JPS6037626B2 - レ−ザ管におけるレ−ザ光導入、導出用窓 - Google Patents
レ−ザ管におけるレ−ザ光導入、導出用窓Info
- Publication number
- JPS6037626B2 JPS6037626B2 JP5953682A JP5953682A JPS6037626B2 JP S6037626 B2 JPS6037626 B2 JP S6037626B2 JP 5953682 A JP5953682 A JP 5953682A JP 5953682 A JP5953682 A JP 5953682A JP S6037626 B2 JPS6037626 B2 JP S6037626B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- inner cylinder
- optical system
- attached
- laser light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/034—Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Lasers (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はしーザ装置においてレーザ管の端部に取付け
られるレーザ光導入、導出用の窓に関する。
られるレーザ光導入、導出用の窓に関する。
レーザ管は内部にレーザ煤質を封入するために、また励
起用レーザ光をレーザ管内導入しもし〈はそこで発生し
たレーザ光を取出すために、その端部をレーザ光導入、
導出用の透過窓でふさいでいる。
起用レーザ光をレーザ管内導入しもし〈はそこで発生し
たレーザ光を取出すために、その端部をレーザ光導入、
導出用の透過窓でふさいでいる。
この透過窓は内部銭形のように共振器を構成するミラー
自身で兼用したものもあるが、それ以外の形式のもので
は損失を最小限におさえるためKCIなどの結晶板で作
られている。一方、レーザ管に封入するしーザ媒質は発
振を起こさせるために一定の低い温度に保たなければな
らない。
自身で兼用したものもあるが、それ以外の形式のもので
は損失を最小限におさえるためKCIなどの結晶板で作
られている。一方、レーザ管に封入するしーザ媒質は発
振を起こさせるために一定の低い温度に保たなければな
らない。
この温度はしーザ煤質によっては極低温となることもあ
る。例えば10.6rmの波長のC02レーザ光を日2
に当てて譲導ラマン効果を生じさせて16仏mのレーザ
光を取出すラマンレーザ装置においてはしーザ煤質であ
る日2の温度を−173℃もの極低温にしなければなら
ない。ところが、上述のKCIなどの結晶板は低温に弱
く、このような−17300もの極低温にさらされると
割れてしまい使いものにならなくなってしまつ。
る。例えば10.6rmの波長のC02レーザ光を日2
に当てて譲導ラマン効果を生じさせて16仏mのレーザ
光を取出すラマンレーザ装置においてはしーザ煤質であ
る日2の温度を−173℃もの極低温にしなければなら
ない。ところが、上述のKCIなどの結晶板は低温に弱
く、このような−17300もの極低温にさらされると
割れてしまい使いものにならなくなってしまつ。
この発明はこのような点に鑑みてなされたもので、KC
Iなどの結晶板で作られた透過窓の手前にポリエチレン
などの薄膜でできたレーザ光の損失が少ない仕切りを設
けることにより、極低温のレーザ煤質が結晶板に直俵当
たらないようにして、その結晶板の割れを防止するよう
にしたレーザ管のレーザ光導入、導出用透過窓を提供す
るものである。
Iなどの結晶板で作られた透過窓の手前にポリエチレン
などの薄膜でできたレーザ光の損失が少ない仕切りを設
けることにより、極低温のレーザ煤質が結晶板に直俵当
たらないようにして、その結晶板の割れを防止するよう
にしたレーザ管のレーザ光導入、導出用透過窓を提供す
るものである。
以下この発明の実施例を添付図面を参照して説明する。
ここではラマンレーザ装置にこの発明を適用した場合に
ついて説明する。ラマンレーザ装置はラマン効果を利用
したもので、C02レーザなどの強いレーザ光をラマン
効果を起こす水素などの物質に照射することにより、も
とのC02レーザ光とは異なった波長のし,ザ光を取出
す装置である。単一のレーザ装鷹では得られない波長の
し−ザ光を得るのに用いられ、例えばラウン分離に利用
することができる。ラマンレーザ装置では発振レベルに
達するパワー利得を得るために必要な相互作用長は数百
川となり大型化してまうので、以下の実施例では励起用
C02レーザ光を2枚のミラー間に複数回往復させて総
合的に長い相互作用長を保護するマルチパス方式を採用
している。
ついて説明する。ラマンレーザ装置はラマン効果を利用
したもので、C02レーザなどの強いレーザ光をラマン
効果を起こす水素などの物質に照射することにより、も
とのC02レーザ光とは異なった波長のし,ザ光を取出
す装置である。単一のレーザ装鷹では得られない波長の
し−ザ光を得るのに用いられ、例えばラウン分離に利用
することができる。ラマンレーザ装置では発振レベルに
達するパワー利得を得るために必要な相互作用長は数百
川となり大型化してまうので、以下の実施例では励起用
C02レーザ光を2枚のミラー間に複数回往復させて総
合的に長い相互作用長を保護するマルチパス方式を採用
している。
第1図のラマンレーザ装置は全体が架台(図示せず)の
上に載せられて水平に支持されている。
上に載せられて水平に支持されている。
第1図は、このレーザ装置の内部をその側面から見たも
のである。第1図のラマンレーザ装置は大きく分けて外
筒1と、外筒1内に収容された内筒2と、内筒2内に収
容された光学系(光共振器)3とで構成されている。
のである。第1図のラマンレーザ装置は大きく分けて外
筒1と、外筒1内に収容された内筒2と、内筒2内に収
容された光学系(光共振器)3とで構成されている。
この発明は内筒2におけるレーザ光導入用窓46としー
ザ光導出用窓48をそれぞれ適用されている。外筒1と
内筒2の間は真空に保持され、内筒2を外部から断熱し
ている。内筒2内にはしーザ煤質として水素が低温度(
約一173つ○)で充填されている。励起用の10.6
ムmの波長を持つC02レーザ光は外筒1のビーム入射
ボート20から入射され、内筒2のビーム入射ボート4
6を通ってジンバルュニット101に保持されたミラー
134の孔から光学系3内に入射される。このレーザ光
は右側のジンバルュニツト100に保持されたミラー1
10との間で所定回数反射往復して誘導ラマン効果を生
じさせ、16り肌の波長のレーザ光に変換されて右側の
ミラー110の関口部から内筒2のビーム出力ボート4
8および外筒1のビーム出力ボート25を通って外部に
取出される。光学系3は全体がダクト150で囲まれて
おり、その内部のレーザ煤質(日2)はサーキュレーシ
ョンフアン152によって左側のジンバルュニット10
1のすき間からダクト150の外側を通り更に右側のジ
ンバルュニット100のすき間から光学系3内に戻る矢
印Aの通路を通って循環される。ダクト150のまわり
の空間には冷却液(例えば、液体窒素)が流れているヘ
リカルコィル160が配設されており、循環されるしー
ザ媒質はここで冷却される。両方のミラー110,13
