JPS6034037A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JPS6034037A
JPS6034037A JP58144062A JP14406283A JPS6034037A JP S6034037 A JPS6034037 A JP S6034037A JP 58144062 A JP58144062 A JP 58144062A JP 14406283 A JP14406283 A JP 14406283A JP S6034037 A JPS6034037 A JP S6034037A
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Shoichi Tanaka
正一 田中
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D84/00Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
    • H10D84/90Masterslice integrated circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/006Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation at wafer scale level, i.e. wafer scale integration [WSI]

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  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明はデジタル集積回路に関し、特にその欠陥救済技
術に関する。
背景技術 コンピユータ等に使用されるデジタル集積回路がALU
、レジスタ、入出力バツフア等の論理ユニツトとROM
、RAM等のメモリユニツトによつて構成される事は公
知である。集積密度とチップ面積の増加によつて、デジ
タルLSIの機能は大巾に向上するが、その歩留まりは
欠陥の発生によつて低下する。従来、比較的に単純な論
理構造を持つメモリの歩留まり向上のために、多くの欠
陥救済技術が提案されている。第1のメモリ欠陥救済技
術は不良アドレス/予備アドレス変換法である。不良セ
ルを含む記憶ブロツクのアドレス(不良アドレスと略称
される。)を良品である予備の記憶ブロツクのアドレス
(予備アドレスと略称される。)に変換する。米国特出
1969年824914号、米国特出1971年172
800号はその先行技術例である。第2のメモリの欠陥
救済技術はアドレス縮少法である。メモリのアドレス変
更によつて、その不良アドレスはアクセスされないアド
レス(禁止アドレスと略称される。)に変換される。そ
の禁止アドレス以外のアドレスをアクセスする事によつ
て、実質的に縮少された良品のメモリが作られる。米国
特出1971年198869号はその先行技術例である
。第3のメモリの欠陥救済技術は多重化メモリ法である
。同じ記憶容量を持つ2個のメモリを並列にアクセスす
る多重化メモリ法は2重化メモリ法と呼ばれる。
2個のメモリの出力データ線をオア接続する事によつて
0欠陥救済形2重化メモリが構成される。
特開51−146129は1欠陥救済形2重化メモリを
開示する。さらに、この先行技術はコラムデコーダまた
はローデコーダに入力するアドレス線を入れ替える事に
よつて、不良アドレスの重複を防止する事を開示する。
同じ記憶容量を持つ3個のメモリを並列にアクセスする
多重化メモリ法は多数決メモリ法と呼ばれる。本明細書
において、0欠陥はデータ線出力が常に0になる欠陥で
あり、1欠陥はデータ線出力が常に1になる欠陥である
。特開56−38850、37900、94594は本
出願人によつて出願された先行技術例である。
発明の開示 たとえばマイクロコンピユータ等において、システムを
ウエハ上に塔載できれば、パツケージコストとプリント
基板コストが節約できる他、伝送スピードが早くなり、
ライン駆動電流と混入ノイズが減少し、電力消費が減少
し、重量と容積が軽減できるであろう。しかし、上記の
先行技術にも関らず、デジタルLSIのチツプ面積の増
加は限界があり、その集積素子数の最大値は現状におい
て数十万素子程度であつた。それは上記の先行技術が複
