JPS60382B2 - polishing liquid composition - Google Patents
polishing liquid compositionInfo
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- JPS60382B2 JPS60382B2 JP12788782A JP12788782A JPS60382B2 JP S60382 B2 JPS60382 B2 JP S60382B2 JP 12788782 A JP12788782 A JP 12788782A JP 12788782 A JP12788782 A JP 12788782A JP S60382 B2 JPS60382 B2 JP S60382B2
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は研摩液組成物に関する。[Detailed description of the invention] The present invention relates to polishing fluid compositions.
表面処理工業における鉄および特殊合金等の表面研摩は
、製品自身の商品価値を左右する大きな役割をもってい
る。Surface polishing of iron and special alloys in the surface treatment industry plays a major role in determining the commercial value of the product itself.
研摩は、
【1} 陽極溶解現象を利用し、炭素鋼、高炭素鋼、特
殊鋼、黄鋼、アルミおよびアルミ合金18/8ステンレ
ス、銀、金、ニッケル、ニッケルクローム等合金、バネ
鋼、高速度鋼やプラスチック等を光沢、超仕上、バリ取
り効果をねらった電解研摩、‘2} 酸等化学薬品溶液
に対する金属の溶解性を利用し、マグネシウム、亜鉛、
カドミウム、黄鋼、銅、アルミニウムおよびアルミ合金
、ニッケル炭素鋼などの光沢、平滑効果をねらった化学
研摩「‘3} 研摩材、酸化アルミニウム、酸化鉄など
を使用し「殆んど人為によって光沢ある平滑面を得る羽
布研摩、‘41 酸またはアルカリおよび石鹸等界面活
性剤を潤滑剤として使用し、研摩材を場合により併用し
「回転容器中等で金属表面の研摩を行うバレル研摩、な
どが知られ「金属トプラスチツク等の製品の目的、材質
に応じ単独もしくは重ね使用されている。[1] Utilizing the anodic melting phenomenon, polishing can be applied to carbon steel, high carbon steel, special steel, yellow steel, aluminum and aluminum alloy 18/8 stainless steel, silver, gold, nickel, nickel chrome alloys, spring steel, high Electrolytic polishing for high-speed steel, plastics, etc. to give a glossy finish, a super finish, and a deburring effect.
Chemical polishing aimed at brightening and smoothing cadmium, yellow steel, copper, aluminum and aluminum alloys, nickel carbon steel, etc. Cloth polishing to obtain a smooth surface, '41 Barrel polishing, which uses surfactants such as acids or alkalis and soaps as lubricants and, if necessary, an abrasive, to polish metal surfaces in a rotating container, etc. They are used alone or in layers depending on the purpose and material of the product, such as metal top plastics.
一方、金属、プラスチック部品等の表面には、動植物油
、鉱物油、グリス、ロウ、これ等の炭化物、金属酸化皮
膜、無機質など単独の汚れでないため、多くの場合、複
合汚れを除去せしめ、研摩性、光沢性の優れた金属商品
を得なければならない。On the other hand, since the surfaces of metal and plastic parts do not have individual stains such as animal and vegetable oils, mineral oils, greases, waxes, carbides of these, metal oxide films, and inorganic substances, compound stains are often removed and polished. It is necessary to obtain metal products with excellent durability and gloss.
電解研摩には、従釆、硝酸、硫酸、リン酸、塩酸等の鉱
酸に場合によって、有機酸界面活性剤を併用した酸性電
解研摩が行われているが、スケール除去性は有している
ものの、脱脂性に劣る。Acidic electropolishing is performed using mineral acids such as nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and hydrochloric acid in combination with an organic acid surfactant in some cases, but it does not have scale removal properties. However, it has poor degreasing properties.
一方、苛性ソーダ、リン酸塩、炭酸塩等のアルカリ塩類
に、場合によに有機塩酸、界面活性剤を併用したアルカ
リ性電解研摩は脱脂性は有しているものの、スケール除
去性が充分ではなかった。また、化学研摩は硝酸、硫酸
、リン酸、塩酸等の鱗酸に、場合によってt有機酸、界
面活性剤を併用した系で同様にして脱脂性に劣る。バレ
ル研摩は、その多くの場合、リン酸塩、蛭硝酸塩等のア
ルカリ塩類に石鹸等のァニオン界面活性剤、非イオン界
面活性剤と、場合により研摩材と併用されるが、複合汚
れ状物質のスケール除去性「脱脂性共に充分とは言えな
く、汚れの再付着も問題となる。On the other hand, alkaline electrolytic polishing, which uses alkaline salts such as caustic soda, phosphates, and carbonates, and in some cases organic hydrochloric acid and surfactants, has degreasing properties, but does not have sufficient scale removal properties. . In addition, chemical polishing uses a scale acid such as nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, or hydrochloric acid in combination with an organic acid and a surfactant depending on the case, and the degreasing properties are similarly poor. In most cases, barrel polishing uses alkaline salts such as phosphates and leech nitrates, anionic surfactants such as soap, nonionic surfactants, and sometimes abrasives, but it is difficult to remove complex dirt-like substances. Scale removal: "Both degreasing properties are not sufficient, and re-deposition of dirt is also a problem.
