JPS6034977A - 3,7-disubstituted-3-cephem-4-carboxylic acid compound - Google Patents

3,7-disubstituted-3-cephem-4-carboxylic acid compound

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JPS6034977A
JPS6034977A JP12405184A JP12405184A JPS6034977A JP S6034977 A JPS6034977 A JP S6034977A JP 12405184 A JP12405184 A JP 12405184A JP 12405184 A JP12405184 A JP 12405184A JP S6034977 A JPS6034977 A JP S6034977A
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JP
Japan
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compound
group
ester
formula
groups
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Pending
Application number
JP12405184A
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Japanese (ja)
Inventor
Takao Takatani
高谷 隆男
Hisashi Takasugi
高杉 寿
Zenzaburo Totsuka
善三郎 戸塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

NEW MATERIAL:The compound of formula I (X is acid residue; R<2> is alkanoyloxy, carbamoyloxy or heterocyclic-thio group which may have proper substituent group; R<3> is protected carboxy). EXAMPLE:7-( 2-Hydroxyimino-3-oxo-4-bromobutylamido )-3-( 1-methyl-1H-tetrazol- 5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethyl ester. USE:Useful as a raw material for the preparation of antibacterial agent. PREPARATION:The compound of formula I can be prepared by reacting the compound of formula II with a nitrosation agent such as nitrous acid, etc. in a solvent such as benzene under cooling or at room temperature. The starting compound of formula II is novel compound.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

この発明は抗菌性物質製造のための原料化合物として有
用な一般式 (式中、Xは酸残基、R2はアルカノイlレオキシ基、
カッレバモイルオキシ基または適当な置換基を有してい
てもよい複素環チオ基、R3は保護されたカルボキシ基
をそれぞれ意味する] で示される6、7−ジ置換−ろ−セフエムー4−カルボ
ン酸化合物およびその製造法に関するものである・ この発明の目的化合物である6、7−ジ置換−5−セフ
ェム−4−カルボン酸化合物は前記一般式(1)で示さ
れ、シン異性体であるが、この化合物に対応する幾何異
性体であるアンチ異性体が存在しうる。ここにおいてシ
ン異性体とは式 %式% (式中、Xは前と同じ意味) で示される部分構造をその分子中に有する幾何異性体を
意味し、−力対応するアンチ異性体とは式%式% (式中、Xは前と同じ意味) で示される部分構造をその分子中に有するもう一方の幾
何異性体を意味する。従ってこの明細誉では目的化合物
および原料化合物のシン異性体は、その分子中に式−〇
−CONH−で示される部分構造1 −0− を有する化合物として表わされる。 この発明の目的化合物(1)は新規化合物で6D、例え
ば下記に示す方法によシ製造することができる。 方法 (式中、R2、R3およびXはそれぞれ前と同じ意味] 原料化合物(If)ff新規化合物であシ、例えば次に
示す製造法によシ製造することができる。 R′ もしくはそのアミノ基における反応性誘導体またはそれ
らの塩類
This invention discloses a general formula (wherein, X is an acid residue, R2 is an alkanoyl-reoxy group,
A kallevamoyloxy group or a heterocyclic thio group which may have an appropriate substituent, R3 means a protected carboxy group respectively] 6,7-disubstituted-5-cephem-4-carboxylic acid compound, which is the object compound of this invention, is represented by the above general formula (1) and is a syn isomer. However, there may exist anti-isomers, which are the corresponding geometric isomers of this compound. Here, the syn isomer means a geometric isomer that has a partial structure represented by the formula % (in the formula, X has the same meaning as before) in its molecule, and the corresponding anti-isomer is the formula It means the other geometric isomer having a partial structure represented by the formula % (wherein X has the same meaning as before) in its molecule. Therefore, in this specification, the syn isomer of the target compound and the starting compound is represented as a compound having a partial structure 1 -0- represented by the formula -CONH- in its molecule. The object compound (1) of the present invention is a novel compound 6D, which can be produced, for example, by the method shown below. Method (in the formula, R2, R3 and reactive derivatives or their salts

【式中、R2、R3およびXばそれぞれ前と同じ意味】 この発明の目的化合物(1)は、例えば下記に示す方法
によシ抗菌性物質として有用な化合物(社)を製造する
ための原料化合物として有用である。 6 (1)(V) R″ (1’D (式中、R2、R3およびXはそれぞれ前と同じ意味 
R1はアミノ基または保護されたアミノ基を意味する) 次に上記の一般式の定義について説明する。 この明Il′IIII書中、「低級」なる語句は別に定
義しないかぎシ、一般に次素数1〜6を意味するものと
して使用される。 保護されたアミノ基としては、アミノ基が後記したよう
なアシル基、ベンジル、4−メトキシベンジ”s 3,
4−ジメトキシベンジJV1フェネチル、トリチル等の
アラルキル基、好ましくはアリーJV低級アルキル基の
様な使用される保護基で置換されたものが挙げられる。 アシル基としては、例えばカルバモイル基、脂肪族アシ
ル基、芳香環または複素環を含むアシル基が挙げられ、
さらに詳細には、ホルミルチル、グロピオニlし、ブチ
リル、イソブチリ7し、バレリル、イソバレリル、オキ
サリル、サクシニル、ピバロイル等のアIVカッイル基
、メトキシカルポ二lし、エトキシカルボニル、フロポ
キシカルポニlし、1−シクロプロビルエトキシカルボ
ニル、イソプロポキシカルボニル、プトキシカtvボニ
ル、第3級ブトキシカルボニル ボニル、第3MベンチルオキシカルボニIV,ヘキシル
オキシカルボニル 基、メシル、エタンヌルホニル、プロパンヌルホ=iし
、イソプロパンヌルホニル、7Vン7.ルホニル等のア
レーンスルホニル基、ベンゼンヌlレホニル、トlレエ
ンスIVホニル等のアレーンスルホニル基、ベンゾイル
、トルオイル、ナフトイル、フタロイル、インダンカル
ボニル ェニyアセチlし、フェニルプロピオニル等のアラルカ
ッイル基、ベンジルオキシカルボニルネチルオキシカル
ボニル ニル基が挙げられ、これらの基は、例えば塩素、臭素、
沃素、弗素を含むハロゲン、ニトロ基、アミノ基、シア
ノ基、メチル、エチル、プロピル、インプロピlし、ブ
チル等のアノレキ)VL ビニル、アリル等のアルケニ
JV基等の適当な置換針を1個以上有していてもよく、
好ましぐは低級アルカノイル基、トリハロ低級アルカノ
イル基等が挙げられる。 適当な置換基を有していてもよい複素環チオ基における
複素環部分としては、飽和もしくは不飽和の単環もしく
は多環の、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のへテロ原
子を1個以上含む複素環式基を意味し、さらに詳細には
、ピロリル、ピロリニル、イミダゾリルミ ピラゾリル
、ピリジルもしくはそのN−オキサイド、ピリミジニル
、ピラジニル、ピリダジニIV、4 H − 1.2.