雑であり、そのハードウエア及びソフトウエアの付加コ
ストが大きかつたからである。メモリの欠陥救済コスト
はその歩留まり改善によるコスト節約分より小さい必要
がある。さらに、アクセス時間と電力消費とパツケージ
の大きさは許容限度以上に増加してはならない。しかし
、上記の条件を解決する事はかなりむずかしい。たとえ
ば第1の欠陥救済技術において、アドレス変換回路と良
品である予備メモリを必要とし、電力消費とアクセス時
間を増加する。第2の欠陥救済技術におてい、アドレス
変換回路が必要になり、1/2縮少または1/4縮少以
外はアクセスが複雑になる。しかし、1/2縮少または
1/4縮少は記憶容量当りのチツプ面積と消費電力が大
きくなり過ぎる。第3の欠陥救済技術において、回路負
担とアクセス時間の増加は最小になるが、救済できる欠
陥は限定され、チツプ面積と消費電力は倍増する。上記
の様に従来の欠陥救済技術は改善されるべき多くの問題
を持つている。メモリの他に論理回路においても問題は
同様に困難であつた。本発明は上記の問題を改善するた
めになされた。本発明の第1の目的はデジタルLSIの
欠陥救済技術の改善である。本発明の第2の目的は集積
メモリの歩留まりの改善である。本発明の第3の目的は
集積論理回路の歩留まりの改善である。本発明の第4の
目的は500mm2以上のチツプ面積を持つデジタルL
SIまたはマイクロコンピユーターの開発である。本発
明の第5の目的はウエハサイズのマイクロコンピユータ
ーの開発である。上記の目的を達成するために、本発明
は複数の独立発明を開示する。各独立発明は共通の目的
と深い相互関係を持ち、一緒に実施する事によつて、相
乗的な効果を発生するので本明細書によつて一緒に開示
される。たとえば、ウエハ・コンピユータの欠陥救済は
非常に困難な技術的・経済的問題を発生するが、その問
題は本発明によつて大巾に改善される。各独立発明の特
徴と効果が以下に開示される。
独立発明1、(クレーム1) 集積回路(以下において、LSIと略称される。
)のチツプ面積の増加は欠陥救済技術の使用にも関らず
、LSIの歩留まりを低下させる。ただし、LSIのチ
ツプ面積は非常に大きい(たとえば、400mm2以上
)と仮定する。その結果、このLSIのコストは欠陥救
済コストと低歩留まりによつて非常に大きくなる。その
結果、パツケージコストとプリント基板コストが小さく
なつても全体としてコストアツプになつてしまう。本発
明は上記の欠点を改善するために、上記のLSIを複数
のLSIユニツトによつて構成し、そして、テストに不
合格になつたLSIを分割し、良品のLSIユニツトを
再使用する事を特徴とする。もちろん、LSI及びLS
Iユニツトに欠陥救済技術を応用する事は可能である。
このようにすれば総合歩留まりは大巾に改善されるので
、400mm2以上のチツプまたはウエハ上に上記のL
SIを塔載する事が経済的に可能になる。本発明のLS
Iユニツトは通常のチツプと同様に電源端子と制御端子
とアドレス/データ等の情報端子を持つ必要がある。た
とえば、LSIユニツトの収率を50%、LSIの収率
を20%とする時、本発明の使用によつてLSIユニツ
トの使用率は2.5倍になる。1実施例において、LS
Iユニツトは64KCMOSスタチツクRAMであり、
LSIは128個のLSIユニツトを持つ1/2ウエハ
(ハーフウエハ)メモリである。さらに本発明によれば
、LSIのパツケージコストとプリント基板コストが安
くなり、小形軽量なLSIを製造する事が可能になる。
従属発明1、(クレーム2) 好ましい実施例において、テストに合格した大型チツプ
またはウエハ上に電極線が配設され、そして、LSIユ
ニツトの1部または全部は上記の電極線に接続される。
そして、テストに合格しない大型チツプまたはウエハは
LSIユニツトに分割され、良品のLSIユニツトはパ
ツケージに収納されて、その端子はパツケージの電極ピ
ンに接続される。
独立発明2、(クレーム3) 欠陥救済技術を使用する従来の大面積LSIの他の問題
は電力消費の増加である。たとえば、簡単な回路構造を
持つために有益な2重化メモリ法は2倍の電力消費を必
要とする。さらに、PN接合またはMOS絶縁膜の不良
が発生すると大きな短絡電流が流れ、有害な発熱と電力
損失を発生する。本発明は上記の欠点を改善するために
、LSIを複数のLSIユニツトによつて構成し、各L
