JPS6033105B2 - クロトニルシクロヘキセノン系化合物並びにそれらの製法及び持続性香気賦与乃至変調剤 - Google Patents
クロトニルシクロヘキセノン系化合物並びにそれらの製法及び持続性香気賦与乃至変調剤Info
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- JPS6033105B2 JPS6033105B2 JP52114307A JP11430777A JPS6033105B2 JP S6033105 B2 JPS6033105 B2 JP S6033105B2 JP 52114307 A JP52114307 A JP 52114307A JP 11430777 A JP11430777 A JP 11430777A JP S6033105 B2 JPS6033105 B2 JP S6033105B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、下記式(1)及び式(0)、
但し式中、Rは水素原子もしくはメチル基を示し、Zは
=○基もしくは4・4−エチレンジオキシド基を示す。
=○基もしくは4・4−エチレンジオキシド基を示す。
但し式中、Rは上託したと同義であり、Z′は4・4−
エチレンジオキシド基を示す。で表わされるクロトニル
シクロヘキセノン系化合物並びにそられの製法及び持続
性香気賦与乃至変調剤に関する。
エチレンジオキシド基を示す。で表わされるクロトニル
シクロヘキセノン系化合物並びにそられの製法及び持続
性香気賦与乃至変調剤に関する。
下記式:
〔4ーヒドロキシー3−ダマスコン〕
〔8ーダマセノン〕
で表わされる4−ヒドロキシ−B−ダマスコン及び8ー
ダマセノンは、天然のタバコ葉及び天然源のブルガリア
ローズ油から、夫々分離採取される公3句香気成分であ
る。
ダマセノンは、天然のタバコ葉及び天然源のブルガリア
ローズ油から、夫々分離採取される公3句香気成分であ
る。
本発明者等は、上記天然香気成分及びその類縁化合物の
合成について研究を行なってきた。その結果、前記式(
1)で示される従来文献未記載のクロトニルシクロヘキ
セノン系化合物、及びその中間体である前記式(0)で
示されると同様に文献未記載のシクロヘキセニルー3ー
ケト−ルが、安価且つ入手容易な原料から容易に合成で
きることを発見した。
合成について研究を行なってきた。その結果、前記式(
1)で示される従来文献未記載のクロトニルシクロヘキ
セノン系化合物、及びその中間体である前記式(0)で
示されると同様に文献未記載のシクロヘキセニルー3ー
ケト−ルが、安価且つ入手容易な原料から容易に合成で
きることを発見した。
更に該式(1)及び(0)で示される化合物が4−ヒド
ロキシーBーダマスコン、8ーダマセノン及びそれらの
類縁化合物(デスメチル体)を合成する中間体として有
用であるほかに、これら化合物それ自体が、フロラール
調のユニークな香気を有し且つ持続性のある香気成分で
あることを発見した。とくに、前記式(1)化合物はロ
ーズを想起させるフロラール調のユニークな香気を有す
る持続性の香気成分であることがわかった。斯くして、
上記式(1)及び(0)化合物は、優れた持続性香気賦
与乃至変調剤として注目すべき有用性を示し、噂好品類
、イ○舷品類、保健衛生医薬品類などの広い利用分稗野
1こおいて持続性香気賦与乃至変調剤として有用である
ことがわかった。
ロキシーBーダマスコン、8ーダマセノン及びそれらの
類縁化合物(デスメチル体)を合成する中間体として有
用であるほかに、これら化合物それ自体が、フロラール
調のユニークな香気を有し且つ持続性のある香気成分で
あることを発見した。とくに、前記式(1)化合物はロ
ーズを想起させるフロラール調のユニークな香気を有す
る持続性の香気成分であることがわかった。斯くして、
上記式(1)及び(0)化合物は、優れた持続性香気賦
与乃至変調剤として注目すべき有用性を示し、噂好品類
、イ○舷品類、保健衛生医薬品類などの広い利用分稗野
1こおいて持続性香気賦与乃至変調剤として有用である
ことがわかった。
従って、本発明の目的は前記式(1)の文献未記載の化
合物、その製法及び利用を提供するにある。
合物、その製法及び利用を提供するにある。
本発明の上記目的及び更に多くの他の目的並びに利点は
、以下の記載から一層明らかになるであろう。
、以下の記載から一層明らかになるであろう。
本発明の前記式(1)化合物が、式中、Zが=○基であ
る場合と4・4−エチレンジオキシ基である場合とにわ
けて示すと下記式(1一1)及び(1一−2)で表わさ
れるクロトニルシクロヘキセノン類と下記式で表わされ
るクロトニルシクロヘキセノンケタ−ル類にわけて示す
こともできる。
る場合と4・4−エチレンジオキシ基である場合とにわ
けて示すと下記式(1一1)及び(1一−2)で表わさ
れるクロトニルシクロヘキセノン類と下記式で表わされ
るクロトニルシクロヘキセノンケタ−ル類にわけて示す
こともできる。
又、本発明の前記式(0)化合物は、下記式(ロ)と表
わすこともできる。
わすこともできる。
本発明の式(0)化合物は、下記式01、式中、R及び
Z′は上記したと同義、 で表わされるアセチルシクロヘキセノンケタール類を、
アルカリの存在下にアセトアルヒデドとアルドール縮合
反応させることにより容易に得ることができる。
Z′は上記したと同義、 で表わされるアセチルシクロヘキセノンケタール類を、
アルカリの存在下にアセトアルヒデドとアルドール縮合
反応させることにより容易に得ることができる。
又、本発明の式(1)化合物中、上記式(1−2)化合
物は、前記式(D)化合物を、酸もしくはアルカリの存
在下に脱水反応させることにより容易に製造でき、上記
式(1−1)化合物は、このようにして得られる式(1
一2)化合物を酸の存在下に加水分解することにより容
易に得ることができる。これを工程図に示すと以下のよ
うに示すことができる。上記式【1}化合物式‘1’′
及び式‘1hヒ合物も文献夫記載の化合物であって例え
ば下記工程図に従って製造することができる。
物は、前記式(D)化合物を、酸もしくはアルカリの存
在下に脱水反応させることにより容易に製造でき、上記
式(1−1)化合物は、このようにして得られる式(1
一2)化合物を酸の存在下に加水分解することにより容
易に得ることができる。これを工程図に示すと以下のよ
うに示すことができる。上記式【1}化合物式‘1’′
及び式‘1hヒ合物も文献夫記載の化合物であって例え
ば下記工程図に従って製造することができる。
上記工程図に従って、本発明の原料式m′もしくは式‘
1r化合物を製造する詳細は、同一出願人の同日付出願
に係わる特藤昭52−114306号(発明の名称:ア
セチルシクロヘキセノンケタール類及び利用)明細書に
記載されている。簡単に説明すると、上記式{21の2
ートリメチルシリロキシー4ーアルコキシ1・3−ブタ
ジェンと上記式‘31のメチルオキシドとの加熱仮応生
成物を、酸触媒の存在下に、エチレングリコールと反応
せしめることにより、前記式{11′の1−アセチル−
6・6−ジメチルー4・4−エチレンジオキシ−1ーシ
クロヘキセンを製造することができる。更に、該式{1
1′化合物をメチル化剤で処理したのちハロゲン例えば
塩素、臭素、沃素などと作用させ、次いで塩基の存在下
に脱ハロゲン化水素反応せしめることにより式{11″
化合物を製造することができる。
1r化合物を製造する詳細は、同一出願人の同日付出願
に係わる特藤昭52−114306号(発明の名称:ア
セチルシクロヘキセノンケタール類及び利用)明細書に
記載されている。簡単に説明すると、上記式{21の2
ートリメチルシリロキシー4ーアルコキシ1・3−ブタ
ジェンと上記式‘31のメチルオキシドとの加熱仮応生
成物を、酸触媒の存在下に、エチレングリコールと反応
せしめることにより、前記式{11′の1−アセチル−
6・6−ジメチルー4・4−エチレンジオキシ−1ーシ
クロヘキセンを製造することができる。更に、該式{1
1′化合物をメチル化剤で処理したのちハロゲン例えば
塩素、臭素、沃素などと作用させ、次いで塩基の存在下
に脱ハロゲン化水素反応せしめることにより式{11″
化合物を製造することができる。
本発明によれば前記式‘1’で示されるアセチルシクロ
ヘキセノンケタール類、すなわち、前記式【1}で示さ
れる1ーアセチル−6・6ージメチル−4・4ーエチレ
ンジオキシー1ーシクロヘキセンもしくは式m″で示さ
れる1ーアセチルー2・6・6−トリメチル−4・4ー
エチレンジオキシー1ーシクロヘキセンを、アルカリの
存在下にアセトアルデヒドとアルドール縮合反応させる
ことにより、下記式(0)式中Rは水素原子もしくはメ
チル基を示し、Z′は4・4−エチレンジオキシ基を示