本発明者はこれら問題点を解消すべ〈、鋭意研究の結果
、本発明に到達したものである。The inventors of the present invention have strived to solve these problems and have arrived at the present invention as a result of intensive research.
すなわち、オキシカルボン酸またはその塩(10−9の
重量部)、アミノポリカルボン酸またはその塩(10−
5の重量部)および界面活性剤(1一2の重量部)を必
須成分として含有することを特徴とする研摩液組成物を
提供するものである。That is, oxycarboxylic acid or its salt (10-9 parts by weight), aminopolycarboxylic acid or its salt (10-9 parts by weight)
The present invention provides a polishing liquid composition characterized in that it contains a surfactant (1-2 parts by weight) as essential components.
本発明における必須成分であるオキシカルポソ酸または
その塩、アミノカルボン酸またはその塩、および界面活
性剤は、いずれも単独もしくは複数併用可能である。Oxycarposoic acid or its salt, aminocarboxylic acid or its salt, and surfactant, which are essential components in the present invention, can be used alone or in combination.
また補助成分として、m 硝酸、硫酸、塩酸、リン酸、
塩酸などの無機塩‘2’苛性ソーダ、リン酸塩、炭酸塩
、ケイ酸塩、ホウ酸塩などの無機アルカリ塩類(ナトリ
ウム、カリウム、アンモニウムなど)糊 過酸化水素、
アルコール、グリセリン、寒天、にかわなど‘4)脂肪
酸の塩(カリウム、ナトリウム、アンモニウムなど)‘
5} 研摩材
を単独もしくは複数併用できることが可能であり、単独
もしくは複数汚れに対し、研摩性、光沢性の優れた研摩
液組成物である。In addition, as auxiliary ingredients, m nitric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid,
Inorganic salts such as hydrochloric acid '2' Inorganic alkaline salts such as caustic soda, phosphates, carbonates, silicates, borates (sodium, potassium, ammonium, etc.) Glue Hydrogen peroxide,
Alcohol, glycerin, agar, glue, etc.'4) Fatty acid salts (potassium, sodium, ammonium, etc.)'
5} It is possible to use one or more abrasives in combination, and the polishing liquid composition has excellent abrasive properties and gloss against stains alone or in combination.
本発明において、オキシカルボン酸またはその塩として
は、グルコン酸、クエン酸、リンゴ酸「酒石酸、乳酸、
グリコール酸またはそれ等のナトリウム、カリウム、ア
ンモニウム等の塩などである。In the present invention, examples of oxycarboxylic acids or salts thereof include gluconic acid, citric acid, malic acid, tartaric acid, lactic acid,
Glycolic acid or its salts such as sodium, potassium, ammonium, etc.
アミノポリカルボン酸またはその塩としては、ニトリロ
三酢酸、エチレンジアミン四酢酸、ジェチレントリアミ
ン五酢酸、グリコールェーテルジアミン四酢酸、1,2
ーシクロヘキサンジアミン四酢酸またはそれ等のナトリ
ウム、カリウム、アンモニウム等の塩などである。Examples of aminopolycarboxylic acids or salts thereof include nitrilotriacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, glycol ether diaminetetraacetic acid, 1,2
- Cyclohexanediaminetetraacetic acid or its sodium, potassium, ammonium, etc. salts.
界面活性剤としては、
非イオン界面活性剤(ポリオキシアルキルェーテル型、
ポリオキシェチレンアルキルフェニルェーテル型等)ア
ニオン界面活性剤(ポリオキシェチレンアルキルエーテ
ルまたはボリオキシエチレンアルキルフェニルェーテル
の硫酸またリン酸ェステルおよび塩など)カチオン界面
活性剤(ピリジウム型またはアミン型)
両性界面活性剤(アルキルカルボキシベタィン型、アル
キルアミノカルボン酸型、アルキルィミダゾリン型など
)を挙げることができる。As surfactants, nonionic surfactants (polyoxyalkyl ether type,
Polyoxyethylene alkyl phenyl ether type, etc.) Anionic surfactants (Sulfuric acid or phosphate esters and salts of polyoxyethylene alkyl ether or polyoxyethylene alkyl phenyl ether, etc.) Cationic surfactants (Pyridium type or amine type) amphoteric surfactants (alkylcarboxybetaine type, alkylaminocarboxylic acid type, alkylimidazoline type, etc.).
