーテル,ポリオキシエチ
レン(20)ソルビタンモノラウリン酸ェステル,ポリ
オキシヱチレン(20)ソルビタンモノオレイン酸ェス
テル,アルキルアリールポリグリコールエーテル,アル
キルフエノールエトキシレート,トリメチルノニルポリ
エチレングリコールエーテル,アルキルフェノール酸化
エチレン縮合物,オクチルフヱノキシポリェトキシェタ
ノール,ノニルフエニルポリエチレングリコールェーテ
ル,ポリオキシェチレン縮合体,ポリオキシプロピレン
,脂肪族ポリェーテル,脂肪族ポリエステル,アルキル
アリールポリオキシエチレングリコール等である。陰イ
オン性界面活性剤の例としては、ドデシルベンゼンスル
ホン酸ナトリウムおよびスルホこはく酸ナトリウムのジ
オクチルェステルがある。
適当な陽イオン性界面活性剤には、ジココジメチルアン
モニウムクロリツド,ステアルアミドプロピルジメチル
6ーヒドロキシエチルアンモニウム硝酸塩等がある。頃
霧溶液で植物の葉を良く湿らせるために、これらの界面
活性剤を0.1〜5容量%の割合でスプレータンクに加
えるのが好ましい。
界面活性剤含有除草剤濃縮液は、適当なピラゾリウム塩
約3の重量%、水約25〜50重量%、残り(25〜4
5重量%)が選択された界面活性剤を含む噴霧水溶液と
して組成されるのが好ましい。
濃縮剤を含む適当な界面活性剤製造の際に特に有用な界
面活性剤には、オクチルフェノール酸化エチレン縮合体
,アルキルフェノールェトキシレートのエタノール溶液
,酸化エチレンとアルキルアリールポリグリコールェー
テルから製造されたポリグリコールヱーテル縮合体があ
る。本発明の化合物を有利に用いるために使われる他の
処方としては、散布剤,濃縮散布剤,潤性粉末等がある
散布剤は一般に約1〜25重量%の活性物質を約99〜
75重量%の固体稀釈剤例えばカオリン,アタパルジャ
ィト,タルク,軽石,珪藻士,フラー士,木粉等と共に
粉砕して製造される。
濃縮散布剤は約25〜95重量%の活性剤を約75〜5
重量%の稀釈剤と共に粉砕することを除いては同様の方
法で製造される。
潤性粉末は濃縮散布剤と同じ方法で製造されるが、但し
、重合されたアルキルアリールスルホン酸のカルシウム
塩,リグノスルホン酸ナトリウム又は縮合ナフタレンス
ルホン酸ナトリウム塩の如き分散剤約1〜5重量%が混
合物に混合され、ポリオキシヱチレン化植物油,アルキ
ルフェノキシポリオキシエチレンヱタノール,アルキル
ナフタレンスルホン酸ナトリウムの如き界面活性剤約1
〜5%が更に組成分と混合される点が異なる。
実際には、潤性粉末は水に分散されて液体スプレーとし
て好ましからざる植物の葉に適用される。適用割合は約
0.25〜10ポンド/ェーカーのピラゾIJゥム塩を
供給するに充分であるべきである。そして0.5〜5.
