JPS6031260Y2 - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
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- JPS6031260Y2 JPS6031260Y2 JP18531679U JP18531679U JPS6031260Y2 JP S6031260 Y2 JPS6031260 Y2 JP S6031260Y2 JP 18531679 U JP18531679 U JP 18531679U JP 18531679 U JP18531679 U JP 18531679U JP S6031260 Y2 JPS6031260 Y2 JP S6031260Y2
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Description
【考案の詳細な説明】
この考案は半導体製造装置に関し、特に半導体ウェーハ
の不純物拡散や絶縁膜を形成する熱処理装置の改良に関
する。
の不純物拡散や絶縁膜を形成する熱処理装置の改良に関
する。
半導体ウェーハに不純物を拡散したり酸化膜等の絶縁膜
を形成する場合、従来第1図に示すような装置が用いら
れている。
を形成する場合、従来第1図に示すような装置が用いら
れている。
図において、1は石英製の炉心管で、一方端に縮径した
ガス導入口2を有し、他端に縮径しない開口3を有する
。
ガス導入口2を有し、他端に縮径しない開口3を有する
。
4は開口3を閉塞するために炉心管1に着脱される石英
製の蓋であり、中心部にガス排出孔5が形成されている
。
製の蓋であり、中心部にガス排出孔5が形成されている
。
6は炉心管1を囲繞するヒータである。7は石英または
シリコンよりなるボートで、多数の半導体ウェーハ8を
整列支持している。
シリコンよりなるボートで、多数の半導体ウェーハ8を
整列支持している。
次に、不純物の拡散の場合について使用方法を説明する
と、まず蓋4を取りはずして、開口3から炉心管1内に
多数の半導体ウェーハ8を支持したボート7を挿入し、
蓋4を閉止し、ガス導入口2からN2等のキャリヤガス
9を導入して炉心管1内の空気を排出し、ヒータ6に通
電して半導体ウェーハ8を所定の温度に保持する。
と、まず蓋4を取りはずして、開口3から炉心管1内に
多数の半導体ウェーハ8を支持したボート7を挿入し、
蓋4を閉止し、ガス導入口2からN2等のキャリヤガス
9を導入して炉心管1内の空気を排出し、ヒータ6に通
電して半導体ウェーハ8を所定の温度に保持する。
そして、ガス導入口2からキャリヤガス9に加えてドー
パントガス10を導入し、半導体ウェーハ8の所定の導
電型の不純物を所定の濃度でかつ所定深さまで拡散する
。
パントガス10を導入し、半導体ウェーハ8の所定の導
電型の不純物を所定の濃度でかつ所定深さまで拡散する
。
拡散が終了すると、蓋4を取りはずして開口3からボー
ト7ごと半導体ウェーハ8を取り出す。
ト7ごと半導体ウェーハ8を取り出す。
ところで、第1図に示す従来装置においては、拡散処理
中、炉心管1の開口3に蓋4や装着されて、ガス排出孔
5から使用済ガス11を排出するようにしているが、炉
心管1と蓋4との寸法公差によって両者間に若干の隙間
が生じ、ガス排出孔5から使用済ガス11が急速に排出
されるのに伴い、炉心管1の開口3の下方部分が若干の
負圧状態になっているので、外部の空気12が前記隙間
を通って炉心管1内に侵入し、開口3に近い半導体ウェ
ーハ8の温度を低下せしめ、しかも酸化させるために、
半導体ウェーハ8間での不純物濃度のばらつきを生じる
という問題があった。
中、炉心管1の開口3に蓋4や装着されて、ガス排出孔
5から使用済ガス11を排出するようにしているが、炉
心管1と蓋4との寸法公差によって両者間に若干の隙間
