JPS6030933B2 - 印刷用原版の製作法 - Google Patents
印刷用原版の製作法Info
- Publication number
- JPS6030933B2 JPS6030933B2 JP51069153A JP6915376A JPS6030933B2 JP S6030933 B2 JPS6030933 B2 JP S6030933B2 JP 51069153 A JP51069153 A JP 51069153A JP 6915376 A JP6915376 A JP 6915376A JP S6030933 B2 JPS6030933 B2 JP S6030933B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- printing
- transparent
- light
- transparent positive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 20
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical group OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical class ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N benzene-dicarboxylic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- FYIBGDKNYYMMAG-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;terephthalic acid Chemical compound OCCO.OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 FYIBGDKNYYMMAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 150000003504 terephthalic acids Chemical class 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical group OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/08—Photoprinting; Processes and means for preventing photoprinting
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光可溶化感光層を有する印刷用原版の製作法に
関するものである。
関するものである。
更に詳しくは該印刷材料を露光する時貼り込み透明陽画
フィルムを使用することにより、発生するフィルムエッ
ジ跡を光学的に消去することを特徴とする印刷用原版の
製作法に関するものである。光可溶化感光層を有する印
刷材料の感光面に貼り込み透明陽画フィルムを重ね、該
フィルムの上面側より紫外線を含む光源で照射したとき
フィルムェッジ部分が光の屈折で露光不足となり、現像
した場合にフィルムエッジ跡として版面にあらわれる。
フィルムを使用することにより、発生するフィルムエッ
ジ跡を光学的に消去することを特徴とする印刷用原版の
製作法に関するものである。光可溶化感光層を有する印
刷材料の感光面に貼り込み透明陽画フィルムを重ね、該
フィルムの上面側より紫外線を含む光源で照射したとき
フィルムェッジ部分が光の屈折で露光不足となり、現像
した場合にフィルムエッジ跡として版面にあらわれる。
この現象は特に平行光線や露光不足の場合に強くあらわ
れ、この消去に対して多大な努力が払われている。この
フィルムエッジ跡を消去する方法としては、露光・現像
後消去液にて消去する方法が一般に広く行われているが
複雑でかつ周辺部への消去液のにじみによる画像部の版
飛びなどがある。そのほか有効なフィルムエッジ跡の消
去方法としては散乱フィルムを使用し光学的に行う方法
もある。この方法は貼り込み透明陽画フィルムの上面に
散光フィ’レム（通常マットフィルム）を置いて露光し
たり、あるいは真空プリンターの碗わ〈のガラス坂上に
散光フィルムを置いて露光し、散乱光によってフィルム
エッジ跡を出さない様にする方法である。この様な散乱
光を利用した拡散露光法は露光時間が長くなるという欠
点の他に、光可溶化感光層を有する印刷材料の感光面と
透明陽画フィルムとの間にゴミが入った場合印刷版の画
