JPS6035016B2 - サ−ミスタ・ボロメ−タ - Google Patents

サ−ミスタ・ボロメ−タ

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Publication number
JPS6035016B2
JPS6035016B2 JP8888879A JP8888879A JPS6035016B2 JP S6035016 B2 JPS6035016 B2 JP S6035016B2 JP 8888879 A JP8888879 A JP 8888879A JP 8888879 A JP8888879 A JP 8888879A JP S6035016 B2 JPS6035016 B2 JP S6035016B2
Authority
JP
Japan
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thermistor
bolometer
constant
thin film
resistance value
Prior art date
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Expired
Application number
JP8888879A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5612521A (en
Inventor
英夫 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Chino Corp
Original Assignee
Chino Works Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Chino Works Ltd filed Critical Chino Works Ltd
Priority to JP8888879A priority Critical patent/JPS6035016B2/ja
Publication of JPS5612521A publication Critical patent/JPS5612521A/ja
Publication of JPS6035016B2 publication Critical patent/JPS6035016B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/10Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry using electric radiation detectors
    • G01J5/20Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry using electric radiation detectors using resistors, thermistors or semiconductors sensitive to radiation, e.g. photoconductive devices

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Radiation Pyrometers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明の目的は以上のような欠点を除去し、比抵抗に制
限されることなく充分大きいB定数のサーミスタを使用
した、高感度のボーロメー夕を提供しようとするもので
ある。
以下、本発明の実施例を添付図面第1図〜第4図により
従釆例と対比しながら説明する。
まず、第1図、第2図により既存のサーミスタ・ボロメ
ータの基本構成について示す。
1はョウ化タリウム、臭化タリウム、ゲルマニウムなど
の赤外線透過窓である。
2は受光素子、3は補償素子で、抵抗値、B定数の一致
したサ−ミスタが使用される。
4と5はバイアス端子で、同圧、逆符号の電圧が印加さ
れる。
6は出力端子である。
第2図は2,3の素子を拡大した図で、7はサフアィャ
,セラミック,ガラスなどの絶縁本発明は高感度で低抵
抗の薄膜型サーミスタ・ボーロメータに関するものであ
る。放射温度計などに使用される赤外線検出器にボロメ
ータがあるが、この受光部には、一般に金属に比較して
抵抗温度係数のきわめて大きいサーミスタが使用される
なお、サーミスタの温度係数はB定数と呼ばれる定数で
ある。ボロメータの感度はB定数が大きいほど大きくな
るが、この比抵抗がB定数の指数関数にほぼ対応して大
きくなるため、受信回路の入力インピーダンス制限から
来るボロメータの抵抗値制限、応答時間制限などにより
膜厚上限が定められ、おのずから使用し得るB定数にも
上限が生じてしまつ。
基板で、この上にサーミスタ8が蒸着あるいはスパッタ
などの方法で形成され、さらにこの両端に電極9が形成
される。
aは平面図、bは側面図である。図中で電流は長さL方
向に流れる。次に本発明のサーミスタ・ボロメ−夕の受
光素子の基本構成を第3図により説明する。
第3図において1川ま下部電極であり、この上にサーミ
スタ8が形成される。
11は上部電極でサーミスタに効率良く赤外線が吸収さ
れるよう、赤外線に対して透明な材料であるゲルマニウ
ムなどを使用する。
あるいは、これを側都電極12と一体とし、金あるいは
白金などの金属にて形成し、サーミスタの上部にあたる
部分のみ黒化して÷同じく赤外線吸収が良好であるよう
にしてもよい。図中で電流は厚さ日方向に流れる。次に
ボロメータの赤外線検出作用について説明する。
外部から赤外線透過窓を通して入射した赤外線は、受光
素子2のサーミスタ受光面にて熱に変換され、サーミス
タ8の温度を上げる。
この時、サーミスタの抵抗値は−B/T2に従って△R
aだけ小さくなる。第4図に示すように、ボロメータの
受光素子2、補償素子3に電圧Eが印加されていたとす
ると、出力端子13には次式に従ってVが発生する。V
=霊曇=会憲章三叢E …イ11 ここでRa,Rcはそれぞれ受光素子、補償素子の抵抗
値で、温度が同じであればRa:RCである。
既存のボロメータの場合、受光素子の抵抗値Raは第2
図で見るように次式で表わされる。L
...・・・(2)Ra=P両日視野角
の対称性のため、一般にW;Lであるから、Raを小さ
くするためには日を大きくしなければならない。
しかし、サーミスタ薄膜をスパッタなどの方法で形成し