が生じ、ガス排出孔5から使用済ガス11が急速に排出
されるのに伴い、炉心管1の開口3の下方部分が若干の
負圧状態になっているので、外部の空気12が前記隙間
を通って炉心管1内に侵入し、開口3に近い半導体ウェ
ーハ8の温度を低下せしめ、しかも酸化させるために、
半導体ウェーハ8間での不純物濃度のばらつきを生じる
という問題があった。
特に、拡散処理が終了すると、蓋4を取りはずしてボー
ト7を取り出すが、このときにも多量の空気が炉心管1
内に侵入して、未だ高温状態の半導体装置−ハ8を酸化
せしめていた。
ト7を取り出すが、このときにも多量の空気が炉心管1
内に侵入して、未だ高温状態の半導体装置−ハ8を酸化
せしめていた。
そのため、第2図に示すような装置も提案されている。
この装置が第1図と異なる点は、ボート7と蓋4との間
に陽圧キャップ13を介在せしめたことである。
に陽圧キャップ13を介在せしめたことである。
この陽圧キャップ13は石英で形成されており、炉心管
1の内径に略等しい外径を有し、中心部にガス挿通孔1
4を有する。
1の内径に略等しい外径を有し、中心部にガス挿通孔1
4を有する。
この第2図の装置によると、仮に炉心管1と蓋4との寸
法公差による隙間を通って炉心管1内に空気12が侵入
しても、陽圧キャップ13の内方側の炉心管1内は陽圧
に保持されているので、侵入した空気12が陽圧キャッ
プ13を越えて内部までは入り込まないので、前記した
問題点がなくなる。
法公差による隙間を通って炉心管1内に空気12が侵入
しても、陽圧キャップ13の内方側の炉心管1内は陽圧
に保持されているので、侵入した空気12が陽圧キャッ
プ13を越えて内部までは入り込まないので、前記した
問題点がなくなる。
しかしながら、第2図の装置では、ボート7の出し入れ
の際に、引き出し棒(図示せず)を陽圧キャップ13の
ガス挿通孔14に挿通してボート7に引掛けて出し入れ
している。
の際に、引き出し棒(図示せず)を陽圧キャップ13の
ガス挿通孔14に挿通してボート7に引掛けて出し入れ
している。
このため、引き出し棒をボート7に引掛る作業が煩雑で
作業性が悪かった。
作業性が悪かった。
この考案はこのような点にかんがみ提案されたもので、
以下その一実施例を第3図ないし第8図により説明する
。
以下その一実施例を第3図ないし第8図により説明する
。
第3図は陽圧キャップ20の正面図を示し、第4図は第
3図のIV−IV線に沿う縦断面図を示す。
3図のIV−IV線に沿う縦断面図を示す。
この陽圧キャップ20は、石英でつくられており、炉心
管の内径と略同等の外径を有する円筒状で、一方端、す
なわち炉心管1の内方側となる端部21が若干小径にな
るように傾斜状に形成されており、また軸方向の中央部
分が縮径されてガス挿通孔22が形成されている。
管の内径と略同等の外径を有する円筒状で、一方端、す
なわち炉心管1の内方側となる端部21が若干小径にな
るように傾斜状に形成されており、また軸方向の中央部
分が縮径されてガス挿通孔22が形成されている。
さらに前記内方側にボートに引掛けるための鉤形の係合
部23が一体に突出形成されており、外方側となる方に
は円形の開口部を横切るように仕切板24が一体に固着
されて、後述する出し入れ治具30の係合部25が形成
されており、仕切板24には引き出し棒(図示せず)を
引掛けるための半円形の切欠部26が形成されている。
部23が一体に突出形成されており、外方側となる方に
は円形の開口部を横切るように仕切板24が一体に固着
されて、後述する出し入れ治具30の係合部25が形成
されており、仕切板24には引き出し棒(図示せず)を
引掛けるための半円形の切欠部26が形成されている。
第5図は出し入れ治具30の正面図を示し、第6図は第
5図のVI−VI線に沿う縦断面図を示す。
5図のVI−VI線に沿う縦断面図を示す。
