JPS603612B2 - ガス検知素子 - Google Patents
ガス検知素子Info
- Publication number
- JPS603612B2 JPS603612B2 JP53152839A JP15283978A JPS603612B2 JP S603612 B2 JPS603612 B2 JP S603612B2 JP 53152839 A JP53152839 A JP 53152839A JP 15283978 A JP15283978 A JP 15283978A JP S603612 B2 JPS603612 B2 JP S603612B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- layer
- insulating layer
- sensitive
- adsorption
- Prior art date
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- Expired
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- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はガス検知素子に関するものである。
一般に、ガス検知素子は、Sn02,Zn○,シーFe
203のようなN型半導体を主成分として構成されてい
る。このようなガス検知素子は、可燃性ガスに接触する
と素子表面で還元作用が起こって鋭敏な電気抵抗の変化
が起こるため、それによって可燃性ガスの存在を検知す
るようになっている。ところが、このようなガス検知素
子は、被検知雰囲気中の湿度(水分)に対して可燃性ガ
スを同様に感応し、湿度の変化によって大きな影響(例
えばガス検知感度の低下)を受けるという問題を有して
いた。このようなガス検知素子のうち、y−Fe203
を主成分とする素子は、湿度の影響が短時間の間は少な
いものの、長時間になるとやはりかなり影響を受けてい
た。すなわち、従来のガス検知素子は殆んどが湿度の影
響を受けるものであった。したがって、湿度の影響を受
けないガス検知素子の実現が強く望まれていた。この発
明は、このような事情に鑑みなされたもので、金属酸化
物半導体からなるガス感応層と、ガス透過性をもつ無機
材料からなり前記ガス感応層の表面に密着形成された電
気絶縁層と、ガス透過性および水分吸着性をもつ無機材
料からなり前記電気絶縁層の表面に密着形成された吸着
層とを備え、高温で使用されることを特徴とするガス検
知素子をその要旨とするものである。
203のようなN型半導体を主成分として構成されてい
る。このようなガス検知素子は、可燃性ガスに接触する
と素子表面で還元作用が起こって鋭敏な電気抵抗の変化
が起こるため、それによって可燃性ガスの存在を検知す
るようになっている。ところが、このようなガス検知素
子は、被検知雰囲気中の湿度(水分)に対して可燃性ガ
スを同様に感応し、湿度の変化によって大きな影響(例
えばガス検知感度の低下)を受けるという問題を有して
いた。このようなガス検知素子のうち、y−Fe203
を主成分とする素子は、湿度の影響が短時間の間は少な
いものの、長時間になるとやはりかなり影響を受けてい
た。すなわち、従来のガス検知素子は殆んどが湿度の影
響を受けるものであった。したがって、湿度の影響を受
けないガス検知素子の実現が強く望まれていた。この発
明は、このような事情に鑑みなされたもので、金属酸化
物半導体からなるガス感応層と、ガス透過性をもつ無機
材料からなり前記ガス感応層の表面に密着形成された電
気絶縁層と、ガス透過性および水分吸着性をもつ無機材
料からなり前記電気絶縁層の表面に密着形成された吸着
層とを備え、高温で使用されることを特徴とするガス検
知素子をその要旨とするものである。
すなわち、このガス検知素子は、水分吸着層(以下、「
吸着層」と略す)によって、可燃性ガスに帯同する水分
(被検知雰囲気中のもの)を吸着して保持し、可燃性ガ
スのみを感応層に到達させるようにするため、被検知雰
囲気中の湿度の影響を受けないのである。
吸着層」と略す)によって、可燃性ガスに帯同する水分
(被検知雰囲気中のもの)を吸着して保持し、可燃性ガ
スのみを感応層に到達させるようにするため、被検知雰
囲気中の湿度の影響を受けないのである。
つぎに、この発明を詳しく説明する。
この発明のガス検知素子は、ガス感応層と、このガス感
応層の表面に密着形成された電気絶縁層と、この電気絶
縁層の表面に密着形成された吸着層の3層構造となって
いる。
応層の表面に密着形成された電気絶縁層と、この電気絶
縁層の表面に密着形成された吸着層の3層構造となって
いる。
ガス感応層は、Sn02,ZnO,y−Fe2Q等の金
属酸化物半導体を主成分とするガス感応体で構成されて