4−)リアゾリル、IH−1.2.3−トリアゾリル、
2 H−1.2.3−トリアゾリル等のトリアシリ1し
、IH−テトラゾリル、2H−テトラゾリル等のテトラ
ゾリル等の窒素含有不飽和単環複素環式基、ピロリジニ
ル、イミダゾリニル、ピペリジノ、ピペラジニル等ノ窒
素含有飽和単環複素環式基、インドリル、イソインドリ
ル、イントリジニル、ベンズイミダゾリル、キノリル、
イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾトリアゾリル等の
窒素含有不飽和縮合複素環式基、オキサシリル、インキ
サゾリル、1,2.4−オキサジアゾリル、1,3.4
−オキサジアゾリル、1、2.5−オキサジアゾリル等
のオキサジアゾリル等の酸素含有不飽和単環複素環式基
、モIレホリニルの様な酸素および窒素含有飽和単環複
素環式基、ベンズオキサシリル、ベンゾオキサジアゾリ
ル等の酸素および窒素含有不飽和縮合複素環式基、チア
ゾリル、1 、 2. 3−チアジアゾリル、1,2.
4−チアジアゾリノン、113.4−チアシアシリIV
, 1,2.5−チアジアゾリル等のチアジアゾリル等
の硫黄および窒素含有不飽イ・口単環複累環式基、チア
ゾリジニルの様な硫黄および窒素含有飽和単環複素環式
基、ヘンゾチアゾリノノ、ベンゾチアジアゾリル等の硫
黄および窒素含有不飽和縮合複素環式基等が挙げられ、
これらの基は、例えばメチル、エチル、プロピル、イン
プロピノン、プチノペイソプチル、ペンチル、シクロペ
ンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等のアルキル基、ビ
ニル、アリル、ブテニル等のアルケニlし基、フェニル
、トリル等のアリール基、塩素、臭素、沃素、弗素を含
むハロゲン、アミン基、ジノチルアミノメチル、ジノチ
ルアミノエチル、ジエチルアミノメチル、シエチルアミ
ノエチlし、シェチルアミノグロビル、ジメチルアミノ
ブチル等のジアルキルアミノアルキル基等の適当な置換
基を1個以上有していてもよい。 上記の適当な置換基を有する複素環チオ基の複素環部分
の好Jしい例としては、例えばメチルテトラゾリル、エ
チルテトラゾリル、ジメチルアミノメチルテトラシリ/
l/、ジメチルアミノエチルテトラゾリル等の低級アシ
キル基筐たはシ低級アルキルアミノ低級アルキル基で置
換されたテトラシリlし基が挙げられる。 保護されたカルボキン基としては、エステル化されたカ
ルボキン基が挙げられ、エヌテル化されたカルボキシ基
におけるエステル部分としては、fAJ工Idメチルエ
ヌテル、エチルエステル、プロピルエステル、インプロ
ヒルエステル テル、イソブチルエステル、第3級ブチルエステル、ベ
ンチフレエステル、ヘキシルエステ/l/、1−シクロ
プロヒlレエチルエステル等のアルキルエステル、アセ
トキシメチノンエステル、プロピオニルオキシメチルエ
ステlし、ブチリルオキシメチルエステlし、バレリル
オキシメチlレエステル、2−−yセトキシエチ!レエ
ステw,2−プロピオニルオキシメチルエステル、ヒバ
ロイルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチ
ルエヌテ/L/等のアルカノイルオキシア/Vキルエス
テIV,メジIVメチルエヌテル、エクンヌルホニルエ
チ)Vエステノv等のアルカンヌルホニルアルキルエス
テル、2−ヨードエチルエステル、2,2.2−)リク
ロロエチルエヌテル等のモノ(もしくはジもしぐはトリ
〕ハロアlレキルエヌテル等の1個以上の適当な置換基
を有スルアルキルエステル、ビニルエヌ7/L/、7!