この出し入れ治具30も石英でつくられており、前記陽
圧キャップ20の出し入れ治具受入部25に嵌合する外
径を有する略半円形の本体部31と、陽圧キャップ20
のガス挿通孔22に嵌合する突出部32と、ハンドル部
33とを備えている。
圧キャップ20の出し入れ治具受入部25に嵌合する外
径を有する略半円形の本体部31と、陽圧キャップ20
のガス挿通孔22に嵌合する突出部32と、ハンドル部
33とを備えている。
第7図は前記陽圧キャップ20および出し入れ治具30
を備えたこの考案の半導体製造装置の縦断面図を示す。
を備えたこの考案の半導体製造装置の縦断面図を示す。
図において、第1図および第2図と同一部分または対応
部分には同一参照符号を付したので、その説明を省略す
る。
部分には同一参照符号を付したので、その説明を省略す
る。
すなわち、この考案では、ボート7の一端7aに陽圧キ
ャップ20の係合部23を係合し、出し入れ治具30の
本体部31を図示2点鎖線のように上方に位置せしめた
状態で、突出部32を陽圧キャップ20のガス挿通孔2
2に挿入し、次いで本体部31を軸に中心にして18咳
回転して、図示実線位置、すなわち出し入れ治具受人部
25に係合する。
ャップ20の係合部23を係合し、出し入れ治具30の
本体部31を図示2点鎖線のように上方に位置せしめた
状態で、突出部32を陽圧キャップ20のガス挿通孔2
2に挿入し、次いで本体部31を軸に中心にして18咳
回転して、図示実線位置、すなわち出し入れ治具受人部
25に係合する。
この状態ではボート7と陽圧キャップ20と出し入れ治
具30とが係合一体化されているので、出し入れ治具3
0のハンドル部33を握って炉心管1の内方に向って全
体を押し込む。
具30とが係合一体化されているので、出し入れ治具3
0のハンドル部33を握って炉心管1の内方に向って全
体を押し込む。
そうして、第7図のように陽圧キャップ20が炉心管1
の開口3内に挿入されると、ハンドル部33を軸を中心
として180度回転し、すなわち本体部31を図示2点
鎖線位置にして、ハンドル部33を炉心管1の外方に向
って引き出す。
の開口3内に挿入されると、ハンドル部33を軸を中心
として180度回転し、すなわち本体部31を図示2点
鎖線位置にして、ハンドル部33を炉心管1の外方に向
って引き出す。
それによって、出し入れ治具30の突出部32は陽圧キ
ャップ20のガス挿通孔22から抜けて、出し入れ治具
30のみを取り出すことができる。
ャップ20のガス挿通孔22から抜けて、出し入れ治具
30のみを取り出すことができる。
の状態で石英製の引き出し棒40を仕切板24の切欠部
26に引掛けて、陽圧キャップ20とボート7を所定位
置まで押し込む。
26に引掛けて、陽圧キャップ20とボート7を所定位
置まで押し込む。
次に、引き出し棒40を切欠部26からはずして炉心管
1の外部に取り出したのち、第8図に示すように、炉心
管1の開口3に蓋4を装着して、ガス導入口2からキャ
リヤガス9を導入して、炉心管1内の空気を排出し、ヒ
ータ6に通電して半導体ウェーハ8を所定温度にしたの
ち、ガス導入口2からキャリヤガス9に加えてドーパン
トガス10を導入し、半導体ウェーハ8に不純物を拡散
する。
1の外部に取り出したのち、第8図に示すように、炉心
管1の開口3に蓋4を装着して、ガス導入口2からキャ
リヤガス9を導入して、炉心管1内の空気を排出し、ヒ
ータ6に通電して半導体ウェーハ8を所定温度にしたの
ち、ガス導入口2からキャリヤガス9に加えてドーパン
トガス10を導入し、半導体ウェーハ8に不純物を拡散
する。
このとき、使用済ガス11は、陽圧キャップ20のガス
挿通孔22およびM4のガス排出孔5を通って外部に排
出される。
挿通孔22およびM4のガス排出孔5を通って外部に排
出される。
また、炉心管1と蓋体4との寸法公差によって両者間に
隙間が生じていて、この隙間から炉心管1内に空気12
