JPS6033561A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
- Publication number
- JPS6033561A JPS6033561A JP58143187A JP14318783A JPS6033561A JP S6033561 A JPS6033561 A JP S6033561A JP 58143187 A JP58143187 A JP 58143187A JP 14318783 A JP14318783 A JP 14318783A JP S6033561 A JPS6033561 A JP S6033561A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- compd
- electrophotographic photoreceptor
- region
- electron affinity
- Prior art date
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は電子写真感光体、特に可視光から近赤外光領域
にまで感度を有する電子写真感光体の構造に関する。
にまで感度を有する電子写真感光体の構造に関する。
従来例の構成とその問題点
従来の電子写真感光体の分光感度は、非晶質水素化シリ
コンを用いた感光体を除いて、可視光全領域で高感度で
ある訳ではない。ところで、最近は高速で高解像を特徴
とするレーザプリンタ用の感光体の開発が盛んである。
コンを用いた感光体を除いて、可視光全領域で高感度で
ある訳ではない。ところで、最近は高速で高解像を特徴
とするレーザプリンタ用の感光体の開発が盛んである。
このレーザプリンタの小型化をはかるためには、光源と
して用いられる半導体レーザーの発振波長である8 0
0 nm前後の近赤外光領域に高い感度を有する電子写
真感光体の開発が待たれている。しかし、可視光に対し
ては高感度な電子写真感光体も、この近赤外領域ではか
なりの感度低下が有る。このため、Ss系の感光体はT
oの導入、非晶質水素化シリコンにおいては、Geの導
入によって長波長の感度向上をはかっているが、赤外光
に対する感度を上げると帯電電位の低下があり、十分な
特性をもつ感光体が得られていないのが現状である。
して用いられる半導体レーザーの発振波長である8 0
0 nm前後の近赤外光領域に高い感度を有する電子写
真感光体の開発が待たれている。しかし、可視光に対し
ては高感度な電子写真感光体も、この近赤外領域ではか
なりの感度低下が有る。このため、Ss系の感光体はT
oの導入、非晶質水素化シリコンにおいては、Geの導
入によって長波長の感度向上をはかっているが、赤外光
に対する感度を上げると帯電電位の低下があり、十分な
特性をもつ感光体が得られていないのが現状である。
発明の目的
本発明の目的は、可視光から近赤外領域において高感度
な感光体を提供するもので、特に近赤外領域でも高感度
であるため半導体レーザを用いたレーザプリンタに適し
た電子写真感光体を提供することである。
な感光体を提供するもので、特に近赤外領域でも高感度
であるため半導体レーザを用いたレーザプリンタに適し
た電子写真感光体を提供することである。
発明の構成
本発明によれば、導電性支持体上に形成された電荷発生
層と、電荷輸送層とを備えた機能分離型の電子写真感光
体が構成され、この電荷発生層が(Cdxznl、−x
Te)、−ア(In2Te3)ア(o≦X≦1゜0≦y
≦0)を主体とする光導電体であり、電荷輸送層は電荷
発生層より大きいか同じ電子親和力をもつ層により構成
される。
層と、電荷輸送層とを備えた機能分離型の電子写真感光
体が構成され、この電荷発生層が(Cdxznl、−x
Te)、−ア(In2Te3)ア(o≦X≦1゜0≦y
≦0)を主体とする光導電体であり、電荷輸送層は電荷
発生層より大きいか同じ電子親和力をもつ層により構成
される。
この電荷発生層、(CdxZn1−xTe)1□(工n
2Te3)yは、可視光領域から赤外光領域まで感度を
有する光導電体である。
2Te3)yは、可視光領域から赤外光領域まで感度を
有する光導電体である。
実施例の説明
本発明の基本構成は第1図に示す断面図のように、導電
性支持体1上に電荷発生層である(Cdxznl−xT
e)1−y(工n2Te3)y 層2を、続いて、電荷
輸送層3を形成したものである。第2図に第1図の構成
におけるバンド図を示す。第2図aは平衡状態、同図す
は正帯電時のものである。光は(CdxZn1.−xT
e)1−ア(In2Te3)y層2で吸収され、電子正
孔対が発生しJ正孔は支持体1へ、電子は電荷輸送層3
を走行し表面の正の電荷を中和して表面電位を低下させ
る、このように電荷発生層(Cd x Z n 1x
T e ) 1y (I n 2 T e a ) y
層2から電荷輸送層3へ効率良く電子が注入されるため
には(CdxZn1 、T8)1 、(In2Te3)
。