す、で表わされるシクロヘキセニル−Bーケトール類を
製造することができる。
ヘキセノンケタール類、すなわち、前記式【1}で示さ
れる1ーアセチル−6・6ージメチル−4・4ーエチレ
ンジオキシー1ーシクロヘキセンもしくは式m″で示さ
れる1ーアセチルー2・6・6−トリメチル−4・4ー
エチレンジオキシー1ーシクロヘキセンを、アルカリの
存在下にアセトアルデヒドとアルドール縮合反応させる
ことにより、下記式(0)式中Rは水素原子もしくはメ
チル基を示し、Z′は4・4−エチレンジオキシ基を示
す、で表わされるシクロヘキセニル−Bーケトール類を
製造することができる。
上記反応は、例えば、不活性有機溶媒中、式【11アセ
チルシクoヘキサノンケタール類と、リチウムアミド類
、臭化マグネシウムアミド類の如きアルカリとを接触さ
せ、更にアセトアルデヒドと接触せしめることにより行
なうことができ、好収率で選択的に式(山化合物を製造
することができる。
チルシクoヘキサノンケタール類と、リチウムアミド類
、臭化マグネシウムアミド類の如きアルカリとを接触さ
せ、更にアセトアルデヒドと接触せしめることにより行
なうことができ、好収率で選択的に式(山化合物を製造
することができる。
反応は室温以下の可及的低温で行なうのがよく、例えば
一100qo〜約十30℃程度の反応温度を例示できる
。約一8000〜約十10つ0程度の温度がより好まし
く採用できる。反応時間は反応温度などにより適宜に選
択でき、例えば約3M分間〜4凪時間の如き反応時間が
採用できる。上記アルカリの具体例としては、例えば、
リチウムジィソプロピルアミド、リチウムジーnープチ
ルアミド、リチウムジイソブチルアミド、リチウムジエ
チルアミド、リチウムジシクロヘキシルアミド、リチウ
ム一N−メチルアミド、リチウム−Nーエチルアニリド
、リチウムジフェニルアミド等の如きリチウムアミド類
:臭化マグネシウム−Nーメチルアニリド、臭化マグネ
シウム−Nーェチルアニリド等の如き臭化マグネシウム
アミド類等のアミド類を例示することができる。アルカ
リとして利用するこれらアミド類の使用量は適当に選択
でき、式{11のァセチルシクロヘキセノンケタール類
1モルに対して、例えば、約1〜約10モル程度の使用
量を例示することができる。約1.2〜約5モル程度の
使用量をより好ましく採用することができる。又、上記
アセトアルデヒド使用量にもとくべつな制約は7ょ〈、
例えば、式‘1}化合物1モルに対して約1〜約50モ
ル、一層好ましくは約2〜約10モル程度の使用量を例
示することができる。又、反応に用いる不活性有機溶媒
の例としては、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーブル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジオキサン、ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン
、n−へキサン等の如きエーテル類、脂肪族及び芳香族
炭化水素類及びこれらの複数種併用などを例示すること
ができる。これら溶媒の使用量も適宜に選択でき、式‘
1’のアセチルシクロヘキセ/ンケタール類の重量に基
づいて、例えば、約2〜約10“音重量倍、一層好まし
くは約10〜約5匹重量倍程度の使用量を例示すること
ができる。得られた式(0)化合物は、反応生成物を例
えば水中に注入し、適当な溶媒、例えばnーヘキサン、
ベンゼン、トルェン、エーテル、酢酸エチル、クロロホ
ルム、塩化メチレン及び四塩化炭素等の如き溶媒で抽出
し、溶媒相を例えば中和、水洗、乾燥し、濃縮すること
により単欧することができ、望むならば、減圧蒸留、カ
ラムクロマトグラフイー、その他公知の精製手段によっ
て更に精製することができる。
一100qo〜約十30℃程度の反応温度を例示できる
。約一8000〜約十10つ0程度の温度がより好まし
く採用できる。反応時間は反応温度などにより適宜に選
択でき、例えば約3M分間〜4凪時間の如き反応時間が
採用できる。上記アルカリの具体例としては、例えば、
リチウムジィソプロピルアミド、リチウムジーnープチ
ルアミド、リチウムジイソブチルアミド、リチウムジエ
チルアミド、リチウムジシクロヘキシルアミド、リチウ
ム一N−メチルアミド、リチウム−Nーエチルアニリド
、リチウムジフェニルアミド等の如きリチウムアミド類
:臭化マグネシウム−Nーメチルアニリド、臭化マグネ
シウム−Nーェチルアニリド等の如き臭化マグネシウム
アミド類等のアミド類を例示することができる。アルカ
リとして利用するこれらアミド類の使用量は適当に選択
でき、式{11のァセチルシクロヘキセノンケタール類
1モルに対して、例えば、約1〜約10モル程度の使用
量を例示することができる。約1.2〜約5モル程度の
使用量をより好ましく採用することができる。又、上記
アセトアルデヒド使用量にもとくべつな制約は7ょ〈、
例えば、式‘1}化合物1モルに対して約1〜約50モ
ル、一層好ましくは約2〜約10モル程度の使用量を例
示することができる。又、反応に用いる不活性有機溶媒
の例としては、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーブル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジオキサン、ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン
、n−へキサン等の如きエーテル類、脂肪族及び芳香族
炭化水素類及びこれらの複数種併用などを例示すること
ができる。これら溶媒の使用量も適宜に選択でき、式‘
1’のアセチルシクロヘキセ/ンケタール類の重量に基
づいて、例えば、約2〜約10“音重量倍、一層好まし
くは約10〜約5匹重量倍程度の使用量を例示すること
ができる。得られた式(0)化合物は、反応生成物を例
えば水中に注入し、適当な溶媒、例えばnーヘキサン、
ベンゼン、トルェン、エーテル、酢酸エチル、クロロホ
ルム、塩化メチレン及び四塩化炭素等の如き溶媒で抽出
し、溶媒相を例えば中和、水洗、乾燥し、濃縮すること
により単欧することができ、望むならば、減圧蒸留、カ
ラムクロマトグラフイー、その他公知の精製手段によっ
て更に精製することができる。
例えば上述のようにして得られる式(0)のシクロヘキ
セニル−8ーケトール類、例えば、式中、Rが水素原子
である1−(3′−ヒドロキシブチロイル−1′)一6
・6ージメチル−4・4ーエチレンジオキシー1ーシク
ロヘキセン、式中、Rがメチル基である1一(3′ーヒ
ドロキシプチロイルー1′)−2・6・6−トリメチル
ー4・4ーエチレンジオキシ−1−シクロヘキセンは文
献未記載の油状化合物であって、前者は124〜126
℃/0.01肋Hg、後者は123〜127℃/0.0
1側Hgの沸点を示す。これら文献未記載の化合物の赤
外及び該磁気共鳴スペクトルの結果については後記実施
例に示した。更に、これら式(0)化合物は、グリーン
及びウツディ感のあるフローラル調のユニークな香気を
持ち且つ持続性のある香気成分であることがわかった。
本発明によれば、例えば上述のようにした製造できる式
(0)のシクロヘキセニルー3−ケトール類を、酸もし
くはアルカリの存在下に、脱水反応させることにより、
高純度且つ高収率で下記式(1−2)、但し式中、Rは
水素原子もしくはメチル基を示し、Z′は4・4ーェチ
レンジオキシ基を示す、で表わされるクロトニルシクロ
ヘキセノンケトール類を製造することができる。
セニル−8ーケトール類、例えば、式中、Rが水素原子
である1−(3′−ヒドロキシブチロイル−1′)一6
・6ージメチル−4・4ーエチレンジオキシー1ーシク
ロヘキセン、式中、Rがメチル基である1一(3′ーヒ
ドロキシプチロイルー1′)−2・6・6−トリメチル
ー4・4ーエチレンジオキシ−1−シクロヘキセンは文
献未記載の油状化合物であって、前者は124〜126
℃/0.01肋Hg、後者は123〜127℃/0.0
1側Hgの沸点を示す。これら文献未記載の化合物の赤
外及び該磁気共鳴スペクトルの結果については後記実施
例に示した。更に、これら式(0)化合物は、グリーン
及びウツディ感のあるフローラル調のユニークな香気を
持ち且つ持続性のある香気成分であることがわかった。
本発明によれば、例えば上述のようにした製造できる式
(0)のシクロヘキセニルー3−ケトール類を、酸もし
くはアルカリの存在下に、脱水反応させることにより、
高純度且つ高収率で下記式(1−2)、但し式中、Rは
水素原子もしくはメチル基を示し、Z′は4・4ーェチ
レンジオキシ基を示す、で表わされるクロトニルシクロ
ヘキセノンケトール類を製造することができる。