おり、電気絶縁層は、例えば多孔質皮膜状になっていて
、Si02,AI203,Mg○等の電気絶縁性が優れ
ているガス透過性をもつ無機材料で構成されている。
属酸化物半導体を主成分とするガス感応体で構成されて
おり、電気絶縁層は、例えば多孔質皮膜状になっていて
、Si02,AI203,Mg○等の電気絶縁性が優れ
ているガス透過性をもつ無機材料で構成されている。
この電気絶縁層は、吸着層に水分が吸着されると吸着層
の電気抵抗が変化するため、それによってガス感応層の
電気抵抗が影響を受けないように、吸着層とガス感応層
とを電気的に遮断するために設けられているものである
。また、吸着層も例えば多孔質皮膜状になっており、N
a2〇‐nSi〇2,K2〇・nH2〇,Li2〇・n
H2〇,Sn02,LiC1,Zn○−V205一Li
20,K20一Fe203,Na20−Fe203,M
gCr204−Ti02,Si02−B203,Zの2
,m02等のガス透過性および水分吸着性をもつ無機材
料で構成されている。ガス感応層を構成する金属酸化物
半導体は、高温で化学吸着を起こし良好な感度を示すた
め、この発明のガス検知素子は高温で使用される。
の電気抵抗が変化するため、それによってガス感応層の
電気抵抗が影響を受けないように、吸着層とガス感応層
とを電気的に遮断するために設けられているものである
。また、吸着層も例えば多孔質皮膜状になっており、N
a2〇‐nSi〇2,K2〇・nH2〇,Li2〇・n
H2〇,Sn02,LiC1,Zn○−V205一Li
20,K20一Fe203,Na20−Fe203,M
gCr204−Ti02,Si02−B203,Zの2
,m02等のガス透過性および水分吸着性をもつ無機材
料で構成されている。ガス感応層を構成する金属酸化物
半導体は、高温で化学吸着を起こし良好な感度を示すた
め、この発明のガス検知素子は高温で使用される。
したがって、前記電気絶縁層や吸着層を構成する材料は
そのような高温に耐える材料、すなわち無機材料でなけ
ればならないのである。このような3層構造のガス検知
素子は、例えばつぎのようにして製造される。
そのような高温に耐える材料、すなわち無機材料でなけ
ればならないのである。このような3層構造のガス検知
素子は、例えばつぎのようにして製造される。
すなわち、まずガス感応層構成材料を焼結してガス感応
層をつくり、このガス感応層に対して電気絶縁層構成材
料を用いてスパッタリングを行い、ガス感応層上に多孔
質皮膜(電気絶縁層)を形成して被覆する。つぎにこの
電気絶縁層上に、Zn○−V205−Li20,K20
一Fe203,Na20一Fe203,MgCて204
一Ti02,Si02−B203,Zr02,Tho2
等の吸着層構成材料微粉末の分散液を塗布(吹付け、浸
猿等)して被覆し、3層構造となった状態で最終焼結を
行う。その結果、3層構造のガス検知素子が製造される
。また、このようにして電気絶縁層上に吸着層を形成す
るのではなく、吸着層構成材料のうち、特にSn02を
用いてCVD(chemical vaperdepo
sitjon)によって電気絶縁層上に吸着層を形成す
ることもできる。また、LiCIは焼結によって電気絶
縁層に一体化させなくても、バィンダを用い電気絶縁層
上に塗布することによって吸着層を形成することができ
る。このようにしてガス検知素子を製造する場合におい
て、ガス感応層に電極が接続され、この電極が電気絶縁
層および吸着層を通って素子の外部に引き出されるが、
この電極は吸着層(水分吸着によってそれ自身の電気抵
抗が変化する)と絶縁しておくことが必要である。また
、可燃性ガスは、電気絶縁層および吸着層に多少吸着さ
れるため、それらの厚みをあまり大きくすると可燃性ガ
スが初期濃度よりもかなり低し・濃度でガス感応層に到
達するようになり好ましくない。例えば電気絶縁層の厚
さの異なる2層構造のガス検知素子をつくり、その電気
絶縁層の厚さとガス感度の関係を調べたところ、電気絶
縁層の厚さが大になる程ガス感度が小さくなっていた。
これについてより詳しく述べると、Sn02粉末を用い
、これを、白金電極を埋め込んで円筒状に成形し空気中
で焼成してガス感応体(ガス感応層)をつくった。つぎ
に、これを、種々の濃度の微粒子ケイ酸(コロィダルシ
リカを乾燥し焼成して粉砕したもの)のポリエチレング
リコール分散液に浸潰して乾燥したのち再度焼成して種
々の膜厚の電気絶縁皮膜をもつ2層構造のガス検知素子
を製造した。つぎに、このようにして得られたガス検知
素子について、空気中の素子抵抗値(Rair)とィソ
ブタン濃度200の血の雰囲気中の素子抵抗値(Rga
s)を下記の測定条件で測定した。
層をつくり、このガス感応層に対して電気絶縁層構成材
料を用いてスパッタリングを行い、ガス感応層上に多孔
質皮膜(電気絶縁層)を形成して被覆する。つぎにこの
電気絶縁層上に、Zn○−V205−Li20,K20