SIユニツトは独立の電源端子を持ち、そして不良また
は不使用LSIユニツトの電源端子への給電をカツトす
る事を特徴とする。このようにすれば、大面積LSIの
電力消費を大巾に節減できる。
本発明の第2の利点は同一機能を持ち、並列に接続され
た複数のLSIユニツトにおいて、不良LSIユニツト
への給電をカツトする事によつて、欠陥を救済できる事
である。従来の欠陥救済技術である多重化メモリ法また
は多重化ロジツク法において、メモリまたはロジツク(
論理回路)のうち、不良のメモリまたはロジツクから出
力されるデータをカツトしていた。この方法によれば、
データの出力回路は複雑になり、出力データの遅延時間
は増加する。
従属発明1、(クレーム4) 好ましい実施例において、選択さわた不良LSIユニツ
トの電源端子は電源線からカツトされるかまたは一定電
位(たとえば基板電位)を持つ/電源線に接続される。
従属発明2、(クレーム5) 好ましい実施例において、LS1ユニツトのデータ出力
用トランジスタ(データバスドライブトランジスタ)は
上記の給電カツト時に高抵抗になる。このようにすれば
、多重化メモリまたは多重化ロジツクにおいて、メモリ
またはロジツク出力のワイヤドオア接続を採用できる。
たとえば、0欠陥救済形2重化メモリにおいて、1欠陥
セルを含む不良メモリユニツトの電源がカツトされる。
1欠陥救済形2重化メモリにおいて、0欠陥セルを含む
不良メモリユニツトの電源がカツトされる。
ワイヤドオア接続された多重化メモリ回路において、少
くとも1個の良品ロジツク回路があれば、他の並列ロジ
ツク回路または不良な並列ロジツク回路への給電は停止
できる。メモリユニツトまたはロジツクユニツトが多重
化されている時、このメモリユニツトまたはロジツクユ
ニツトを複数のサブユニツトに分割し、不良サブユニツ
トへの電源供給の停止も可能である。
独立発明3、(クレーム6)(クレーム7)背景技術の
項で説明された不良アドレス/予備アドレス変換技術ま
たはアドレス縮少技術においてメモリのアドレス端子に
入力するアドレスを変換する事によつて、不良アドレス
が禁止アドレスとなる。また、2重化メモリ法において
、重複する不良アドレスは救済できないので、2個のメ
モリのうち、どちらかのメモリに入力するアドレス線の
順番を変更する事によつて、不良アドレスの重複が回避
される。しかし、これらの方法はハードウエアまたはソ
フトウエアの負担が大きく、アクセス時間と電力消費に
悪い影響を及ぼした。本発明は上記の欠点を改善するた
めに、共通のアドレス線によつてアクセスされる複数個
のメモリユニツトがそれぞれ1個のユニツトセレクト端
子または1個または複数個のI/O端子を備え、そして
上記のユニツトセレクト端子(US端子)またはI/O
端子が複数のユニツトセレクト線(US線の1本に、ま
たは複数のI/O線の1本または複数本に任意に接続さ
れる事を特徴とする。ユニツトセレクト線はメモリに入
力するアドレスをデコードしたものである。このように
すれば、US端子とI/O端子の接続変更によつて、簡
単に不良メモリユニツトを除く、良品メモリユニツトを
再配列できる。好ましい実施例において各メモリユニツ
トは1本のUS端子と1〜8本のI/O端子を持つ。最
も好ましい実施例において、各メモリユニツトは1本の
US端子と1本のI/O端子を持つ。本発明によれば、
ハードウエアまたはソフトウエアの負担を減らして、欠
陥メモリユニツトを除去できる。たとえば4本のUS線
と4本のI/O線に隣接して32個のメモリユニツト群
が配置され、各メモリユニツト群とアドレス端子A0〜
A15には共通のアドレス線が接続される。
そして、16個のメモリユニツトのUS端子とI/O端
子を適当なUS線とI/O線に接続する事によつて、1
メガビツトのメモリを作る事ができる。
従属発明1、(クレーム8) 好ましい実施例において、共通のアドレスによつてアク
セスせれる上記の複数個のメモリユニツトは異なる半導
体基板上に作られる。もちろん、異なる半導体基板のU
S線とアドレス線とI/O線は相互接続される。このよ
うにすれば、半導体基板の組み合わせによつて、不良メ
モリユニツトの集中を防止できる。すなわち、良い歩留
まりの基板と悪い歩留まりの基板が組み合わせられる。
従属発明2、(クレーム9) 好ましい実施例において、0欠陥が重複しない2個のメ
モリユニツトのUS端子とI/O端子またはUS端子ま