像部のボケが大きくなり、印刷版としてみた場合にャレ
率が大になるという欠点を有しているので一部の市場で
しか用いられていない。この他のフィルムエッジ跡の消
去方法としてはフィルムの切断角度を変えるとか、印刷
版の画像部をマスクして全面露光する方法や、あるいは
特開昭５１一２６１０３号明細書に記述されている様に
、現像後画像部をマスク樹脂で覆った後全面露光し、再
度現像してフィルムエッジ跡を消去した後マスク樹脂を
剥膜する方法等があるがそれぞれ欠点を有しほとんど市
場では用いられていない。従って本発明の目的は印刷用
原版の製作にあたってポジ型平版印刷版のフィルムエッ
ジ跡を部分的に消去することである。本発明者等は種々
研究を重ねた結果フィルムエッジ部分にのみに拡散露光
法を適用することによってフィルムエッジ跡を消去する
ことにより、上記目的を達成することを見し、出した。
れ、この消去に対して多大な努力が払われている。この
フィルムエッジ跡を消去する方法としては、露光・現像
後消去液にて消去する方法が一般に広く行われているが
複雑でかつ周辺部への消去液のにじみによる画像部の版
飛びなどがある。そのほか有効なフィルムエッジ跡の消
去方法としては散乱フィルムを使用し光学的に行う方法
もある。この方法は貼り込み透明陽画フィルムの上面に
散光フィ’レム（通常マットフィルム）を置いて露光し
たり、あるいは真空プリンターの碗わ〈のガラス坂上に
散光フィルムを置いて露光し、散乱光によってフィルム
エッジ跡を出さない様にする方法である。この様な散乱
光を利用した拡散露光法は露光時間が長くなるという欠
点の他に、光可溶化感光層を有する印刷材料の感光面と
透明陽画フィルムとの間にゴミが入った場合印刷版の画
像部のボケが大きくなり、印刷版としてみた場合にャレ
率が大になるという欠点を有しているので一部の市場で
しか用いられていない。この他のフィルムエッジ跡の消
去方法としてはフィルムの切断角度を変えるとか、印刷
版の画像部をマスクして全面露光する方法や、あるいは
特開昭５１一２６１０３号明細書に記述されている様に
、現像後画像部をマスク樹脂で覆った後全面露光し、再
度現像してフィルムエッジ跡を消去した後マスク樹脂を
剥膜する方法等があるがそれぞれ欠点を有しほとんど市
場では用いられていない。従って本発明の目的は印刷用
原版の製作にあたってポジ型平版印刷版のフィルムエッ
ジ跡を部分的に消去することである。本発明者等は種々
研究を重ねた結果フィルムエッジ部分にのみに拡散露光
法を適用することによってフィルムエッジ跡を消去する
ことにより、上記目的を達成することを見し、出した。
つぎに本発明を添付する図面にもとづいてさらに詳しく
説明する。
説明する。
第１図に示すようにこの透明陽画フィルムを１の透明支
持フィルムに貼り込み、５の透明陽画フィルムのエッジ
部分上方にある１の透明支持体の上面に部分的に４の光
散乱層をもうけ、その上方より露光した場合、部分的な
拡散、露光によってフィルムエッジ跡を消去することが
できる。本発明の部分的な光散乱層をもうける方法とし
ては１）マット剤を塗布する、２）相溶性のない樹脂液
を塗布して層分離を起させ白濁化させる、３）マットテ
ープをはりこむ、４）マットフィルムも部分的にはりこ
む、５）第１図５のフィルムエッジ部の上方の１の透明
支持体フィルムを化学的にあるいは機械的にマット化す
ることがあげられる。
持フィルムに貼り込み、５の透明陽画フィルムのエッジ
部分上方にある１の透明支持体の上面に部分的に４の光
散乱層をもうけ、その上方より露光した場合、部分的な
拡散、露光によってフィルムエッジ跡を消去することが
できる。本発明の部分的な光散乱層をもうける方法とし
ては１）マット剤を塗布する、２）相溶性のない樹脂液
を塗布して層分離を起させ白濁化させる、３）マットテ
ープをはりこむ、４）マットフィルムも部分的にはりこ
む、５）第１図５のフィルムエッジ部の上方の１の透明
支持体フィルムを化学的にあるいは機械的にマット化す
ることがあげられる。
１）のマット剤を塗布する方法としてはシリカ粉末、ガ
ラス粉、フッ素樹脂の粉末、粘土やデンプン等のマット
剤を樹脂と共に溶媒に分散し、筆でフィルムエッジ部上
方の透明支持フィルムの面に書くことによって光散乱層
を得ることが出来る。
ラス粉、フッ素樹脂の粉末、粘土やデンプン等のマット
剤を樹脂と共に溶媒に分散し、筆でフィルムエッジ部上
方の透明支持フィルムの面に書くことによって光散乱層
を得ることが出来る。
ここで用いる樹脂としては接着力の強い樹脂が有効で、
たとえばフェノールーホルマリン樹脂、ポリエステル樹
脂、アクリル樹脂やポリウレタン樹脂等をあげることが
出来る。またここで用いる溶媒としては水又は有機溶剤
のいずれでもよく樹脂とマット剤の選び方によって変え