4はし−ザ媒質の循環経路内に置かれているのでレーザ
煤費目身によって冷却される。ミラー110,134に
は放熱用フィン115が取付けられ冷却効果を高めてい
る。次に第1図装置の各部の詳細について説明する。
ザ光導出用窓48をそれぞれ適用されている。外筒1と
内筒2の間は真空に保持され、内筒2を外部から断熱し
ている。内筒2内にはしーザ煤質として水素が低温度(
約一173つ○)で充填されている。励起用の10.6
ムmの波長を持つC02レーザ光は外筒1のビーム入射
ボート20から入射され、内筒2のビーム入射ボート4
6を通ってジンバルュニット101に保持されたミラー
134の孔から光学系3内に入射される。このレーザ光
は右側のジンバルュニツト100に保持されたミラー1
10との間で所定回数反射往復して誘導ラマン効果を生
じさせ、16り肌の波長のレーザ光に変換されて右側の
ミラー110の関口部から内筒2のビーム出力ボート4
8および外筒1のビーム出力ボート25を通って外部に
取出される。光学系3は全体がダクト150で囲まれて
おり、その内部のレーザ煤質(日2)はサーキュレーシ
ョンフアン152によって左側のジンバルュニット10
1のすき間からダクト150の外側を通り更に右側のジ
ンバルュニット100のすき間から光学系3内に戻る矢
印Aの通路を通って循環される。ダクト150のまわり
の空間には冷却液(例えば、液体窒素)が流れているヘ
リカルコィル160が配設されており、循環されるしー
ザ媒質はここで冷却される。両方のミラー110,13
4はし−ザ媒質の循環経路内に置かれているのでレーザ
煤費目身によって冷却される。ミラー110,134に
は放熱用フィン115が取付けられ冷却効果を高めてい
る。次に第1図装置の各部の詳細について説明する。
外筒1は円筒状の外壁4と、その左右雨開放端にそれぞ
れ装着された蓋5,6とで構成される。
れ装着された蓋5,6とで構成される。
外壁4には第1図では省略した中央部の下部に真空排気
ボート7,8が取付けられている(第3図参照)。また
、外壁4の左右両端部の底部付近には内筒2を外筒1内
の空間に持ち上げて外筒1と内筒2の軸を一致させるジ
ャッキアップスクリューがそれぞれ2本ずつ(ジャッキ
アップスクリュー9と10および11と12)外筒1の
中心軸方向に向けてハの字型に設けられている(第2図
および第3図参照)。右側のジャッキアップスクリュー
9,10はジャッキアップ操作するためのハンドル13
と、ハンドル13の先に取付けられてハンドル13の回
転により伸縮して内筒2を支持するサポートロッド14
が取付けられている。
ボート7,8が取付けられている(第3図参照)。また
、外壁4の左右両端部の底部付近には内筒2を外筒1内
の空間に持ち上げて外筒1と内筒2の軸を一致させるジ
ャッキアップスクリューがそれぞれ2本ずつ(ジャッキ
アップスクリュー9と10および11と12)外筒1の
中心軸方向に向けてハの字型に設けられている(第2図
および第3図参照)。右側のジャッキアップスクリュー
9,10はジャッキアップ操作するためのハンドル13
と、ハンドル13の先に取付けられてハンドル13の回
転により伸縮して内筒2を支持するサポートロッド14
が取付けられている。
左側のジャッキアップスクリュー11,12もハンドル
15とサポートロッド16とで構成されている。サポー
トロッド14,16はテフロン等の熱を伝えにくい材質
で作られている。外筒1の左端の蓋5はV型カップリン
グ17(第2図)によって外壁4に着脱可能に取付けら
れている。
15とサポートロッド16とで構成されている。サポー
トロッド14,16はテフロン等の熱を伝えにくい材質
で作られている。外筒1の左端の蓋5はV型カップリン
グ17(第2図)によって外壁4に着脱可能に取付けら
れている。
この蓋5には10.6山肌の波長を持つ励起用C02レ
ーザ光を入射するビーム入射ボート20が取付けられて
いる。ビーム入射ボート2川ま第1図を左側から見た第
2図に示すように外筒1の中心軸からずれた位置に配設
されている。これはマルチパス法を利用するためである
。蓋5,6の中央部には外筒1と内筒2の中心軸を一致
させる調整操作に利用するHe−Neビームの入射ボー
ト21,27が取付けられている。また、その下にはこ
の調整操作においてHe−Neビームの照射位置をのぞ
くためのアジャストビューポート22,28が取付けら
れている。更にその下には内部の温度検出用に用いられ
る熱電対の端子を引出すためのハーメチツクシールポー
ト23,24が取付けられている。外筒1の右端の蓋6
はV型カップリング(図示せず)により外壁4に着脱可
能に取付けられている。
ーザ光を入射するビーム入射ボート20が取付けられて
いる。ビーム入射ボート2川ま第1図を左側から見た第
2図に示すように外筒1の中心軸からずれた位置に配設
されている。これはマルチパス法を利用するためである
。蓋5,6の中央部には外筒1と内筒2の中心軸を一致
させる調整操作に利用するHe−Neビームの入射ボー
ト21,27が取付けられている。また、その下にはこ
の調整操作においてHe−Neビームの照射位置をのぞ
くためのアジャストビューポート22,28が取付けら
れている。更にその下には内部の温度検出用に用いられ
る熱電対の端子を引出すためのハーメチツクシールポー
ト23,24が取付けられている。外筒1の右端の蓋6
はV型カップリング(図示せず)により外壁4に着脱可
能に取付けられている。
この蓋6には誘導ラマン効果により発生した16仏のの
波長を持つレーザ光を検出するためのビーム出力ボート
25が取付けられている。出力ボート25はマルチパス
法による出力を取出すため、蓋6の中央部よりずれた位
置に取付けられている。更にその上には内筒2に取付け
られたアジャストマィクロメータ49を操作するための
ドライブシャフト30が取付けられている。蓋6の下部
には内筒2内に収容される冷却用のへりカルコィル31
を外部に引出すためのィンシュレーションポート32が
取付けられている。蓋6の内側には内筒2の右端部を外
筒1に固定するための固定ロッド33が取付けられてい
る。この固定ロッド33は第1図のレーザ装置を蓋6を
外して描いた第3図に示すように実際には左右に2本ず
つ設けられているが、第1図では説明の都合上上部位直
に示している。なお固定ロッド33の詳細については後
述する。内筒2は円筒状の外壁40とその左右開放端に
V−Sカップリング18(第3図)によってそれぞれ着
脱可能に取付けられた蓋41,42とで構成されている
。
波長を持つレーザ光を検出するためのビーム出力ボート
25が取付けられている。出力ボート25はマルチパス
法による出力を取出すため、蓋6の中央部よりずれた位
置に取付けられている。更にその上には内筒2に取付け
られたアジャストマィクロメータ49を操作するための
ドライブシャフト30が取付けられている。蓋6の下部
には内筒2内に収容される冷却用のへりカルコィル31
を外部に引出すためのィンシュレーションポート32が
取付けられている。蓋6の内側には内筒2の右端部を外
筒1に固定するための固定ロッド33が取付けられてい
る。この固定ロッド33は第1図のレーザ装置を蓋6を
外して描いた第3図に示すように実際には左右に2本ず
つ設けられているが、第1図では説明の都合上上部位直
に示している。なお固定ロッド33の詳細については後
述する。内筒2は円筒状の外壁40とその左右開放端に
V−Sカップリング18(第3図)によってそれぞれ着