性支持体1上に電荷発生層である(Cdxznl−xT
e)1−y(工n2Te3)y 層2を、続いて、電荷
輸送層3を形成したものである。第2図に第1図の構成
におけるバンド図を示す。第2図aは平衡状態、同図す
は正帯電時のものである。光は(CdxZn1.−xT
e)1−ア(In2Te3)y層2で吸収され、電子正
孔対が発生しJ正孔は支持体1へ、電子は電荷輸送層3
を走行し表面の正の電荷を中和して表面電位を低下させ
る、このように電荷発生層(Cd x Z n 1x
T e ) 1y (I n 2 T e a ) y
層2から電荷輸送層3へ効率良く電子が注入されるため
には(CdxZn1 、T8)1 、(In2Te3)
。
第1図では電荷の注入阻止層を特に設けていないが、さ
らに電子写真感光体の帯電電位を上昇させるため、第3
図に示すように第1図の構成の(Cd x Z n 1
x Te ) 1y (I n 2 T e 3) y
層2と支持体1の間に電子の注入阻止層4を、電荷輸送
層3の表面に正孔の注入阻止層6を設けると初期帯電電
位、暗減衰特性の改善がある。
らに電子写真感光体の帯電電位を上昇させるため、第3
図に示すように第1図の構成の(Cd x Z n 1
x Te ) 1y (I n 2 T e 3) y
層2と支持体1の間に電子の注入阻止層4を、電荷輸送
層3の表面に正孔の注入阻止層6を設けると初期帯電電
位、暗減衰特性の改善がある。
第1図、第3図は正帯電の電子写真感光体の例を示した
。第1図における電荷発生層 (CdxZn1 xTe)1 y(In2Te3)y
と電荷輸送層を逆にした構成、即ち、第4図に示すよう
に、導電性支持体6上に電荷輸送層7を設け、続いて(
Cd xZ n 1. T e ) 1. (I n
2 T e a ) y 層8を形成する構成にすると
、負帯電特性の電子写真感光体が得られる。この場合も
第5図に示すように電荷発生層(CdXZn1 、Te
)1 、(In2Te3)。
。第1図における電荷発生層 (CdxZn1 xTe)1 y(In2Te3)y
と電荷輸送層を逆にした構成、即ち、第4図に示すよう
に、導電性支持体6上に電荷輸送層7を設け、続いて(
Cd xZ n 1. T e ) 1. (I n
2 T e a ) y 層8を形成する構成にすると
、負帯電特性の電子写真感光体が得られる。この場合も
第5図に示すように電荷発生層(CdXZn1 、Te
)1 、(In2Te3)。
層8の表面に正孔注入阻止層1oを、電荷輸送層7と支
持体60間に電子注入阻止層9を設けると、第4図の構
成の電子写真感光体に比較して初期帯電電位、暗減衰特
性の改善された負帯電の電子写真感光体が得られる。
持体60間に電子注入阻止層9を設けると、第4図の構
成の電子写真感光体に比較して初期帯電電位、暗減衰特
性の改善された負帯電の電子写真感光体が得られる。
なお、(CdxZn1 、Te)1 、(In2Te3
)。
)。
においてy)o、1では暗抵抗が小さくなり良好な光導
電特性は示さなくなる。
電特性は示さなくなる。
以下に、具体的な実施例を示す。
実施例1
第6図に示すような電子写真感光体を作成した。
まず光学研磨をしたガラス基板11上にI n 203
層12を、基板温度250℃、酸素雰囲気中での蒸着法
により1000八 の厚さに形成した。この基板を真空
蒸着装置中に設置した。基板温度を200℃にしてZn
TenTe全13m、の厚さに形成し・続1て(0d0
.3”0.7T8)0.95(”2Tea)0.05層
14を3μmの厚さに形成し真空中650℃で15〜6
0分熱処理をし、電荷発生層16を形成した。この電荷
発生層の表面の電子親和力はKelvin法によると約
3.8eVであった。この電荷発生層16を有する基板
をマグネトロンスパッタ装置に設置し、I X 10
’Torr以下に排気した後、Ar分圧7.3mTor
r1H2分圧0.7mT or r中で99.999%
の純度のSi多結晶をターゲフトとし、放電電力3、o
oWで非晶質水素化シリコン層16を5μm形成した。
層12を、基板温度250℃、酸素雰囲気中での蒸着法
により1000八 の厚さに形成した。この基板を真空
蒸着装置中に設置した。基板温度を200℃にしてZn
TenTe全13m、の厚さに形成し・続1て(0d0
.3”0.7T8)0.95(”2Tea)0.05層
14を3μmの厚さに形成し真空中650℃で15〜6
0分熱処理をし、電荷発生層16を形成した。この電荷
発生層の表面の電子親和力はKelvin法によると約
3.8eVであった。この電荷発生層16を有する基板
をマグネトロンスパッタ装置に設置し、I X 10
’Torr以下に排気した後、Ar分圧7.3mTor
r1H2分圧0.7mT or r中で99.999%
の純度のSi多結晶をターゲフトとし、放電電力3、o
oWで非晶質水素化シリコン層16を5μm形成した。
このとき同時に形成した非晶質水素化シリコン上に真空
蒸着法によりAu薄膜を200人形成し、そのバリアの