次に本発明研摩液組成物の組成割合について説明する。Next, the composition ratio of the polishing liquid composition of the present invention will be explained.
オキシカルボソ酸またはその塩は10−90重量部、好
ましくは30−6の重量部であり、IQ重量部以下では
特に脱脂性が劣る。アミノポリカルボン酸またはその塩
は10一5の重量部、好ましくは20−5の重量部であ
り、1の重量部以下では特にスケール除去性が劣る。The amount of the oxycarbosic acid or its salt is 10-90 parts by weight, preferably 30-6 parts by weight, and if it is less than IQ parts by weight, the degreasing property is particularly poor. The amount of aminopolycarboxylic acid or its salt is 10-5 parts by weight, preferably 20-5 parts by weight, and if it is less than 1 part by weight, the scale removal properties are particularly poor.
界面活性剤は1−2の重量部、好ましくは5−20重量
部であり、1重量部以下では脱脂性スケール除去性に劣
る。The amount of the surfactant is 1-2 parts by weight, preferably 5-20 parts by weight, and if it is less than 1 part by weight, the degreasing and scale removal properties are poor.
なお、水または補助成分は本組成物に対し0一90%配
合できる。Note that water or auxiliary ingredients can be blended in an amount of 0-90% with respect to the present composition.
本発明研摩液組成物は、鉄および特殊合金、プラスチッ
ク等の単独もしくは複数汚染に対する表面研摩性および
光沢性の優れた研摩液組成物であって、あらゆる補助成
分を単独もしくは複数併用することの可能な研摩液組成
物である。The polishing liquid composition of the present invention is a polishing liquid composition that has excellent surface abrasiveness and gloss against single or multiple contamination of iron, special alloys, plastics, etc., and can contain any auxiliary components singly or in combination. It is a polishing liquid composition.
次に、実施例によって本発明を詳細に説明する。(部、
%は重量基準を示す)実施例 1
(貨幣青銅(Sn3−8%)の電解研摩)清浄な貨弊青
鋼板(長さ100肋幅50肋厚さ0.3柳)にモービル
油8碇郭、大豆油2碇部からなる混合油を20夕/〆塗
布し〜 400oo電気炉中へ30秒間処理し、非研摩
飯を調整した。Next, the present invention will be explained in detail by way of examples. (Department,
(% indicates weight basis) Example 1 (Electrolytic polishing of coin bronze (Sn3-8%)) Mobil oil 8 anchors on a clean coin bronze steel plate (length 100, rib width 50, rib thickness 0.3 willow) A mixed oil consisting of 2 parts of soybean oil was coated every 20 minutes and treated in a ~400 oo electric furnace for 30 seconds to prepare a non-polished surface.
研摩液組成物として、章徹よ奪☆より払 鰍,5冊
だ芋楯子字孫盃鰐罰 5%
炭酸ナトリウム 50夕/乙リン酸ナ
トリウム 50夕/乙に調製し、被研摩
飯を陽極にて(陰極は銅飯)4A/d枕 50午0 3
栃皆、間電解研摩した。As a polishing liquid composition, prepare 5% sodium carbonate, 50% sodium phosphate, 50% sodium phosphate, and use the polished material as an anode. (Cathode is copper rice) 4A/d pillow 50pm 03
Tochi everyone did electrolytic polishing.
同様に炭酸ナトリウム150夕/そ、リン酸ナトリウム
100タノそで電解研摩したもの、または本発明組成物
のいずれか欠けたものは、本発明組成物に比べ光沢性に
劣った。実施例 2
(18/8ステンレス鋼板の化学研摩)
18/8ステンレス鋼板(長さ5仇岬幅5仇肋厚さ3柳
)にステアリン酸カルシウム202/め塗布し、600
℃電気炉中で3の砂間処理し、被研摩飯を調整した。Similarly, those which were electrolytically polished with sodium carbonate 150 mm/s, sodium phosphate 100 mm/s, or those lacking either of the compositions of the present invention were inferior in gloss compared to the compositions of the present invention. Example 2 (Chemical polishing of 18/8 stainless steel plate) An 18/8 stainless steel plate (length: 5 x width: 5 x rib thickness: 3 willow) was coated with calcium stearate of 202/m2 and 600
The grain to be polished was prepared by sand treatment at 3°C in an electric furnace.