0ポンド/ェーカーの前記塩が一般には好ましくない広
葉雑草と草性植物を除草するのに充分であるが、10以
上20ポンド/ェーカー程度の割合も使用出来ることは
認識されるべきである。勿論これらの高率は、鉄道側線
,電線の下や所有地境界と原野を分ける生け垣に沿って
いる様な区域で用いられる。本発明の理解を更に容易に
するために、第1に本発明の或るものと特定の細部を説
明する目的で、そしてまた本発明に有用な原料物質の製
造方法を説明するために次の参考例および実施例を提示
する。
他に記載の無い限り、全ての部と百分率は重量による。
参考例 1 1,3ージシクロヘキシルー1,3ーフ。
ロ/ゞンジオンの製造水素化ナトリウム(54%で39
.5夕,0.889モル)を櫨杵機、凝縮器、乾燥管、
滴下漏斗及び温度計を備えた適当なフラスコに入れ、氷
溶で18o0に冷却する。
4Aモレキュラーシーブ上で乾燥したジメチルスルホキ
シド(700泌)をゆっくり添加する。
添加終了後、反応混合物を室温で30分濃伴する。氷溶
を取り替えて、シクロヘキサンカルボン酸エチルェステ
ル(138.8夕,0.889モル)及びシクロヘキシ
ルメチルケトン(101.9夕,0.80モル)の混合
物を瓶加する。発熱は認められない。反応混合物の色は
より薄くなり、いくらか発泡が認められる。添加完了後
氷溶をはずして反応混合物を室温で1晩損拝する。濁っ
た深い淡黄色の反応混合物をりん酸(50泌)を含む氷
(8夕)上に注ぎ、エーテルで抽出する。エーテル層を
水洗し、乾燥し真空ストリッピングをすると、ェステル
臭の強烈な黄金色油状物質(204夕)を得る。もし所
望ならば慣用方法で銅錆塩と反応させて、この生成物を
精製し得る。純粋な場合、これは融点5000から52
00を有する白色結晶体である。分析結果計算値 C,
5日2402として、C,76.22:日,10.24
実験値C,76.20;日,10.03 他のB−ジケトンを前記のR3及びR,を含むェステル
やケトンから製造可能である。
かくして1−シクロプロピル−3−フエニル−1,3−
プロパンジオンがナトリウムアミドの存在下で安息香酸
エチルとシクロプロピルメチルケトンとから、融点36
〜370の固体として製造された。更に融点38〜40
q0の同じ化合物が別法としてシクロプロパンカルボン
酸エチルとアセトフェノンと水素化ナトリウムとから製
造され得ることが判った。更に一連の1−アルキル−3
−フェニル−1,3−プロパンジオンがナトリウムアミ
ドの存在下でカルボン酸エチルェステルとアセトフェノ
ンから製造された。実用は次式を用いて表わされる。式
中のR3とR4は下記第1表にある。
表 1 適当なカルボン酸ェステルと置換メチルケトンを用い、
前記の方法で製造され得る他のプロパンジオンには次の
ものがある。
1,3ージシクロヘキセニル一1,3−プロパンジオン
;1,3ージシクロベンテニル−1,3−プロ/ゞンジ
オン;1ーフエニル−3−n−ベンチルー1,3−プロ
/ぐンジオン;1ーフヱニル−3−シクoヘプタン−1
,3ープロノゞンジオン;1ーフエニルー3ーウンデシ
ルー1,3−プロパンジオン;1,3−ジベンジルー1
,3ープロ/ぐンジオン;1ーベンジル−3−シクロヘ
キシル−1,3−プロ/ぐンジオン;1一(1−メチル
シクロヘキシル)一3ーフエニルー1,3−プロパンジ
オン;1−(2−メチルシクロヘキシル)一3ーフエニ
ル−1,3−プロパンジオン;1,3−ジ−t−ブチル
ー1,3−プロ/ぐンジオン;1ーシクロヘキシル−3
一(mートリル)一1,3−プロパンジオン;1ーシク
ロヘキシル−3−(o−フルオロフエニル)一1,3ー
プロパンジオン;1−(pークロロフエニル)一3ーシ
クロベンチル−1,3−プロパンジオン;1−(p−フ
ロモフエニル)一3−シクロヘキシル−1,3ープロパ
ンジオン;1−ペンジル−3一(p−メチルチオベンジ
ル)−1,3−プロ/fンジオン;1−シクロヘキシル
−3−(pーシアノフエニル)−1,3ープロパンジオ