上記脱水反応は、溶媒の存在下もしくは不存在下に、式
(ロ)化合物と酸もしくはアルカリとを接触せしめるこ
とにより容易に行なうことができる。
(ロ)化合物と酸もしくはアルカリとを接触せしめるこ
とにより容易に行なうことができる。
反応は室温でも進行し、例えば約100〜約150qo
程度の温度を採用するのが好ましく、より好ましくは約
20〜約12ぴ0程度の温度を例示することができる。
反応時間は反応温度などによって適宜に変更でき、例え
ば約1ぴ分〜約lq時間程度の反応時間を例示すること
ができる。反応に用いる酸もしくはアルカリの具体例と
して例えば、ベンゼンスルホン酸、p−トルェンスルホ
ン酸、ナフタレンスルホン酸、メタンスルホン酸の如き
スルホン酸類;塩酸、硫酸、リン酸の如き鉱酸類;等を
例示することができる。
程度の温度を採用するのが好ましく、より好ましくは約
20〜約12ぴ0程度の温度を例示することができる。
反応時間は反応温度などによって適宜に変更でき、例え
ば約1ぴ分〜約lq時間程度の反応時間を例示すること
ができる。反応に用いる酸もしくはアルカリの具体例と
して例えば、ベンゼンスルホン酸、p−トルェンスルホ
ン酸、ナフタレンスルホン酸、メタンスルホン酸の如き
スルホン酸類;塩酸、硫酸、リン酸の如き鉱酸類;等を
例示することができる。
又、アルカリとして例えば無水酢酸−酢酸ナトリウムも
しくはカリウムの如き無水酢酸−アルカリ金属酢酸塩:
水酸化ナトリウムもしくはカリウム、水酸化リチウムの
如きアルカリ金属水酸化物:ナトリウムメチラート、ナ
トリウムエチラート、カリウム第三級ブチラート、カリ
ウム第三級アミラートの如きアルカリ金属アルコラート
類;等を例示することができる。これら酸もし〈はアル
カリの使用量は適当に選択でき、例えば、式(0)シク
ロヘキセニル−8ーケトール類1モルに対して約0.0
1〜約10モル程度の使用量で充分であり、より好まし
くは約0.05〜約5モル程度の量を採用できる。又、
上記脱水反応に用いる溶媒の例としては、ベンゼン、ト
ルエン、メタノール、エタノール、第三級ブタノール、
第三級アミルアルコ−ル、テトラヒドロフランの如きエ
ーテル類、アルコール類、芳香族炭化水素類等及び水を
例示することができ、これらは単独でも複数種併用して
も利用することができる。これらの溶媒の使用量にも特
別な制約はなく、例えば式(ロ)化合物の重量に基いて
約2〜約10の重量倍、より好ましくは約10〜約5の
重量倍程度の使用量を例示することができる。得られた
式(1一2)化合物は、反応生成物を例えば水中に注入
し、適当な溶媒、例えばnーヘキサン、ベンゼン、トル
ェン、エーテル、酢酸ェチル、クロロホルム、塩化メチ
レン、及び四塩化炭素等の如き溶媒で抽出し、溶媒相を
例えば中和、水洗、乾燥し濃縮することにより単離する
ことができる。
しくはカリウムの如き無水酢酸−アルカリ金属酢酸塩:
水酸化ナトリウムもしくはカリウム、水酸化リチウムの
如きアルカリ金属水酸化物:ナトリウムメチラート、ナ
トリウムエチラート、カリウム第三級ブチラート、カリ
ウム第三級アミラートの如きアルカリ金属アルコラート
類;等を例示することができる。これら酸もし〈はアル
カリの使用量は適当に選択でき、例えば、式(0)シク
ロヘキセニル−8ーケトール類1モルに対して約0.0
1〜約10モル程度の使用量で充分であり、より好まし
くは約0.05〜約5モル程度の量を採用できる。又、
上記脱水反応に用いる溶媒の例としては、ベンゼン、ト
ルエン、メタノール、エタノール、第三級ブタノール、
第三級アミルアルコ−ル、テトラヒドロフランの如きエ
ーテル類、アルコール類、芳香族炭化水素類等及び水を
例示することができ、これらは単独でも複数種併用して
も利用することができる。これらの溶媒の使用量にも特
別な制約はなく、例えば式(ロ)化合物の重量に基いて
約2〜約10の重量倍、より好ましくは約10〜約5の
重量倍程度の使用量を例示することができる。得られた
式(1一2)化合物は、反応生成物を例えば水中に注入
し、適当な溶媒、例えばnーヘキサン、ベンゼン、トル
ェン、エーテル、酢酸ェチル、クロロホルム、塩化メチ
レン、及び四塩化炭素等の如き溶媒で抽出し、溶媒相を
例えば中和、水洗、乾燥し濃縮することにより単離する
ことができる。
望むならば減圧蒸留、カラムクロマトグラ!フィー、そ
の他の公3句の精製手段によって更に精製することがで
きる。例えば上述のようにして得られる式(1−2)の
クロートニルシクロヘキセノンケタール類例えば式中R
i力;水素原子である1−クロトニル−6・6−ジメゴ
チル−4・4ーエチレンジオキシ−1−ジクロヘキセン
、式中Rがメチル基である1−クロトニルー2・6・6
ートリメチルー4・4ーエチレンジオキシー1ーシクロ
ヘキセンは、文献未記載の油状化合物であって、前者は
10げ○〜1070/0.01肌Hg、後者は1雌〜1
0が○/0.01肌Hgの沸点を示す。
の他の公3句の精製手段によって更に精製することがで
きる。例えば上述のようにして得られる式(1−2)の
クロートニルシクロヘキセノンケタール類例えば式中R
i力;水素原子である1−クロトニル−6・6−ジメゴ
チル−4・4ーエチレンジオキシ−1−ジクロヘキセン
、式中Rがメチル基である1−クロトニルー2・6・6
ートリメチルー4・4ーエチレンジオキシー1ーシクロ
ヘキセンは、文献未記載の油状化合物であって、前者は
10げ○〜1070/0.01肌Hg、後者は1雌〜1
0が○/0.01肌Hgの沸点を示す。
これら文献禾記載の化合物の赤外、核磁気共鳴及び質量
スペクトルの結果については後記実施例に示した。更に
これら式(1−2)化合物は、ローズを想起させるフロ
ーラル調のユニークな香気を有し且つ持続性のある香気
成分であることがわかった。本発明においては、例えば
上述のようにして製造できる式(1−2)化合物を酸の
存在下に加水分解することにより、下記式(1−1)、
但し式中Rは水素原子もしくはメチル基を示しZは=○
を示す、で表わされるクロトニルシクロヘキセノン類を
製造することができる。
スペクトルの結果については後記実施例に示した。更に
これら式(1−2)化合物は、ローズを想起させるフロ
ーラル調のユニークな香気を有し且つ持続性のある香気
成分であることがわかった。本発明においては、例えば
上述のようにして製造できる式(1−2)化合物を酸の
存在下に加水分解することにより、下記式(1−1)、
但し式中Rは水素原子もしくはメチル基を示しZは=○
を示す、で表わされるクロトニルシクロヘキセノン類を
製造することができる。
上記加水分解は水の存在下、有機溶媒の存在下に、該式
(1一2)化合物と酸とを鞍鮫せしめることにより好収
率且つ高速珠率で容易に行なうことができる。
(1一2)化合物と酸とを鞍鮫せしめることにより好収
率且つ高速珠率で容易に行なうことができる。
反応は室温でも進行するのでとくに加熱もしくは冷却の
必要はないが、例えば約0℃〜約8ぴ0程度の温度を例
示できる。反応時間も適宜に変更でき、例えば約1晩軸
〜約5時間程度の反応時間が採用できる。反応に用いる
酸の具体例としては、例えば塩酸、臭化水素類、リン酸
、硫酸の如き無機酸類:例えばベンゼンスルホン酸、p
−トルェンスルホン酸メタンスルホン酸、ナフタレンス
ルホン酸の如きスルホン酸類;蟻酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸の如き有機カルポン酸類;などを挙げることが
できる。
必要はないが、例えば約0℃〜約8ぴ0程度の温度を例
示できる。反応時間も適宜に変更でき、例えば約1晩軸
〜約5時間程度の反応時間が採用できる。反応に用いる
酸の具体例としては、例えば塩酸、臭化水素類、リン酸
、硫酸の如き無機酸類:例えばベンゼンスルホン酸、p
−トルェンスルホン酸メタンスルホン酸、ナフタレンス
ルホン酸の如きスルホン酸類;蟻酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸の如き有機カルポン酸類;などを挙げることが
できる。
これらの酸の例えば約1〜約90%程度、好ましくは約
5〜約80%程度の水溶液の形で利用することができ、
その使用量は式(1−2)化合物重量に基ずいて、例え
ば約1〜約10の重量倍、好ましくは約2〜約5の重量
倍の使用量を例示することができる。又、前記有機溶媒
の例としてはテトラヒドロフラン、ジオキサン、メタ/
−ル、エタノール、ベンゼン、n−へキサン、ジエチル
ェ−テルの如き有機溶媒を挙げることができる。これら
溶媒は単独でも複数種併用してでも利用できる。これら
溶媒の使用量には、とくべつな制約はないが、酸水溶液
の重量に基づいて例えば約0.1〜約2の重量倍、一層
好ましくは約0.5〜約10重量倍程度の使用量を例示