Jルエステル等のアルケニルエヌテlし、エチニルエヌ
テル、プロピニルエステル等のアラルキルエステル、ベ
ンジルエステル、4−メトキシベンシルエステル、4−
ニトロベンジルエヌテル、フェニルエステル、トリチル
エステル、シフェニ!レメチルエステル、ジフェニルエ
チIレエステル、ヒス
[In the formula, R2, R3 and Useful as a chemical compound. 6 (1)(V) R''(1'D (wherein, R2, R3 and X each have the same meaning as before)
(R1 means an amino group or a protected amino group) Next, the definition of the above general formula will be explained. In this book Il'III, the term "lower" is not otherwise defined and is generally used to mean prime numbers 1 to 6. Examples of the protected amino group include an acyl group, benzyl, 4-methoxybenzi's 3,
4-dimethoxybendiJV1 Aralkyl groups such as phenethyl, trityl, etc., preferably substituted with a protecting group used such as ary JV lower alkyl groups are mentioned. Examples of the acyl group include a carbamoyl group, an aliphatic acyl group, an acyl group containing an aromatic ring or a heterocycle,
More specifically, the examples include formyl, gropionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, oxalyl, succinyl, pivaloyl, methoxycarponyl, ethoxycarbonyl, fropoxycarponyl, 1 -cyclopropylethoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, ptoxycarbonyl, tertiary butoxycarbonyl, 3M benzyloxycarbonyl IV, hexyloxycarbonyl group, mesyl, ethannulfonyl, propanenulfonyl, isopropanulfonyl , 7Vn7. Arenesulfonyl groups such as sulfonyl, arenesulfonyl groups such as benzene lrefonyl, tolyenes IV fonyl, benzoyl, toluoyl, naphthoyl, phthaloyl, indancarbonylacetyl groups, aralkayl groups such as phenylpropionyl, benzyloxycarbonyl groups, etc. These groups include, for example, chlorine, bromine,
One or more suitable substituted needles such as halogens including iodine and fluorine, nitro groups, amino groups, cyano groups, methyl, ethyl, propyl, impropyl, butyl, etc.) You may have
Preferred examples include lower alkanoyl groups and trihalo lower alkanoyl groups. The heterocyclic moiety in the heterocyclic thio group which may have an appropriate substituent includes one saturated or unsaturated monocyclic or polycyclic heteroatom such as an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom. It means a heterocyclic group containing the above, and more specifically, pyrrolyl, pyrrolinyl, imidazolylmi-pyrazolyl, pyridyl or its N-oxide, pyrimidinyl, pyrazinyl, pyridazine IV, 4H-1.2.
4-) riazolyl, IH-1.2.3-triazolyl,
2 H-1.2. Triazolyl such as 3-triazolyl, nitrogen-containing unsaturated monocyclic heterocyclic groups such as tetrazolyl such as IH-tetrazolyl and 2H-tetrazolyl, nitrogen-containing nitrogen-containing groups such as pyrrolidinyl, imidazolinyl, piperidino, piperazinyl, etc. Saturated monocyclic heterocyclic group, indolyl, isoindolyl, intridinyl, benzimidazolyl, quinolyl,
Nitrogen-containing unsaturated fused heterocyclic groups such as isoquinolyl, imidazolyl, benzotriazolyl, oxasilyl, inxazolyl, 1,2.4-oxadiazolyl, 1,3.4
-Oxadiazolyl, unsaturated monocyclic heterocyclic groups containing oxygen such as oxadiazolyl such as 1,2,5-oxadiazolyl, saturated monocyclic heterocyclic groups containing oxygen and nitrogen such as moI leforinyl, benzoxacylyl, benzoxa Oxygen- and nitrogen-containing unsaturated fused heterocyclic groups such as diazolyl, thiazolyl, 1, 2. 3-thiadiazolyl, 1,2.
4-Thiadiazolinone, 113.4-Thiasiasili IV
, sulfur- and nitrogen-containing unsaturated monocyclic heterocyclic groups such as thiadiazolyl, 1,2,5-thiadiazolyl, sulfur- and nitrogen-containing saturated monocyclic heterocyclic groups such as thiazolidinyl, henzothiazolinono , sulfur- and nitrogen-containing unsaturated fused heterocyclic groups such as benzothiadiazolyl, etc.
These groups include, for example, alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, impropynon, ptynopeisoptyl, pentyl, cyclopentyl, hexyl, cyclohexyl, alkenyl groups such as vinyl, allyl, butenyl, phenyl, tolyl, etc. Aryl groups, halogens including chlorine, bromine, iodine, fluorine, amine groups, dialkylaminos such as dinotylaminomethyl, dinotylaminoethyl, diethylaminomethyl, siethylaminoethyl, shetylaminoglobil, dimethylaminobutyl, etc. It may have one or more suitable substituents such as an alkyl group. Preferred examples of the heterocyclic moiety of the above-mentioned heterocyclic thio group having an appropriate substituent include methyltetrazolyl, ethyltetrazolyl, dimethylaminomethyltetrasily/
Examples include a tetrasilyl group substituted with a lower acyl group such as l/, dimethylaminoethyltetrazolyl, or a lower alkylamino lower alkyl group. Examples of the protected carboxyl group include esterified carboxyl groups, and examples of the ester moiety in the esterified carboxyl group include fAJ Engineering Id methyl ether, ethyl ester, propyl ester, improhyle ester, isobutyl ester, Alkyl esters such as tertiary butyl ester, benthyl ester, hexyl ester, 1-cyclopropylene ethyl ester, acetoxymethinone ester, propionyloxymethyl ester, butyryloxymethyl ester, valeryloxy Methyl ester, 2-y setoxyethyl! alkanoyloxia such as rayste w, 2-propionyloxymethyl ester, hivaloyloxymethyl ester, hexanoyloxymethyl ente/L/, etc./V kyl este IV, medi IV methyl enuter, ecunnulphonyle ethyl), alkanes such as V esteno v, etc. having one or more suitable substituents, such as mono(or di- or tri)haloal-lekylene ether, such as nulfonylalkyl ester, 2-iodoethyl ester, 2,2.2-)lichloroethyl ethyl ester, etc. Sulualkyl ester, vinyl N 7/L/, 7!