ン;1−シクロヘキシル−3−(mートリフルオロメチ
ルフエニル)−1,3ープロパンジオン:1一pーアニ
シル−3一n−へキシルー1,3ープロパンジオン;1
ーシクロヘキシルメチルー3ーフエニル−1,3ープロ
パンジオン;1,3−ジシクロプロピルメチルー1,3
ープロ/ぐンジオン;1,3−ジシクロプロピル−1,
3−プロパンジオン;1−シクロヘキシルー3−エチル
−1,3−プロパンジオン;1ーシクロベンチル−3−
フエニル−1,3−プロ/ぐンジオン;1,3ージシク
0へキシルメチル−1,3ープロパンジオン;1−シク
ロヘキシルー3一(pーメチルスルホニルフエニル)一
1,3ープロパンジオン;1一(2−力ルボキシフエニ
ル〉一3−シクロヘキシル−1,3−プロパンジオンの
2ーナトリウム塩;1一(2−カルボキシフェニル)3
ーシクロベンチル−1,3ープロ/fンジオンの2ーナ
トリウム塩;1−ペンジル−3一(2−カルボキシフエ
ニル)−1,3ープロパンジオンの2−ナトリウム塩。
参考例 23ーシクロプロピルー1ーメチルー5−フエ
ニルピラゾール及び5ーシクロプロピル−1ーメチル−
3ーフェニルピラゾールの製造1ーシクロプロピル−3
ーフエニルー1,3−プロパンジオン(37.6夕,0
.2モル)と2ープロパノール(250泌)を還流点に
まで加熱する。
次にメチルヒドラジン(10.2夕,0.22モル)を
滴下し、この溶液を反応完了(2.虫時間)まで還流す
る。次にこの溶液を炉過し、真空ストリッピングすると
黄色油(39.2夕,99%)が得られる。この生成物
をシリカゲル薄層クロマトグラフィー皿上でクロロホル
ムとヨードで展開する試験は不純物の存在を示す。この
生成物をシリカゲル上でクロロホルムを使ってクロマト
分析すると、白色の濁つた油を得る。異性体は混合物の
ま)で使用してもよく、また分別結晶の如き在来の化学
的分離法により分離してから使用してもよい。分析結果
: 計算値:C,3日,4N2としてC,77.68:日,
7.26;N,13.52実験値:C,77.92:日
,7.33;N,13.561ーシクロプロピル−3−
フエニルー1,3ープロパンジオンの代替として適当な
1,3−プロパンジオンを使って、本例の方法により次
の構造式のピラゾールを製造する。
この方法の結果を下記の表2に示す。
記号{はメチル置換基の付属する選択的な位置を示す。
表 2適当な1,3ープロパンジオンを用いる上記の方
法によって製造され得る他のピラゾール類には次のもの
がある:3,5−ジシクロヘキセニルー1−メチルピラ
ゾール:3,5−ジベンジル−1−メチルピラゾール;
3,5ージーtーブチルー1−メチルピラゾール;3,
5−ジシクロフ。
ロピル−1ーメチルピラゾール;3−ペンジルー5ーシ
クロヘキセニルー1一(および2)ーメチルピラゾール
;1一(および2)−メチル−3−(1−メチルシクロ
ヘキシル)一5−フエニルピラゾ−ル;1−(および2
)−メチル−3一(2−メチルシクロヘキシル)−5−
フエニルピラゾール;3−シクロヘキシル−1一(およ
び2)ーメチル−5−(m−トリル)−ピラゾール;3
−シクロヘキシル−5一(o−フルオロフエニル)−1
−(および2)−メチルピラゾール;3−(pークロロ
フエニル)−5ーシクロベンチルー1−(および2)−
メチルピラゾール;3−(p−フロモフヱニル)−5−
シクロヘキシル−1一(および2)−メチルピラゾール
;3−ペンジル−1−(および2)−メチル−5−(p
−メチルオベンジル)〜ピラゾール;3,5−(p,p
′ージシクロベンジル)−1−メチルピラゾール;3−
シクロヘキシル−5−(p−シアノフエニル)−1一(
および2)ーメチルピラゾール:3ーシクロヘキシル−
1−(および2)ーメチル−5−(mートリフルオロメ
チルフエニル)−ピラゾール;3−(p−アニシル)−
5−nーヘキシルー1(および2)−メチルピラゾール
;3−シクロヘキシルメチル−1(および2)−メチル
−5−フエニルピラゾール;3,5−ジシクロヘキシル