脱可能に取付けられた蓋41,42とで構成されている
。
外壁40の左右端付近の下部には前記サポートロッド1
4,16を受ける支持台(受け台)43,44がそれぞ
れ形成されている。左側のサポートロッド受け台44は
第4図の底面図に示すように長円形の凹状に形成されて
おり、そこにサポートロッド16が単に当接した状態に
置かれている。
4,16を受ける支持台(受け台)43,44がそれぞ
れ形成されている。左側のサポートロッド受け台44は
第4図の底面図に示すように長円形の凹状に形成されて
おり、そこにサポートロッド16が単に当接した状態に
置かれている。
しかがって、内筒2を冷却した場合、サポートロッド1
6の先端はサポ−トロッド当後部44の長円形の凹状を
長手方向にスライドする。内筒2の右端部を外筒1に固
定するための内筒固定ロッド33は、取付部材52を介
して外筒1の蓋6の内側において、外筒1の軸に平行に
取付けられている。
6の先端はサポ−トロッド当後部44の長円形の凹状を
長手方向にスライドする。内筒2の右端部を外筒1に固
定するための内筒固定ロッド33は、取付部材52を介
して外筒1の蓋6の内側において、外筒1の軸に平行に
取付けられている。
内筒固定ロッド33の先端には内筒2にクランプするク
ランプ機構53がロッド33に対し回転自在に取付けら
れている。クランプ機構53の外周にはそれを軸方向か
ら見た第5図に示すように、一部が切欠かれた形状の円
板54が形成されている。一方、第1図に示すように内
筒2の右端部にはこのクランプ機構53の円板54がク
ランプして内筒2の右端部を外筒1に固定するための部
村55が取付けられている。この部村55は第6図に示
すように円板54が係合する溝56を有している。ここ
では固定ロッド33は第3図に示すように2本ずつ組に
して用いるため、溝56は縦に2本形成されている。円
板53を溝56にクランプする場合は第7図aのように
、円板54の切欠き54aを部材55の側に向.けた姿
勢で円板54の位置を溝56位置まで進ませ、続いて第
7図bに示すように円板53を半回転させればよい。第
3図には左右に2個づつ設けられた円板54を部材55
にそれぞれクランプすることによって、内筒2の左右を
固定ロッド33で固定した状態が示されている。なお、
部材55の溝56を円板54よりもやや大きな半径を設
定することにより、これらの間に遊びを設けている。こ
れはクランプした状態でも内節1が上下に若干動けるよ
うにして、ジャッキアップスクリュー9〜12による軸
合わせ操作を可能にするためである。ところで第3図に
おいて内筒2の外壁面左右にそれぞれ取付けられたoー
ラ35,36は内筒2全体を外筒1内から引出し、ある
いは収容する際に利用するものである。
ランプ機構53がロッド33に対し回転自在に取付けら
れている。クランプ機構53の外周にはそれを軸方向か
ら見た第5図に示すように、一部が切欠かれた形状の円
板54が形成されている。一方、第1図に示すように内
筒2の右端部にはこのクランプ機構53の円板54がク
ランプして内筒2の右端部を外筒1に固定するための部
村55が取付けられている。この部村55は第6図に示
すように円板54が係合する溝56を有している。ここ
では固定ロッド33は第3図に示すように2本ずつ組に
して用いるため、溝56は縦に2本形成されている。円
板53を溝56にクランプする場合は第7図aのように
、円板54の切欠き54aを部材55の側に向.けた姿
勢で円板54の位置を溝56位置まで進ませ、続いて第
7図bに示すように円板53を半回転させればよい。第
3図には左右に2個づつ設けられた円板54を部材55
にそれぞれクランプすることによって、内筒2の左右を
固定ロッド33で固定した状態が示されている。なお、
部材55の溝56を円板54よりもやや大きな半径を設
定することにより、これらの間に遊びを設けている。こ
れはクランプした状態でも内節1が上下に若干動けるよ
うにして、ジャッキアップスクリュー9〜12による軸
合わせ操作を可能にするためである。ところで第3図に
おいて内筒2の外壁面左右にそれぞれ取付けられたoー
ラ35,36は内筒2全体を外筒1内から引出し、ある
いは収容する際に利用するものである。
外筒1の内壁面にはこのローラ35,36が走行するた
めのレール17,18が外筒1の髄と平行に取付けられ
ている。ジャッキアップスクリュー9〜12により内筒
2を外筒1内の所定の高さに位置決めした状態ではロー
ラ35,36はしール17,18から浮いている。第1
図において内筒2の左側の蓋41はその中央部に軸合わ
せのためのHe−Neビームボート45が取付けられて
いる。
めのレール17,18が外筒1の髄と平行に取付けられ
ている。ジャッキアップスクリュー9〜12により内筒
2を外筒1内の所定の高さに位置決めした状態ではロー
ラ35,36はしール17,18から浮いている。第1
図において内筒2の左側の蓋41はその中央部に軸合わ
せのためのHe−Neビームボート45が取付けられて
いる。
下部にはハーメチックシールポート36,37が取付け
られている。また、外筒1の蓋5に取付けられたビーム
入射ボート2川こ対応する位置にこの発明を適用したビ
ーム入射ボート46が取付けられている。ビーム入射ポ
−ト46には第8図に示すようにレーザ議過窓としてK
CIなどの結晶板38が気密に装着されている。
られている。また、外筒1の蓋5に取付けられたビーム
入射ボート2川こ対応する位置にこの発明を適用したビ
ーム入射ボート46が取付けられている。ビーム入射ポ
−ト46には第8図に示すようにレーザ議過窓としてK
CIなどの結晶板38が気密に装着されている。
KCI結晶板38は内筒2内に収容されているレーザ煤
質によって極低温(例えば一1730C)にさらされる
と割れてしまう。そこで、ビーム入射ボート46におけ
る内筒2内につながる閥口端にポリエチレンなどの薄膜
39を装着することにより、KCI結晶板38と内筒2
との間を仕切り、更にKCI結晶板38の周囲をヒータ
57で加熱することにより、KCI結晶板38と薄膜3
9とに囲まれた空間が例えば一30qo程度になるよう
にしている。なお、KCI結晶板38と薄膜39とで囲
まれた空間と内筒2の内部との圧力のつり合いを取るた
め、薄膜39はビーム入射ボート46のわくに軽く保持
され、矢印で示すようにそれらのすき間を通ってし−ザ
媒質が出入りできるようになっている。第1図において
、内筒2の右側の蓋42はその中央部に軸合わせのため
のHe−NNeビームボート47が取付けられている。
質によって極低温(例えば一1730C)にさらされる
と割れてしまう。そこで、ビーム入射ボート46におけ
る内筒2内につながる閥口端にポリエチレンなどの薄膜
39を装着することにより、KCI結晶板38と内筒2
との間を仕切り、更にKCI結晶板38の周囲をヒータ
57で加熱することにより、KCI結晶板38と薄膜3
9とに囲まれた空間が例えば一30qo程度になるよう
にしている。なお、KCI結晶板38と薄膜39とで囲
まれた空間と内筒2の内部との圧力のつり合いを取るた
め、薄膜39はビーム入射ボート46のわくに軽く保持
され、矢印で示すようにそれらのすき間を通ってし−ザ
媒質が出入りできるようになっている。第1図において
、内筒2の右側の蓋42はその中央部に軸合わせのため
のHe−NNeビームボート47が取付けられている。
また、外筒1の蓋6に取付けられたビーム出力ボート2