できる。得られた式(1−1)化合物は、反応生成物を
例えば水中に注入し適当な溶媒、たとえば、nーヘキサ
ン、ベンゼン、トルェン、酢酸エチル、エーテル、クロ
ロホルム、塩化メチレン及び四塩化炭素等の如き溶媒で
抽出し、溶媒層を例えば中和、水洗、乾燥し濃縮するこ
とによって単離することができる。
5〜約80%程度の水溶液の形で利用することができ、
その使用量は式(1−2)化合物重量に基ずいて、例え
ば約1〜約10の重量倍、好ましくは約2〜約5の重量
倍の使用量を例示することができる。又、前記有機溶媒
の例としてはテトラヒドロフラン、ジオキサン、メタ/
−ル、エタノール、ベンゼン、n−へキサン、ジエチル
ェ−テルの如き有機溶媒を挙げることができる。これら
溶媒は単独でも複数種併用してでも利用できる。これら
溶媒の使用量には、とくべつな制約はないが、酸水溶液
の重量に基づいて例えば約0.1〜約2の重量倍、一層
好ましくは約0.5〜約10重量倍程度の使用量を例示
できる。得られた式(1−1)化合物は、反応生成物を
例えば水中に注入し適当な溶媒、たとえば、nーヘキサ
ン、ベンゼン、トルェン、酢酸エチル、エーテル、クロ
ロホルム、塩化メチレン及び四塩化炭素等の如き溶媒で
抽出し、溶媒層を例えば中和、水洗、乾燥し濃縮するこ
とによって単離することができる。
望むならば、減圧蒸留、カラムクロマトグラフィ、その
他の公知の精製手段によって更に精製することもできる
。たとえば、上述のようにして得られる式(1一1)の
クロトニルシクロヘキセノン類、たとえば式(1−1)
中、Rが水素原子である1ークロトニルー6・6ージメ
チル−1−シクロヘキセンー4ーオン、式中Rがメチル
基である1ークロトニルー2・6・6ートリメチル−1
ーシクロヘキセン−4ーオンは文献未記載の油状化合物
であって、前者は101〜1020/0.01側Hg、
後者は103〜104午0/0.01肋Hgの沸点を示
す。
他の公知の精製手段によって更に精製することもできる
。たとえば、上述のようにして得られる式(1一1)の
クロトニルシクロヘキセノン類、たとえば式(1−1)
中、Rが水素原子である1ークロトニルー6・6ージメ
チル−1−シクロヘキセンー4ーオン、式中Rがメチル
基である1ークロトニルー2・6・6ートリメチル−1
ーシクロヘキセン−4ーオンは文献未記載の油状化合物
であって、前者は101〜1020/0.01側Hg、
後者は103〜104午0/0.01肋Hgの沸点を示
す。
これら文献禾記載の化合物の赤外及び核磁気共鳴スペク
トルの結果については、後記の実施例に示した。これら
式(1−1)化合物もローズを想起させるフローラル調
のユニークな香気を有し且つ持続性のある香気成分であ
ることがわかった。本発明によれば、たとえば上述のよ
うにして製造できる下記式(1)及び式(0)但し式中
、Rは水素原子もしくはメチル基を示し、Zは=○基も
しくは4・4−エチレンジオキシ基を示す。
トルの結果については、後記の実施例に示した。これら
式(1−1)化合物もローズを想起させるフローラル調
のユニークな香気を有し且つ持続性のある香気成分であ
ることがわかった。本発明によれば、たとえば上述のよ
うにして製造できる下記式(1)及び式(0)但し式中
、Rは水素原子もしくはメチル基を示し、Zは=○基も
しくは4・4−エチレンジオキシ基を示す。
但し式中、Rは上記したと同義であり、Z′は4・4−
エチレンジオキシ基を示す、で表わされる化合物の少な
くとも一種を有効成分として含有することを特徴とする
持続性香気賦与乃至変調剤が提供できる。
エチレンジオキシ基を示す、で表わされる化合物の少な
くとも一種を有効成分として含有することを特徴とする
持続性香気賦与乃至変調剤が提供できる。
これら式(1)及び式(0)化合物は例えば噂好品類、
化粧品類、保健・衛生・医薬品などの広い分野において
持続性あるフローラル調の香気を賦与し得る持続性香気
賦与乃至変調剤としてユニークな特性を示す。斯くして
、例えば、香料、タバコ、各種のイけ鮭品用クリーム類
、トニック、ローション類、生毛及び養毛品類、石鹸及
び洗剤類、トイレツター類、チリ紙、制汗剤、脱毛剤そ
の他の保健・衛生・医薬品類などの広汎な利用分野にお
いて、ユニークな持続性香気賦与乃至変調剤として有用
である。以下参考例及び実施例により本発明実施の数態
様について更に詳しく説明する。参考例 1 2−トリメチルシリロキシ−4ーメトキシー1・3−ブ
タジェンの製造トリェチルアミン250夕と塩化亜鉛2
.5夕の懸濁溶液中に、室温下、トリメチルシリルクロ
リド松5夕及び4ーメトキシー3−プテン−2−オン1
00夕のベンゼン600の上溶液を1時間で滴下する。
化粧品類、保健・衛生・医薬品などの広い分野において
持続性あるフローラル調の香気を賦与し得る持続性香気
賦与乃至変調剤としてユニークな特性を示す。斯くして
、例えば、香料、タバコ、各種のイけ鮭品用クリーム類
、トニック、ローション類、生毛及び養毛品類、石鹸及
び洗剤類、トイレツター類、チリ紙、制汗剤、脱毛剤そ
の他の保健・衛生・医薬品類などの広汎な利用分野にお
いて、ユニークな持続性香気賦与乃至変調剤として有用
である。以下参考例及び実施例により本発明実施の数態
様について更に詳しく説明する。参考例 1 2−トリメチルシリロキシ−4ーメトキシー1・3−ブ
タジェンの製造トリェチルアミン250夕と塩化亜鉛2
.5夕の懸濁溶液中に、室温下、トリメチルシリルクロ
リド松5夕及び4ーメトキシー3−プテン−2−オン1
00夕のベンゼン600の上溶液を1時間で滴下する。
その後、60℃で2q時間反応する。反応終了後、反応
物をエーテル6Z中に注入し、セライトロ過する。ロ液
を濃縮し、得られた残溝を減圧蒸留することにより、純
品の2ートリメチルシリロキシー4ーメトキシー1・3
ープタジエンを131夕(76%)得る。沸点:43〜
44午0/3側Hg 核磁気共鳴スペクトル(CC14): 60.20(鮒、s)、3.私(知日、s)、3.97
(犯、broad s)、5.22(IH、d、J=1
2HZ)、6.74(IH、d、J=12HZ)参考例
2 1ーアセチルー6・6ージメチル−4・4ーエチレンジ
オキシ−1−シクロヘキセンの製造■ 300泌オート
クレープ中に、2ートリメチルシリロキシー4ーメトキ
シ−1・3ーブタジエン100夕及びメシチルオキシド
20夕を仕込み、180qoで2鼠時間反応する。
物をエーテル6Z中に注入し、セライトロ過する。ロ液
を濃縮し、得られた残溝を減圧蒸留することにより、純
品の2ートリメチルシリロキシー4ーメトキシー1・3
ープタジエンを131夕(76%)得る。沸点:43〜
44午0/3側Hg 核磁気共鳴スペクトル(CC14): 60.20(鮒、s)、3.私(知日、s)、3.97
(犯、broad s)、5.22(IH、d、J=1
2HZ)、6.74(IH、d、J=12HZ)参考例
2 1ーアセチルー6・6ージメチル−4・4ーエチレンジ
オキシ−1−シクロヘキセンの製造■ 300泌オート
クレープ中に、2ートリメチルシリロキシー4ーメトキ
シ−1・3ーブタジエン100夕及びメシチルオキシド
20夕を仕込み、180qoで2鼠時間反応する。
冷後、反応物をエチレングリコール18.0夕、p−ト
ルエンスルホン酸1.0夕及びベンゼン500泌の混合
物中に加え、80℃で共沸法により30分間反応する。
反応終了後、反応物を炭酸ソーダ水洗する。ベンゼン層
を水洗、Mが04乾燥、濃縮し、得られた残澄を減圧蒸
留することにより、純品の1ーアセチル−6・6−ジメ
チル−4・4ーエチレンジオキシー1−シクロヘキセン
を280夕(67%)得る。沸点:80〜81℃/0.
05脚Hg Rf(Si02):(n−へキサン/酢酸エチル=3/
1)赤外吸収スペクトル(液膜): 1665162い109仇ス‐1 核磁気共鳴スペクトル(CDC13): 61.26(細、s)、1.磯(2日、s)、2.27
(級、s)、2.50(餌、d、J=4HZ)、3.9
5(4日、s)、6.67(IH、t、J;4HZ)質
量スペクトル:mノe210(M+)、19ふ167、
10$I07、87、80 81、4入 42、41【
B} 2−トリメチルシリロキシ−4ーメトキシー1・
3ーブタジヱン30夕、メシチルオキシド10夕及びキ
シレン100の【よりなる溶液を、15ぴ0で1虫時間
反応する。
ルエンスルホン酸1.0夕及びベンゼン500泌の混合
物中に加え、80℃で共沸法により30分間反応する。
反応終了後、反応物を炭酸ソーダ水洗する。ベンゼン層
を水洗、Mが04乾燥、濃縮し、得られた残澄を減圧蒸
留することにより、純品の1ーアセチル−6・6−ジメ
チル−4・4ーエチレンジオキシー1−シクロヘキセン
を280夕(67%)得る。沸点:80〜81℃/0.