メチルー1−メチルピラゾール;3−シクロヘキシル−
5−エチル−1(および2)−メチルピラゾール;3−
シアノベンチルメチル−1(および2)−メチル−5ー
フエニルピラゾールである。更にメチルヒドラジンと異
なるヒドラジンを用いた場合には次のものが得られる:
3,5−ジシクロヘキシル−1ーエチルピラゾール;1
−tーブチルー3,5−ジシク。へキシルピラゾール;
3一(2−力ルポメトキシフエニル)−5ーシクロヘキ
シル−1(および2)ーメチルピラゾール;3−(2ー
カルボメトキシフエニル)一5ーシクoベンジルー1(
および2)−メチルピラゾール;3一(2−力ルボキシ
フエニル)一5ーシクロヘキシルー1(および2)ーメ
チルピラゾール;3一(2ーカルボキシフエニル)−5
−シクロベンチルー1(および2)ーメチルピラゾール
;3−ペンジルー5一(2ーカルボキシフエニル)−1
(および2)−メチルピラゾール及び3−(2−力ルボ
メトキシフエニル)一5ーシクロヘキセニルー1(およ
び2)ーメチルピラゾールである。参考例 3 3ーシクロヘキシル−1,2−ジメチルーフェニルピラ
ゾリウムのメチル硫酸塩の製造適当な反応容器中で1−
メチル−3(5}−シクロヘキシル−5(3}−フエニ
ルピラゾール(8.0夕,0.033モル)を乾燥トル
ェン中に熔解し、6500まで加温する。
次に硫酸ジメチル(4.5夕,0.035モル)を加え
て、混合物を還流させる。1時間半後の薄層クロマトグ
ラフィー法(ベンゼン)は少量のピラゾールが残ってい
ることを示す。
2時間後に反応混合物は黒ずみ始め、加熱を中止する。
冷却すると白色固体が生成し、これを炉遇して乾燥トル
ェンで洗う。この粘着性白色固体を室温で真空乾燥する
と、もろい固体が得られる。次にへキサンを加えて固体
をこわし、炉遇して集める。この固体(6.3夕,収率
50%)は融点4800から51℃である。空気に曝す
と粘着性(吸湿性)となる。分析結果は次の如くである
。分析結果: 計算値:C,8日26N2S04・日20としてC,5
6.24;日,7.34;N,7.29実験値:C,5
6.91;日,7.33;N,7.12参考例 45−
シクロプロピルー1,2−ジメチル−3−フェニルピラ
ゾリウムのメチル硫酸塩の製法3ーシクロプロピルー1
−メチル−5−フエニルーピラゾールと5ーシクロプロ
ピルー1ーメチル−3ーフエニルピラゾール(33.1
夕,0.167モル)及び乾燥トルェン(25物‘)の
混合物を加熱還流し、約25の上の水をDeanSta
rkトラップを使って除去する。
次にこの溶液を冷却し硫酸ジメチル(18の‘,0,1
93モル)を加える。この反応混合物を100ooに2
.5時間保つ。黄褐色の油が生成し、これを冷却すると
固体となる。この固体を炉過し、真空乾燥すると163
0o〜170ooの融点を有するクリーム色固体(49
.5夕,91.5%)を得る。その分析結果を次に示す
。分析結果: 計算値:C,5日2ぶ夕04として C,55.54;日,6.22;N, 8.64;S,9.89 実験値:C,55.27:日,6.23:N,9.48
;S,9.99前記の参考例の方法により、3ーシクロ
プロピル−1−メチル−5−フェニルピラゾールの代り
に適当な1ーメチルピラゾールを使って下記の表3の化
合物を製造する。
これは次の一般式を有する。表 3 参考例4の方法によって製造され得るその他のピラゾリ
ウム化合物には次のものがある。
3−シクロヘキシルー1,2ージメチル−5−(m−ト
リル)ピラゾIJゥムメチル硫酸塩;3−シクロヘキシ
ル−1,2ージメチル−5一(oーフルオロフェニル)
ピラゾリウムメチル硫酸塩;3一(p−フロモフエニル
)−5−シクロヘキシルー1,2−ジメチルピラゾIJ
ウムメチル硫酸塩;3,5一(p,p′ージクooベン
ジル)一1,2ージメチルピラゾリウムメチル硫酸塩;
3−シクロヘキシル−1,2−ジメチル−5−(m−ト
リフルオロメチルフェニル)ピラゾリウムメチル硫酸塩