5に対応する位置にビーム出力ボート48が取付けられ
ている。ビーム出力ボート48はビーム入力ポ−ト46
と同様に第8図のように構成されている。また釜の上部
には光学系3における右側のミラー1 10(ジンバル
ュニット100内に装着されている)の前後方向の角度
を調節するァジャストマィクロメータ49が取付けられ
、蓋の中心から右側の位置には、第1図では省略したが
、そのミラー110の左右方向の角度を調節するアジャ
ストマィクロメータ50が取付けられている(第3図参
照〉。アジストマィクロメー夕50の詳細については後
述する。第1図において内筒2内の底部には光学系3を
載暦するための光学系支持台60が設置されている。
5に対応する位置にビーム出力ボート48が取付けられ
ている。ビーム出力ボート48はビーム入力ポ−ト46
と同様に第8図のように構成されている。また釜の上部
には光学系3における右側のミラー1 10(ジンバル
ュニット100内に装着されている)の前後方向の角度
を調節するァジャストマィクロメータ49が取付けられ
、蓋の中心から右側の位置には、第1図では省略したが
、そのミラー110の左右方向の角度を調節するアジャ
ストマィクロメータ50が取付けられている(第3図参
照〉。アジストマィクロメー夕50の詳細については後
述する。第1図において内筒2内の底部には光学系3を
載暦するための光学系支持台60が設置されている。
第9図はこの支持台60の詳細を示すもので、aは正面
図、bは底面図、cは左側面図、dは右側面図である。
光学系支持台60は上板61とその下面に固設された2
本の補強材62とを具えている。上板61の右端部には
光学系3の右端部を固定するためのネジ孔61aが開設
されている。また補強材62の右端部にはこの部分を内
筒2の底面に固定するための平板63が固着されている
。内筒2の右側の底部には第9図に二点鎖線66で示す
ような固定台が取付けられている。固定台66の底面は
内筒2の底面の形状に合わせて円弧状に形成されている
。また、上面には切欠き66aが形成され、そこに上記
平板63が収容されている。平板63はネジ64によっ
て固定台66に取付けられている。これにより光学系支
持台61の右端部は内筒2に固定される。光学系支持台
61の左端部にはこの部分を内筒2の底部に摺動可能に
支持するための摺動板67が取付けられている。
図、bは底面図、cは左側面図、dは右側面図である。
光学系支持台60は上板61とその下面に固設された2
本の補強材62とを具えている。上板61の右端部には
光学系3の右端部を固定するためのネジ孔61aが開設
されている。また補強材62の右端部にはこの部分を内
筒2の底面に固定するための平板63が固着されている
。内筒2の右側の底部には第9図に二点鎖線66で示す
ような固定台が取付けられている。固定台66の底面は
内筒2の底面の形状に合わせて円弧状に形成されている
。また、上面には切欠き66aが形成され、そこに上記
平板63が収容されている。平板63はネジ64によっ
て固定台66に取付けられている。これにより光学系支
持台61の右端部は内筒2に固定される。光学系支持台
61の左端部にはこの部分を内筒2の底部に摺動可能に
支持するための摺動板67が取付けられている。
また、内筒2の底部には第9図に二点鎖線68で示すよ
うな形状の支持台が取付けられている。支持台68の底
面は内筒2の底面の形状に合わせて円弧状に形成されて
おり、上面には上記沼動板68を収容して内筒2の鞠方
向に摺動可能に支持する切欠き68aが形成されている
。このように内筒2は光学系支持台61を右端部でのみ
支持するので、内筒2内を冷却した際に内筒2と光学系
支持台61の収縮の長さが異なっても、光学系支持台6
1の左端部61は支持台68上を内筒2の軸方向を摺動
することになり、両端を固定した場合のように内筒2と
支持台61の間に無理な力がかかることがなく、曲げな
どのくるし、が生じることがない。以上のように設置さ
れた光学系支持台60上には光学系(光共振器)3が載
層される(第1図)。
うな形状の支持台が取付けられている。支持台68の底
面は内筒2の底面の形状に合わせて円弧状に形成されて
おり、上面には上記沼動板68を収容して内筒2の鞠方
向に摺動可能に支持する切欠き68aが形成されている
。このように内筒2は光学系支持台61を右端部でのみ
支持するので、内筒2内を冷却した際に内筒2と光学系
支持台61の収縮の長さが異なっても、光学系支持台6
1の左端部61は支持台68上を内筒2の軸方向を摺動
することになり、両端を固定した場合のように内筒2と
支持台61の間に無理な力がかかることがなく、曲げな
どのくるし、が生じることがない。以上のように設置さ
れた光学系支持台60上には光学系(光共振器)3が載
層される(第1図)。
光学系3は熱膨張率の小さい4本のィンバーロッド80
〜83の両端部を光学系ホルダ84,85で正方形に組
んで固定し(第1図では省略した中央部にもホルダが2
箇所程度はめ込まれている)、この光学系ホルダ84,
85の外側にミラー110,134を保持したジンバル
ュニツト100,101をそれぞれ取付けたものである
。光学系ホルダ84は第10図に示すように正方形のわ
く85に、マルチパスされる光線を通すための円形の閉
口部85aを開設したものである。
〜83の両端部を光学系ホルダ84,85で正方形に組
んで固定し(第1図では省略した中央部にもホルダが2
箇所程度はめ込まれている)、この光学系ホルダ84,
85の外側にミラー110,134を保持したジンバル
ュニツト100,101をそれぞれ取付けたものである
。光学系ホルダ84は第10図に示すように正方形のわ
く85に、マルチパスされる光線を通すための円形の閉
口部85aを開設したものである。
閉口部85aの周囲にはジンバルュニット100(第1
1図)を取付けるためのネジ孔85bが開設されている
。正方形のわく85の四隅にはィンバーロッド80〜8
3を固定するための固定部村86がネジ87によって取
付けられている。左端部側の光学系ホルダ85もほぼ同
機に構成されている。ところで下側のィンバーロツド8
2,83の右端部は第1図に示すように固定部材90,
91に通され、これら固定部材90,91をネジ92に
よって前記光学系支持台60の右端部に開設されたネジ
孔60aにしめっける。これにより光学系3の右端部は
光学系支持台60‘こ固定され、更に内筒2自体に固定
される。なお、光学系ホルダ84,85は光学系支持台
6川こ一端固定で静置しているので、内筒全体が冷却さ
れても他端はスライドして、その熱収縮の影響を受けな
い。
1図)を取付けるためのネジ孔85bが開設されている
。正方形のわく85の四隅にはィンバーロッド80〜8
3を固定するための固定部村86がネジ87によって取
付けられている。左端部側の光学系ホルダ85もほぼ同
機に構成されている。ところで下側のィンバーロツド8
2,83の右端部は第1図に示すように固定部材90,
91に通され、これら固定部材90,91をネジ92に
よって前記光学系支持台60の右端部に開設されたネジ
孔60aにしめっける。これにより光学系3の右端部は
光学系支持台60‘こ固定され、更に内筒2自体に固定
される。なお、光学系ホルダ84,85は光学系支持台
6川こ一端固定で静置しているので、内筒全体が冷却さ
れても他端はスライドして、その熱収縮の影響を受けな
い。