Alkenyl esters such as esters, aralkyl esters such as ethynyl esters and propynyl esters, benzyl esters, 4-methoxybenzyl esters, 4-
Nitrobenzyl enuter, phenyl ester, trityl ester, sipheni! Remethyl ester, diphenylethyl ester, His

【メトキシフェニル)メチルエス
テtv、3.4−ジメトキシベンジルエステlし、4−
ヒドロキシ−3,4一ジ第3級プチルベンジルエヌテル
等の1個以上の適当な置換基を有していてもよいアラル
キルエステル、フェニルエステル、トリルエステ”、第
3 i 7−チルフエニルエヌテlし、4−クロロフェ
ニルエステIV、キシリルエヌテル、メシチルエステル
、クメニlレエヌテル等の1個以上の適当な置換基を有
していてもよいアリールエステルれ、好ましくは低級ア
ルカノイルオキシ低級アルキルエステル、トリハロ低級
アルキルエステル、ジフェニル低級アルキルエステル等
が挙ケラれる。 アlレカノイルオキシ基としては、アセトキシ、プロピ
オニルオキシ、ブチリlレオキシ、ヘキサノイルオキシ
等が挙げられ、好壕しくけ低級アルカノイルオキシ基が
挙げられる。 酸残基としては、例えば塩素、臭素、沃累、弗素を含む
ハロゲンが挙げられる。 目的化合物(1)について上に税,明した一般式の定義
のうち特に好ましい例を次に挙げる。 Xの好捷しい例としてはハロゲン(さらに好捷しくに臭
素)、R2の好ましい例としては、カルバモイルオキシ
基、低級アルカノイルオキシ基(さらに好ましぐはアセ
トキシ基)、低級アルキル基モしくはジ低級ア)Vキル
レアミノ低級アルキル基で置換されたテトラシリフレチ
オ基(さらに好ましくは1H−テトラゾリルチオ基]ま
たはチアジアゾリルチオ基 R3の好ましい例としては
、ジフェニlレメトキシカルポニJV,ジフェニルエト
キシカルボニル等のジフェニル低級アルコキシカルボニ
ル基がそれぞれ挙げられる。 次にこの発明の目的化合物の製造法について説明する。 方法 化合物(1)H、化合物(11)にニトロソ化剤を作用
さセルことによシ製造される。 ニトロソ化剤としては、例えば亜硝酸、亜硝酸ナトリウ
ムのような亜硝酸アノVカリ金属、亜硝酸7 ミtv 
x ヌテ/L/のような亜硝酸アリールエステル等が挙
げられる。この反応は、水、酢酸、ベンゼン、塩化メチ
レン、テトラヒドロフラン、メタノ−lし、エタノ−7
しもしぐばこれらの混合溶媒またはその他のこの反応に
悪影響を及はさない溶媒中で行なわれることが多い。反
応温度は、特に限定されないが、冷却下ないし室温で行
なわれることが多い。 次にこの発明の原料化合物の製造法について説明する。 化合物cn>u、化合物4!+)もしくはそのアミノ基
における反応性誘導体またはその塩類に、化合物(V)
モジくはそのカルボキン基における反応性誘導体を作用
させることにより製造される。化合物(Ill)のアミ
ノ基における反応性誘導体としては、例えば化合物(I
ll)とアセト酢酸エステルの様なカルボニル化合物と
の反応によシ生成するシッフの塩基(イミノ型)もしく
はそのエナミン型の異性体、化合物側)とビス(トリメ
チフレシリル)アセトアミドの様なンリル化合物との反
応により生成するシリル誘導体または化合物II)と3
塩化燐、ホヌゲン等との反応により生成する誘導体等の
アミド化反応において慣用されるものはすべて包含され
る。化合物(III)の塩類としては、有機酸もしくは
無機酸との塩が挙げられる。 また、化合物□□□のカルボキシ基における反応性誘導
体としては、例えば酸ハライド、酸無水物、活性アミド
、活性エステlV等が挙げられるが、特に繁用されるも
のとしては、酸プロミド、酸クロリド等の酸ハフイドが
挙げられる。 この反応は通常水、アセトン、ジオキサン、アセトニト
リル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テ
トラヒドロフラン、酢酸エチル、N、N−ジメチルホル
ムアミド その他の反応に悪影響を及ぼさない一般有機溶媒等の溶
媒中で行なわれ、これらの浴謀は混合して使用すること
もできる。 この反応において化合物(ト)を遊離酸もしくはその塩
の状態で使用する際は、たとえばN,N−ジシクロヘキ
シivカルボジイミドの様な慣用される縮合剤の存在下
に行なうのが有利である。 筐たこの反応は、塩基の存在下に行なってもよい。反応
温度は特に限定されないが、通常冷却下ないしは室温で
行なわれることが多い。 この発明の目的化合物(1)はすべて新規化合物であり
、常法により化合物(Vlを作用させると抗菌性物質と
