JPS6038422B2 - アザメチン−金属錯化合物 - Google Patents
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は下記一般式(1)
〔式中、X,、XZ皮ぴX3は同一でも相異つてし、て
もよく、夫々水素−又はハロゲン−原子、アルキル一、
アルコキシー、フエニル−、トリルー、ニトロ一、力ル
ポアルコキシ−、スルホンアミドー、モノ−又はジーア
ルキルスルホンアミドー、カルボンアミド−、モノ−又
はジーアルキルカルボンアミドー、アルカ/ィルアミ/
−基、又は次式(式中、Gは−NHCO−、−S0がH
−又は−CONH−を、Rは水素−又はクロルー原子、
アルキルー、アルコキシー、スルホンアミド−又はカル
ボンアミド−基を表わす。
もよく、夫々水素−又はハロゲン−原子、アルキル一、
アルコキシー、フエニル−、トリルー、ニトロ一、力ル
ポアルコキシ−、スルホンアミドー、モノ−又はジーア
ルキルスルホンアミドー、カルボンアミド−、モノ−又
はジーアルキルカルボンアミドー、アルカ/ィルアミ/
−基、又は次式(式中、Gは−NHCO−、−S0がH
−又は−CONH−を、Rは水素−又はクロルー原子、
アルキルー、アルコキシー、スルホンアミド−又はカル
ボンアミド−基を表わす。
)なる基を意味し、又X,とX2とはフェニル環と一緒
になってペンズィミダゾロン環を形成することもできる
。
になってペンズィミダゾロン環を形成することもできる
。
Yは水素−、クロル−又はプロムー原子を意味し、〜は
ナフチル基、フェニル基(この基は1〜3個のアルキル
ー、アルコキシー、アルキルスルホニル−、力ルボアル
コキシ−、トリフルオルメチルー、ニトロ−、シアン一
、アルカノイルアミノ−、ベンゾイルアミノ−、力ルボ
ンアミノ−、モノ−又はジーアルキルカルポンアミドー
、スルホンアミド−、モノ−又はジーアルキルスルホン
アミド−基、又はハロゲン原子によって置換されていて
もよい)、ベンズイミダゾロンー、クロルベンズイミダ
ゾロンー、キナゾリンジオンー、キノキザリン−、フタ
ルイミドー又はフタラジンー基を意味し、Mは亜鉛−、
カドミウム−・コバルト−、ニッケル−又は鞠−原子を
意味する。〕なる新規な水不溶性アザメチン−金属鍵化
合物−ピグメントに関するものである。
ナフチル基、フェニル基(この基は1〜3個のアルキル
ー、アルコキシー、アルキルスルホニル−、力ルボアル
コキシ−、トリフルオルメチルー、ニトロ−、シアン一
、アルカノイルアミノ−、ベンゾイルアミノ−、力ルボ
ンアミノ−、モノ−又はジーアルキルカルポンアミドー
、スルホンアミド−、モノ−又はジーアルキルスルホン
アミド−基、又はハロゲン原子によって置換されていて
もよい)、ベンズイミダゾロンー、クロルベンズイミダ
ゾロンー、キナゾリンジオンー、キノキザリン−、フタ
ルイミドー又はフタラジンー基を意味し、Mは亜鉛−、
カドミウム−・コバルト−、ニッケル−又は鞠−原子を
意味する。〕なる新規な水不溶性アザメチン−金属鍵化
合物−ピグメントに関するものである。
特に好都合なピグメントは一般式(1)に於て、X,、
X2及び×3が同一でも相異つてし、てもよくて、夫々
水素−、クロルー又はブロムー原子、アルキルー、アル
コキシー、ニトロ−、アセチルアミノー、ベンゾイルア
ミノ−、カルポメトキシー、力ルボンアミドー、アルキ
ルカルボンアミド−又はフェニルカルボンアミドー基を
意味し、Yが水素一、クロム一又はプロム−原子を意味
し、〜がフェニル基(この基は1〜3個のアルキル−、
アルコキシー、アルキルスルホニル−、力ルボアルコキ
シー、トリフルオルメチル−、ニトロ一、シアン一、ア
ルカノイルアミノ−、力ルポンアミドー、モ/一又はジ