第1図においてジンバルュニツト100,101はミラ
ー110,134を保持してそれらの角度を調整するも
のである。
ー110,134を保持してそれらの角度を調整するも
のである。
右側のジンバルュニツト100は第11図に示すように
構成されている。第11図aは第1図の右方向から見た
図、bおよびcはそれぞれ断面図で示したその平面図お
よび左側面図である。これらの図に示されるように、ジ
ンバルュニツト100は前記光学系ホルダ84に取付け
られるアウターリング102とミラー110の角度を前
後方向に動かすィンナ−リング103とミラー110を
保持しその角度を左右方向に動かすミラーホールドリン
グ104とを具えている。ァウターリング102は外周
付近に開設されたネジ孔102aと前記光学系ホルダ8
4に開設されたネジ孔85b(第10図)とをネジによ
って留めることにより光学系ホルダ84に固定される。
構成されている。第11図aは第1図の右方向から見た
図、bおよびcはそれぞれ断面図で示したその平面図お
よび左側面図である。これらの図に示されるように、ジ
ンバルュニツト100は前記光学系ホルダ84に取付け
られるアウターリング102とミラー110の角度を前
後方向に動かすィンナ−リング103とミラー110を
保持しその角度を左右方向に動かすミラーホールドリン
グ104とを具えている。ァウターリング102は外周
付近に開設されたネジ孔102aと前記光学系ホルダ8
4に開設されたネジ孔85b(第10図)とをネジによ
って留めることにより光学系ホルダ84に固定される。
ィンナ−リング103は左右のピボツト105,106
によりァウタリング102に上下方向に回動可能に取付
けられている。ミラーホールドリング104は上下のピ
ポツト107,108によりィンナリング103に対し
左右方向に回動可能に取付けられている。ミラーホール
ドリング104の背面にはミラー押えリング111がは
め込まれ、そこにミラー110がネジ112によって取
付けられている。ミラー押えリング111にはしーザ光
を取出すための切欠き111aが形成されている。アウ
ターリング102の上部には、このァウターリング10
2を操作するためのェクステンションバー113が取付
けられている。ェクステンションバー113にはこの操
作をするアジャストマィクロメータ49(第1図)の先
端が当接する突起113aが形成されている。突起11
3aは磁石で作られており、これがアジャストマィクロ
メータ49の先端に吸着することによりアジャストマィ
クロメータ49による操作を可能にしている。また、イ
ンナーリング104の右の部分には、このインナーリン
グ104を操作するためのェクステンションバー114
が取付けられている。このエクステンシヨンバー114
にもアジャストマィクロメ‐夕50(第3図)の先端に
吸着して操作される磁石の突起114aが取付けられて
いる。ミラー110にはその中心に軸合せ用Ne一日e
ビームを通すための貫通孔110eが開設されている。
によりァウタリング102に上下方向に回動可能に取付
けられている。ミラーホールドリング104は上下のピ
ポツト107,108によりィンナリング103に対し
左右方向に回動可能に取付けられている。ミラーホール
ドリング104の背面にはミラー押えリング111がは
め込まれ、そこにミラー110がネジ112によって取
付けられている。ミラー押えリング111にはしーザ光
を取出すための切欠き111aが形成されている。アウ
ターリング102の上部には、このァウターリング10
2を操作するためのェクステンションバー113が取付
けられている。ェクステンションバー113にはこの操
作をするアジャストマィクロメータ49(第1図)の先
端が当接する突起113aが形成されている。突起11
3aは磁石で作られており、これがアジャストマィクロ
メータ49の先端に吸着することによりアジャストマィ
クロメータ49による操作を可能にしている。また、イ
ンナーリング104の右の部分には、このインナーリン
グ104を操作するためのェクステンションバー114
が取付けられている。このエクステンシヨンバー114
にもアジャストマィクロメ‐夕50(第3図)の先端に
吸着して操作される磁石の突起114aが取付けられて
いる。ミラー110にはその中心に軸合せ用Ne一日e
ビームを通すための貫通孔110eが開設されている。
また、中心から外れた部分にはしーザ光取出し用の孔1
10cが開設されている。また、ミラー110の裏面に
は放熱用のフィン115が取付けれている。アジャスト
マィクロメータ49は内筒2の蓋42に取付けられ、そ
の先端が前記ジンジルュニット100のェクステンショ
ンバー113の磁石113aに当接している。
10cが開設されている。また、ミラー110の裏面に
は放熱用のフィン115が取付けれている。アジャスト
マィクロメータ49は内筒2の蓋42に取付けられ、そ
の先端が前記ジンジルュニット100のェクステンショ
ンバー113の磁石113aに当接している。
アジヤストマィクロメータ49の後端には、外筒1の蓋
6に取付けられたドライブシャフト30が連結されて、
回転駆動される。これにより、アジヤストマイクロメー
タ49は伸縮してジンバルュニット110の角度を調節
する。なお、アジャストマイクロメータ49にはべロー
ズ130が装着されて気密が保たれている。一方、左側
のジンバル機構101は右側のジンバル機構100と同
様に構成され、アジャスタ138によって前後方向の角
度が調節される(第2図では示されていないが、左右方
向の角度を調節するアジャスタも設けられている)。
6に取付けられたドライブシャフト30が連結されて、
回転駆動される。これにより、アジヤストマイクロメー
タ49は伸縮してジンバルュニット110の角度を調節
する。なお、アジャストマイクロメータ49にはべロー
ズ130が装着されて気密が保たれている。一方、左側
のジンバル機構101は右側のジンバル機構100と同
様に構成され、アジャスタ138によって前後方向の角
度が調節される(第2図では示されていないが、左右方
向の角度を調節するアジャスタも設けられている)。
第12図は以上のように構成した光学系3の全体は第1
図の右側から見たものである。
図の右側から見たものである。
ところで光学系3は光学系ホルダ84,85に挟まれた
部分がダクト150によって取囲まれている。
部分がダクト150によって取囲まれている。
ダクト150は光学系3の軸万向の両端部に関口が形成
されている。光学系ホルダ85より左端の部分は内筒2
の蓋41に取付けられダクト151で取囲まれている。
ダクト150,151はジンバルュニツト101のすき
間およびミラーに開設された励起用レーザ入射光を通し
てつながっている。ダクト151内の空間にその上部に
取付けられたサーキュレーションフアン152(第2図
に示すように筒の中心を遜る位置と、そこから左右にそ
れぞれ450ずれた位置の3箇所に取付けられている)
を介してダクト150,151と内筒2の外壁40との
間に形成された空間153に通じている。空間153の
右端部はジンバルュニット100のすき間およびミラー
1101こ開設されたレーザ光取出し用孔110cを通
して光学系3内につながっている。したがってサーキユ
レーションフアン152を駆動することによって、光学
系3の内部のレーザ煤質は第1図に矢印Aで示すように
光学系3の内部からジンバルュニット101を通ってダ