して有用な化合物(W)が得られる。 次にこの発明を実施例および参考例により説明する。 実施例1 7−アミノ−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−
5−4tし)チオメチル−6−セフェム−4 − 力w
ホン酸のジフェニルメチルエステル12.49に乾燥テ
トラヒドロフラン200mJに懸濁した液にビヌ(トリ
チルシリル)アセトアミド7、6gを加え、−30″C
に冷却する。一方、ジケテン2、5+1乾燥塩化メチレ
ン5mlに溶解し、これに臭素4,8gを乾燥塩化メチ
レン3mlに洛かした溶液を一30″Cで加え、次いで
同温度でろO分間撹拌シて、6−オキソ−4−プロモプ
チリノVフ゛ロマイドを含有する溶媒を得る。この溶液
を、先に得られたテトラヒドロフラン溶液に−30〜−
20′Cで滴下した後、−20〜−10″Cで2時間攪
拌する。こうして得られた7−(6−オキソ−4−ブロ
モブチlレアミド)−5−(1−メチル−1H−テトラ
ソール−5 、(7し)チオメチル−5−セ亜硝酸す)
 IJウム1.9gを水4mlに溶解した溶液をO〜7
”Cで滴下する。得られた混液を同温度で1時間攪拌す
ると、7−(2−ヒドロキシイミノ−3−オキソ−4−
ブロモブチルアミド〕−6−(1−メチzv−1H−テ
トラゾール−5−イノV〕チオメチル−ろーセフエムー
4ーカルボン酸のジフェニルメチルエステル(シン異性
体) =e含’Fi’する溶mを得る。 実施例2 7−アミノ−ろ−t ’1,3.4ーチアジアゾーjV
−2−イル)チオメチル−ろ−セフェム−4−力/Vポ
ン酸のジフェニルメチルエステル ビヌ(トリメチルシリル)アセ1−アミド8.5!9に
乾燥テトラヒドロフラン2 2 5 mlK懸濁した液
を一25°Cに冷却する。一方、ジケテン2.81を乾
燥塩化メチレン6耐に加え、これに臭素5.44yを乾
燥塩化メチレン2.5ゴに溶解した溶液全一25°Cで
滴下した後、同温度で30分間攪拌して、6−オキソ−
4−グロモプチリノノブロマイドを含有する溶液を得る
。この溶液を、先に得られたテトラヒドロフラン溶液に
、−25℃で5分間を要して滴下した後、同温度で30
分間攪拌する。 こうして得られた7−(3−オキソ−4−ブロモブチル
アミドJ−3−(1,3.4−チアシアソール−2−イ
lし]チオメチ)V−3−セフェム−4−カルボン酸の
ジフエニlレメチルエヌテルヲ含有する混液に水6ゴを
加えた後、亜硝酸ナトリウム2.31gを水6πlに溶
解した溶液を水冷下に15分を要して加える。混液を同
温度で50分間攪拌し7−(2−ヒドロキシイミノ−3
−オキソ−4−ブロモブチルアミド)−3−tl,5.
4−チアジアゾール− 2 − イ/し】チオメチ)v
−3−セフェム−4−カッVポン酸ノシフェニIVメチ
ルエヌテル(シン異性体)を含有する溶液を得る。 実施例3 7−アミノセファロスポラン酸のジフェニルメチルエス
テJv11.0g、ジケテン2.4M,臭素4.8gお
よび亜硝酸ナトリウム1.91一実施例1および2と同
様に処理すると、7−(2−ヒドロキシイミノ〜ろーオ
キソー4ーグロモグチIVアミド)セファ0ヌポラン酸
のジフェニルメチルエステlしくシン異性体)を含有す
る溶液を得る。 参考例1 実施例1で得られた7−(2−ヒドロキシイミノ−6−
オキソ−4−ブロモブチJVアミド〕−6−(1−メチ
ル−1H−テトラゾール−5−イノV]チオメチル−6
−セフェム−4−力IVボン酸のジフェニ)Vメチlレ
エステ/l/(シン異性体3に含有rる溶液を飽和度酸
水素ナトリウム水溶液で、pHを約6に調整した後、こ
れにチオ尿素19gを加え、室温で1.5時間攪拌する
。得られた反応液を濃縮し、残渣を酢酸エチ/V2 [
I D mlで洗浄する。 次いで酢酸エチル層を傾しゃ法で除去し、残渣に酢酸エ
チル400 ml及び水2 [,10mlを加えた後、
混液を次酸水素ナトリウム水溶液でpH7に調整し、酢
酸エチlしで抽出する。水Ivをさらに酢酸エチル+ 
10 (Jprl×2 )で抽出する。酢酸エチ)V抽
出液を合し、水及び飽和塩化す) IJウム水溶液で洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶液を赤縮し、容
積に7[J〜8(Julにした後冷却すると結晶が析出
する。結晶をp取し、酢酸エチルで洗浄後乾燥すると、
7−(2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル]アセトアミド〕−3−(1−メチノV
−IH−テトラゾ−ノン−5−イル]チオメチルー3−
セフェム−4−カルシボン酸ノシフェニルメチルエヌテ
ノン(シン異性体] 3.7 Qを得る。 1、R,スペクトル(ヌジョール) 335[]、3260.ろ180.178D、1705
.165D。 161[]、1520c1++ N、M、R,スペクトルLd6=DMSO,δ)11.