た場合、膜が厚くなると急速に内部応力が大きくなり、
膜剥離などの原因になる。また応答性が悪くなり、薄膜
で形成したことの利点が失われてしまう。一方、感度を
上げるためにはB定数を大きくしなければならないが、
比抵抗pとB定数の間には次式のような関係があり、p
=p畑p為;p。
eXp(亭−者)...‐‐.‘3’B定数をわずかに
大きくして感度を良くしようとすると、抵抗値がさわめ
て大きくなり、膜厚のみによる抵抗値制御では、多くの
問題を生ずることになってしまう。
しかしながら本発明による素子の場合、抵抗値Raは次
式日 ...・・・{4
1Ra=P丙tのように表わされるため、抵抗値を下げ
るためには受光面積を大きくするか、膜厚日を薄くすれ
ば良いわけで、B定数のきわめて大きい材料を使用して
も、前述のような問題は生じない。
表1にこの一例を示す。既存の素子の仕様で使用し得る
材料の上限B定数が300の星度であっても、本発明の
素子では700晩華度のB定数の素子を使用し得る。表
1pのニ5×10‐3Q仇 T=(25十273.15)K WニLニ0,5肋ニ5×10‐2仇 日ニームmニIXIO−4仇 Ra 以上詳述したように本発明は、サーミス夕薄膜の厚さ方
向に電流が流れるように形成したサーミスタ・ボロメー
タである。
従って、従来のものにおいて抵抗値を下げるには膜厚を
厚くしなければならず、又、B定数を大きくすると急撃
に抵抗値が大きくなってしまうのに比較して、本発明で
は、膜厚を薄くするが受光面積を大きくするかすれば容
易に抵抗値を下げることができ、又、B定数を大きくし
たとしても、極端に抵抗値が大きくなってしまうことが
ない。
つまり、B定数の大きいサーミスタを使用しても抵抗値
は大きくなってしまうことはなく、実用上すぐれた高感
度のサーミスタを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図はそれぞれ従来のサーミスタ・ボロメー
タの−部切欠斜視図、一部拡大構成図、第3図は本発明
の一実施を示すサーミスタボロメータの一部拡大構成図
、第4図は測定回路である。 2,3・・・…素子、7・…・・絶縁基板、8・・・…
サーミスタ、10・・・・・・下部電極、11・・・・
・・上部電極。 第1図第2図 第3図 第4図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ボロメータの受光部に使用されるサーミスタにおい
    て、サフアイヤ,セラミツク,ガラスのような絶縁基板
    上に下部電極を設け、この下部電極上にサーミスタ薄膜
    を設け、このサーミスタ薄膜上に上部電極を設け、サー
    ミスタ薄膜の膜厚方向に電流が流れるようにしたことを
    特徴とするサーミスタ・ボロメータ。 2 上部電極が赤外線に対して透明であることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載のサーミスタ・ボロメー
    タ。 3 上部電極が赤外線に対して黒体であることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載のサーミスタ・ボロメー
    タ。
JP8888879A 1979-07-13 1979-07-13 サ−ミスタ・ボロメ−タ Expired JPS6035016B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8888879A JPS6035016B2 (ja) 1979-07-13 1979-07-13 サ−ミスタ・ボロメ−タ

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JP8888879A JPS6035016B2 (ja) 1979-07-13 1979-07-13 サ−ミスタ・ボロメ−タ

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Publication Number Publication Date
JPS5612521A JPS5612521A (en) 1981-02-06
JPS6035016B2 true JPS6035016B2 (ja) 1985-08-12

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ID=13955503

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JP8888879A Expired JPS6035016B2 (ja) 1979-07-13 1979-07-13 サ−ミスタ・ボロメ−タ

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58149201A (ja) * 1982-02-08 1983-09-05 北海製罐株式会社 缶蓋の箱詰方法及びその装置
US6744346B1 (en) 1998-02-27 2004-06-01 Micron Technology, Inc. Electronic device workpieces, methods of semiconductor processing and methods of sensing temperature of an electronic device workpiece
US6967497B1 (en) 1998-08-21 2005-11-22 Micron Technology, Inc. Wafer processing apparatuses and electronic device workpiece processing apparatuses
US6229322B1 (en) 1998-08-21 2001-05-08 Micron Technology, Inc. Electronic device workpiece processing apparatus and method of communicating signals within an electronic device workpiece processing apparatus

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JPS5612521A (en) 1981-02-06

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