たはI/O端子が同一のUS線またはI/O線に接続さ
れる。このようにすれば、0欠陥救済形2重化メモリの
歩留まりは大巾に向上する。
従属発明3、(クレーム10) 好ましい実施例において、1欠陥が重複しない2個のメ
モリユニツトのUS端子とI/O端子またはUS端子ま
たはI/O端子が同一のUS線またはI/O線に接続さ
れる。そして、上記の2個のメモリユニツト内部におい
て、入力メモリデータと出力メモリデータは反転される
。このようにすれば1欠陥救済形2重化メモリの歩留ま
りは大巾に向上する。
独立発明4、(クレーム11) 従来の2重化メモリは等容量の2つの並列動作メモリの
出力データのOR出力によつて0欠陥を処理し、さらに
より複雑な方法によつて1欠陥を処理する。しかし、第
1メモリが1欠陥を持ち、第2メモリが0欠陥を持つ様
な時に、欠陥救済は不可能だつた。本発明は上記の問題
を解決するために、並列動作する2つのメモリにおいて
、1欠陥を有する第1メモリの入出力データを反転し、
そして、0欠陥を有する第2メモリの入出力データは反
転せず、そして両者のOR出力を発生させる事を特徴と
する。この様にすれば上記の問題は解決される。上記の
OR出力は第1、第2メモリ出力をバス(I/O線)に
接続するワイヤードオア方式によつて発生させる事が好
ましい。その結果、独立発明3と一緒に実施である。
独立発明5、(クレーム12) 従来の2重化メモリはいままでの説明の様に共通0欠陥
、共通1欠陥、混合欠陥のどれか1つの欠陥パタンだけ
を救済できるに過ぎないので、歩留まりは良くなかつた
。本発明はこの問題を解決するために、並列動作する2
個のメモリの入出力データ切換フユーズをそれぞれのメ
モリ(第1メモリと第2メモリ)に配設し、上記の欠陥
パタンによつて、フユーズを切り換える事によつて上記
の3種類の欠陥パタンのどれでもに対応できる様にする
事を特徴とする。すなわち、1欠陥を救済する時に、両
者の入出力データは反転され、0欠陥を救済する時に両
者の入出力データは反転されず、片方が1欠陥を持ち、
片方が0欠陥を持つ時に、1欠陥メモリの入出力データ
だけが反転される。そして、どのパタンにおいても第1
、第2メモリのデータ出力は最終的にOR出力を発生す
る。このようにすれば、2重化メモリの歩留まりは大巾
に向上する。好ましい実施例において、第1、第2メモ
リの反転または非転出力はワイアドオア接続される。
独立発明6、(クレーム13) 従来の1欠陥救済形2重化メモリは入力データの反転を
必要とする。その結果、ROMにおいて、1欠陥の救済
はできなかつた。本発明は上記の欠点を改善するために
、同じ記憶容量を持ち、並列に動作する第1、第2メモ
リのアンド出力を発生する事を特徴とする。この様にす
れば、RAMまたはROM等のメモリの1欠陥を救済で
きる。
従属発明1、(クレーム14) 好ましい実施例において、第1メモリのデータ出力と第
2メモリのデータ出力のOR出力とAND出力のどちら
かを選択できる様にフユーズ等の切替手段が配置される
。このようにすれば、0欠陥(共通0欠陥)と共通1欠
陥のどちらも救済できる。
共通従属発明1、(クレーム15) 好ましい実施例において、2重化メモリは複数のメモリ
ユニツトに分割され、各メモリユニツト学位で適当な欠
陥救済形式が選択される。そして、各メモリユニツトは
さらに複数のサブメモリユニツトに分割され、欠陥救済
できない不良のサブメモリユニツトは電源供給をカツト
される。ただし、上記の停電サブメモリユニツトと並列
動作する他のメモリユニツトの対応サブメモリユニツト
は良品である必要がある。このようにすれば、2重化メ
モリの歩留まりはさらに向上する 上記の各独立発明の他の特徴と効果は以下の実施例によ
つて説明される。
発明を実施するための最良の形態 図1は本発明の1実施例である。フルウエハLSIであ
る半導体基板1の表面LS1ユニツト2がX,Y方向に
配列されている。そして、各LSIユニツトの間にX方
向とY方向に延在する直線状の分離領域7が配置さわる
。半導体基板1はパツケージ3内に収納され、フルウエ
ハLS1である1の電極端子はパツケージの電極ピンチ
に接続されている。ウエハLS1の各LS1ユニツト2
はテストされ、使用できるウエハLS1の各LS1ユニ
ツトはリングラフイ技術によつて相互配線される。テス
トに不合格のウエハLS1は上記の分離領域7に沿つて
X方向とY方向にカツトされ、そしてLS1ユニツトが