37(IH,s)、9.50tIH,d、、J=8Hz
l。 7.73〜7.17tlQH,m)、6.9[]LIH
,s)。 6.68t IH,+q)、5.92t 1t(、aa
、J=5゜8Hz)、5.20(In、d、J=5az
34.25t 2H,ABq、J=1ろH2) 、 3
.33t 3H。 p ] 、 3.75t 2H、broad PI ]
参参考例 実施例2で得られた7−(2−ヒドロキシイミノ−ろ−
オキソー4−ブロモブチルアミド]−5−tl、3.4
−チアジアゾ−lレ−2−イIし)チオメチル−ろ−セ
フエムー4−カルボン酸ノジフェニルメチルエステル(
シン異性体)を含有する溶液を戻酸水素ナトリウム水溶
液でpHを約5に調整し、これにチオ原票2.12g1
加える。得られた混液を10〜15℃で1時間攪拌した
後濃縮し、残渣を酢酸エチル100#+/で洗浄する。 残渣に酢酸エチ”25[3g/及U7K 250 ml
 ’r7111.tり後、次酸水素ナトリウム水溶液で
pH7に調整し酢酸エチルで抽出する。水層をさらに酢
酸エチル200tutで抽出する。抽出液を合し、水1
50m/及び飽和塩化す)IJウム水溶液100阿Jで
洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥する。酢酸エチル
溶液全活性次処理した後濃縮して容積を約70m1にす
る。 析出物+p数取後酢酸エチw50mlで洗浄すると、7
−〔2−ヒドロキシイミノ−2−
[Methoxyphenyl) methyl ester, 3,4-dimethoxybenzyl ester, 4-
Aralkyl esters optionally having one or more suitable substituents such as hydroxy-3,4-ditertiary butylbenzyl esters, phenyl esters, tolyl esters, tertiary 7-tylphenyl esters, and aryl esters which may have one or more suitable substituents such as 4-chlorophenyl ester IV, xylyl ester, mesityl ester, cumenyl ester, preferably lower alkanoyloxy lower alkyl ester, trihalo lower Examples include alkyl esters, diphenyl lower alkyl esters, etc. Examples of alekanoyloxy groups include acetoxy, propionyloxy, butyleneoxy, hexanoyloxy, etc., and preferred examples include lower alkanoyloxy groups. Examples of the residue include halogens including chlorine, bromine, iodine, and fluorine. Particularly preferred examples of the definitions of the general formula clarified above for the target compound (1) are listed below. Preferred examples of R2 include halogen (more preferably bromine), and preferred examples of R2 include carbamoyloxy group, lower alkanoyloxy group (more preferably acetoxy group), lower alkyl group (more preferably di-lower alkyl group) Preferred examples of R3 include a tetrasilifrethio group (more preferably a 1H-tetrazolylthio group) or a thiadiazolylthio group substituted with a V-kyleamino lower alkyl group, diphenyl such as diphenylremethoxycarbonyl JV, diphenylethoxycarbonyl, etc. Each of them includes a lower alkoxycarbonyl group. Next, a method for producing the object compound of the present invention will be described. Method Compound (1) H and compound (11) are produced by reacting a nitrosating agent with a cell. Examples of the nitrosating agent include nitrous acid, potassium nitrite such as sodium nitrite, and potassium nitrite such as sodium nitrite.
Examples include aryl nitrite esters such as Nute/L/. This reaction consists of water, acetic acid, benzene, methylene chloride, tetrahydrofuran, methanol, and ethanol.
If necessary, the reaction is often carried out in a mixed solvent of these or other solvents that do not adversely affect the reaction. The reaction temperature is not particularly limited, but it is often carried out under cooling or at room temperature. Next, a method for producing the raw material compound of this invention will be explained. Compound cn>u, compound 4! +) or a reactive derivative thereof at the amino group or a salt thereof, compound (V)
Mojiku is produced by the action of reactive derivatives at its carboxyne group. As the reactive derivative at the amino group of compound (Ill), for example, compound (Ill)
Schiff's base (imino type) or its enamine type isomer, compound side) produced by the reaction of ll) with a carbonyl compound such as acetoacetate, and a nitrogenyl compound such as bis(trimethyfuresylyl)acetamide. The silyl derivative or compound II) produced by the reaction with 3
All those commonly used in amidation reactions, such as derivatives produced by reaction with phosphorus chloride, honugen, etc., are included. Examples of the salts of compound (III) include salts with organic acids or inorganic acids. In addition, examples of reactive derivatives at the carboxyl group of the compound include acid halides, acid anhydrides, active amides, active esters, etc., but particularly frequently used derivatives include acid bromides, acid chlorides, etc. Examples include acid halides such as This reaction is usually carried out in a solvent such as water, acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N,N-dimethylformamide, or other general organic solvents that do not adversely affect the reaction. These baths can also be used in combination. When compound (g) is used in the form of a free acid or a salt thereof in this reaction, it is advantageous to carry out the reaction in the presence of a conventional condensing agent such as N,N-dicyclohexyiv carbodiimide. The reaction may be carried out in the presence of a base. Although the reaction temperature is not particularly limited, it is usually carried out under cooling or at room temperature. The object compounds (1) of this invention are all new compounds, and when the compound (Vl) is reacted with the compound (W) by a conventional method, a compound (W) useful as an antibacterial substance can be obtained. Example 1 7-amino-3-(1-methyl-1H-tetrazole-
5-4t) thiomethyl-6-cephem-4 - force w
To a solution of 12.49 diphenylmethyl ester of fonic acid suspended in 200 mJ of dry tetrahydrofuran, 7.6 g of binu(tritylsilyl)acetamide was added, and the mixture was heated at -30''C.