クト151に導かれ、そこからサーキュレーションフア
ン152を介してダクト150と内筒2の外壁40の間
の空間153を通って内筒2内の右端部に至り、更にジ
ンバルュニット100を通って光学系3内に戻る経路に
よって強制循環される。これにより、光学系3内におけ
るレーザ煤質は全体にわたって均一な温度に保たれ、局
部的な密度の違いによる光線のゆらぎなどの現象が防止
される。前記ダクト150と内筒40との間の空間15
3にはダクト150の全体を取巻くように冷却用ヘリカ
ルコィル160が配設されている。この冷却用ヘリカル
コィル160内には液体、窒素などの冷煤が流されてい
る。したがって光学系3内で熱せられたレーザ煤質は上
記空間を通る間に冷却され、光学系3内に戻される。こ
れによりレーザ煤質は一定の温度(例えば一173qo
)に保たれる。また、左右のジンバルュニット100,
101に保持されたミラー110,134自体も強制循
環の流れの中に置かれているので、レーザ煤質自身によ
って冷却される。特にミラー110,134に前述のよ
うに放熱用フィン115を取付ければ冷却効率が良くな
る。冷却用ヘリカルコィル160は第13図に示すよう
に光学系3の全体にわたって配設されている。
されている。光学系ホルダ85より左端の部分は内筒2
の蓋41に取付けられダクト151で取囲まれている。
ダクト150,151はジンバルュニツト101のすき
間およびミラーに開設された励起用レーザ入射光を通し
てつながっている。ダクト151内の空間にその上部に
取付けられたサーキュレーションフアン152(第2図
に示すように筒の中心を遜る位置と、そこから左右にそ
れぞれ450ずれた位置の3箇所に取付けられている)
を介してダクト150,151と内筒2の外壁40との
間に形成された空間153に通じている。空間153の
右端部はジンバルュニット100のすき間およびミラー
1101こ開設されたレーザ光取出し用孔110cを通
して光学系3内につながっている。したがってサーキユ
レーションフアン152を駆動することによって、光学
系3の内部のレーザ煤質は第1図に矢印Aで示すように
光学系3の内部からジンバルュニット101を通ってダ
クト151に導かれ、そこからサーキュレーションフア
ン152を介してダクト150と内筒2の外壁40の間
の空間153を通って内筒2内の右端部に至り、更にジ
ンバルュニット100を通って光学系3内に戻る経路に
よって強制循環される。これにより、光学系3内におけ
るレーザ煤質は全体にわたって均一な温度に保たれ、局
部的な密度の違いによる光線のゆらぎなどの現象が防止
される。前記ダクト150と内筒40との間の空間15
3にはダクト150の全体を取巻くように冷却用ヘリカ
ルコィル160が配設されている。この冷却用ヘリカル
コィル160内には液体、窒素などの冷煤が流されてい
る。したがって光学系3内で熱せられたレーザ煤質は上
記空間を通る間に冷却され、光学系3内に戻される。こ
れによりレーザ煤質は一定の温度(例えば一173qo
)に保たれる。また、左右のジンバルュニット100,
101に保持されたミラー110,134自体も強制循
環の流れの中に置かれているので、レーザ煤質自身によ
って冷却される。特にミラー110,134に前述のよ
うに放熱用フィン115を取付ければ冷却効率が良くな
る。冷却用ヘリカルコィル160は第13図に示すよう
に光学系3の全体にわたって配設されている。
ここでは内筒2の右端部から内筒2内に導かれ、内筒2
の左端部で折り返して再び右端部から取出されるように
なっている。内筒2の外に引き出された部分は第1図に
示すように連結金具162を介してインシュレーション
ポート32に保持されたパイプ163につながれている
。このヘリカルコィル16川ま左右各端部およびその間
の適宜の箇所において部材161に引掛けられて釣り下
げられて、内筒2およびダクト150,151に対して
は非接触の状態で空間153に保持されている。したが
って、内筒2やダクト150,151に接触してそれら
が局部的に冷却されることがなく、内筒2内全体を熱衝
撃ないこ均一に冷却することができる。また、ヘリカル
ユイル160は右端でのみ内部2に固定され、左端部は
単に部材161で釣り下げられた状態となっているので
、ヘリカルコィル160が伸縮してもその左端は都材1
61上をスライドするため無理がかからないようになっ
ている。第1図のラマンレーザ装置は以上説明したよう
な構成である。
の左端部で折り返して再び右端部から取出されるように
なっている。内筒2の外に引き出された部分は第1図に
示すように連結金具162を介してインシュレーション
ポート32に保持されたパイプ163につながれている
。このヘリカルコィル16川ま左右各端部およびその間
の適宜の箇所において部材161に引掛けられて釣り下
げられて、内筒2およびダクト150,151に対して
は非接触の状態で空間153に保持されている。したが
って、内筒2やダクト150,151に接触してそれら
が局部的に冷却されることがなく、内筒2内全体を熱衝
撃ないこ均一に冷却することができる。また、ヘリカル
ユイル160は右端でのみ内部2に固定され、左端部は
単に部材161で釣り下げられた状態となっているので
、ヘリカルコィル160が伸縮してもその左端は都材1
61上をスライドするため無理がかからないようになっ
ている。第1図のラマンレーザ装置は以上説明したよう
な構成である。
この装置を駆動できる状態にセットするにはまず、外筒
1および内筒2の蓋5,6,41,42をそれぞれ取り
外し、光学系3の位置を調整する。このとき左側のミラ
ー134の角度は調整ボルト13川こより予め調整する
。この調整が終わったら内筒2に蓋41,42を装着し
てその内部にしーザ媒質を封入する。続いて外筒1に蓋
5,6を装着して、外筒1と内筒2との間の空気を真空
排気ボート7,8から吸引して、その部分を真空状態に
する。次に左側のHe−Neビームボート21からHe
−Neレーザビームを外筒1の軸上に照射する。
1および内筒2の蓋5,6,41,42をそれぞれ取り
外し、光学系3の位置を調整する。このとき左側のミラ
ー134の角度は調整ボルト13川こより予め調整する
。この調整が終わったら内筒2に蓋41,42を装着し
てその内部にしーザ媒質を封入する。続いて外筒1に蓋
5,6を装着して、外筒1と内筒2との間の空気を真空
排気ボート7,8から吸引して、その部分を真空状態に
する。次に左側のHe−Neビームボート21からHe
−Neレーザビームを外筒1の軸上に照射する。
このときアジヤストビユーポート22からのぞいて、H
e−Neレーザビームが内筒2のHe−Neビームボー
ト45の位置を照射するように左側のジャッキアンプス
クリュー11,12を調節する。また、右側のHe−N
eビームボート27からもHe−Neレーザピームを外
筒1の軸線上に照射し、アジャストビューポート28か
らのぞいて、内筒2のHe−Neビームボート47の位
置を照射するようにジャッキアップスクリュー9,10
を調整する。このようにして外筒1と内筒2の軸が一致
したら右側のミラー110の角度調節を行なう。上記の
藤の調整により外筒1と内筒2の軸が一致すればHe一
NeレーザビームはHe−Neビームボート21,45
を通り、更にミラー110の中心に開設された孔110
e(第11図参照)を通って孔のあいていないミラーで
反射された光点が孔110eにフリンジ模様を写すよう
