JPS6034742A - 触媒の処理方法 - Google Patents
触媒の処理方法Info
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- JPS6034742A JPS6034742A JP58144235A JP14423583A JPS6034742A JP S6034742 A JPS6034742 A JP S6034742A JP 58144235 A JP58144235 A JP 58144235A JP 14423583 A JP14423583 A JP 14423583A JP S6034742 A JPS6034742 A JP S6034742A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、炭化水素合成用及び含酸素炭化水素合成用の
担持触媒の処理方法に関する。
担持触媒の処理方法に関する。
ＡＪ２０３ 、 ）ｓＪ１２０３ ５ｉ０２ 、 Ｔｉ
Ｏ２等の担体にＮｉ 、ｃｏ 。
Ｏ２等の担体にＮｉ 、ｃｏ 。
Ｒｕ、 Ｒｈ 、 Ｐｄ 、 Ｐｔ 、 Ｉｒ等の第８
族金属を担持させた触媒を使用して、メタン、エタン、
プロパン等の炭化水素類又はメタノール、エタノール、
プロパツール、酢酸尋の含酸素炭化水素類の生成を行な
う場合、反応生成物である炭化水素又は含酸素炭化水素
の触媒活性点からの脱離が律速段階となる。
族金属を担持させた触媒を使用して、メタン、エタン、
プロパン等の炭化水素類又はメタノール、エタノール、
プロパツール、酢酸尋の含酸素炭化水素類の生成を行な
う場合、反応生成物である炭化水素又は含酸素炭化水素
の触媒活性点からの脱離が律速段階となる。
公知のこの種の触媒においては、反応生成物が、活性点
に強く吸着されて脱離し難い為、反応速度が小さいとい
う問題点がある。
に強く吸着されて脱離し難い為、反応速度が小さいとい
う問題点がある。
本発明者は、上記の如き炭化水素合成用担持触媒及び含
酸素炭化水素合成用担持触媒の問題点に鑑みて種々研究
を重ねた結果、第８族に属する触媒活性金属の２０％以
上が表面に存在しているいわゆる高分散性担持触媒に関
しては、４５０〜７００℃程度の高温下に水素還元を行
なうか又は液相において金属水素化物による還元を行な
う場合には、触媒活性点の反応生成物に対する吸着能が
弱められ、触媒活性が高められる結果、反応速度が着る
しく増大されることを見出した。即ち、本発明は、アル
ミナ、アルミナ−シリカ又はチタニアからなる担体に第
８族金属の少なくとも１種を担持させた炭化水素合成用
又は含酸素炭化水素合成用触媒を４６０〜７００℃にお
いて水素還元処理するか又は液相において金属水素化物
により還元処理することを特徴とする触媒の処理方法に
係る。
酸素炭化水素合成用担持触媒の問題点に鑑みて種々研究
を重ねた結果、第８族に属する触媒活性金属の２０％以
上が表面に存在しているいわゆる高分散性担持触媒に関
しては、４５０〜７００℃程度の高温下に水素還元を行
なうか又は液相において金属水素化物による還元を行な
う場合には、触媒活性点の反応生成物に対する吸着能が
弱められ、触媒活性が高められる結果、反応速度が着る
しく増大されることを見出した。即ち、本発明は、アル
ミナ、アルミナ−シリカ又はチタニアからなる担体に第
８族金属の少なくとも１種を担持させた炭化水素合成用
又は含酸素炭化水素合成用触媒を４６０〜７００℃にお
いて水素還元処理するか又は液相において金属水素化物
により還元処理することを特徴とする触媒の処理方法に
係る。
本発明方法により処理された炭化水素合成用触媒及び含
酸素炭化水素合成用触媒の活性がどの様にして高められ
るかについては、未だ十分に解明されてはいないが、ス
トロング・メタル・サポート・インターアクション効果
（触媒における活性金属−担体相互作用のうち表面近傍
において発生する強い相互作用）により、活性金属の反
応生成物に対する吸着能が弱められることが主要因では
ないかと推察される〔ストロング令メタルーサポートの
インターアクション効果については、Ｓ、Ｊ。
酸素炭化水素合成用触媒の活性がどの様にして高められ
るかについては、未だ十分に解明されてはいないが、ス
トロング・メタル・サポート・インターアクション効果
（触媒における活性金属−担体相互作用のうち表面近傍
において発生する強い相互作用）により、活性金属の反