ることが出来る。２）相溶性のない樹脂液を塗布し白濁
化させる方法としては、互いに相溶性のない樹脂を２種
類以上混合させて使用する方法や、樹脂に対して不溶性
の溶媒を用い白濁化させる方法などがある。
たとえばフェノールーホルマリン樹脂、ポリエステル樹
脂、アクリル樹脂やポリウレタン樹脂等をあげることが
出来る。またここで用いる溶媒としては水又は有機溶剤
のいずれでもよく樹脂とマット剤の選び方によって変え
ることが出来る。２）相溶性のない樹脂液を塗布し白濁
化させる方法としては、互いに相溶性のない樹脂を２種
類以上混合させて使用する方法や、樹脂に対して不溶性
の溶媒を用い白濁化させる方法などがある。
本発明の印刷用原版の製作法はポジ型平版印刷版のフィ
ルムエッジ跡を部分的な拡散露光法によって消去するこ
とであるが、この方法をポジ型平版印刷版を本機印刷機
で印刷する様な場合において印刷物の中間調の絹点部分
を部分的に細らせて用いる場合にも適用することができ
る。
ルムエッジ跡を部分的な拡散露光法によって消去するこ
とであるが、この方法をポジ型平版印刷版を本機印刷機
で印刷する様な場合において印刷物の中間調の絹点部分
を部分的に細らせて用いる場合にも適用することができ
る。
すなわちポジ型平版印刷版に透明陽画フィルムを密着さ
せて露光する場合透明陽画フィルムの中間調の絹点部分
の上面に光散乱層をもうけグレースケールで５段以上の
露光を行った場合、光散乱層をもうけた部分の網点を細
らせることが出来る。以下本発明を実施例をもって詳細
に説明する。
せて露光する場合透明陽画フィルムの中間調の絹点部分
の上面に光散乱層をもうけグレースケールで５段以上の
露光を行った場合、光散乱層をもうけた部分の網点を細
らせることが出来る。以下本発明を実施例をもって詳細
に説明する。
実施例 １クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂（ノポラ
ック・タイプ）２．０ｇにメタノールシリ力（３０％の
シリカ微粉末をメタノールに分散させたもの）ｌｏｇを
加えて溶解後１．０ｇの水を婿はんしながら加えてマッ
ト化液を作製した。
ック・タイプ）２．０ｇにメタノールシリ力（３０％の
シリカ微粉末をメタノールに分散させたもの）ｌｏｇを
加えて溶解後１．０ｇの水を婿はんしながら加えてマッ
ト化液を作製した。
６０ミクロンの厚さを有するトリアセテート支持フィル
ムに透明陽画フィルムをはり込みトリアセテート支持フ
ィルムの上面にマット化液を用いて筆で透明陽画フィル
ムのエッヂ部分に対応する部分に塗布し、光散乱層をも
うけた。
ムに透明陽画フィルムをはり込みトリアセテート支持フ
ィルムの上面にマット化液を用いて筆で透明陽画フィル
ムのエッヂ部分に対応する部分に塗布し、光散乱層をも
うけた。
この様に作製したフィルムを用いてＳＧＰ−Ｋ（富士写
真フィルム株式会社製：ポジ型平版印刷版）を露光現像
した。露光プラノＰＳライト（富士写真フィルム株式会
社製：４Ｋｗ超高圧水銀灯）でｌｍの距離から３硯砂間
行った。その後、ＤＰ−１（富士写真フィルム株式会社
製：ポジ型印刷版現像液：アルカリ現像液）の６倍希釈
液で１分間浸せきごせて現像し濃度差０．１５のグレー
スケ−ルで３段白抜けとなる様にした。この時フィルム
エッジ跡は認められなかった。比較として光散乱層をも
うけなかったものについて従来通りの露光をした場合に
は現像後印刷版にフィルムエッヂ跡がはっきり認められ
た。実施例 ２ クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂（ノボラツク・タイ
プ）１ｇ、メタノールシリカ（３０％のシリカ微粉末を
メタノールに分散させたもの）５ｇ、エチレンジクロラ
イド５ｇとトリエチレングリコールにより変性したテレ
フタル酸−エチレングリコールにより変性したテレフタ
ル酸−エチレングリコールよりなるポリエステル樹脂０
．後を加えマット化液を作製した。
真フィルム株式会社製：ポジ型平版印刷版）を露光現像
した。露光プラノＰＳライト（富士写真フィルム株式会
社製：４Ｋｗ超高圧水銀灯）でｌｍの距離から３硯砂間
行った。その後、ＤＰ−１（富士写真フィルム株式会社
製：ポジ型印刷版現像液：アルカリ現像液）の６倍希釈
液で１分間浸せきごせて現像し濃度差０．１５のグレー
スケ−ルで３段白抜けとなる様にした。この時フィルム
エッジ跡は認められなかった。比較として光散乱層をも
うけなかったものについて従来通りの露光をした場合に
は現像後印刷版にフィルムエッヂ跡がはっきり認められ
た。実施例 ２ クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂（ノボラツク・タイ