Cool to Separately, diketene 2,5+1 was dissolved in 5 ml of dry methylene chloride, and a solution of 4.8 g of bromine dissolved in 3 ml of dry methylene chloride was added thereto at 130"C, then filtered at the same temperature and stirred for 6-0 minutes. A solvent containing oxo-4-promoptylino V filomide is obtained. This solution is added to the previously obtained tetrahydrofuran solution from -30 to -
After dropping at 20'C, the mixture is stirred at -20 to -10'C for 2 hours. -5, (7)thiomethyl-5-cenitrite)
A solution of 1.9 g of IJum dissolved in 4 ml of water was heated to O~7
When the resulting mixture was stirred at the same temperature for 1 hour, 7-(2-hydroxyimino-3-oxo-4-
Diphenylmethyl ester (syn isomer) of bromobutyramide]-6-(1-methyzv-1H-tetrazol-5-inoV]thiomethyl-rosefemu-4-carboxylic acid (syn isomer)=e to obtain a solution containing 'Fi'. Example 2 7-amino-ro-t'1,3.4-thiadiazole jV
A suspension of 225 mlK of dry tetrahydrofuran in 8.5!9 of the diphenylmethyl ester of vinyl(trimethylsilyl)acetamide-2-yl)thiomethyl-ro-cephem-4-force/V-poic acid was added to 25 mL of dry tetrahydrofuran. Cool to °C. On the other hand, 2.81 g of diketene was added to 6 g of dry methylene chloride, and a solution of 5.44 g of bromine dissolved in 2.5 g of dry methylene chloride was added dropwise at 25°C, followed by stirring at the same temperature for 30 minutes. 6-oxo-
A solution containing 4-glomoptylinonobromide is obtained. This solution was added dropwise to the previously obtained tetrahydrofuran solution at -25°C over 5 minutes, and then at the same temperature for 30 minutes.
Stir for a minute. Diphenyl of 7-(3-oxo-4-bromobutyramide J-3-(1,3.4-thiacyazol-2-yl]thiomethy)V-3-cephem-4-carboxylic acid thus obtained After adding 6 g of water to the mixed solution containing Remethyl Nter, a solution of 2.31 g of sodium nitrite dissolved in 6 L of water was added over 15 minutes while cooling with water. The mixed solution was stirred at the same temperature for 50 minutes. 7-(2-hydroxyimino-3
-oxo-4-bromobutyramide)-3-tl,5.
4-Thiadiazole-2-I/S]thiomethi)v
A solution containing -3-cephem-4-kaponic acid nosipheni IV methyl ether (syn isomer) is obtained. Example 3 11.0 g of diphenylmethylester Jv of 7-aminocephalosporanic acid, 2.4 M of diketene, 4.8 g of bromine and 1.91 g of sodium nitrite. When treated as in Examples 1 and 2, 7-(2- A solution containing hydroxyimino-oxo-4-gromoguchi IV amide) (the diphenylmethyl ester of cepharonuporanic acid) is obtained. Reference Example 1 7-(2-hydroxyimino-6- obtained in Example 1)
Oxo-4-bromobuty JV amide]-6-(1-methyl-1H-tetrazol-5-inoV]thiomethyl-6
-Cephem-4-force IV (diphenylation of bonic acid) Add 19 g of urea and stir at room temperature for 1.5 hours.The resulting reaction solution is concentrated, and the residue is dissolved in ethyl acetate/V2 [
Wash with ID ml. The ethyl acetate layer was then removed by decanting, and 400 ml of ethyl acetate and 2,10 ml of water were added to the residue.
The mixed solution was adjusted to pH 7 with an aqueous solution of sodium hydrogen suboxide, and extracted with ethyl acetate. Add water IV to ethyl acetate +
10 (Jprl×2). The ethyl acetate (V) extracts are combined, washed with water and a saturated chlorinated (IJ) aqueous solution, and then dried over magnesium sulfate. The solution is red-shrinked to a volume of 7 to 8 Jul, and then cooled to precipitate crystals. The crystals are collected, washed with ethyl acetate, and dried.
7-(2-hydroxyimino-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamide]-3-(1-methino V
-IH-tetrazonon-5-yl]thiomethyl-3-
Cephem-4-carciboxylic acid nocyphenylmethyl enutenone (syn isomer) 3.7 Obtains Q. 1, R, Spectrum (Nujol) 335[], 3260.filter 180.178D, 1705
.. 165D. 161[], 1520c1++ N, M, R, spectrum Ld6=DMSO, δ)11.