応生成物に対する吸着能が弱められることが主要因では
ないかと推察される〔ストロング令メタルーサポートの
インターアクション効果については、Ｓ、Ｊ。
Ｔａｕｓｔｅｒ ｅｔ、ａｌ、 、 Ｊ、Ａ、Ｃ，Ｓ、
、 １００ ： １ 、１７０〜１７５（１９７８）
参照〕。
、 １００ ： １ 、１７０〜１７５（１９７８）
参照〕。
本発明方法により処理される炭化水素合成用触媒及び含
酸素炭化水素合成用触媒の担体としては、Ａノ２０Ｂ
＋ Ａ７２０３ ”１０２ ｐ ”１０２等がある。特
にＡＡｉ２０３ ５ｉ０２担体を使用する触媒を本発明
方法により処理する場合に、触媒活性向上の効果が顕著
となる。触媒活性金属としては、周期律表第８族に属す
るＮｉ、Ｃｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｉｒ等がある
。
酸素炭化水素合成用触媒の担体としては、Ａノ２０Ｂ
＋ Ａ７２０３ ”１０２ ｐ ”１０２等がある。特
にＡＡｉ２０３ ５ｉ０２担体を使用する触媒を本発明
方法により処理する場合に、触媒活性向上の効果が顕著
となる。触媒活性金属としては、周期律表第８族に属す
るＮｉ、Ｃｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｉｒ等がある
。
触媒の製造方法は、前記の如く、触媒活性金属０２０％
以上が表面に存在している高分散性担持触媒が得られる
限り、含浸法、混練法、共沈法。
以上が表面に存在している高分散性担持触媒が得られる
限り、含浸法、混練法、共沈法。
イオン交換法等の任意の方法を採用し得る。
本発明方法による還元処理は、通常以下の様にして行な
われる。
われる。
先ず、水素還元の場合には、触媒を温度４５０〜７００
℃、圧力１〜１０Ｋｙ／Ｃｍ２の条件下に０．５〜８時
間程度水素と接触させれば良い。
℃、圧力１〜１０Ｋｙ／Ｃｍ２の条件下に０．５〜８時
間程度水素と接触させれば良い。
又、金属水素化物による還元の場合には、濃度１〜１０
％、温度１０〜５０℃の金属水素化物水溶液に触媒を浸
漬するか或いは同様の水溶液中で触媒を撹拌すれば良い
。触媒と金属水素化物水溶液との接触は、触媒にストロ
ング・メタル・サポート・インターアクション効果が生
ずる時間継続すれば良く、０．１〜０．２時間程度で良
い。金属水素化物としては、ＮＢＨ、ＬＡＷ等が郷示さ
れる。
％、温度１０〜５０℃の金属水素化物水溶液に触媒を浸
漬するか或いは同様の水溶液中で触媒を撹拌すれば良い
。触媒と金属水素化物水溶液との接触は、触媒にストロ
ング・メタル・サポート・インターアクション効果が生
ずる時間継続すれば良く、０．１〜０．２時間程度で良
い。金属水素化物としては、ＮＢＨ、ＬＡＷ等が郷示さ
れる。
本発明方法により処理された触媒の活性は、看るしく向
上する。例えば、ａ−アルミナ担体にＲｕを１％担持さ
せた炭化水素合成用触媒の場合、６００°Ｃで１時間水
素還元することにより触媒活性は約２倍となり、又χ−
ＡＡ２０３ ５ｉ０２担体にＲｕを１％担持させた炭化
水素合成用触媒の場合には同様の処理により触媒活性は
約８倍にも達する。
上する。例えば、ａ−アルミナ担体にＲｕを１％担持さ
せた炭化水素合成用触媒の場合、６００°Ｃで１時間水
素還元することにより触媒活性は約２倍となり、又χ−
ＡＡ２０３ ５ｉ０２担体にＲｕを１％担持させた炭化
水素合成用触媒の場合には同様の処理により触媒活性は
約８倍にも達する。
実施例１
δＡＪ２０３にＲｕを１重量％担持させたメタン合成用
触媒（分散率５０％）を水素圧１０ Ｋｙ／ｃｍ２＊温
度６００℃で１時間水素還元処理した。
触媒（分散率５０％）を水素圧１０ Ｋｙ／ｃｍ２＊温
度６００℃で１時間水素還元処理した。
得られた還元触媒を使用して、Ｎ２：Ｈ２：Ｃ０＝６：
５：１の混合ガスを温度８００℃、圧力１０Ｋｙ／ｃｍ
２− Ｇ 、 ＧＨ５Ｖ＝ Ｌ ６８００ ｈｒ−”
（り条件下にメタン合成に供したところ、第１表に示す
結果が得られた。
５：１の混合ガスを温度８００℃、圧力１０Ｋｙ／ｃｍ
２− Ｇ 、 ＧＨ５Ｖ＝ Ｌ ６８００ ｈｒ−”
（り条件下にメタン合成に供したところ、第１表に示す
結果が得られた。
比較例１
水素還元時の温度を８００℃とする以外は実施例１と同
様にして得た還元触媒を使用して、実施例１と同様のメ
タン化反応を行なった。