良品である半導体チツプはチツプパツケージに収納され
て使用される。
図2は図1のウエハパツケージ3とプリント基板6を接
続する端子台5を表わす。図3は図1のウエハLS1の
LS1ユニツトを表わす平面図である。LS1ユニツト
2Aと2Bはフユーズ14を介して第1電源線(VSS
)8Aと第2電源線(VCC)8Bから給電される。同
一機能を持つLS1ユニツト2Aは必要数より多く配置
され、そして、使用されないLS1ユニツト2Aのうち
の1部はフユーズの切断によつて給電されない。電気的
にまたはレーザーによつて短路または切断されるポリシ
リコンフユーズは広く使用されている。図4は図3の各
LSIユニツトのデータ出力端子を表わす。I/O線9
をドライブする出力トランジスタ10Aはエンハンスメ
ントトランジスタであり、電源供給をカツトされる時に
高抵抗になる様に設計される。図5は図4の変形実施例
であり、データ出力用トランジスタ10Aとデータ出力
制御用トランジスタ10Bが直列に接続されている。
図4または図5において、トランジスタ10Aまたは1
0Bが停電時に高抵抗になる事によつて多重化回路のワ
イヤードオア接続が可能になる。図6はLS1ユニツト
2(A〜D)が64KRAMであるウエハLS1である
15(A,B)を表わす。ウエハ15Aにおいて、メモ
リ2Aと2Bはフユーズを介してそれぞれユニツトセレ
クト線11の1本とI/O線12の1本に接続される。
同様に、ウエハ15Bにおいて、メモリ2Cと2DもU
S線11の1本とI/O線12の1本にそれぞれフユー
ズ14を介して接続される。フユーズ14は複数のUS
線またはI/O線の任意の1本をメモリユニツトに接続
する。各メモリユニツト2(A〜D)には同一のアドレ
ス線A0〜A15からアドレスが入力される。13Aは
US端子であり、13BはI/O端子である。好ましい
実施例において、US線11とI/O線12はそれぞれ
8本配置され、メモリユニツト2は64個以上160個
以下だけ配置される。そして、良品のメモリユニツトだ
けが選択されて配列される。図7は図6のウエハメモリ
において、0欠陥を有する2個のメモリユニツト2Bと
2Kを同一のUS線11Eと同一のI/O線12Cに接
続する事によつて0欠陥救済形2重化メモリを構成する
事を開示する。ただし、両者の0欠陥は重複しない。重
複しない0欠陥を持つ2個のメモリユニツトは多くのメ
モリユニツトの中から選択できるので、歩留まりは大巾
に向上する。図8は図6のウエハメモリにおいて、1欠
陥を有する2個のメモリユニツト2Cと2Nを同一のU
S線11Eと同一のI/O線12Cに接続する事によつ
て1欠陥救済形2重化メモリを構成する事を開示する。
ただし、両者の1欠陥は重複しない。ただし、データ入
出力端子13Bの前または後において、入出力データは
インバータ16A、16Bによつて反転される。そして
メモリユニツト2Cと2Nのデータ出力はワイアドオア
接続される。このようにすれば、重複しない1欠陥を持
つ2個のメモリユニツトは多くのメモリユニツトの中か
ら選択できるので、歩留まりは大巾に向上する。図9は
1欠陥を持つメモリユニツト2Aと0欠陥を持つメモリ
ユニツト2Bによつて、2重化メモリを構成する事を開
示する。データ出力端子18Aから入力するデータはイ
ンバータ16Bによつて反転された後でメモリユニツト
2Aに書き込まれる。そして、2Aから読み出されたデ
ータはインバータ16Aで反転された後でOR回路17
によつて、メモリユニツト2Bのデータと計算され、O
R出力が発生される。OR回路17の代わりにワイヤー
ドオア接続する事は可能である。図10は図6において
、メモリユニツトが0欠陥救済形2重化メモリまたは1
欠陥救済形2重化メモリまたは混合欠陥救済形2重化メ
モリのどれかの形式を採用できる回路図である。上記の
3種類の2重化メモリは図7または図8または図9によ
つて説明されている。
ただし、切換フユーズ(または切換スイツチ)19Aと
19Bはそのフユーズの接続されているメモリユニツト
(たとえば2A)の入口と出口で同一の構造を取る必要
がある。すなわち、反転データを書き込む時にだけ反転
データを出力する必要がある。その結果、フユーズ19
(A、B)を制御する事によつて、図10の2重化メモ
リが図7または図8または図9の回路になる事が理解さ
れるであろう。図7に開示される0欠陥救済形2重化メ
モリ法はROMに応用する事ができる。ただし、データ