が侵入しても、陽圧キャップ20の内方側が陽圧状態に
保持されていて、空気12が陽圧キャップ20の内方側
進入り込まないので、半導体ウェーハ8の温度低下や酸
化が防止される。
隙間が生じていて、この隙間から炉心管1内に空気12
が侵入しても、陽圧キャップ20の内方側が陽圧状態に
保持されていて、空気12が陽圧キャップ20の内方側
進入り込まないので、半導体ウェーハ8の温度低下や酸
化が防止される。
かくして、拡散処理が終了すると、蓋4を取りはずして
、引き出し棒40を切欠部26に引掛けて陽圧キャップ
20およびボート7を炉心管1の開口3まで引き出す。
、引き出し棒40を切欠部26に引掛けて陽圧キャップ
20およびボート7を炉心管1の開口3まで引き出す。
次いで前記と逆の順序で第7図のように出し入れ治具3
0を陽圧キャップ20に係合して、出し入れ治具30を
炉心管1の外方に向って引き出すことにより、これと一
体に係合している陽圧キャップ20およびボート7を一
緒に引き出す。
0を陽圧キャップ20に係合して、出し入れ治具30を
炉心管1の外方に向って引き出すことにより、これと一
体に係合している陽圧キャップ20およびボート7を一
緒に引き出す。
このとき、陽圧キャップ20およびボート7を一気に炉
心管1の外部に引き出すと、高温状態の半導体ウェーバ
8が酸化したり、急冷により湾曲したりするので、漸次
冷却するように徐徐に引き出すか、あるいは陽圧キャッ
プ20を炉心管1の端部まで一気に引き出し、そこで半
導体ウェーバ8を徐冷し、しかるのちに炉心管1の外部
に引き出すようにする。
心管1の外部に引き出すと、高温状態の半導体ウェーバ
8が酸化したり、急冷により湾曲したりするので、漸次
冷却するように徐徐に引き出すか、あるいは陽圧キャッ
プ20を炉心管1の端部まで一気に引き出し、そこで半
導体ウェーバ8を徐冷し、しかるのちに炉心管1の外部
に引き出すようにする。
なお、上記実施例は炉心管1内にキャリヤガス9ととも
にドーパントガス10を導入して、半導体ウェーバ8に
不純物をガス拡散する場合について説明したが、ボート
7上に半導体ウェーバ8とともに窒化ボロン(BN)や
ボロンプラス(B+)等の固体拡散源(図示せず)を支
持しておき、炉心管1内にキャリヤガス9のみを導入し
て揮拡散法で拡散する場合にも同様に使用できる。
にドーパントガス10を導入して、半導体ウェーバ8に
不純物をガス拡散する場合について説明したが、ボート
7上に半導体ウェーバ8とともに窒化ボロン(BN)や
ボロンプラス(B+)等の固体拡散源(図示せず)を支
持しておき、炉心管1内にキャリヤガス9のみを導入し
て揮拡散法で拡散する場合にも同様に使用できる。
あるいは、炉心管1内にキャリヤガス9とともに酸化性
ガスを導入して半導体ウェーバ8に熱酸化膜を猛威する
場合にも使用できる。
ガスを導入して半導体ウェーバ8に熱酸化膜を猛威する
場合にも使用できる。
この考案は以上のように、陽圧キャップにボートに着脱
自在の係合部を設け、かつこの陽圧キャップに係合する
出し入れ治具を設けたので、半導体ウェーバの熱処理中
の半導体ウェーバの熱処理のばらつきがなくなり、しか
もボートの出し入れ作業が非常に簡単になるという作用
効果を奏する。
自在の係合部を設け、かつこの陽圧キャップに係合する
出し入れ治具を設けたので、半導体ウェーバの熱処理中
の半導体ウェーバの熱処理のばらつきがなくなり、しか
もボートの出し入れ作業が非常に簡単になるという作用
効果を奏する。
第1図および第2図は従来の半導体製造装置の異なる例
の縦断面図、第3図および第4図はこの考案の陽圧キャ
ップの一実施例を示し、第3図はその正面図で、第4図
は第3図のIV−IV線に沿う縦断面図、第5図および
第6図はこの考案の出し入れ治具の一炉心管1を示し、
第5図はその正面図、第6図は第5図のVI−VI線に