ーアルキルーカルボンアミドー、スルホンアミド−、モ
ノー又はジーアルキルスルホンアミドー基、ブロム−又
はクロム一原子によって置換されていてもよい)、ベン
ズィミダゾロンー又はク。
X2及び×3が同一でも相異つてし、てもよくて、夫々
水素−、クロルー又はブロムー原子、アルキルー、アル
コキシー、ニトロ−、アセチルアミノー、ベンゾイルア
ミノ−、カルポメトキシー、力ルボンアミドー、アルキ
ルカルボンアミド−又はフェニルカルボンアミドー基を
意味し、Yが水素一、クロム一又はプロム−原子を意味
し、〜がフェニル基(この基は1〜3個のアルキル−、
アルコキシー、アルキルスルホニル−、力ルボアルコキ
シー、トリフルオルメチル−、ニトロ一、シアン一、ア
ルカノイルアミノ−、力ルポンアミドー、モ/一又はジ
ーアルキルーカルボンアミドー、スルホンアミド−、モ
ノー又はジーアルキルスルホンアミドー基、ブロム−又
はクロム一原子によって置換されていてもよい)、ベン
ズィミダゾロンー又はク。
ルベンズィミダゾロン−基を意味し、Mがニッケル原子
好ましくは銅原子を意味するピグメントである。尚、こ
こに於て又以下に於てアルキル及びアルカノイルなる概
念の下に炭素原子1〜4個を含む基が了解さるべきであ
る。残基山としては例えばフェニル−・o一・m一、p
ートリルー、o−、m−、pーメトキシフエニルー、0
−、m−、P−エトキシフエニルー、o一、m一、pー
クロルフエニル−、0−、m−、Pーフロムフエニル−
、o−、mートリフルオルメチルフエニルー、o一、m
一、p−ニトロフエニル−、2・4−ジメチルフヱニル
−、2・5ージメトキシフエニル−、2・4−ジクロル
フエニルー、2・5ージクロルフヱニルー、2・4・5
−トリク。
好ましくは銅原子を意味するピグメントである。尚、こ
こに於て又以下に於てアルキル及びアルカノイルなる概
念の下に炭素原子1〜4個を含む基が了解さるべきであ
る。残基山としては例えばフェニル−・o一・m一、p
ートリルー、o−、m−、pーメトキシフエニルー、0
−、m−、P−エトキシフエニルー、o一、m一、pー
クロルフエニル−、0−、m−、Pーフロムフエニル−
、o−、mートリフルオルメチルフエニルー、o一、m
一、p−ニトロフエニル−、2・4−ジメチルフヱニル
−、2・5ージメトキシフエニル−、2・4−ジクロル
フエニルー、2・5ージクロルフヱニルー、2・4・5
−トリク。
ルフエニルー、2ークロルー3−メチルフエニル、2−
クロルー4−メチルフエニル−、2ークロルー5−メチ
ルフエニル−、3−クロル−2ーメチルフエニルー、4
ークロル−2ーメチルフエニルー、2ーメトキシー5−
クロルフエニルー、2・5ージメトキシー4−クロルフ
エニルー、2・4ージメトキシ−5ークロルフエニル−
、2−メトキシー4−クロル−5ーメチルフエニルー、
4ーアセチルアミノフエニル−、4ーベンゾイルアミノ
フエニルー、ベンズイミダゾリル−、フタルイミジルー
、キノキザリルー、キナゾリル−又はフタラジニルー基
が挙‘られる。本発明の対象は、更に、下記一般式(0
)〔式中、X,、X2、X3、Y及びArは前述の意味
を有し、Zは水素原子又はメチル基を意味する。
クロルー4−メチルフエニル−、2ークロルー5−メチ
ルフエニル−、3−クロル−2ーメチルフエニルー、4
ークロル−2ーメチルフエニルー、2ーメトキシー5−
クロルフエニルー、2・5ージメトキシー4−クロルフ
エニルー、2・4ージメトキシ−5ークロルフエニル−
、2−メトキシー4−クロル−5ーメチルフエニルー、
4ーアセチルアミノフエニル−、4ーベンゾイルアミノ
フエニルー、ベンズイミダゾリル−、フタルイミジルー
、キノキザリルー、キナゾリル−又はフタラジニルー基