入力回路は不要である。同様にROMに応用する事が好
ましい1欠陥救済形2重化メモリ法が以下に開示される
。ROMメモリユニツトAとROMメモリユニツトBの
データ出力はアンド回路に入力する。両者のアンド出力
を発生させる事により、ROMまたは他のメモリの1欠
陥を救済できる。図11は2重化ROMを表わすブロツ
ク図である。1MビットROMである2(A〜D)と2
(A′〜D′)はそれぞれ同じ情報を記憶している。1
MROM2Aと1MROM2A′のデータ出力はオア回
路20とアンド回路21に入力し、回路20と回路21
の出力は切換フユーズ19を通つて、OR出力またはア
ンド出力のどちらかだけがI/O線12に出力される。
2B〜2Dと2B′〜2D′の他のメモリユニツトも同
じ動作をする。各メモリユニツトの出力はI/O線12
にワイヤドオア接続される。2(A,A′)と2(B,
B′)と2(C,C′)と2(D,D′)は共通のアド
レス線に接続され、そして2ビツトのアドレスだけがデ
コードされて各メモリユニツトのユニツトセレクト端子
に送られる。2Aが救済不可能であり、2A′が良品で
ある時、2Aへの電源供給は停止される。そして、2A
が0を出力する時にオア回路が活かされ、2A′が1を
出力する時にアンド回路が活かされる。さらに、1Mビ
ツトの容量を持つ各メモリユニツトはそれぞれ64Kビ
ツトの容量を持つ16個のサブメモリユニツトに分割さ
れる。そして、2Aの1個のサブメモリユニツトが救済
不可能である時に、その電源供給はカツトされる。ただ
し、上記の停電サブメモリユニツトに対応する2A′の
サブメモリユニツトは良品である必要がある。独立発明
1の使用によつて、ウエハコンピユータからメモリ(R
AM、ROM)とCPU等のチツプが再生産される。独
立発明2の使用によつて、ロジツク(CPU等)、メモ
リの歩留まりが向上する。独立発明3の使用によつて、
RAMの歩留まりが向上する。さらにその従属発明1の
使用によつて、ロジツク、ROMの歩留まりが向上する
。独立発明2において、並列動作する複数のLS1ユニ
ツトを複数の半導体基板に分散する事によつて、ロジツ
ク、ROMの歩留まりが向上する。これは多数の半導体
基板の中から好ましい組み合せを選択できるからである
。もちろん、この場合も不要なLS1ユニツトへの電源
供給はカツトできる。独立発明4はRAMの歩留まりを
向上させる。独立発明5はRAMの歩留まりを向上させ
る。独立発明6はRAMとROMの歩留まりを向上させ
る。結局、これらの独立発明を使用する事によつて、ウ
エハサイズのマイクロコンピユータを製造できる。なお
、本発明のRAMメモリユニツトにさらに冗長ビツト線
または冗長ワード線等の従来の欠陥救済技術を使用する
事は可能である。
【図面の簡単な説明】
図1は本発明のフルウエハLS1の平面図である。図2
は図1のウエハパツケージとプリント基板の接続を表わ
す断面図である。図3は図1のウエハLS1の1部を表
わすブロツク図である。図4は図3のLS1ユニツトの
データ出力回路図である。図5は図4の変形回路図であ
る。図6は本発明のメモリ接続法を表わすブロツク図で
ある。図7は本発明の0欠陥救済形2重化メモリのブロ
ツク図です。図8は本発明の1欠陥救済形2重化メモリ
のブロツク図である。図9は本発明の混合欠陥救済形2
重化メモリのブロツク図である。図10は3種類の欠陥
パタンを救済できる2重化メモリのブロツク図である。 図10において、登録された不良アドレス情報によつて
、切り換えスイツチ19A、19Bを切り換える事によ
つて、3種類の欠陥パタンの1つを任意に選択救済する
事ができる。図11は本発明の2重化メモリのブロツク
図である。 特許出願人 田中正一

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)、400mm2以上の投影面積を持つ半導体基板
    上に作られた集積回路(LS1)においてX方向とY方
    向に直線状に延在する分離領域によつて分離される複数
    のLS1ユニツトによつて上記のLS1が構成され、テ
    ストに不合格になつた上記の半導体基板は上記の分離領
    域に沿つて分割され、そして分割されたLS1ユニツト
    のうち正常なチツプを再使用する事を特徴とする半導体
    集積回路
  2. (2)、テストに合格した上記の半導体基板上に絶縁膜