:3一(pーアニシル)一1,2ージメチル−5一n−
へキシルピラゾリウムメチル硫酸塩;3ーシクロヘキシ
ルー1,2ージメチルー5−エチルピラゾリウムメチル
硫酸塩;3,5−ジシクロヘキシル−1ーエチルー2ー
メチルピラゾリウムメチル硫酸塩;3−(2−力ルボメ
トキシフェニル)一5ーシクロヘキシル−1,2ージメ
チルピラゾリウムメチル硫酸塩;3一(2ーカルボメト
キシフエニル)一5ーシクoベンチルー1,2ジメチル
ピラゾリウムメチル硫酸塩である。
上記の方法を用いてジメチル硫酸塩と反応させた時、次
のピラゾールはメチル硫酸塩と水素硫酸塩の混合物であ
る生成物を生ずる。
この場合、生成物はこれを水に溶かしてから夫々、飽和
の沃化カリ(又はナトリウム)或いは稀過塩素酸で処理
することにより、完全に沃化物及び/又は過塩素酸塩に
転換される。例えば又は を用いて、ウンデシル−及びシクロヘプチル基を使う場
合は、メチル硫酸塩/水素硫酸塩は反応混合物を冷却し
ても分離しない。
この様な場合には反応混合物を真空ストIJッピングし
、残溝を水に溶かして、溶媒抽出をしないで沃化物及び
/又は過塩素酸塩の製造に用いる。参考例 5 5ーシクロプロピル−1,2ージメチルー3一フェニル
ピラゾリウム過塩素酸塩の製法5−シクロプロピル−1
,2ージメチル−3−フェニルピラゾリウムメチル硫酸
塩10夕を含む水溶液(500地)をエーテルで抽出す
る。
水層を分離し、稀過塩素酸(10の‘)で処理すると固
体を得る。1時間縄粋後、炉過して固体を分離し乾燥す
ると融点160午0から161℃のクリーム色固体(6
.1夕,60%)を得る。
分析により次の値を得る。分析結果:計算値:C,4日
,7CそN204としてC,53.75:日,5.48
:N, 8‐96;Cそ,11.34 実験値:C,54.0:日,5.40:N,8‐90;
Cそ,11‐48下記の表4に示されている如く、原料
物質として次の構造の適当な純粋、工業用又は粗製の1
,2ジメチルー3,5一層襖ピラゾ1′ゥムメチル硫酸
塩を用いて、上記の参考例5の方法によりいくつかの典
型的な過塩素酸塩が製造される。
表 4 上記の方法で製造することの出来るいくつかの化合物と
しては次のものがある。
3,5ージベンジル−1,2−ジメチルピラゾリウム過
塩素酸塩;3−ペンジル−5ーシクロヘキセニルー1,
2−ジメチルピラゾリウム過塩素酸塩;1,2一ジメチ
ルー3−(1一メチルシクロヘキシル)−5一フェニル
ピラゾリウム過塩素酸塩;3ーベンジルー1,2−ジメ
チルー5−(pーメチルチオフェニル)ピラゾリウム過
塩素酸塩;3−シクロヘキシルメチル一1,2ージメチ
ル−5一フエニルピラゾIJゥム過塩素酸塩:3,5−
ジシクロヘキシルメチルー1,2一ジメチルピラゾリウ
ム過塩素酸塩;3−ペンジル−5−(2−カルボキシフ
ェニル)−1,2一ジメチルピラゾリウム過塩素酸塩;
3−ペンジル−5一(2−力ルボメトキシフエニル)一
1,2−ジメチルーピラゾリウム過塩素酸塩;3−ペン
ジル−5−(2−力ルボメトキシフエニル)一1,2−
ジメチルピラゾリウム過塩素酸塩である。
参考例 6 5−シクロプロピル−1,2−ジメチル−3−フェニル
ピラゾリウム沃化物の製造水(100の‘)中に溶解さ
れた5−シクロプロピル−1,2−ジメチルー3−フエ
ニルピラゾリウムメチル硫酸塩(12.3夕)の溶液を
エーテルで抽出する。
水層を分離し、沃化カリウムの飽和水溶液で処理する。
3庇ご損洋後、固体を炉別、乾燥すると融点150℃か
ら152ooの淡黄色固体(4.7夕,36%)が得ら
れる。
分析結果は次の如くである。分析結果:計算値:C,4
日,7N21として C,49.42:日,5.04:N,8.24実験値:
C,49.07;日,5.06;N,8.16下記の表
5に挙げられている沃化物は、参考例6の方法により、
次の構造式の適当なピラゾリウムメチル硫酸塩を5ーシ
クロプロピルー1,2−ジメチルー3ーフェニルーピラ
ゾリウムメチル硫酸塩の代りに用いて製造される。