が挙‘られる。本発明の対象は、更に、下記一般式(0
)〔式中、X,、X2、X3、Y及びArは前述の意味
を有し、Zは水素原子又はメチル基を意味する。
〕なるアザメチン化合物を金属を付与する釘−、ーツケ
ルー、亜鉛−、カドミウム−又はコバルト一塩と処理す
ることによる一般式(1)なる化合物の製法である。金
属化は好ましくは2価の銅、コバルト又はニッケルの塩
、例えばそれらのク。
ルー、亜鉛−、カドミウム−又はコバルト一塩と処理す
ることによる一般式(1)なる化合物の製法である。金
属化は好ましくは2価の銅、コバルト又はニッケルの塩
、例えばそれらのク。
ライド又はサルフェートを用いて、しかし又好ましくは
それらのアセテート、ホルミェート又はステアレートを
用いて、公3句の方法で有機溶剤中で行う。か)る溶剤
としては例えばグリコールモノメチルェーナル、ホルム
アミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン
、氷酢酸、アルコール又はこれらの溶剤と場合により水
との混合物が挙げられる。金属化は2〜6時間で70〜
180℃の温度で行うのが好ましい。Zが水素原子であ
る錫合には15ぴ0までの温度が好ましい。ZがC比で
ある一般式(0)の化合物を金属化する場合には同時に
脱アルキル化が起る。
それらのアセテート、ホルミェート又はステアレートを
用いて、公3句の方法で有機溶剤中で行う。か)る溶剤
としては例えばグリコールモノメチルェーナル、ホルム
アミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン
、氷酢酸、アルコール又はこれらの溶剤と場合により水
との混合物が挙げられる。金属化は2〜6時間で70〜
180℃の温度で行うのが好ましい。Zが水素原子であ
る錫合には15ぴ0までの温度が好ましい。ZがC比で
ある一般式(0)の化合物を金属化する場合には同時に
脱アルキル化が起る。
脱アルキル化性の金属化は有機溶剤中で比較的商い温度
で殊に100〜18び0で行うのが好ましい。溶剤とし
ては例えばグリコールモノメチルー及びーモ/エチルエ
ーテル、双極性非プロトン性溶剤、例えばジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド.スルホラン、Nーメ
チルビロリドンを使用するができる。金属鈴化合物はこ
れらの溶剤から炉過によって単離することができる。
で殊に100〜18び0で行うのが好ましい。溶剤とし
ては例えばグリコールモノメチルー及びーモ/エチルエ
ーテル、双極性非プロトン性溶剤、例えばジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド.スルホラン、Nーメ
チルビロリドンを使用するができる。金属鈴化合物はこ
れらの溶剤から炉過によって単離することができる。
本発明によるピグメントの最善の着色性を得るためには
完成ビグメントを溶剤中で、場合により水又は塩溶液の
存在下に、微細化した形に変えることが時として有利で
ある。
完成ビグメントを溶剤中で、場合により水又は塩溶液の
存在下に、微細化した形に変えることが時として有利で
ある。
この目的に対する溶剤としては染料は不溶であるが仕上
げ条件下にある程度の溶解を可能にするもの、例えば脂
肪族アルコール(例えばエタノール、イソプロパノール
、イソー又はn−プタ/−ル)、塩素化芳香族化合物(
例えばクロルベンゾール及びートルオール又はジクロル
ベンゾール)、並びに双極性非プロトン性溶剤(例えば
ジメチルホルムアミド、ジメチルーアセトアミド、ジメ
チルスルフオキシド、ポリアルキル尿素及び燐酸トリス
ジメチルアミド)などが適する。
げ条件下にある程度の溶解を可能にするもの、例えば脂