    を介して電極線が配置され、1部または全部のLS1ユ
    ニツトは上記の電極線に接続される事を特徴とする第1
    項記載の半導体集積回路。
  3. (3)、同一機能を有する複数のLS1ユニツトを備え
    るLS1において、 同一機能を有する複数のLS1ユニツトのうち、不良の
    LS1ユニツトへの給電をカツトする事を特徴とするL
    SI
  4. (4)、不良LSIユニツトの電源端子は電源線からカ
    ツトされるかまたは1電源線にのみ接続される事を特徴
    とする第3項記載のLSI
  5. (5)、上記の停電LS1のデータ出力用トランジスタ
    は停電(給電カツト)時に高抵抗になる事を特徴とする
    第3項記載のLSI
  6. (6)、共通のアドレス線によつてアクセスされる複数
    個のメモリユニツトを備える半導体集積メモリにおいて
    、 各メモリユニツトは1個のユニツトセレクト端子(US
    端子)、または1個または複数個のデータ入出力端子(
    I/O端子)を備え、上記のUS端子が複数のユニツト
    セレクト線(US線)の1本に接続されるかまたは上記
    のI/O端子が複数のデータ線(I/O線)の1本また
    は複数本に接続され、上記の接続を制御する事によつて
    メモリユニツト配列を変更する事を特徴とする半導体集
    積メモリ。
  7. (7)、上記のUS端子とI/O端子の両方を接続変更
    する事によつて、良品メモリユニツトを配列する事を特
    徴とする第6項記載の半導体集積メモリ。
  8. (8)、上記の複数個のメモリユニツトは異なる半導体
    基板上に作られる事を特徴とする第6項記載の半導体集
    積メモリ。
  9. (9)、重複しない0欠陥を持つ上記の2個のメモリユ
    ニツトのUS端子とI/O端子は同一のUS線と同一の
    I/O線に接続される事を特徴とする第6項記載の半導
    体集積メモリ。
  10. (10)、重複しない1欠陥を持つ上記の2個のメモリ
    ユニツトのUS端子とI/O端子は同一のUS線と同一
    のI/O線に接続され、そして入力データと出力データ
    は反転される事を特徴とする第6項記載の半導体集積メ
    モリ。
  11. (11)、同じ記憶容量を持ち、並列に動作する2重化
    メモリにおいて、 1欠陥をする第1メモリの入出力データを反転し、0欠
    陥を有する第2メモリの出力データと第1メモリの反転
    出力データのOR出力を発生する事を特徴とする2重化
    メモリ。
  12. (12)、同じ記憶容量を持ち、並列に動作する2重化
    メモリにおいて、 第1または第2メモリの入出力データは反転されるかま
    たは反転されないように切換スイツチまたは切換フユー
    ズによつて選択される事を特徴とする2重化メモリ。
  13. (13)、同じ記憶容量を持ち、並列に動作する2重化
    メモリにおいて。 第1メモリと第2メモリが重複しない1欠陥を持つ時に
    、両者の出力データのAND出力を発生させる事を特徴
    とする2重化メモリ。
  14. (14)、第1メモリと第2メモリのデータ出力のOR
    出力とAND出力のどちらかを選択する事を特徴とする
    第13項記載の2重化メモリ。
  15. (15)、第1、第2メモリは複数のサブユニツトに分
    割され、救済できない不良サブユニツトの電源供給はカ
    ツトされる事を特徴とする第12項と第14項記載の2
    重化メモリ
JP58144062A 1983-08-05 1983-08-05 半導体集積回路 Pending JPS6034037A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61225846A (ja) * 1985-03-30 1986-10-07 Hitachi Ltd 半導体装置及びその製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS61225846A (ja) * 1985-03-30 1986-10-07 Hitachi Ltd 半導体装置及びその製造方法

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