プ）１ｇ、メタノールシリカ（３０％のシリカ微粉末を
メタノールに分散させたもの）５ｇ、エチレンジクロラ
イド５ｇとトリエチレングリコールにより変性したテレ
フタル酸−エチレングリコールにより変性したテレフタ
ル酸−エチレングリコールよりなるポリエステル樹脂０
．後を加えマット化液を作製した。
実施例１のトリアセテート支持フィルムの代りに７５ｒ
のポリエチレンテレフタレートフィルムを用いて同様に
行った。この時もやはりフィルムエッヂ跡は認められな
かった。実施例 ３ 実施例１で作製した貼り込み透明陽画フィルムの上面を
マット化液を用い筆で光散乱層をもうけるかわりに厚さ
５０ミクロンのマット化テープを貼り込み光散乱層をも
うけた。
のポリエチレンテレフタレートフィルムを用いて同様に
行った。この時もやはりフィルムエッヂ跡は認められな
かった。実施例 ３ 実施例１で作製した貼り込み透明陽画フィルムの上面を
マット化液を用い筆で光散乱層をもうけるかわりに厚さ
５０ミクロンのマット化テープを貼り込み光散乱層をも
うけた。
このフィルムを用いてＧＡＰ−Ｎ（富士写真フィルム株
式会社製：ポジ型平版印刷版）を実施例１の光源を用い
濃度差０．１５のグレースケールで５段白抜けとなる様
露光し、実施例１の現像液で現像した。この時にもフィ
ルムエッジ跡は認められなかった。
式会社製：ポジ型平版印刷版）を実施例１の光源を用い
濃度差０．１５のグレースケールで５段白抜けとなる様
露光し、実施例１の現像液で現像した。この時にもフィ
ルムエッジ跡は認められなかった。
第１図は光可溶性感光層を有する印刷材料の感光面に貼
り込み透明陽画フイルムを重ね合せたときの断面図であ
る。 ※ー図
り込み透明陽画フイルムを重ね合せたときの断面図であ
る。 ※ー図
Claims (1)
- １ 透明支持フイルムに透明陽画フイルムを貼り込んだ
ものを光可溶化感光層を有する印刷材料の感光面に重ね
合せ、露光・現像して印刷用原版を製作するに当り、透
明陽画フイルムを該印刷材料の感光面に密着させて置き
、透明陽画フイルムを貼り込んだ透明支持フイルムの光
源側の透明陽画フイルムエツジに対応する部分のみに光
散乱層を設け、印刷用原版上にフイルムエツジ跡を発生
せしめないことを特徴とする印刷用原版の製作法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51069153A JPS6030933B2 (ja) | 1976-06-11 | 1976-06-11 | 印刷用原版の製作法 |
| DE19772725968 DE2725968A1 (de) | 1976-06-11 | 1977-06-08 | Verfahren zur herstellung einer stammplatte fuer den druck |
| FR7717869A FR2354583A1 (fr) | 1976-06-11 | 1977-06-10 | Procede perfectionne de fabrication de plaques de tirage |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51069153A JPS6030933B2 (ja) | 1976-06-11 | 1976-06-11 | 印刷用原版の製作法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52152303A JPS52152303A (en) | 1977-12-17 |
| JPS6030933B2 true JPS6030933B2 (ja) | 1985-07-19 |
Family
ID=13394429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51069153A Expired JPS6030933B2 (ja) | 1976-06-11 | 1976-06-11 | 印刷用原版の製作法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6030933B2 (ja) |
| DE (1) | DE2725968A1 (ja) |
| FR (1) | FR2354583A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0450342U (ja) * | 1990-09-05 | 1992-04-28 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS607428A (ja) * | 1983-06-28 | 1985-01-16 | Osaka Seihan Center Kyogyo Kumiai | 印刷用版の製法 |