05脚Hg Rf(Si02):(n−へキサン/酢酸エチル=3/
1)赤外吸収スペクトル(液膜): 1665162い109仇ス‐1 核磁気共鳴スペクトル(CDC13): 61.26(細、s)、1.磯(2日、s)、2.27
(級、s)、2.50(餌、d、J=4HZ)、3.9
5(4日、s)、6.67(IH、t、J;4HZ)質
量スペクトル:mノe210(M+)、19ふ167、
10$I07、87、80 81、4入 42、41【
B} 2−トリメチルシリロキシ−4ーメトキシー1・
3ーブタジヱン30夕、メシチルオキシド10夕及びキ
シレン100の【よりなる溶液を、15ぴ0で1虫時間
反応する。
反応終了後、反応物を濃縮し、得られた残澄に、エチレ
ングリコール8夕、pートルェンスルホン酸0.5夕及
びベンゼン100の‘を加え、ベンゼン還流下1時間反
応する。袷後、反応物を炭酸ソーダ水洗し、ベンゼン層
を分離する。ベンゼン層を水洗、M簿04乾燥後、濃縮
し、得られた残澄を、減圧蒸留することにより、純品の
1ーアセチルー6・6−ジメチル−4・4ーヱチレンジ
オキシー1ーシクロヘキセンを11.0夕(52%)得
る。参考例 31ーアセチルー1ーブロム−2・6・6
ートリメチルー4・4ーエチレンジオキシシクロヘキサ
ンの製造凶 窒素雰囲気化、ョウ化第一銅15.0夕の
ジェチルェーテル200の【懸濁溶液中に、0℃冷下メ
チルリチウムのエーテル溶液(1.0ミリモル/肌【)
150叫を加え、同温度で30分間反応する。
ングリコール8夕、pートルェンスルホン酸0.5夕及
びベンゼン100の‘を加え、ベンゼン還流下1時間反
応する。袷後、反応物を炭酸ソーダ水洗し、ベンゼン層
を分離する。ベンゼン層を水洗、M簿04乾燥後、濃縮
し、得られた残澄を、減圧蒸留することにより、純品の
1ーアセチルー6・6−ジメチル−4・4ーヱチレンジ
オキシー1ーシクロヘキセンを11.0夕(52%)得
る。参考例 31ーアセチルー1ーブロム−2・6・6
ートリメチルー4・4ーエチレンジオキシシクロヘキサ
ンの製造凶 窒素雰囲気化、ョウ化第一銅15.0夕の
ジェチルェーテル200の【懸濁溶液中に、0℃冷下メ
チルリチウムのエーテル溶液(1.0ミリモル/肌【)
150叫を加え、同温度で30分間反応する。
次に、0℃下、上記溶液中に1−アセチル−6・6−ジ
メチル−4・4ーエチレンジオキシー1ーシクロヘキセ
ン10.5夕のエーテル40の【溶液を加え、同温度で
4時間反応する。更に、上記溶液中に、一6ぴ0冷下臭
素24夕のベンゼン40泌溶液を加え、0℃で30分間
反応する。反応終了後、反応物を重ソウ水に注入し、洗
浄後、エーテル層を分離する。エーテル層を/・ィポ水
洗、重ソウ水洗、水洗、MgS04乾燥後、濃縮する。
得られた残澄を減圧蒸留することにより、純品の1−ア
セチル−1−フロム−2・6・6ートリメチル−4・4
−エチレンジオキシシクロヘキサンを134夕(磯%)
得る。沸点舵〜9計0/0.03肋HgRf(Si02
):0.41(n−へキサン/酢酸エチル=3/1)赤
外吸収スペクトル(液膜):169u lo9瓜ス‐1
核磁気共鳴スペクトル(CDC13):81.06(9
日、s)、1.松(98、d、J=7HZ)、1.47
(犯、s)、1.3〜2.7(班)、2.71(3日、
s)、385(4日、s)‘B’窒素雰囲気下、金属マ
グネシウム0.36夕のエーテル10泌混合物中に、室
温でョウ化メチル2.5夕のエーテル40の【溶液を滴
下し、その後30分間反応することにより、メチルマグ
ネシウムアィオダイドを調製する。
メチル−4・4ーエチレンジオキシー1ーシクロヘキセ
ン10.5夕のエーテル40の【溶液を加え、同温度で
4時間反応する。更に、上記溶液中に、一6ぴ0冷下臭
素24夕のベンゼン40泌溶液を加え、0℃で30分間
反応する。反応終了後、反応物を重ソウ水に注入し、洗
浄後、エーテル層を分離する。エーテル層を/・ィポ水
洗、重ソウ水洗、水洗、MgS04乾燥後、濃縮する。
得られた残澄を減圧蒸留することにより、純品の1−ア
セチル−1−フロム−2・6・6ートリメチル−4・4
−エチレンジオキシシクロヘキサンを134夕(磯%)
得る。沸点舵〜9計0/0.03肋HgRf(Si02
):0.41(n−へキサン/酢酸エチル=3/1)赤
外吸収スペクトル(液膜):169u lo9瓜ス‐1
核磁気共鳴スペクトル(CDC13):81.06(9
日、s)、1.松(98、d、J=7HZ)、1.47
(犯、s)、1.3〜2.7(班)、2.71(3日、
s)、385(4日、s)‘B’窒素雰囲気下、金属マ
グネシウム0.36夕のエーテル10泌混合物中に、室
温でョウ化メチル2.5夕のエーテル40の【溶液を滴
下し、その後30分間反応することにより、メチルマグ
ネシウムアィオダイドを調製する。
このグリニャル試薬溶液中に、ョウ化第一銅i.0夕を
加え、・次いで、0℃冷下、1ーアセチル−6・6ージ
メチルー4・4ーエチレンジオキシー1ーシクロヘキセ
ン2.1夕のエーテル50のと溶液を1時間で滴下する
。更に、同温度で4時間反応後、反応溶液を一40℃に
冷却し、臭素4.0夕のベンゼン10私溶液を加え、0
℃で30分間反応する。反応終了後、反応物を重ソウ水
に注入し、洗浄後、ヱ−テル層を分離する。エーテル層
を/・ィポ水洗、重ソゥ水洗、水洗、MgS04乾燥後
、濃縮する。得られた残澄をシリカゲルクロマト(10
0夕)〔nーヘキサン/酢酸エチル=6/1〕により精
製することにより、純品の1ーアセチルー1ーブロム−
2・6・6ートリメチル−4・4ーエチレンジオキシシ
クロヘキサンを2.9(82%)得る。
加え、・次いで、0℃冷下、1ーアセチル−6・6ージ
メチルー4・4ーエチレンジオキシー1ーシクロヘキセ
ン2.1夕のエーテル50のと溶液を1時間で滴下する
。更に、同温度で4時間反応後、反応溶液を一40℃に
冷却し、臭素4.0夕のベンゼン10私溶液を加え、0
℃で30分間反応する。反応終了後、反応物を重ソウ水
に注入し、洗浄後、ヱ−テル層を分離する。エーテル層
を/・ィポ水洗、重ソゥ水洗、水洗、MgS04乾燥後
、濃縮する。得られた残澄をシリカゲルクロマト(10
0夕)〔nーヘキサン/酢酸エチル=6/1〕により精
製することにより、純品の1ーアセチルー1ーブロム−
2・6・6ートリメチル−4・4ーエチレンジオキシシ
クロヘキサンを2.9(82%)得る。
参考例 4
1−アセチルー2・6・6ートリメチルー4・4ーエチ
レンジオキシ−1−シクロヘキセンの製造風 1−アセ
チルー1ーフロム−2・6・6−トリメチルー4・4−
エチレンジオキシシクロヘキサン12.2夕、塩化リチ
ウム4.2夕、炭酸リチウム7.4夕及びDMFIOO
の上よりなる混合物を、100℃で2m時間反応する。
レンジオキシ−1−シクロヘキセンの製造風 1−アセ
チルー1ーフロム−2・6・6−トリメチルー4・4−
エチレンジオキシシクロヘキサン12.2夕、塩化リチ
ウム4.2夕、炭酸リチウム7.4夕及びDMFIOO
の上よりなる混合物を、100℃で2m時間反応する。
冷後、反応物中にエーテル200の上を加え、ロ過する
。ロ液に水を加え、エーテル層を分離する。エーテル層
を水洗、MgS04乾燥後、濃縮する。得られた残澄を
減圧下蒸留することにより、純品の1−アセチル−1−
フロムー2・6・6ートリメチルー4・4ーエチレンジ
オキシ−1ーシクロヘキセンを7.0夕(78%)得る
。沸点:82〜斑℃/0.5側Hg Rf(Si02):0.28(n−へキサン/酢酸エチ
ル=3/1)赤外吸収スペクトル(液膜):1690
109比ネ‐1核磁気共鳴スペクトル(CDC13):
61.16(紐、s)、1.63(斑、s)、1.67
(幻、s)、2.26(2日、s)、2.32(3日、
s)、4.96(4日、s)質量スペクトルこmーe松
4(M十)、209 181、13ん123 9う 8
7、80 43 42、41{B’ 1ーアセチルー1
−ブロム−2・6・6−トリメチル−4・4ーエチレン
ジオキシシクロヘキサン3.0夕、DBU(1・8ージ