高さから、この非晶質水素化シリコンの電子親和力は4
.0〜4.3eVとめられた。このようにして形成した
ZnTe−(cd。、3Zno、7Te)。、9゜(”
2Te3)0.05層を電荷発生層16とし、これより
電子親和力の大きい非晶質水素化シリコン15を電荷輸
送層とした電子写真感光体をコロナ帯電器で正帯電させ
て用いた。この電子写真感光体の分光感度を第9図に示
す、比較の為非晶質水素化シリコンの分光感度も示す。
蒸着法によりAu薄膜を200人形成し、そのバリアの
高さから、この非晶質水素化シリコンの電子親和力は4
.0〜4.3eVとめられた。このようにして形成した
ZnTe−(cd。、3Zno、7Te)。、9゜(”
2Te3)0.05層を電荷発生層16とし、これより
電子親和力の大きい非晶質水素化シリコン15を電荷輸
送層とした電子写真感光体をコロナ帯電器で正帯電させ
て用いた。この電子写真感光体の分光感度を第9図に示
す、比較の為非晶質水素化シリコンの分光感度も示す。
第9図から明らかなように、本発明てよれば可視光から
赤外光まで高感度な電子写真感光体が得られる。
赤外光まで高感度な電子写真感光体が得られる。
実施例2
第7図に示す」二うに、St単結晶ウェーバ−21上に
MO層22を電子ビーム蒸着法で8oo人の厚さに形成
した基板上に、5iNz層23を600人形成した。続
いて実施例1の14.15の層と同一条件で(cdo、
3”0.7Te)0.95(”2Te3)0.05層2
4、非晶質水素化シリコン層26を形成した。
MO層22を電子ビーム蒸着法で8oo人の厚さに形成
した基板上に、5iNz層23を600人形成した。続
いて実施例1の14.15の層と同一条件で(cdo、
3”0.7Te)0.95(”2Te3)0.05層2
4、非晶質水素化シリコン層26を形成した。
さらに非晶質水素化シリコン層26の上にその層より水
素含有量の大きい第2の非晶質水素化シリコン26を0
.27.+m形成した。SiNx層23はStをターゲ
ットとし、Ar分圧2mTorr。
素含有量の大きい第2の非晶質水素化シリコン26を0
.27.+m形成した。SiNx層23はStをターゲ
ットとし、Ar分圧2mTorr。
N2圧力4mTorr、基板温度250℃として放電電
力500Wで形成した。第2の非晶質水素化シリコン層
24は、H2分圧、 1.4mTorr、 At 分圧
6.7mTorr とした以外は実施例1の非晶質シリ
コン層15と同一条件で形成した。
力500Wで形成した。第2の非晶質水素化シリコン層
24は、H2分圧、 1.4mTorr、 At 分圧
6.7mTorr とした以外は実施例1の非晶質シリ
コン層15と同一条件で形成した。
この構成にして正帯電すると、分光感度は実施例1と同
一の1まで初期帯電電位が約400vとなり帯電電位が
上昇した。
一の1まで初期帯電電位が約400vとなり帯電電位が
上昇した。
実施例3
第8図に一部のみを断面で示したように、表面を鏡面研
磨したアルミ円筒基板26を回転式のプラズマCVD装
置中に配置した。基板温度を250℃に保ち、基板26
をs o rpmで回転させる。この中にB2H6/S
iH4:1o−41o2/5iH4−10−4の流量比
となるようそれらのガスを反応室内に導入し、全圧力I
Torr として放電パワーsKWによシ非晶質水素
化シリコン層26を20μm形成した。これをマグネト
ロンスパッタ装置内に設置しArの放電により表面清浄
化した後、cd。、4Zno、6Te層27を、同材料
をターゲットとしAr ガス圧5X10 ’ Torr
中放電雷放電電力200WJm形成した。この上に先の
プラズマCVD装置中で基板温度200’Cとし、N2
/5iH4=5 全圧力4Torr、放電電力1KWで
SiNx層28を0.1μm形成した。この構成にする
と初期帯電電位が一3soVとなり、負帯電可能な電子
写真感光体となる。
磨したアルミ円筒基板26を回転式のプラズマCVD装
置中に配置した。基板温度を250℃に保ち、基板26
をs o rpmで回転させる。この中にB2H6/S
iH4:1o−41o2/5iH4−10−4の流量比
となるようそれらのガスを反応室内に導入し、全圧力I
Torr として放電パワーsKWによシ非晶質水素
化シリコン層26を20μm形成した。これをマグネト
ロンスパッタ装置内に設置しArの放電により表面清浄
化した後、cd。、4Zno、6Te層27を、同材料
をターゲットとしAr ガス圧5X10 ’ Torr
中放電雷放電電力200WJm形成した。この上に先の
プラズマCVD装置中で基板温度200’Cとし、N2
/5iH4=5 全圧力4Torr、放電電力1KWで
SiNx層28を0.1μm形成した。この構成にする
と初期帯電電位が一3soVとなり、負帯電可能な電子
写真感光体となる。
以上の実施例では(Cd、Zn1−!To)1 。
(In2Te3)アに対する電荷輸送層として非晶質水
素化シリコンを例を示したが、 (Cd xZ n 1.−xT e ) 1. (I
n 2 T e a ) y より電子親和力が大きく