様にして得た還元触媒を使用して、実施例１と同様のメ
タン化反応を行なった。
実施例２
χ−Ａｌ ２０３− Ｓ ｉ０２にＲｕを１重量％担持
させたメタン合成用触媒を実施例１と同様にして水素還
元した後、実施例１と同様のメタン合成を行なった。
させたメタン合成用触媒を実施例１と同様にして水素還
元した後、実施例１と同様のメタン合成を行なった。
比較例２
水素還元時の温度を８００℃とする以外は実施例２と同
様にして得た還元触媒を使用して、実施例１と同様のメ
タン化反応を行なった。
様にして得た還元触媒を使用して、実施例１と同様のメ
タン化反応を行なった。
実施例８
ＮＢＨの２％水溶液（温度２０℃）に実施例２と同様の
メタン合成用触媒を０．２時間浸漬した後、水洗及び乾
燥した。得られた還元触媒を実施例１と同様のメタン化
反応に使用した。
メタン合成用触媒を０．２時間浸漬した後、水洗及び乾
燥した。得られた還元触媒を実施例１と同様のメタン化
反応に使用した。
実施例４
δＡｌ！２０３にＰｔ１重量％を担持させたメタン化反
応触媒を実施例１と同様にして水素還元した後、実施例
１と同様のメタン化反応（但し反応温度４００℃）に使
用した。
応触媒を実施例１と同様にして水素還元した後、実施例
１と同様のメタン化反応（但し反応温度４００℃）に使
用した。
比較例３
水素還元時の温度を８００℃とする以外は実施例４と同
様にして得た還元触媒を使用して、実施例４と同様のメ
タン合成反応を行なった。
様にして得た還元触媒を使用して、実施例４と同様のメ
タン合成反応を行なった。
実施例５
δＡｌ２Ｏ３にＲｈ１重量％を担持させたメタン化反応
触媒を実施例１と同様にして水素還元した後、実施例１
と同様のメタン化反応（但し反応温度８５０℃）に使用
した。
触媒を実施例１と同様にして水素還元した後、実施例１
と同様のメタン化反応（但し反応温度８５０℃）に使用
した。
比較例４
水素還元時の温度を３００℃とする以外は実施例５と同
様にして得た還元触媒を使用して、実施例５と同様のメ
タン化反応を行なった。
様にして得た還元触媒を使用して、実施例５と同様のメ
タン化反応を行なった。
実施例６
δＡＪ２０３にＰｄ１重愈重態担持させたメタン合成触
媒を実施例１と同様にして水素還元した後、実施例１と
同様のメタン合成（但し反応温度４００℃）に使用した
。
媒を実施例１と同様にして水素還元した後、実施例１と
同様のメタン合成（但し反応温度４００℃）に使用した
。
比較例５
水素還元時の温度を３００°Ｃとする以外は実施例６と
同様にして得た触媒を使用して、実施例６と同様のメタ
ン合成を行なった。
同様にして得た触媒を使用して、実施例６と同様のメタ
ン合成を行なった。
実施例７
δＡｌ２Ｏ３にＮｉ１重風％を担持させたメタン合成用
触媒を実施例１と同様にして水素還元した後、実施例１
と同様にしてメタン合成（但し反応温度は３５０℃）を
行なった。
触媒を実施例１と同様にして水素還元した後、実施例１
と同様にしてメタン合成（但し反応温度は３５０℃）を
行なった。
比較例６
水素還元時の温度を８００℃とする以外は実施例７と同
様にして得た触媒を使用して、実施例７と同様のメタン
合成を行なった。
様にして得た触媒を使用して、実施例７と同様のメタン
合成を行なった。
第１表に示す結果から、本発明方法により触媒の活性が
著るしく向上することが明らかである。
著るしく向上することが明らかである。
（以上）
Claims (1)
- ■ アルミナ、アルミナ−シリカ又はチタニアからなる
担体に第８族金属の少なくとも１種を担持させた炭化水
素合成用又は含酸素炭化水素合成用触媒を４５０〜７０
０℃において水素還元処理するか又は液相において金属
水素化物により還元処理することを特徴とする触媒の処
理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58144235A JPS6034742A (ja) | 1983-08-05 | 1983-08-05 | 触媒の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58144235A JPS6034742A (ja) | 1983-08-05 | 1983-08-05 | 触媒の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6034742A true JPS6034742A (ja) | 1985-02-22 |