アザビシクロ〔5・3・0〕一7ーウンデセン)7.5
夕及びトルェン20泌よりなる溶液を、100℃で2時
間反応する。
。ロ液に水を加え、エーテル層を分離する。エーテル層
を水洗、MgS04乾燥後、濃縮する。得られた残澄を
減圧下蒸留することにより、純品の1−アセチル−1−
フロムー2・6・6ートリメチルー4・4ーエチレンジ
オキシ−1ーシクロヘキセンを7.0夕(78%)得る
。沸点:82〜斑℃/0.5側Hg Rf(Si02):0.28(n−へキサン/酢酸エチ
ル=3/1)赤外吸収スペクトル(液膜):1690
109比ネ‐1核磁気共鳴スペクトル(CDC13):
61.16(紐、s)、1.63(斑、s)、1.67
(幻、s)、2.26(2日、s)、2.32(3日、
s)、4.96(4日、s)質量スペクトルこmーe松
4(M十)、209 181、13ん123 9う 8
7、80 43 42、41{B’ 1ーアセチルー1
−ブロム−2・6・6−トリメチル−4・4ーエチレン
ジオキシシクロヘキサン3.0夕、DBU(1・8ージ
アザビシクロ〔5・3・0〕一7ーウンデセン)7.5
夕及びトルェン20泌よりなる溶液を、100℃で2時
間反応する。
反応終了後、反応物を袷INHCI水で洗浄し、トルェ
ン層を分離する。トルェン層を重ソウ水洗、水洗、Mg
SQ乾燥後、濃縮する。得られた残澄をシリカゲルカラ
ムクロマト(100夕)〔nーヘキサン/酢酸エチル=
6/1〕で精製することにより、純品の1−ァセチル−
2・6・6−トリメチル−4・4ーエチレンジオキシ−
1ーシクoヘキセンを1.5夕(斑%)得る。参考例
5 1一(3′ーヒドロキシーブチロイルーr)−6・6ー
ジメチル−4・4−エチレンジオキシ−1−シクロヘキ
センの製造窒素雰囲気下、ジィソブロピルアミン4.0
夕のTHF20の‘溶液中に、一7が○冷却下に、n−
プチルリチウムのn−へキサン溶液(1.5ミリモル/
泌)260の【を加え、次に、1ーアセチル−6・6ー
ジメチルー4・4ーエチレンジオキシー1ーシクロヘキ
セン4.2夕のTHFIOの【溶液を加え、同温度で1
時間半反応する。
ン層を分離する。トルェン層を重ソウ水洗、水洗、Mg
SQ乾燥後、濃縮する。得られた残澄をシリカゲルカラ
ムクロマト(100夕)〔nーヘキサン/酢酸エチル=
6/1〕で精製することにより、純品の1−ァセチル−
2・6・6−トリメチル−4・4ーエチレンジオキシ−
1ーシクoヘキセンを1.5夕(斑%)得る。参考例
5 1一(3′ーヒドロキシーブチロイルーr)−6・6ー
ジメチル−4・4−エチレンジオキシ−1−シクロヘキ
センの製造窒素雰囲気下、ジィソブロピルアミン4.0
夕のTHF20の‘溶液中に、一7が○冷却下に、n−
プチルリチウムのn−へキサン溶液(1.5ミリモル/
泌)260の【を加え、次に、1ーアセチル−6・6ー
ジメチルー4・4ーエチレンジオキシー1ーシクロヘキ
セン4.2夕のTHFIOの【溶液を加え、同温度で1
時間半反応する。
更に、上記溶液中に、一7が0冷却下、アセトアルデヒ
ド4.4夕のTHFIOの【溶液を加え、同温度で1時
間半反応する。反応終了後、反応物を冷塩化アンモニウ
ム水中に注入し、エーテル抽出する。トルヱン層を水洗
し、MgS04で乾燥後、濃縮し、得られた残澄を減圧
蒸留することにより、純品の1−(3′ーヒドロキシー
ブチロイル−1′)一6・6ージメチルー4・4−エチ
レンジオキシー1−シクロヘキセンを4.5夕(聡%)
得る。沸点:124〜12び0/0.01脚HgRf(
Si02):0.10(n−へキサン/酢酸エチル=3
/1)赤外吸収スペクトル(液相):乳50、1660
、162以109止 95比ネ‐1核磁気共鳴スペクト
ル(CDC13): 61.19(知日、d、J=6HZ)、1.28(8日
、s)、1.磯(2日、s)、2.48(2日、d、J
ニ4Hz)、2.6〜2.8(2H)、3.32(IH
、Broad s)、3.嬰(4日、s)、4.18(
IH、m)、6.62(IH、t、J=4HZ)参考例
6 1一(3′ーヒドロキシーブチロイルーr)−2・6・
6ートリメチルー4・4ーエチレンジオキシー1−シク
ロヘキセンの製造窒素雰囲気下、ジィソプロピルアミン
4.0夕のTHF20の‘溶液中に、一7針○冷却下、
nーブチルリチウムのn−へキサン溶液(1.5ミリモ
ル/の【)26.0の【を加え、次に、1−アセチル−
2・6・6ートリメチルー4・4ーエチレンジオキシ一
1−シクロヘキセソ4.5夕のTHFIOの‘溶液を加
え、同温度で1時間半反応する。
ド4.4夕のTHFIOの【溶液を加え、同温度で1時
間半反応する。反応終了後、反応物を冷塩化アンモニウ
ム水中に注入し、エーテル抽出する。トルヱン層を水洗
し、MgS04で乾燥後、濃縮し、得られた残澄を減圧
蒸留することにより、純品の1−(3′ーヒドロキシー
ブチロイル−1′)一6・6ージメチルー4・4−エチ
レンジオキシー1−シクロヘキセンを4.5夕(聡%)
得る。沸点:124〜12び0/0.01脚HgRf(
Si02):0.10(n−へキサン/酢酸エチル=3
/1)赤外吸収スペクトル(液相):乳50、1660
、162以109止 95比ネ‐1核磁気共鳴スペクト
ル(CDC13): 61.19(知日、d、J=6HZ)、1.28(8日
、s)、1.磯(2日、s)、2.48(2日、d、J
ニ4Hz)、2.6〜2.8(2H)、3.32(IH
、Broad s)、3.嬰(4日、s)、4.18(
IH、m)、6.62(IH、t、J=4HZ)参考例
6 1一(3′ーヒドロキシーブチロイルーr)−2・6・
6ートリメチルー4・4ーエチレンジオキシー1−シク
ロヘキセンの製造窒素雰囲気下、ジィソプロピルアミン
4.0夕のTHF20の‘溶液中に、一7針○冷却下、
nーブチルリチウムのn−へキサン溶液(1.5ミリモ
ル/の【)26.0の【を加え、次に、1−アセチル−
2・6・6ートリメチルー4・4ーエチレンジオキシ一
1−シクロヘキセソ4.5夕のTHFIOの‘溶液を加
え、同温度で1時間半反応する。
更に、上記溶液中に、一78℃冷却下、アセトアルデヒ
ド4.4夕のTHFIO泌を加え、同温度で1時間半反
応する。
ド4.4夕のTHFIO泌を加え、同温度で1時間半反
応する。
反応終了後、反応物を冷塩化アンモニウム水中に注入し
、エーテル抽出する。エーテル層を水洗、Mが04乾燥
後、濃縮する。得られた残澄を減圧蒸留することにより
、純品の1一(3′ーヒドロキシーブチロイルーr)−
2・6・6ートリメチルー4・4ーエチレンジオキシー
1ーシクロヘキセン5.2夕(97%)を得る。B,P
,:123〜I270/〇,。1肌HgRf(Si02
):0.13(nーヘキサン/酢酸エチル=3/1)I
R(液膜):345以 168ふ 109瓜ネ‐INM
R(CDC13):61.18(qH、s)、1.19
(38、d、J=6HZ)、1.62(粗、s)、1.
67(幻、s)2.25(が、s)、2.6〜2.8(
が)、3.36(IH、Broad s)、3.95(
岬、s)、4.30(IH、m)実施例 1 1ークロトニルー6・6ージメチル−4・4ーェチレン
ジオキシー1−シクロヘキセンの製造凶 1−(3−ヒ
ドロキシーブチロイルー1′)一6・6−ジメチルー4
・4ーエチレンジオキシー1−シクロヘキセン3.8夕
、無水酢酸ソーダ5.0夕及び無水酢酸15.3夕より
なる混合物を、120℃で1時間反応する。
、エーテル抽出する。エーテル層を水洗、Mが04乾燥
後、濃縮する。得られた残澄を減圧蒸留することにより
、純品の1一(3′ーヒドロキシーブチロイルーr)−
2・6・6ートリメチルー4・4ーエチレンジオキシー
1ーシクロヘキセン5.2夕(97%)を得る。B,P
,:123〜I270/〇,。1肌HgRf(Si02
):0.13(nーヘキサン/酢酸エチル=3/1)I
R(液膜):345以 168ふ 109瓜ネ‐INM
R(CDC13):61.18(qH、s)、1.19
(38、d、J=6HZ)、1.62(粗、s)、1.