肪族アルコール(例えばエタノール、イソプロパノール
、イソー又はn−プタ/−ル)、塩素化芳香族化合物(
例えばクロルベンゾール及びートルオール又はジクロル
ベンゾール)、並びに双極性非プロトン性溶剤(例えば
ジメチルホルムアミド、ジメチルーアセトアミド、ジメ
チルスルフオキシド、ポリアルキル尿素及び燐酸トリス
ジメチルアミド)などが適する。
多くの場合に塩又は溶剤を用いての粉砕による微細化も
有利である。その際前者の場合には特に振動ミル上での
乾式粉砕及び続いての水による塩の溶出が行われ、続い
て場合により溶剤による湿式粉砕又は温度処理を行うこ
とができる。塩としては大体に於てハロゲン化水素酸又
は硫酸のアルカリ一及びアルカリ士類−塩、例えば塩化
ナトリウム、塩化カリウム、硫酸ナトリウム又は硫酸マ
グネシウムが使用される。
有利である。その際前者の場合には特に振動ミル上での
乾式粉砕及び続いての水による塩の溶出が行われ、続い
て場合により溶剤による湿式粉砕又は温度処理を行うこ
とができる。塩としては大体に於てハロゲン化水素酸又
は硫酸のアルカリ一及びアルカリ士類−塩、例えば塩化
ナトリウム、塩化カリウム、硫酸ナトリウム又は硫酸マ
グネシウムが使用される。
湿式粉砕に使用しうる溶剤は大体に於て上述の溶剤、例
えばアルコール、酸アミド又はジメチルスルフオキシド
である。
えばアルコール、酸アミド又はジメチルスルフオキシド
である。
一般式(0)の金属化されていないアザメチン化合物は
ドイツ公開明細書第2408291号に記載の方法によ
って製造することができる。
ドイツ公開明細書第2408291号に記載の方法によ
って製造することができる。
その際下記一般式(m)なるアルデヒドの1モルを常法
で下記一般式(W)なるoーアミノフエノール又はoー
アミノフエノールェーテルの1モルと縮合せしめる。
で下記一般式(W)なるoーアミノフエノール又はoー
アミノフエノールェーテルの1モルと縮合せしめる。
式(m)なるアルデヒド‘こ対する例としては次のもの
が挙げられる:1ーホルミルー2ーヒドロキシー3−ナ
フトエ酸ーアニリド、1−ホルミル−2ーヒドロキシ−
3−ナフトエ酸−2−クロルアニリド、1ーホルミルー
2−ヒドロキシー3ーナフトエ酸ー4′ークロルアニリ
ド、1ーホルミル−2ーヒドロキシー3−ナフトエ酸一
〆・4′ージクロルアニリド、1−ホルミルー2−ヒド
ロキシー3−ナフトエ酸一2・5−ジクロルアニリド、
1ーホルミルー2−ヒドロキシ−3ーナフトエ酸−Z−
メチルアニリド、1ーホルミルー2−ヒドロキシ−3−
ナフトエ酸一4′ーメチルアニリド、1ーホルミル−2
ーヒドロキシー3ーナフトエ酸−2−メトキシアニリド
、1ーホルミルー2ーヒドロキシー3ーナフトエ酸−2
−ェトキシアニリド、1ーホルミル−2ーヒドロキシ−
3ーナフトエ酸一4′−メトキシアニリド、1−ホルミ
ルー2ーヒドロキシー3ーナフトエ酸−4′ーェトキシ
アニリド、1−ホルミルー2ーヒドロキシー3ーナフト
ヱ酸ーズ・4′−ジメチルアニリド、1−ホルミルー2
ーヒドロキシ−3ーナフトエ酸−2−メチル−ゴークロ
ルアニリド、1ーホルミルー2−ヒドロキシー3ーナフ
トエ酸−2ーメチルー4′ークロルアニリド、1−ホル
ミルー2ーヒドロキシ−3ーナフトエ酸−2・5−ジメ
トキシアニリド、1ーホルミルー2ーヒドロキシー3ー
ナフトエ酸−Z・5′−ジメトキシー4′−クロルアニ
リド、1ーホルミル−2ーヒドロキシー3ーナフトエ酸
一Z・4′ージメトキシー5′−クロルアニリド、1−
ホルミル−2ーヒドロキシ−3ーナフトエ酸−4′ーア
セチルアミノアニリド、1ーホルミル−2ーヒドロキシ
−3−ナフトエ酸−イーベンゾィルアミノアニリド、1
−ホルミルー2−ヒドロキシー3−ナフトエ酸−3′ー