表 5 上記の方法により製造される化合物の例としては次のも
のがある。
3,5−ジシクロヘキセニルー1,2一ジメチルピラゾ
IJゥム沃化物;3,5ージーt−ブチルー1,2ージ
メチルピラゾリウム沃化物;3,5ージシクロプロピル
メチルー1,2−ジメチルピラゾリウム沃化物:3,5
−ジシクロプロピル−1,2ージメチルーピラゾリウム
沃化物;3,5ージシクロプロピルー1,2一ジメチル
ピラゾリウム沃化物;1,2ージメチル−3一(2−メ
チルシクロヘキシル)一5−フェニルピラゾリウム沃化
物;3一(p−クロロフエニル)−5ーシクロベンチル
−1,2一ジメチルピラゾリウム沃化物;3−シクロヘ
キシルー5一(p−シアノフエニル)一1,2−ジメチ
ルピラゾリウム沃化物;3一シクロベンチルメチル−1
,2−ジメチルー5一フェニルピラゾリウム沃化物;3
−(2−力ルボメトキシフェニル)−5−シクロヘキセ
ニルー1,2−ジメチルピラゾリウム沃化物:3一(2
ーカルポキシフェニル)−5ーシクロヘキシルー1,2
−ジメチルピラゾリウム沃化物;3−(2−カルボキシ
フェニル)−5ーシクロベンチルー1,2一ジメチルピ
ラゾリウム沃化物である。
実施例 1 本発明の化合物の発芽後の選択的除草作用は次の試験に
より示される。
ここでは各種の単子葉及び双子葉植物を水−アセトン混
合物中に分散させた試験化合物で処理する。この試験で
は、幼若植物を約2週間ジフィーフラット中で生育させ
る。この試験化合物を0.5%のポリオキシェチレンソ
ルビタンモノラウレート表面活性剤を含む50/50の
アセトン/水混合物中に、一定時間に40psiでスプ
レーノズルを操作して植物に適用した場合ごに、活性化
合物が約0.5〜4ポンドノェーカーとなるのに充分な
量で分散させる。贋霧後、植物を温室の棚に置き、温室
についての在来の慣行につり合った普通のやり方で世話
する。処理して5週間後幼若植物を試験し、下記の評価
法により評価する。得られた結果を下記の表6および7
に報告してあるが、ここで本化合物は多くの広葉雑草及
び好ましからざる草の抑制に非常に有効であることが判
った。たゞし表6中M.1の化合物はR3がフェニル、
R4がメチルの場合であって本発明外のものであり、除
草活性のない対照例である。評価法 対照物
との生長差%※0一無効 0 1−有効の可能性有り 1〜102一睡かに
有効 11〜253一中等度に有効
26〜405−明らかに有害
41〜606一除草効果有り 6
1〜757−良好な除草効果有り 76〜90
8一殆んど完全に除草 91〜999−完全
除草 1004一異常成長、即ち、明
らかに生理的には奇形であるが、評価上5よりも綜合的
に効力が低い。
※ 立っている状態、大きさ、活気、白化現象の成長の
奇形や綜合的な植物の外観に対する視的決断に基づく。
植物の略称:MU一からしな(Brassicaka戊
r)PI−あかざ(Amaranth順re○ofle
狐s)BA‐のびえ(Echi肌chioacmsga
lli)CR一おひいよ(Digtanasan■in
alis)WO−野生カラス麦(Avenaねtua)
WH−小麦(Tritjc山maestivum)MG
−朝顔(lpomoeapmp虹ea)大麦−(Hor
deumv山gare)VL‐L・ちび(Abutil
ontheophrasti)F○−えのころぐさ(S
eねriaviridis)RI‐稲(功舷asati
va)表 6 表 7 実施例 2 本発明の化合物の発芽前効果を次の試験によって示す。
ここでは0.5容量%のポリオキシヱチレンソルビタン
モノラウレート表面活性剤と充分な量の試験化合物を含
む50/50のアセトン/水温合物を、被験植物種の種
子を蒔いた鉢にこの混合物が適用される場合に前記化合
物が1エーカー当り10ポンド供給されるようにする。
この鉢は各プラスチック鉢中にベースとして100叫の
土を入れて除草処理の日に調製し、次に朝顔、トマト、
野生カラス麦、はますげの種子をこのベースの上に置き