67(幻、s)2.25(が、s)、2.6〜2.8(
が)、3.36(IH、Broad s)、3.95(
岬、s)、4.30(IH、m)実施例 1 1ークロトニルー6・6ージメチル−4・4ーェチレン
ジオキシー1−シクロヘキセンの製造凶 1−(3−ヒ
ドロキシーブチロイルー1′)一6・6−ジメチルー4
・4ーエチレンジオキシー1−シクロヘキセン3.8夕
、無水酢酸ソーダ5.0夕及び無水酢酸15.3夕より
なる混合物を、120℃で1時間反応する。
冷後、反応物にトルェン50Mを加え、炉過する。炉液
を濃縮し、得られた残澄を減圧蒸留することにより、純
品の1ークロトニルー6・6ージメチルー4・4−エチ
レンジオキシ−1ーシクロヘキセン2.9夕(総%)を
得る。B.P.:106〜1070/0.01肋HgR
f(Si02):0.40(nーヘキサン/酢酸エチル
=3/1)IR(液膜):166i1620161ふ1
090965物NMR(CDC13):61.28(紺
、s)、1.70(が、s)、1.脇(9日、d‐d、
J=1.6HZ)、1,47(犯、d、J=4HZ)、
395(山、s)、630(IH、t、J=4HZ)、
040(IH、q‐d、J=1、16HZ)、675(
IH、q−d、J=6、16HZ).脚 1一(3′ー
ヒドロキシーブチロイルー1′)一6・6−ジメチルー
4・4ーエチレンジオキシー1ーシクロヘキセン2.5
夕、p−トルエンスルホン酸0.25夕及びベンゼン2
50の‘よりなる混合物を、ベンゼン還流下に共鞠法に
より1時間反応する。
を濃縮し、得られた残澄を減圧蒸留することにより、純
品の1ークロトニルー6・6ージメチルー4・4−エチ
レンジオキシ−1ーシクロヘキセン2.9夕(総%)を
得る。B.P.:106〜1070/0.01肋HgR
f(Si02):0.40(nーヘキサン/酢酸エチル
=3/1)IR(液膜):166i1620161ふ1
090965物NMR(CDC13):61.28(紺
、s)、1.70(が、s)、1.脇(9日、d‐d、
J=1.6HZ)、1,47(犯、d、J=4HZ)、
395(山、s)、630(IH、t、J=4HZ)、
040(IH、q‐d、J=1、16HZ)、675(
IH、q−d、J=6、16HZ).脚 1一(3′ー
ヒドロキシーブチロイルー1′)一6・6−ジメチルー
4・4ーエチレンジオキシー1ーシクロヘキセン2.5
夕、p−トルエンスルホン酸0.25夕及びベンゼン2
50の‘よりなる混合物を、ベンゼン還流下に共鞠法に
より1時間反応する。
冷後、反応物を重ソウ水洗、水洗、MgS04乾燥後、
濃縮する。得られた銭澄を減圧蒸留することにより、純
品の1ークロトニル−6・6ージメチル−4・4ーエチ
レンジオキシ−1ーシクロヘキセン1.5夕(64%)
を得る。
濃縮する。得られた銭澄を減圧蒸留することにより、純
品の1ークロトニル−6・6ージメチル−4・4ーエチ
レンジオキシ−1ーシクロヘキセン1.5夕(64%)
を得る。
実施例 2
1−クロトニル−2・6・6ートリメチルー4・4ーエ
チレンジオキシー1−シクロヘキセンの製造1一(3−
ヒドロキシーブチロイルー1′)一2・6・6ートリメ
チルー4・4ーエチレンジオキシ−1−シクロヘキセン
2.7夕、無水酢酸ソーダ3.3夕及び酢酸(無水)1
0.2夕よりなる混合物を、12ぴ0で1時間反応する
。
チレンジオキシー1−シクロヘキセンの製造1一(3−
ヒドロキシーブチロイルー1′)一2・6・6ートリメ
チルー4・4ーエチレンジオキシ−1−シクロヘキセン
2.7夕、無水酢酸ソーダ3.3夕及び酢酸(無水)1
0.2夕よりなる混合物を、12ぴ0で1時間反応する
。
反応終了後、減圧下に濃縮し、残澄に水を加え、エーテ
ルで抽出する。エーテル層を重ソウ水洗、MgS04乾
燥後、濃縮する。得られた残澄を減圧蒸留することによ
り、純品の1−クロトニル−2・6・6−トリメチルー
4・4ーエチレンジオキシー1ーシクロヘキセン2.5
夕(99%)を得る。B.P.:1雌〜10ぴ0/0.
01脚HgRf(Si02):0.紙(nーヘキサン/
酢酸エチル=3/1)m(液膜):163ん 161ふ
1090 97Q淋‐INMR(CDC13):61.
11(細、s)、1.鼠(9日、s)、1.69(2日
、s)、1.蛾(犯、d‐d、J=1、6HZ)、2.
28(2日、s)、3.95(山日、s)、613(I
H、q−d、J=1、16HZ)、676(IH、q−
d、J=6、16HZ)質量スペクトル:m/e250
(M+)、235、1M、149 121、87、80
69 42、41実施例 31−クロトニル−6・6
ージメチルー1ーシクロヘキセンー4ーオンの製造凶1
ークロトニルー6・6−ジメチル−4・4−エチレンジ
オキシ−1ーシクロヘキセン2.4タ中に、40%過塩
素酸水とTHFよりなる溶液(3対2)24の‘を加え
、室温で1分間反応する。
ルで抽出する。エーテル層を重ソウ水洗、MgS04乾
燥後、濃縮する。得られた残澄を減圧蒸留することによ
り、純品の1−クロトニル−2・6・6−トリメチルー
4・4ーエチレンジオキシー1ーシクロヘキセン2.5
夕(99%)を得る。B.P.:1雌〜10ぴ0/0.
01脚HgRf(Si02):0.紙(nーヘキサン/
酢酸エチル=3/1)m(液膜):163ん 161ふ
1090 97Q淋‐INMR(CDC13):61.
11(細、s)、1.鼠(9日、s)、1.69(2日
、s)、1.蛾(犯、d‐d、J=1、6HZ)、2.
28(2日、s)、3.95(山日、s)、613(I
H、q−d、J=1、16HZ)、676(IH、q−
d、J=6、16HZ)質量スペクトル:m/e250
(M+)、235、1M、149 121、87、80
69 42、41実施例 31−クロトニル−6・6
ージメチルー1ーシクロヘキセンー4ーオンの製造凶1
ークロトニルー6・6−ジメチル−4・4−エチレンジ
オキシ−1ーシクロヘキセン2.4タ中に、40%過塩
素酸水とTHFよりなる溶液(3対2)24の‘を加え
、室温で1分間反応する。
反応終了後、反応物を重ソウ水中に注入し、エーテル抽
出する。エーテル層を水洗、MgS04乾燥後、濃縮す
る。得られた残澄を減圧蒸留することにより、純品の1
−クロトニルー6・6ージメチルー1ーシクロヘキセン
−4−オン1.8夕(93%)を得る。B.P.:10
1〜10ぞ○/0.01肋HgRf(Si02):0.
25(n−へキサン/酢酸エチル=3/1)NMR(C
DC13):61.24(組、s)、1.96(細、d
−d、J‐1、6HZ)、2.44(が、s)、3.0
5(犯、d、J=4日2)、636(IH、t、J=4
HZ)、6.44(IH、q−d、J=1、16HZ)
、6.95(IH、q−d、J=6、16Hz)IR(
液膜):1720 167Q 162097比ね‐1t
B) 1−クロトニル−6・6ージメチルー4・4ーエ
チレンジオキシ−1−シクロヘキセン2.4タ中に、1
0%硫酸水12.0奴を加え、室温で10分間反応する
。
出する。エーテル層を水洗、MgS04乾燥後、濃縮す
る。得られた残澄を減圧蒸留することにより、純品の1
−クロトニルー6・6ージメチルー1ーシクロヘキセン
−4−オン1.8夕(93%)を得る。B.P.:10
1〜10ぞ○/0.01肋HgRf(Si02):0.