トリフルオルメチルアニリド、1−ホルミル−2−ヒド
ロキシー3ーナフトエ酸−2ーニトロアニリド、1ーホ
ルミル−2ーヒドロキシー6ーフロム−3ーナフトェ酸
アニリド、1ーホルミルー2−ヒドロキシ−3ーナフト
イルー5′ーアミノベンズイミダゾロン1−ホルミル−
2−ヒドロキシー3ーナフトイルー5−アミノープーク
ロルベンズイミダソロン1−ホルミル−2ーヒドロキシ
ー3ーナフトイル−6′−アミノーキナゾリンジオン1
−ホルミル−2−ヒドロキシー3ーナフトイルーナーア
ミノーキナゾリンジオン1−ホルミルー2ーヒドロキシ
ー3ーナフトイルー6′ーアミノキノキザリン1ーホル
ミルー2−ヒドロキシ−3−ナフトイル−4′一アミノ
ナフタルイミド1−ホルミル−2ーヒドロキシー3−ナ
フトイルー6−アミノフタラジンー般式(W)なる2ー
ヒドロキシ−又は2−アルコキシーアミンに対する例と
しては次のものが挙げられる:2−アミノフヱノール、
2−アミノー4ークロルーフヱノール、2−アミノー5
ークロルフエノール、2−アミノー6−クロルフエノー
ル、2ーアミノー4−フロムフエノール、1ーアミノ−
2−ナフトール、2−アミノ−4−ニトロフエ/−ル、
2−アミ/一5−ニトローフエノール、2ーメトキシー
5−アセチルアミノアニリン、2ーメトキシー5ーメチ
ル−4ーベンゾイルアミノアニリン、5−アミノー4−
ヒドロキシー1・2ーキシロール、5ーアミノ−4ーヒ
ドロキシ−1・3ーキシロール、6ークロル−4−アミ
/一3ーヒドロキシ−トルオール、4・6ージクロルー
2−アミノフエノール、3・4・6−トリクロルー2−
アミノフエノール、5ーニトロ−3−アミノー2一ヒド
ロキシトルオール、5ーニトロ−3ーアミノ−4一ヒド
ロキシトルオール、4・6.−ジニトロー2ーアミノフ
エノール、6ークロルー4ーニトロ−2−アミノフエ/
−ル、4ークロルー5−ニトロ−2ーアミノーフエノー
ル、4−クロルー6−ニトロ一2ーアミノフエノール、
5ークロル−2ーアミノアニソール、6−クロル−2ー
フミノーアニソール、4ーニトロ−2ーアミノアニソー
ル、5ーニトロ−2ーアミノアニソール、3・5ージニ
トロ−2ーアミノアニソール、4−クロル−5ーニトロ
ー2ーアミノアニール、2ーアミノー1・4一ジメトキ
シベンゾール、2ーアミノー4−アセトアミノアニソー
ル、3ーアミノ−4−ヒドロキシ安息香酸メチルェステ
ル、3ーアミノー4−メトキシ安息香酸アミド、3−ア
ミノー4ーメトキシ安息香酸アニリド、3ーアミノー4
−メトキシ−安息香酸−3′ークロルー2−メチルアニ
リド、3ーアミノ−4−メトキシ安息香酸−2・5−ジ
クロルアニリド、5−アミノ−6−ヒドロキシベンズイ
ミダゾロンー2、5ーアミノー6−ヒドロキシー7−ク
ロルベンズイミダゾロンー20本発明による新規化合物
は価値あるピグメントで、印刷インキ、デイスパージョ
ンベイント、塗料に途し、又高分子有機材料、例えばセ
ルローズーェーテル及びーェステル、ポリアミド、ポリ
ウレタン、ポリエステル、アセチルセルローズ、ニトロ
セルローズ、天然樹脂又は人造樹脂、例えばアミ/プラ
スチック、殊に尿素−及びメラミンーホルムアルデヒド
樹脂、アルキド樹脂、フェノールプラスチック、ポリカ
ーポネ−ト、ポリオレフイン、例えばポリエチレン又は
ポリプロピレン、ポリピニルクロリド、ポリアクリルニ
トリル、ボリアクリル酸ェステル、ゴム、カゼイン、シ
リコーン、シリコーン樹脂などの単独又は混合物を着色
するのに適する。
が挙げられる:1ーホルミルー2ーヒドロキシー3−ナ
フトエ酸ーアニリド、1−ホルミル−2ーヒドロキシ−
3−ナフトエ酸−2−クロルアニリド、1ーホルミルー
2−ヒドロキシー3ーナフトエ酸ー4′ークロルアニリ