沿う縦断面図、第7図はこの考案の半導体製造装置のボ
ート出し入れ時の態様を示す縦断面図、第8図はこの考
案の半導体製造装置の使用時の態様を示す縦断面図であ
る。 1・・・・・・炉心管、2・・・・・・ガス導入口、4
・・・・・・蓋、6・・・・・・ヒータ、7・・・・・
・ボート、8・・・・・・半導体ウェーバ、20・・・
・・・陽圧キャップ、22・・・・・・ガス通過孔、2
3・・・・・・係合部、24・・・・・・板状部材、2
5・・・・・・係合部、30・・・・・・出し入れ治具
、31・・・・・・本体部、32・・・・・・突出部、
33・・・・・・バンドル部。
の縦断面図、第3図および第4図はこの考案の陽圧キャ
ップの一実施例を示し、第3図はその正面図で、第4図
は第3図のIV−IV線に沿う縦断面図、第5図および
第6図はこの考案の出し入れ治具の一炉心管1を示し、
第5図はその正面図、第6図は第5図のVI−VI線に
沿う縦断面図、第7図はこの考案の半導体製造装置のボ
ート出し入れ時の態様を示す縦断面図、第8図はこの考
案の半導体製造装置の使用時の態様を示す縦断面図であ
る。 1・・・・・・炉心管、2・・・・・・ガス導入口、4
・・・・・・蓋、6・・・・・・ヒータ、7・・・・・
・ボート、8・・・・・・半導体ウェーバ、20・・・
・・・陽圧キャップ、22・・・・・・ガス通過孔、2
3・・・・・・係合部、24・・・・・・板状部材、2
5・・・・・・係合部、30・・・・・・出し入れ治具
、31・・・・・・本体部、32・・・・・・突出部、
33・・・・・・バンドル部。
Claims (1)
- 炉心管と、炉心管内に挿入されるボートおよび陽圧キャ
ップと、ボートおよび陽圧キャップを炉心管内に出し入
れする出し入れ治具とを備え、前記陽圧キャップは炉心
管の内径に略等しい外径で、一方端にボートと着脱自在
に係合する係合部を有するとともに、他方端に出し入れ
治具の受入部を有腰前記出し入れ治具は前記陽圧キャッ
プのガス挿通孔に挿入される突出部と、陽圧キャップの
受は入れ部に嵌合する略半円形の本体部と、この本体部
と一体となったハンドル部とを有することを特徴とする
半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18531679U JPS6031260Y2 (ja) | 1979-12-26 | 1979-12-26 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18531679U JPS6031260Y2 (ja) | 1979-12-26 | 1979-12-26 | 半導体製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5699847U JPS5699847U (ja) | 1981-08-06 |
| JPS6031260Y2 true JPS6031260Y2 (ja) | 1985-09-18 |
Family
ID=29695507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18531679U Expired JPS6031260Y2 (ja) | 1979-12-26 | 1979-12-26 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6031260Y2 (ja) |
-
1979
- 1979-12-26 JP JP18531679U patent/JPS6031260Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5699847U (ja) | 1981-08-06 |
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