研摩液組成物として、 クエン酸 30% 主℃舎キシーチレンリレおけ別%・o。As a polishing liquid composition, Citric acid 30% Separate % o in main temperature building.
夕/乙エニルエーテルリン酸エス 20%テルアニオン
界面活性剤
硝 酸 502/乙塩 酸
100夕/ムに調製し、被研摩飯を
50qC3分間浸潰した。502/Ethyl ether phosphate 20% anionic surfactant nitric acid
The rice to be polished was soaked in 50qC for 3 minutes.
同様にして、本発明品を供しない硝酸80夕/Z、塩酸
170夕/そで化学研摩液にて研摩したものまたは本発
明組成物のいずれか欠けたものは、本発明組成物で研摩
したものと比べ、光沢性につき劣った。実施例 3
(プラスチックの回転研摩)
プラスチックビン充填用容器(直径100側〆高さ12
仇剛)ポリカーボネート・ナイロン樹脂製を約6ケ月使
用すると、金属および金属酸化物充填設備等からの鍵油
、グリス、カーボンや有機物の複合汚染を受ける。Similarly, items that were polished with nitric acid 80 t/Z, hydrochloric acid 170 t/sleek chemical polishing liquid which did not provide the inventive product, or items lacking either of the inventive compositions were polished with the inventive composition. The gloss was inferior to that of the original. Example 3 (Rotary polishing of plastic) Container for filling plastic bottles (diameter 100 side end height 12
After using polycarbonate/nylon resin for about 6 months, it will be contaminated with key oil, grease, carbon, and organic matter from metal and metal oxide filling equipment.
研摩液組成物として「
グルコン酸ソーダ 50%
NTA‐3Na 40%
ボリオキシアルキルエーブル 3% 400タ非
イオン界面活性剤アルキルカルボキシベタイン 7%
型両性界面活性剤
牛脂石鹸 100分標準砂
1000夕水
1000夕を調製して「7そ磁製ボールミルにセ
ットし、10仇pm常温下3時間研摩を行った。The polishing liquid composition includes: Sodium gluconate 50% NTA-3Na 40% Bolioxyalkyl Able 3% 400% Nonionic surfactant Alkylcarboxybetaine 7% Amphoteric surfactant Beef tallow soap 100 minute standard sand
1000 Yusui
A sample of 1,000 mm was prepared, set in a porcelain ball mill, and polished at 10 mm at room temperature for 3 hours.
上記操作で得られたプラスチックビン充填用容器は光沢
の優れたものが得られ、同様にして本発明組成物のいず
れかが欠けたものは充分ではなかつた。The containers for filling plastic bottles obtained by the above procedure had excellent gloss, and similarly, those lacking any of the compositions of the present invention were not satisfactory.
以上の様に本発明研摩液組成物を使用した鉄、特殊合金
、プラスチック等は、各々表面に存在するあらゆる不要
物質を完全に除去せしめるとともに、その表面を平滑か
つ光沢良く研摩することができ、実用度の高いものであ
る。As described above, iron, special alloys, plastics, etc. using the polishing composition of the present invention can completely remove all unnecessary substances present on the surfaces of each material, and can polish the surfaces to make them smooth and glossy. It is highly practical.
Claims (1)
)、アミノポリカルボン酸またはその塩(10−50重
量部)および界面活性剤(1−20重量部)を必須成分
として含有することを特徴とする研摩液組成物。1. Contains oxycarboxylic acid or its salt (10-90 parts by weight), aminopolycarboxylic acid or its salt (10-50 parts by weight), and surfactant (1-20 parts by weight) as essential components. Polishing liquid composition.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12788782A JPS60382B2 (en) | 1982-07-21 | 1982-07-21 | polishing liquid composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12788782A JPS60382B2 (en) | 1982-07-21 | 1982-07-21 | polishing liquid composition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5918782A JPS5918782A (en) | 1984-01-31 |
| JPS60382B2 true JPS60382B2 (en) | 1985-01-08 |
Family
ID=14971110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12788782A Expired JPS60382B2 (en) | 1982-07-21 | 1982-07-21 | polishing liquid composition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60382B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6280282A (en) * | 1985-10-03 | 1987-04-13 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | Composition for barrel polishing liquid |
| US6039775A (en) * | 1997-11-03 | 2000-03-21 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive article containing a grinding aid and method of making the same |
| WO2000032712A1 (en) * | 1998-11-27 | 2000-06-08 | Kao Corporation | Abrasive fluid compositions |
-
1982
- 1982-07-21 JP JP12788782A patent/JPS60382B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5918782A (en) | 1984-01-31 |
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