25(n−へキサン/酢酸エチル=3/1)NMR(C
DC13):61.24(組、s)、1.96(細、d
−d、J‐1、6HZ)、2.44(が、s)、3.0
5(犯、d、J=4日2)、636(IH、t、J=4
HZ)、6.44(IH、q−d、J=1、16HZ)
、6.95(IH、q−d、J=6、16Hz)IR(
液膜):1720 167Q 162097比ね‐1t
B) 1−クロトニル−6・6ージメチルー4・4ーエ
チレンジオキシ−1−シクロヘキセン2.4タ中に、1
0%硫酸水12.0奴を加え、室温で10分間反応する
。
反応終了後、反応物を重ソウ水中に注入し、エーテル抽
出する。エーテル層を水洗し、MgS04乾燥後、濃縮
する。得られた残溝を減圧蒸留することにより、純品の
1ークロトニルー6・6ージメチルー1ーシクロヘキセ
ンー4−オンを1.3夕(70%)得る。実施例 4 1ークロトニルー2・6・6−トリメチル−1ーシクロ
ヘキセン−4−オンの製造1ークロトニル−2・6・6
ートリメチルー4・4ーエチレンジオキシー1ーシクロ
ヘキセン2.5タ中に、40%週塩素酸水とTHFより
なる溶液(3対2)250の‘を加え、室温で1分間反
応する。
出する。エーテル層を水洗し、MgS04乾燥後、濃縮
する。得られた残溝を減圧蒸留することにより、純品の
1ークロトニルー6・6ージメチルー1ーシクロヘキセ
ンー4−オンを1.3夕(70%)得る。実施例 4 1ークロトニルー2・6・6−トリメチル−1ーシクロ
ヘキセン−4−オンの製造1ークロトニル−2・6・6
ートリメチルー4・4ーエチレンジオキシー1ーシクロ
ヘキセン2.5タ中に、40%週塩素酸水とTHFより
なる溶液(3対2)250の‘を加え、室温で1分間反
応する。
反応終了後、反応物を重ソウ水中に注入し、エーテル抽
出する。エーテル層を水洗、Mが04乾燥後、濃縮する
。得られた残澄を減圧蒸留することにより、純品の1ー
クロトニルー2・6・6ートリメチル−1−シクロヘキ
センー4ーオン2.0夕(96%)を得る。B,P,:
103〜104℃/〇,。
出する。エーテル層を水洗、Mが04乾燥後、濃縮する
。得られた残澄を減圧蒸留することにより、純品の1ー
クロトニルー2・6・6ートリメチル−1−シクロヘキ
センー4ーオン2.0夕(96%)を得る。B,P,:
103〜104℃/〇,。
I肋HgRf(Si02):0.27(n−へキサン/
酢酸エチル=43/1)NMR(CDC13): 61,08(餌、s)、1,62(粗、s)、1.95
(aH、d−d、Jェ1、6Hz)、2.37(2日、
s)、2.槌(が、s)、612(IH、q−d、Jニ
1、16HZ)、676(IH、q‐d、Jニ6、16
HZ)m(液膜):1715 1磯5 97比ヱ‐1実
施例 5利用例 (その1)フローラルノート香料組成物の製造処方例
重量(のリナロール
75リナリルアセテート
600ーズP
18010%アルデヒドC−
10(ジエチルフタレート 40ペンジルアセテート
250シトロネロール
60ゲラニオール
45ヒドロキシシトロネロ
ール 45フエニルエチルアルコール
35シトロネリールアセテート
40リリアール
2010%ローズオキシド
10アブソリユートジヤスミン
20へキシルシンナミツクアルデヒド
80サンタロール
20エキザルトライド
20計1000上記処方例に従い、混合し
た組成物1000のこ1ークロトニルー2・6・6−ト
リメチルー4・4ーエチレンジオキシー1ーシクロヘキ
セン10夕を添加することにより得られる組成物は、元
の組成物から変調されたフローラルノート取り分けロー
ズの香調をもち上げ、香料組成物全体に蜜様のスイート
さを増し、ブーケッティング効果を増す。
酢酸エチル=43/1)NMR(CDC13): 61,08(餌、s)、1,62(粗、s)、1.95
(aH、d−d、Jェ1、6Hz)、2.37(2日、
s)、2.槌(が、s)、612(IH、q−d、Jニ
1、16HZ)、676(IH、q‐d、Jニ6、16
HZ)m(液膜):1715 1磯5 97比ヱ‐1実
施例 5利用例 (その1)フローラルノート香料組成物の製造処方例
重量(のリナロール
75リナリルアセテート
600ーズP
18010%アルデヒドC−
10(ジエチルフタレート 40ペンジルアセテート
250シトロネロール
60ゲラニオール
45ヒドロキシシトロネロ
ール 45フエニルエチルアルコール
35シトロネリールアセテート
40リリアール
2010%ローズオキシド
10アブソリユートジヤスミン
20へキシルシンナミツクアルデヒド
80サンタロール
20エキザルトライド
20計1000上記処方例に従い、混合し
た組成物1000のこ1ークロトニルー2・6・6−ト
リメチルー4・4ーエチレンジオキシー1ーシクロヘキ
セン10夕を添加することにより得られる組成物は、元
の組成物から変調されたフローラルノート取り分けロー
ズの香調をもち上げ、香料組成物全体に蜜様のスイート
さを増し、ブーケッティング効果を増す。
本例において、1−クロトニル−2・6・6−トリメチ
ル−4・4ーエチレンジオキシー1ーシクロヘキセンカ
ミ、1−クロトニルー6・6−ジメチルー4・4−エチ
レンジオキシー1ーシクロヘキセン、1−クロトニルー
2・6・6ートリメチル−1ーシクロヘキセンー4−オ
ン、1ークロトニルー6・6ージメチル−1ーシクロヘ
キセン−4ーオン、に代えられた場合も、又、元の組成
物から変調並びに改良されたフローラルノートをもち上
げる。(その2)タバコ用香料組成物の製造 処方例 重量(の 1−クロトニルー2・6・6−トリメチルー1ーシクロ
ヘキセンー4ーオン 1.0フーゼルワ
ィン油 1.0シスー3ーヘキセ
ノール 1.010%ジヒドロアクチ
ニジオライド(エタノール)
〇.510%Qーイオノン(エタノール)
1.010%イロン(エタノール)
0.5ラ ム
5.0ヱタノール
990計1000上記処方例に従って、
混合した組成物10夕を、タバコ混合物100タ上に蹟
露し、加香されたタバコを使用して紙巻タバコを調製す
る。
ル−4・4ーエチレンジオキシー1ーシクロヘキセンカ
ミ、1−クロトニルー6・6−ジメチルー4・4−エチ
レンジオキシー1ーシクロヘキセン、1−クロトニルー
2・6・6ートリメチル−1ーシクロヘキセンー4−オ
ン、1ークロトニルー6・6ージメチル−1ーシクロヘ
キセン−4ーオン、に代えられた場合も、又、元の組成
物から変調並びに改良されたフローラルノートをもち上
げる。(その2)タバコ用香料組成物の製造 処方例 重量(の 1−クロトニルー2・6・6−トリメチルー1ーシクロ
ヘキセンー4ーオン 1.0フーゼルワ
ィン油 1.0シスー3ーヘキセ
ノール 1.010%ジヒドロアクチ
ニジオライド(エタノール)
〇.510%Qーイオノン(エタノール)
1.010%イロン(エタノール)
0.5ラ ム
5.0ヱタノール
990計1000上記処方例に従って、
混合した組成物10夕を、タバコ混合物100タ上に蹟
露し、加香されたタバコを使用して紙巻タバコを調製す
る。
このようにして得られた紙巻タバコの味覚は、カラメル
及び麦芽様の篤臭と千草様の持続性香気を想起せしめる
。本例に於いて、1−クロトニルー2・6・6ートリメ
チル−1ーシク。
及び麦芽様の篤臭と千草様の持続性香気を想起せしめる
。本例に於いて、1−クロトニルー2・6・6ートリメ
チル−1ーシク。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記式(I)、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し式中、Rは水素原子もしくはメチル基を示し、Z
は=O基もしくは4・4−エチレンジオキシ基を示す、
で表わされるクロトニルシクロヘキセノン系化合物。 2 下記式(I−2)、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し式中、Rは水素原子もしくはメチル基を示し、Z
′は4・4−エチレンジオキシ基を示す、で表わされる
クロトニルシクロヘキセノンケタール類を酸の存在下に
加水分解することを特徴とする下記式(I−1)、▲数
式、化学式、表等があります▼ 但し式中、Rは上記したと同義であり、Z″は=O基
を示す、で表わされるクロトニルシクロヘキセノン類の
製法。 3 下記式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し式中、R及びZ′は上記したと同義、で表わされ
るシクロヘキセニル−β−ケトール類を、酸もしくはア
ルカリの存在下に、脱水反応させることを特徴とする下
記式(I−2)、▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるクロトニルシクロヘキセノン類の製法。 4 下記式(I)、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し式中、Rは水素原子もしくはメチル基を示し、Z
は=O基もしくは4・4−エチレンジオキシ基を示す、
で表わされる化合物の少なくとも一種を有効成分として
含有することを特徴とする持続性香気賦与乃至変調剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52114307A JPS6033105B2 (ja) | 1977-09-22 | 1977-09-22 | クロトニルシクロヘキセノン系化合物並びにそれらの製法及び持続性香気賦与乃至変調剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52114307A JPS6033105B2 (ja) | 1977-09-22 | 1977-09-22 | クロトニルシクロヘキセノン系化合物並びにそれらの製法及び持続性香気賦与乃至変調剤 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25931684A Division JPS6048516B2 (ja) | 1984-12-10 | 1984-12-10 | シクロヘキセニル‐β‐ケトール類、その製法及び利用 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5448737A JPS5448737A (en) | 1979-04-17 |
| JPS6033105B2 true JPS6033105B2 (ja) | 1985-08-01 |
Family
ID=14634588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52114307A Expired JPS6033105B2 (ja) | 1977-09-22 | 1977-09-22 | クロトニルシクロヘキセノン系化合物並びにそれらの製法及び持続性香気賦与乃至変調剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6033105B2 (ja) |
-
1977
- 1977-09-22 JP JP52114307A patent/JPS6033105B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5448737A (en) | 1979-04-17 |
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