にアジャストマィクロメータ49でミラー110の前後
方向および左右方向の角度を調整すればよい。ミラー1
10の角度調整が終ったら冷却用ヘリカルコィル160
1こ冷煤を流し、サーキュレーションフアン152を駆
動することにより準備がすべて整い、ビーム入射ボート
20から波長が10.6A仇のC02レーザビームを入
射することにより、光学系3内で所定回数マルチパスさ
れて16〃川の波長に変換されてビーム出力ボート25
から取出される。
e−Neレーザビームが内筒2のHe−Neビームボー
ト45の位置を照射するように左側のジャッキアンプス
クリュー11,12を調節する。また、右側のHe−N
eビームボート27からもHe−Neレーザピームを外
筒1の軸線上に照射し、アジャストビューポート28か
らのぞいて、内筒2のHe−Neビームボート47の位
置を照射するようにジャッキアップスクリュー9,10
を調整する。このようにして外筒1と内筒2の軸が一致
したら右側のミラー110の角度調節を行なう。上記の
藤の調整により外筒1と内筒2の軸が一致すればHe一
NeレーザビームはHe−Neビームボート21,45
を通り、更にミラー110の中心に開設された孔110
e(第11図参照)を通って孔のあいていないミラーで
反射された光点が孔110eにフリンジ模様を写すよう
にアジャストマィクロメータ49でミラー110の前後
方向および左右方向の角度を調整すればよい。ミラー1
10の角度調整が終ったら冷却用ヘリカルコィル160
1こ冷煤を流し、サーキュレーションフアン152を駆
動することにより準備がすべて整い、ビーム入射ボート
20から波長が10.6A仇のC02レーザビームを入
射することにより、光学系3内で所定回数マルチパスさ
れて16〃川の波長に変換されてビーム出力ボート25
から取出される。
修理や点検のため内筒2を外筒1から引出す場合は、ま
ず外筒1と内筒2の間に外気を導入して外気と等しい圧
力に戻す。
ず外筒1と内筒2の間に外気を導入して外気と等しい圧
力に戻す。
続いてジャッキアンプスクリュー9〜12を戻して内筒
2のローラ35,36のレール17,18に降ろす。こ
の状態から外筒1の右側の蓋6を外して手前に引けばロ
ックピン33によって内筒2もいつしよに引出されてく
る。ところで、以上説明した実施例においてはこの発明
をラマンレーザ装置に適用した場合について示したが、
レーザ煤質を極低温にして使用するその他の気体レーザ
装置にも同様に適用することができる。
2のローラ35,36のレール17,18に降ろす。こ
の状態から外筒1の右側の蓋6を外して手前に引けばロ
ックピン33によって内筒2もいつしよに引出されてく
る。ところで、以上説明した実施例においてはこの発明
をラマンレーザ装置に適用した場合について示したが、
レーザ煤質を極低温にして使用するその他の気体レーザ
装置にも同様に適用することができる。
また、上記実施例では内筒2内の圧力の変化に対応する
ため薄膜39を完全に固定せずに、その周辺からしーザ
煤質が出入りできるようにしたが、このかわりに薄膜3
9の光軸から外れた部分に小孔をあげるようにしてもよ
い。
ため薄膜39を完全に固定せずに、その周辺からしーザ
煤質が出入りできるようにしたが、このかわりに薄膜3
9の光軸から外れた部分に小孔をあげるようにしてもよ
い。
また内筒2内の圧力の変化が特に問題とならない場合に
は完全に仕切ってしーザ媒質が出入りできるようにして
もよい。以上説明したようにこの発明によればKCIな
どの結晶板で作られた透過窓の奥にポリエチレンなどの
薄膜でできた仕切りを設けるようにしたので、しーザ媒
質を極低温状態に保持する場合においてもそれが直援結
晶板に当たることがなく、その割れを防ぐことができる
。
は完全に仕切ってしーザ媒質が出入りできるようにして
もよい。以上説明したようにこの発明によればKCIな
どの結晶板で作られた透過窓の奥にポリエチレンなどの
薄膜でできた仕切りを設けるようにしたので、しーザ媒
質を極低温状態に保持する場合においてもそれが直援結
晶板に当たることがなく、その割れを防ぐことができる
。
第1図にこの発明が適用されたラマンレーザ装置の全体
の構成図で、レーザ光鞠に直角な側面から一部を断面に
して示した図、第2図は第1図の左側面図、第3図は外
筒1の蓋6を取外して示した第1図の右側面図、第4図
は第1図の内筒2における左端下部のジャッキアップス
クリュー11の当援用凹部の形状を示す図、第5図は第
1図における内筒固定ロッド33をその軸方向から見た
図、第6図は第5図の固定ロッド33を引掛けるために
内筒側に取付けられた部材の拡大図、第7図は第5図の
金具を第6図の部材に引掛ける状態を示す図、第8図は
この発明の一実施例を示す図で第1図におけるレーザビ
ーム入射ボート46およびレーザビーム出力ボート48
の内部構造を示す断面図、第9図は第1図における光学
系支持台60の詳細を示す図で、aは正面図、bは底面
図、cは左側面図、dは右側面図である。 第10図は第1図における光学系ホルダ84の正面図、
第11図は第1図におけるジンバルュニツト100の詳
細を示す図でaは正面図、bは平面図、cは左側面図で
ある。第12図は第1図の光学系3の全体を右側から見
た図、第13図は第1図の冷却用ヘリカルコィル160
の詳細を示す図である。1・・・・・・外筒、2…・・
・内筒、3・・…・光学系、7,8・・・・・・真空排
気ボート、9〜12・…・・ジャッキアップスクリュー
、20,39・・・・・・レーザ光透過性薄膜、40・
・・・・・レーザビーム入射ボート、26,48・・・
・・・レーザビーム出力ボート、21,27,45,4
7..・・・・He一Neビームボート、33・・・・
・・内筒固定ロッド、49・・・・・・アジャストマイ
クロメ−夕、60…・・・光学系支持台、80・・・・
・・ィンバ−ロッド、84,85・・…・光学系ホルダ
、100,101……ジンバルユニツト、110,13
4….・・ミフー、115・・・・・・放熱用フィン、
13o,..,..…アジヤスタ、150……ダスト、
152”””サーキュレーションフアン、160・・…
・冷却用ヘリカルコイル。 第5図 第6図 第1図 第9図 第2図 第3図 第4図 第7図 第8図 第10図 第13図 第11図 第12図
の構成図で、レーザ光鞠に直角な側面から一部を断面に
して示した図、第2図は第1図の左側面図、第3図は外
筒1の蓋6を取外して示した第1図の右側面図、第4図
は第1図の内筒2における左端下部のジャッキアップス
クリュー11の当援用凹部の形状を示す図、第5図は第
1図における内筒固定ロッド33をその軸方向から見た
図、第6図は第5図の固定ロッド33を引掛けるために
内筒側に取付けられた部材の拡大図、第7図は第5図の
金具を第6図の部材に引掛ける状態を示す図、第8図は
この発明の一実施例を示す図で第1図におけるレーザビ
ーム入射ボート46およびレーザビーム出力ボート48
の内部構造を示す断面図、第9図は第1図における光学
系支持台60の詳細を示す図で、aは正面図、bは底面
図、cは左側面図、dは右側面図である。 第10図は第1図における光学系ホルダ84の正面図、
第11図は第1図におけるジンバルュニツト100の詳
細を示す図でaは正面図、bは平面図、cは左側面図で
ある。第12図は第1図の光学系3の全体を右側から見
た図、第13図は第1図の冷却用ヘリカルコィル160
の詳細を示す図である。1・・・・・・外筒、2…・・