一Fe203,Na20一Fe203,MgCて204
一Ti02,Si02−B203,Zr02,Tho2
等の吸着層構成材料微粉末の分散液を塗布(吹付け、浸
猿等)して被覆し、3層構造となった状態で最終焼結を
行う。その結果、3層構造のガス検知素子が製造される
。また、このようにして電気絶縁層上に吸着層を形成す
るのではなく、吸着層構成材料のうち、特にSn02を
用いてCVD(chemical vaperdepo
sitjon)によって電気絶縁層上に吸着層を形成す
ることもできる。また、LiCIは焼結によって電気絶
縁層に一体化させなくても、バィンダを用い電気絶縁層
上に塗布することによって吸着層を形成することができ
る。このようにしてガス検知素子を製造する場合におい
て、ガス感応層に電極が接続され、この電極が電気絶縁
層および吸着層を通って素子の外部に引き出されるが、
この電極は吸着層(水分吸着によってそれ自身の電気抵
抗が変化する)と絶縁しておくことが必要である。また
、可燃性ガスは、電気絶縁層および吸着層に多少吸着さ
れるため、それらの厚みをあまり大きくすると可燃性ガ
スが初期濃度よりもかなり低し・濃度でガス感応層に到
達するようになり好ましくない。例えば電気絶縁層の厚
さの異なる2層構造のガス検知素子をつくり、その電気
絶縁層の厚さとガス感度の関係を調べたところ、電気絶
縁層の厚さが大になる程ガス感度が小さくなっていた。
これについてより詳しく述べると、Sn02粉末を用い
、これを、白金電極を埋め込んで円筒状に成形し空気中
で焼成してガス感応体(ガス感応層)をつくった。つぎ
に、これを、種々の濃度の微粒子ケイ酸(コロィダルシ
リカを乾燥し焼成して粉砕したもの)のポリエチレング
リコール分散液に浸潰して乾燥したのち再度焼成して種
々の膜厚の電気絶縁皮膜をもつ2層構造のガス検知素子
を製造した。つぎに、このようにして得られたガス検知
素子について、空気中の素子抵抗値(Rair)とィソ
ブタン濃度200の血の雰囲気中の素子抵抗値(Rga
s)を下記の測定条件で測定した。
(測定条件)素子温度 : 40000
周囲湿度 : Dp=13℃
素子通電電流 :lmA
その結果を第1図に示す。
第1図において、曲線Aは空気中の素子抵抗値(Rai
r)曲線、曲線Bはガス中の素子抵抗値(Rgas)曲
線である。図面から明らかなように電気絶縁皮膜の膜厚
が厚くなるとRairとR鞍sの差が小さくなりガス感
度が下がることがわかる。以上のように、この発明のガ
ス検知素子は、ガス感応層と電気絶縁層と吸着層の3層
構造となっていて、可燃性ガスに帯同する水分が吸着層
によって吸着されてガスのみがガス感応層に到達するよ
うになっているため、被検知雰囲気中の湿度の影響を受
けることがない。
r)曲線、曲線Bはガス中の素子抵抗値(Rgas)曲
線である。図面から明らかなように電気絶縁皮膜の膜厚
が厚くなるとRairとR鞍sの差が小さくなりガス感
度が下がることがわかる。以上のように、この発明のガ
ス検知素子は、ガス感応層と電気絶縁層と吸着層の3層
構造となっていて、可燃性ガスに帯同する水分が吸着層
によって吸着されてガスのみがガス感応層に到達するよ
うになっているため、被検知雰囲気中の湿度の影響を受
けることがない。
つぎに、実施例について説明する。
金属スズを濃硝酸(69%)中に添加して白色沈殿をつ
くり、これを仮焼(600午o)したのち粉砕してSの
2粉末をつくった。
くり、これを仮焼(600午o)したのち粉砕してSの
2粉末をつくった。
つぎに、このSnQ粉末を「白金電極を埋め込んで円筒
状に成形(・寸法20×2肋)し、ついで空気中で10
00℃にて焼成し円筒状のガス感応体をつくった。この
ガス感応体に、SiQをスパッタリングして電気絶縁膜
をつくった。他方、Na20・Si02を充分粉砕して
微粒子状にしたものを、ポリエチレングリコールを添加
したアルコール溶液中に分散して分散液をつくった。つ
ぎに、この分散液に電気絶縁膜を形成したガス感応体を
浸潰し、ついで引き上げて乾燥したのち再び焼成して目
的とする3層構造のガス検知素子を得た。このようにし
て得られたガス検知素子について、上記のSn02粉末
を円筒状に成形して焼成したガス感応体(従来のガス検
知素子に相当する)を比較例として対照しながら空気中
の素子抵抗値(Rair)とィソプタン濃度200の岬
雰囲気中の素子抵抗値(R鱗s)を下記の測定条件で測
定した。
状に成形(・寸法20×2肋)し、ついで空気中で10
00℃にて焼成し円筒状のガス感応体をつくった。この
ガス感応体に、SiQをスパッタリングして電気絶縁膜
をつくった。他方、Na20・Si02を充分粉砕して
微粒子状にしたものを、ポリエチレングリコールを添加
したアルコール溶液中に分散して分散液をつくった。つ
ぎに、この分散液に電気絶縁膜を形成したガス感応体を
浸潰し、ついで引き上げて乾燥したのち再び焼成して目
的とする3層構造のガス検知素子を得た。このようにし