、電子の走行しやすい材料であれば他の材料でも良い。
素化シリコンを例を示したが、 (Cd xZ n 1.−xT e ) 1. (I
n 2 T e a ) y より電子親和力が大きく
、電子の走行しやすい材料であれば他の材料でも良い。
発明の効果
本発明によれば、可視光から近赤外光領域において高感
度の電子写真感光体を得ることができる。
度の電子写真感光体を得ることができる。
特に従来の電子写真感光体に比べて近赤外領域でも十分
に感度を有し、半導体レーザを用いたレーザプリンタ用
の感光体として適しており、レーザプリンタの高速化に
大きく寄与できるものである。
に感度を有し、半導体レーザを用いたレーザプリンタ用
の感光体として適しており、レーザプリンタの高速化に
大きく寄与できるものである。
第1図、第3図、第4図及び第6図は本発明の電子写真
感光体の基本的構成を示す断面図、第2図は第1図の電
子写真感光体のバンド図でありaは平衡状態をbは正帯
電時を示し、第6図、第7図、第8図はそれぞれ、本発
明の具体的実施例に0 おける電子写真感光体の断面図、第9図ば第6図の実施
例の電子写真感光体の分光感度を示すグラフである。 1・・・・・・導電性支持体、2・・・・・(Cd工Z
n 1xT e )、−ア(I n 2 T e a
)7層、3・・・・・電荷輸送層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名Cつ
〜\ 図 へ −脈 第4図 第6図 5 第7図 X 第8図
感光体の基本的構成を示す断面図、第2図は第1図の電
子写真感光体のバンド図でありaは平衡状態をbは正帯
電時を示し、第6図、第7図、第8図はそれぞれ、本発
明の具体的実施例に0 おける電子写真感光体の断面図、第9図ば第6図の実施
例の電子写真感光体の分光感度を示すグラフである。 1・・・・・・導電性支持体、2・・・・・(Cd工Z
n 1xT e )、−ア(I n 2 T e a
)7層、3・・・・・電荷輸送層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名Cつ
〜\ 図 へ −脈 第4図 第6図 5 第7図 X 第8図
Claims (1)
- 少々くとも表面が導電性である支持体と、電荷発生層と
、電荷輸送層とを備え、前記電荷発生層が(cdxZn
l−XTe)1−7(工n2Te3)y(o≦X≦1゜
0≦y≦0.1)を含む光導電体であり、前記電荷輸送
層が前記電荷発生層と同じか又はより大きい電子親和力
を有する物質からなることを特徴とする電子写真感光体
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58143187A JPS6033561A (ja) | 1983-08-04 | 1983-08-04 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58143187A JPS6033561A (ja) | 1983-08-04 | 1983-08-04 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6033561A true JPS6033561A (ja) | 1985-02-20 |
| JPH0310304B2 JPH0310304B2 (ja) | 1991-02-13 |
Family
ID=15332895
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58143187A Granted JPS6033561A (ja) | 1983-08-04 | 1983-08-04 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6033561A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60205457A (ja) * | 1984-03-29 | 1985-10-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子写真感光体 |
-
1983
- 1983-08-04 JP JP58143187A patent/JPS6033561A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60205457A (ja) * | 1984-03-29 | 1985-10-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子写真感光体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0310304B2 (ja) | 1991-02-13 |
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