・内筒、3・・…・光学系、7,8・・・・・・真空排
気ボート、9〜12・…・・ジャッキアップスクリュー
、20,39・・・・・・レーザ光透過性薄膜、40・
・・・・・レーザビーム入射ボート、26,48・・・
・・・レーザビーム出力ボート、21,27,45,4
7..・・・・He一Neビームボート、33・・・・
・・内筒固定ロッド、49・・・・・・アジャストマイ
クロメ−夕、60…・・・光学系支持台、80・・・・
・・ィンバ−ロッド、84,85・・…・光学系ホルダ
、100,101……ジンバルユニツト、110,13
4….・・ミフー、115・・・・・・放熱用フィン、
13o,..,..…アジヤスタ、150……ダスト、
152”””サーキュレーションフアン、160・・…
・冷却用ヘリカルコイル。 第5図 第6図 第1図 第9図 第2図 第3図 第4図 第7図 第8図 第10図 第13図 第11図 第12図
Claims (1)
- 1 レーザ媒質を極低温で封入したレーザ管の内部をそ
の外部から遮断するとともに、当該レーザ管内に励起用
レーザ光を導入しあるいは当該レーザ管内で発生したレ
ーザ光を導出するレーザ光透過性結晶板と、前記レーザ
管内における前記レーザ光透過性結晶板を通る光軸上に
配置されて、当該レーザ光透過性結晶板を前記極低温状
態のレーザ媒質から仕切るレーザ光透過性薄膜とを具え
たレーザ管におけるレーザ光導入、導出用窓。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5953682A JPS6037626B2 (ja) | 1982-04-12 | 1982-04-12 | レ−ザ管におけるレ−ザ光導入、導出用窓 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5953682A JPS6037626B2 (ja) | 1982-04-12 | 1982-04-12 | レ−ザ管におけるレ−ザ光導入、導出用窓 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58176986A JPS58176986A (ja) | 1983-10-17 |
| JPS6037626B2 true JPS6037626B2 (ja) | 1985-08-27 |
Family
ID=13116077
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5953682A Expired JPS6037626B2 (ja) | 1982-04-12 | 1982-04-12 | レ−ザ管におけるレ−ザ光導入、導出用窓 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6037626B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0311902Y2 (ja) * | 1984-09-26 | 1991-03-20 |
-
1982
- 1982-04-12 JP JP5953682A patent/JPS6037626B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58176986A (ja) | 1983-10-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8298335B2 (en) | Enclosure for controlling the environment of optical crystals | |
| KR100338893B1 (ko) | 회전 기판을 가진 빠른 열적 가공(rtp) 장치 | |
| JP4820534B2 (ja) | 低温時の基板を試験するプローバ | |
| KR100349063B1 (ko) | 용접판부의검사용구조 | |
| JPS6037626B2 (ja) | レ−ザ管におけるレ−ザ光導入、導出用窓 | |
| FR2614476A1 (fr) | Oscillateur a laser a gaz du type a circulation axiale rapide | |
| JPH09229884A (ja) | 熱分析装置 | |
| JPS6025912Y2 (ja) | レ−ザ装置における共振器ミラ−調整装置の駆動機構 | |
| JPS6341234B2 (ja) | ||
| JPS58176985A (ja) | レ−ザ装置における光軸調整装置 | |
| Visser et al. | Construction of a liquid He cryostat insert for high spatial resolution photoluminescence experiments on GaAs | |
| JP4021983B2 (ja) | 真空レーザアニール装置のステージ装置 | |
| EP4556884A1 (en) | Advanced sample thickness measuring arrangement and method for measuring a thickness of a sample at cryogenic temperature by interferometry using a cryostat | |
| JP2002082077A (ja) | 熱間変位測定装置及び測定方法 | |
| JP2018115859A (ja) | X線分析用セル、x線分析用容器、x線分析用装置およびx線分析方法 | |
| JPH05190940A (ja) | 固体レーザ装置 | |
| RU2807433C1 (ru) | Способ измерения теплофизических свойств материалов и установка для его осуществления с использованием термовизоров | |
| JP7464827B2 (ja) | X線ct装置用の加熱装置および試験体 | |
| JPH0322579A (ja) | スラブ型固定レーザ装置 | |
| Royse et al. | Pulsed-laser capabilities at the Laser-Hardened Materials Evaluation Laboratory (LHMEL) | |
| JPS6017912Y2 (ja) | ガスレーザーシステム | |
| Lander et al. | Characterization of the thermal performance of high heat flux systems at the Laser Hardened Materials Evaluation Laboratory | |
| Gnewkow et al. | Temperature control and sample damage mitigation in static and transient soft X-ray experiments using flexible sample cells | |
| JP2674312B2 (ja) | スラブ形固体レーザ装置 | |
| JP2976363B2 (ja) | 真空熱処理装置 |