て得られたガス検知素子について、上記のSn02粉末
を円筒状に成形して焼成したガス感応体(従来のガス検
知素子に相当する)を比較例として対照しながら空気中
の素子抵抗値(Rair)とィソプタン濃度200の岬
雰囲気中の素子抵抗値(R鱗s)を下記の測定条件で測
定した。
(漁り定条件)素子温度 : 400o0
周囲湿度 : Dp=1チ○
素子透露電流 :lmA
その結果を第2図に示す。
第2図において、曲線Caは実施例の空気中の素子抵抗
値曲線、曲線Cgは実施例のガス中の素子抵抗曲線、曲
線Daは比較例の空気中の素子抵抗曲線、曲線Dgは比
較例のガス中の素子抵抗曲線である。第2図から明らか
なように、実施例のガス検知素子は湿度の影響を殆んど
受けないことがわかる。
値曲線、曲線Cgは実施例のガス中の素子抵抗曲線、曲
線Daは比較例の空気中の素子抵抗曲線、曲線Dgは比
較例のガス中の素子抵抗曲線である。第2図から明らか
なように、実施例のガス検知素子は湿度の影響を殆んど
受けないことがわかる。
第1図は電気絶縁層の厚さとガス感度の関係を説明する
説明図、第2図はこの発明の一実施例の効果を説明する
ための湿度−素子抵抗線図である。 第1図 第2図
説明図、第2図はこの発明の一実施例の効果を説明する
ための湿度−素子抵抗線図である。 第1図 第2図
Claims (1)
- 1 金属酸化物半導体からなるガス感応層と、ガス透過
性をもつ無機材料からなり前記ガス感応層の表面に密着
形成された電気絶縁層と、ガス透過性および水分吸着性
をもつ無機材料からなり前記電気絶縁層の表面に密着形
成された水分吸着層とを備え、高温で使用されることを
特徴とするガス検知素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53152839A JPS603612B2 (ja) | 1978-12-08 | 1978-12-08 | ガス検知素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53152839A JPS603612B2 (ja) | 1978-12-08 | 1978-12-08 | ガス検知素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5578236A JPS5578236A (en) | 1980-06-12 |
| JPS603612B2 true JPS603612B2 (ja) | 1985-01-29 |
Family
ID=15549251
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53152839A Expired JPS603612B2 (ja) | 1978-12-08 | 1978-12-08 | ガス検知素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS603612B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6017813A (ja) * | 1983-07-07 | 1985-01-29 | 近畿電機株式会社 | プラスチツク製碍子の漏電防止方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5999343A (ja) * | 1982-11-30 | 1984-06-08 | Toshiba Corp | ガス検知素子 |
| WO2026018550A1 (ja) * | 2024-07-19 | 2026-01-22 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | ガス検出装置及びガス検出方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5435757Y2 (ja) * | 1973-06-09 | 1979-10-30 | ||
| JPS51114087U (ja) * | 1975-03-13 | 1976-09-16 |
-
1978
- 1978-12-08 JP JP53152839A patent/JPS603612B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6017813A (ja) * | 1983-07-07 | 1985-01-29 | 近畿電機株式会社 | プラスチツク製碍子の漏電防止方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5578236A (en) | 1980-06-12 |
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