| JPH0417100B2 JPH0417100B2 (ja) | 1992-03-25 |
Family
ID=15357388
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58144235A Granted JPS6034742A (ja) | 1983-08-05 | 1983-08-05 | 触媒の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6034742A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS64916A (en) * | 1987-06-23 | 1989-01-05 | Canon Inc | Photographing lens |
| JP2010149109A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-07-08 | Osaka Gas Co Ltd | 高カロリーガス製造用触媒およびその製造方法および高カロリーガス製造用触媒を用いた高カロリーガス製造方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20040215387A1 (en) | 2002-02-14 | 2004-10-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for transmitting location information on a digital map, apparatus for implementing the method, and traffic information provision/reception system |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5494491A (en) * | 1978-01-10 | 1979-07-26 | Kawaken Fine Chem Co Ltd | Ruthenium catalyst |
| JPS5927836A (ja) * | 1982-08-06 | 1984-02-14 | Res Assoc Petroleum Alternat Dev<Rapad> | 炭化水素の製造方法 |
-
1983
- 1983-08-05 JP JP58144235A patent/JPS6034742A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5494491A (en) * | 1978-01-10 | 1979-07-26 | Kawaken Fine Chem Co Ltd | Ruthenium catalyst |
| JPS5927836A (ja) * | 1982-08-06 | 1984-02-14 | Res Assoc Petroleum Alternat Dev<Rapad> | 炭化水素の製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS64916A (en) * | 1987-06-23 | 1989-01-05 | Canon Inc | Photographing lens |
| JP2010149109A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-07-08 | Osaka Gas Co Ltd | 高カロリーガス製造用触媒およびその製造方法および高カロリーガス製造用触媒を用いた高カロリーガス製造方法 |
| JP2014073492A (ja) * | 2008-11-18 | 2014-04-24 | Osaka Gas Co Ltd | 高カロリーガス製造用触媒およびその製造方法および高カロリーガス製造用触媒を用いた高カロリーガス製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0417100B2 (ja) | 1992-03-25 |
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