| JPS608846A (ja) * | 1983-07-26 | 1985-01-17 | Osaka Seihan Center Kyogyo Kumiai | 印刷用版の製法 |
| JPS608845A (ja) * | 1983-12-27 | 1985-01-17 | Osaka Seihan Center Kyogyo Kumiai | 印刷用版の製法 |
-
1976
- 1976-06-11 JP JP51069153A patent/JPS6030933B2/ja not_active Expired
-
1977
- 1977-06-08 DE DE19772725968 patent/DE2725968A1/de not_active Withdrawn
- 1977-06-10 FR FR7717869A patent/FR2354583A1/fr active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0450342U (ja) * | 1990-09-05 | 1992-04-28 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2354583A1 (fr) | 1978-01-06 |
| FR2354583B1 (ja) | 1980-02-08 |
| DE2725968A1 (de) | 1977-12-22 |
| JPS52152303A (en) | 1977-12-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR950033599A (ko) | 칼라필터 및 액정표시장치의 제조방법 | |
| JPS6024461B2 (ja) | ステツプタブレツト | |
| JP4933539B2 (ja) | 一体型印刷面を有する印刷要素 | |
| US3249436A (en) | Process for preparing printing plates from photopolymerizable materials by the use of a masking technique | |
| US2373489A (en) | Halftone photoengraving process | |
| US3507654A (en) | Stencil screen and method | |
| JPH05144693A (ja) | パターン形成方法 | |
| US3663223A (en) | Process for making integrated circuit masks | |
| JP2000181051A (ja) | 改良されたレリ―フ型印刷版 | |
| JPS5830755A (ja) | 露光方法 | |
| US4042391A (en) | Process for forming vesicular photographic images by employing simultaneous actinic light and infra-red reflex exposure | |
| JPH039358A (ja) | グラビア印刷用版およびその製造法 | |
| JPH06230375A (ja) | 導光板の網点パターン形成方法 | |
| JP3279734B2 (ja) | フレキソ印刷板 | |
| JPH0564992A (ja) | 透視可能な印刷物およびその製造方法 | |
| DE2725968A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer stammplatte fuer den druck | |
| US3718471A (en) | Film record card | |
| JP2740205B2 (ja) | パターン形成方法 | |
| JP3047603B2 (ja) | 印刷版の製造方法 | |
| JPS60155789A (ja) | 捺染型紙用地材及び捺染型紙の製造法 | |
| JPH1067088A (ja) | 印刷版及びそれを使用した印刷方法 | |
| JPS5811943A (ja) | スクリ−ンレス平版印刷原版 | |
| JPS5924509Y2 (ja) | 写真植字機用文字盤 | |
| JPH03110164A (ja) | 印刷用凸板の製造方法 | |
| JP2006334904A (ja) | 印刷用樹脂凸版の製造方法および凸版印刷版の製造方法 |