JPS603717B2 - 電荷転送装置 - Google Patents

電荷転送装置

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JPS603717B2
JPS603717B2 JP7013177A JP7013177A JPS603717B2 JP S603717 B2 JPS603717 B2 JP S603717B2 JP 7013177 A JP7013177 A JP 7013177A JP 7013177 A JP7013177 A JP 7013177A JP S603717 B2 JPS603717 B2 JP S603717B2
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JP
Japan
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charge transfer
charge
floating diffusion
reset transistor
gate
Prior art date
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Expired
Application number
JP7013177A
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English (en)
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JPS544545A (en
Inventor
保雄 石原
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NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電荷転送装置に関するもので、詳しくは「電荷
転送シフトレジスタの出力回路構成に関するものである
電荷転送装置は、高い周波数で駆動すると、信号電荷
が有限な時間に転送されることに起因する転送効率の劣
化が箸るしくなることが知られている。また電荷転送装
置はMOS容量素子構造のため、駆動周波数の増加に伴
なし、駆動源での電力消費が増大するので好ましくない
。かかる欠点を除去するため、電荷転送シフトレジスタ
を並列に配置してそれぞれの電荷転送レジスタ(電荷転
送路)を異る位相の転送パルスで駆動することにより、
実動的な駆動周波数を増大させる方法が提案されている
。この方法はマルチプレックス方法と呼ばれ、MOSダ
イナミックシフトレジスタ、CCD一次元イメージセン
サにも応用されていることは周知の事実である。
しかし従来提案されているマルチプレックス電荷転送シ
フトレジスタでは駆動パルスの他に電荷転送路の数の倍
数の周波数をもつリセットパルスを必要とし外部回路が
複雑になる欠点があった。
本発明はかかる欠点を除去せしめた電荷転送装置を提供
することにある。本発明によれば、二つの電荷転送路と
、該転送路を同一の電荷転送電極群によって信号電荷を
転送させる手段と、単一の浮遊拡散電荷検出手段を有し
、該浮遊拡散の電位を信号検出ごとに基準電位に設定す
るりセットトランジスタを有する電荷転送装置において
、前記転送路の一方の電荷転送最終電極に印加する駆動
パルスを、前記リセットトランジスタの一つのゲートに
、他方の電荷転送路の最終電極に印加する駆動パルスを
、リセットトランジスタのもう一つのゲートに接続し、
前記リセットトランジスタを前記二つの駆動パルスの論
理和でスイッチングする手段を備えたことを特徴とする
電荷転送装置が得られる。
該本発明によれば外部回路が簡単で端子の少ない、電荷
転送装置を実現することができる。以下本発明について
図面を用い詳細に説明する。
第1図は本発明の一実施例である2相駆動電荷転送シフ
トレジスタの出力部近傍の平面図を模式的に示した図で
ある。
同図において11,12は電荷転送路13,13′,1
4,14′およびI5,15′,16,16′はそれぞ
れ電荷転送路11,12のシフトレジスタを構成する電
荷転送電極群であり、端子17,18,19,20は電
極群を駆動する駆動パルス端子である。転送電極群は内
部金属配線を介してそれぞれ対応する端子17,18,
19,20‘こ接続されている。転送路11,12をマ
ルチプレックス転送するため、転送路11,12の位相
を入れかえてあり、また端子17,19、および18,
2川まそれぞれ共通に接続し、二相の駆動パルスが印加
される。21は出力ゲートで電荷転送最終電極14′,
16′のパルスの立下りに信号電荷が浮遊拡散層22へ
と転送されるよう直流バイアスされており転送路11,
12に共通に設けられている。
22は電荷検出のための浮遊拡散層で半導体基板との間
にp−n接合が形成されている。
浮遊拡散層22は信号検出ごとに基準電位に設定するた
めのljセットトランジスタ23が接続されている。浮
遊拡散層の電位変化は同一基板内に設けられたドレイン
25、ソース26で構成される増中用トランジスタ36
のゲート24で検出し、ソースには負荷抵抗27を接続
しソースホロワーの出力として端子26から外部に取り
出される。リセットトランジスタ23は2入力トランジ
スタで構成されている。
一方の入力28は転送最終電極14′に印加する駆動パ
ルス端子18に接続されており、他の一方の入力29は
転送最終電極16′に印加する駆動パルス端子19に接
続されている。第2図は第1図に示した一実施例の電荷
転送電極群A−A′の断面を示したものである。
各電極群は半導体基板、30の主表面に例えば二酸化ケ
イ素のような絶縁物31を介して形成されている。また
各電極群15〜16′は一つの電極下が一つの領域15
aと16b、16aと16b、・・・・・・のように分
かれており、各電極は電荷の転送方向性をつけるため、
二つの領域に酸化膜の厚さに差をつけたり基板不純物濃
度を変化させたり、基板に反対の導電性をもつ不純物を
ドーピングしたりした構造になっている。さらに本発明
では各電極群における二つの領域の電位分布が、駆動パ
ルスの低レベル、高レベルでも電位差をもつように構成
されている。これは例えば埋込みチャネルCCDと呼ば
れる構造で第2図に示す電極群の一つの領域15a,1
6a,15a′,16a′にチャネル領域と反対の導電
性をもつ不純物をドーピングしたり、また表面チャネル
と呼ばれる構造で、第2図に示す電極群の一つの領域1