、50の‘(3′8〜1/2インチ)の士をかぶせる。
下記の他の8種の植物種子の夫々を各別に士と混合し、
土と種子の混合物を鉢に添加する。次に鉢に土を詰めて
平らにし、除草剤を適用する前に土を水で溢しておく。
この前もって湿らせることは、除草剤溶液を鉢の表面上
に均等に広げてアセトンの危害から雑草の種子を保護す
る。12種の雑草の夫々を別々の鉢に加える。
この鉢を化学処理の前に10×12インチの平箱に整え
る。植えられた鉢を5叫の試験溶液で処理し、温室の棚
に置く。
鉢に処理後水をやり、3週間温室に置く。3週間割こ下
記の表8に示す結果が得られる。
た)、し同表中No.1は3,5−ジフェニルピラゾリ
ウム塩であって本発明外のものであり、発芽前除草効果
の皆無である対照例である。発芽前の除草剤効果の評価 に用いられた植物種 一般名 略号 学名 はますげ NS Cypems rotundus あかぎ LA Che肌podimmal
bumたからし MU Brassjca
ka氏rひゆ PI Amaran仇
usretmflexusぶたくさ RW A
mbrosiaartemisjif()lja朝顔
MG 1pomoeaPIUPu1ea のびえ BA EchjnochloaC
mSgalliおひしば CR Dig雌ri
aSangujnalis えのころぐさ FO Seねria viridis 野生カラス麦 WO Avenafatuaトマト
r。
LyC。perSicOnesC山entumし
・ちび VL Abutjlon比eop
hrastiこれらの試験で用いられる評価法は前言己
実施例7記載と同様である。
表 8 実施例 3 本発明の化合物は3,5−ジフェニルピラゾIJゥム化
合物に比較して、発芽後除草効果が、ェーカー当りポン
ド使用量が小さい場合に、特に広葉雑草に極めて有効で
あることを試験した結果について示す。
試験法ならびに評価法は実施例1と同じである。得られ
た結果は表9に示されている。すなわち4ポンド/ェー
カー以下の使用量において本願発明の化合物は3,5−
ジフェニルピラゾリウム化合物よりもMU(からしな)
、P1(あかぎ)、MG(朝顔)のような広葉雑草に対
して顕著な除草効果があることが分る。表 9 次に本発明の実施の態様を列記する。
‘1} 好ましからざる植物の葉に、特許請求の範囲記
載の一般式1の化合物の除草有効量を、処理された区域
1エーカー当り0.25から10.0ポンドの前記化合
物の割合で適用する好ましからざる植物の抑制方法。
【2ー R3がフェニル基でR4がC2一C,.のアル
キル基である特許請求の範囲の一般式1の化合物を使用
する前記第{11項の方法に従い、大麦、小麦、稲の如
き穀草がある所で、発芽後の広葉雑草を選択的に抑制す
る方法。
(劫 R4がC3−C7のシクロアルキル、R3がC3
一C7のシクロアルキルまたは−くCH2)n→≧》で
砂、R,娘帆2 がメチル基、X,nおよびmがいづれも特許請求の範囲
に規定された通りである特許請求の範囲に記載の化合物
1の除草有効量を適用する広葉の雑草および好ましから
ざる草類を発芽前または発芽後に抑制する方法。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここにR_1とR_2は夫々メチル基;R_3とR
    _4は夫々シクロアルキル基C_3〜C_6,アルキル
    基C_2〜C_1_1および▲数式、化学式、表等があ
    ります▼ 基よりなる組から選ばれた基であり、XはI,CH_
    3SO_4またはCIO_4を表わし、mは陰イオンの
    価数に等しい整数であり、nは1又は0である。 ただしn=0なる場合▲数式、化学式、表等があります
    ▼ 基はR_3とR_4の内いずれ か一方のみに限られるものとする) で表わされるピラゾリウム化合物を有効成分として含有
    する雑草抑制組成物。
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