37(IH,s), 9.50tIH,d,, J=8Hz
l. 7.73-7.17tlQH,m), 6.9[]LIH
,s). 6.68t IH, +q), 5.92t 1t(, aa
, J=5°8Hz), 5.20(In, d, J=5az
34.25t 2H, ABq, J=1roH2), 3
.. 33t 3H. p], 3.75t 2H, broad PI]
Reference Example 7-(2-hydroxyimino-ro-
Oxo-4-bromobutyramide]-5-tl, 3.4
-Thiadiazo-l-2-I) thiomethyl-ro-cephemu-4-carboxylic acid nodiphenylmethyl ester (
The pH of the solution containing the syn isomer was adjusted to about 5 with an aqueous sodium hydrogen acid solution, and 2.12 g of the original thio
Add. The resulting mixture is stirred at 10-15° C. for 1 hour and then concentrated, and the residue is washed with ethyl acetate 100#+/-. Add ethyl acetate to the residue (25 [3 g/and 250 ml of U7K)
'r7111. After rinsing, the pH was adjusted to 7 with an aqueous sodium hydrogen hypooxide solution, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The aqueous layer is further extracted with 200 tut of ethyl acetate. Combine the extracts, add 1 part water
After washing with 100 AJ of a saturated aqueous solution of IJ chloride and drying with magnesium sulfate. After the ethyl acetate solution has been fully activated, it is concentrated to a volume of about 70 ml. After taking the precipitate + p and washing with 50 ml of ethyl acetate, 7
-[2-hydroxyimino-2-

【2−アミノチアゾ−
)V−4−イル】アセトアミド〕−3−t i、6.4
−チアジアゾール−2−イル)チオメチtv 3−セフ
ェム−4−カルボン酸のジフェニルメチルエヌテル(シ
ン異性体32.45g2−4る。 炉液を濃縮し、析出物を加数し、同一目的化合物0.2
gを得る。さらに同様にして炉液から同一目的化合物0
.29を得る。 ■、R,ヌベクトル(ヌジョー/l/)3400〜31
00.1755.1715.1645,160シ「1N
、M、R,スペクトzしくd6−DMSO,δ)9.5
0(2H、broad s ) 、 7.68〜6.9
5f 10H。 m)、6.92(IH,sl、6.72(IH,s)。 5.92[IH,da、J==5.8Hz )、5.2
4(IH。 d、J=5Hz)、435(:2H,AEq、J=13
Hz)。 3.6612H、brOads ) 参考例ろ 上記実施例6で得られた7−(2−ヒドロキシイミノ−
3−オキソ−4−ブロモブチルアミド]セファ0ヌポラ
ン酸のジフェニノンメチルエステル(シン異性体〕を含
有する溶液を飽和法酸水素ナトリウム水溶液で約pH6
とし、次いでこれにチオ尿素1.9fe加えて室温で1
.5時間攪拌する。 反応液を参考例1と同様に後処理すると、7−〔2−ヒ
ドロキシイミノ−2−+2−アミノチアゾール−4−イ
ル)アセトアミド〕セファロヌボラン酸のジフェニ)V
メチルエヌテル(シン14性体34.25gを得る。 ■、R6スペクトル(ヌジョール] 3350.3270.3180.1780.1715,
1655゜1610.1520m N、M、R,スペクトlしくd6−DMSO,δ〕11
.34(IH,s)、9.50(IH,d、J−8az
)。 7.1−7.64(10H,m)、6.94(IH,s
3゜6.7[]tIH,8)、5.82(IH,dd、
J==5.8Hz1.5.22(IH,d、J=5Hz
)、4.78(2a、ABq、r=13az)、3.6
0t2a。 ABq、、T=17Hz)、1.98(3I(,81出
願人 藤沢薬品工業株式会社
[2-aminothiazo-
)V-4-yl]acetamido]-3-t i, 6.4
-thiadiazol-2-yl)thiomethytv 3-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethylenthel (syn isomer 32.45 g2-4). Concentrate the furnace solution, add the precipitate, and obtain the same objective compound 0. .2
get g. Furthermore, in the same manner, 0 of the same objective compound was extracted from the furnace liquid.
.. Get 29. ■, R, Nuvector (Nugeot/l/) 3400-31
00.1755.1715.1645,160shi "1N
, M, R, spectrum d6-DMSO, δ) 9.5
0 (2H, broads), 7.68-6.9
5f 10H. m), 6.92 (IH, sl, 6.72 (IH, s). 5.92 [IH, da, J==5.8Hz), 5.2
4 (IH. d, J=5Hz), 435 (:2H, AEq, J=13
Hz). 3.6612H, brOads) Reference example 7-(2-hydroxyimino-
A solution containing diphenyone methyl ester (syn isomer) of 3-oxo-4-bromobutyramide]cephalonuporanic acid was diluted to pH 6 with a saturated aqueous sodium hydrogen chloride solution.
Then, 1.9 fe of thiourea was added to this and 1.9 fe of thiourea was added at room temperature.
.. Stir for 5 hours. When the reaction solution was post-treated in the same manner as in Reference Example 1, 7-[2-hydroxyimino-2-+2-aminothiazol-4-yl)acetamide]cephalonuboranic acid dipheny)V
Methyl entel (34.25 g of syn-14-mer is obtained. ■, R6 spectrum (nujol) 3350.3270.3180.1780.1715,
1655゜1610.1520m N, M, R, spectrum d6-DMSO, δ〕11
.. 34 (IH, s), 9.50 (IH, d, J-8az
). 7.1-7.64 (10H, m), 6.94 (IH, s
3゜6.7[]tIH,8), 5.82(IH,dd,
J = = 5.8Hz 1.5.22 (IH, d, J = 5Hz
), 4.78 (2a, ABq, r=13az), 3.6
0t2a. ABq,,T=17Hz), 1.98(3I(,81 Applicant Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 一般式 (式中、Xは酸残基、R2はアlレカノイルオキシ基、
力!レバモイルレオキシ基または適当な置換基を有して
いてもよい複素環チオ基、R3は保護された力lレボキ
シ基をそれぞれ意味する]で示される6、7−ジ置換−
3−セフェム−4−カルボン酸化合物。
[Claims] General formula (wherein, X is an acid residue, R2 is an alecanoyloxy group,
Power! a levamoylreoxy group or a heterocyclic thio group optionally having a suitable substituent, R3 means a protected levoxy group]
3-cephem-4-carboxylic acid compound.
JP12405184A 1984-06-15 1984-06-15 3,7-disubstituted-3-cephem-4-carboxylic acid compound Pending JPS6034977A (en)

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