5b,16b,15b′.16b′に基板と反対の導電
性をもつ不純物をドーピングすることで成しとげられる
。第3図は第1図に示すN−チャネルデバイスの実施例
を説明する各波形のタイムチャートである。同図におい
てクロツク32は端子17,19に、クロック33は端
子18,2Q‘こ印加される二相の電荷転送パルスであ
る。また波形34は浮遊拡散層又はソースホロワの出力
端子26の電位変化を示している。時刻tlにおいて各
転送路の信号電荷はクロツク波形32が高レベルである
ため、クロック32が供給されている端子】7,19に
接続している電極群13,13′,16,16′下に保
持される。
この時リセットトランジスタ23は入力ゲート29にパ
ルスが印加されているためトランジスタ23が導適状態
となり浮遊拡散層22がリセットドレィン35の電位に
設定される。時刻t2でクロツク32が低レベルになる
とりセットトランジスタ23は非導通となり浮遊拡散層
22は浮遊状態になる。同時に転送路12の最終電極1
6′のクロックも低レベルになるため信号電荷は出力ゲ
ート21下を通って浮遊状態にある拡散層22へ転送さ
れ浮遊拡散層の電位を変化させる。この電位変化を増中
用トランジスタ36のゲート24で検出しインピーダン
ス変換された出力が端子26から取り出される。時刻t
3ではクロツク32,33共に低レベルにあるが、前に
述べたようにゲート電圧が低レベルでも一つの電極下に
は電位差が形成されていることから信号電荷の蓄積が可
能であり、この時刻でも信号電荷はtl時と変らず13
,13′,16直下に存在する。
時刻t4ではこんどは、クロツク33が高レベルとなり
信号電荷はクロック33が供給されている端子18,2
0に接続している電極14,14′,15,15に転送
される。t4では同時にリセツトトランジスタ23の入
力ゲート28にもパルス33が印加されるためリセット
トランジス外ま導適状態になり再び浮遊拡散層22の電
位はリセットドレィン35の電位に設定される。さらに
時刻t5でなクロック33は低レベルになりリセットト
ラソジス外ま非導通となり、拡散層22は再び浮遊状態
になる。同時に転送路11の最終電極下に存在していた
信号電荷はクロックが低レベル変化したため出力ゲート
21を通って浮遊状態にある拡散領域22へ転送され浮
遊拡散層22の電位を変化させる。このような動作をく
り返しながらt2では転送路12から、t5では転送路
11から、と二つの転送路から交互に単一の浮遊拡散層
からなる信号電荷検出器で検出される。
このように本発明では二相クロツクパルスが互いに低レ
ベル期間をもつパルスを用い2入力リセットトランジス
タに接続することによりリセツトパルスを必要としない
電荷転送装置が得られる。
本発明の実施例ではシフトレジスタとして説明したが、
イメージセンサのシフトレジスタとして同様に成しとげ
られることは明白である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す2列の転送路をもつマ
ルチプレックス動作シフトレジスタの平面図を漠式的に
示した図「第2図は「第1図に示す電荷転送電極のA−
A′における断面を示す図、第3図は、第1図の実施例
を示すための各端子の波形を示す図である。 図において11,12は電荷転送路、13,14,15
,16,13′,14′,15′,16′は電荷転送電
極21は出力ゲート電極22は浮遊拡散領域、23は2
入力リセットトランジスタ、36は増中用トランジスタ
、30は半導体基板、31は絶縁層、32,33はクロ
ックパルス、34は出力波形を示す。鼻筈′図※z図 塔3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 二つの電荷転送路と、該転送路の終端に設けられた
    単一の浮遊拡散電荷検出手段を有し、前記浮遊拡散層の
    電位を信号検出するごとに基準電位に設定するリセツト
    トランジスタをもつ電荷転送装置において、前記転送路
    の一方の電荷転送最終電極に印加する駆動パルスを、前
    記リセツトトランジスタの一つのゲートに、他方の電荷
    転送路の電荷最終電極に印加する駆動パルスを、リセツ
    トトランジスタのもう一つのゲートに接続し、前記リセ
    ツトトランジスタを前記二つの駆動パルスの論理和でス
    イツチングする手段を備えたことを特徴とする電荷転送
    装置。
JP7013177A 1977-06-13 1977-06-13 電荷転送装置 Expired JPS603717B2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP7013177A JPS603717B2 (ja) 1977-06-13 1977-06-13 電荷転送装置

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JP7013177A JPS603717B2 (ja) 1977-06-13 1977-06-13 電荷転送装置

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Publication Number Publication Date
JPS544545A JPS544545A (en) 1979-01-13
JPS603717B2 true JPS603717B2 (ja) 1985-01-30

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JP7013177A Expired JPS603717B2 (ja) 1977-06-13 1977-06-13 電荷転送装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4477803A (en) * 1981-11-02 1984-10-16 Hewlett-Packard Company Stripchart recorder intensity enhancement
JPS58202685A (ja) * 1982-05-21 1983-11-25 Sony Corp 信号合成用電荷転送装置

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JPS544545A (en) 1979-01-13

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