ド、1ーホルミル−2ーヒドロキシー3−ナフトエ酸一
〆・4′ージクロルアニリド、1−ホルミルー2−ヒド
ロキシー3−ナフトエ酸一2・5−ジクロルアニリド、
1ーホルミルー2−ヒドロキシ−3ーナフトエ酸−Z−
メチルアニリド、1ーホルミルー2−ヒドロキシ−3−
ナフトエ酸一4′ーメチルアニリド、1ーホルミル−2
ーヒドロキシー3ーナフトエ酸−2−メトキシアニリド
、1ーホルミルー2ーヒドロキシー3ーナフトエ酸−2
−ェトキシアニリド、1ーホルミル−2ーヒドロキシ−
3ーナフトエ酸一4′−メトキシアニリド、1−ホルミ
ルー2ーヒドロキシー3ーナフトエ酸−4′ーェトキシ
アニリド、1−ホルミルー2ーヒドロキシー3ーナフト
ヱ酸ーズ・4′−ジメチルアニリド、1−ホルミルー2
ーヒドロキシ−3ーナフトエ酸−2−メチル−ゴークロ
ルアニリド、1ーホルミルー2−ヒドロキシー3ーナフ
トエ酸−2ーメチルー4′ークロルアニリド、1−ホル
ミルー2ーヒドロキシ−3ーナフトエ酸−2・5−ジメ
トキシアニリド、1ーホルミルー2ーヒドロキシー3ー
ナフトエ酸−Z・5′−ジメトキシー4′−クロルアニ
リド、1ーホルミル−2ーヒドロキシー3ーナフトエ酸
一Z・4′ージメトキシー5′−クロルアニリド、1−
ホルミル−2ーヒドロキシ−3ーナフトエ酸−4′ーア
セチルアミノアニリド、1ーホルミル−2ーヒドロキシ
−3−ナフトエ酸−イーベンゾィルアミノアニリド、1
−ホルミルー2−ヒドロキシー3−ナフトエ酸−3′ー
トリフルオルメチルアニリド、1−ホルミル−2−ヒド
ロキシー3ーナフトエ酸−2ーニトロアニリド、1ーホ
ルミル−2ーヒドロキシー6ーフロム−3ーナフトェ酸
アニリド、1ーホルミルー2−ヒドロキシ−3ーナフト
イルー5′ーアミノベンズイミダゾロン1−ホルミル−
2−ヒドロキシー3ーナフトイルー5−アミノープーク
ロルベンズイミダソロン1−ホルミル−2ーヒドロキシ
ー3ーナフトイル−6′−アミノーキナゾリンジオン1
−ホルミル−2−ヒドロキシー3ーナフトイルーナーア
ミノーキナゾリンジオン1−ホルミルー2ーヒドロキシ
ー3ーナフトイルー6′ーアミノキノキザリン1ーホル
ミルー2−ヒドロキシ−3−ナフトイル−4′一アミノ
ナフタルイミド1−ホルミル−2ーヒドロキシー3−ナ
フトイルー6−アミノフタラジンー般式(W)なる2ー
ヒドロキシ−又は2−アルコキシーアミンに対する例と
しては次のものが挙げられる:2−アミノフヱノール、
2−アミノー4ークロルーフヱノール、2−アミノー5
ークロルフエノール、2−アミノー6−クロルフエノー
ル、2ーアミノー4−フロムフエノール、1ーアミノ−
2−ナフトール、2−アミノ−4−ニトロフエ/−ル、
2−アミ/一5−ニトローフエノール、2ーメトキシー
5−アセチルアミノアニリン、2ーメトキシー5ーメチ
ル−4ーベンゾイルアミノアニリン、5−アミノー4−
ヒドロキシー1・2ーキシロール、5ーアミノ−4ーヒ
ドロキシ−1・3ーキシロール、6ークロル−4−アミ
/一3ーヒドロキシ−トルオール、4・6ージクロルー
2−アミノフエノール、3・4・6−トリクロルー2−
アミノフエノール、5ーニトロ−3−アミノー2一ヒド
ロキシトルオール、5ーニトロ−3ーアミノ−4一ヒド
ロキシトルオール、4・6.−ジニトロー2ーアミノフ
エノール、6ークロルー4ーニトロ−2−アミノフエ/
−ル、4ークロルー5−ニトロ−2ーアミノーフエノー
ル、4−クロルー6−ニトロ一2ーアミノフエノール、
5ークロル−2ーアミノアニソール、6−クロル−2ー
フミノーアニソール、4ーニトロ−2ーアミノアニソー
ル、5ーニトロ−2ーアミノアニソール、3・5ージニ
トロ−2ーアミノアニソール、4−クロル−5ーニトロ
ー2ーアミノアニール、2ーアミノー1・4一ジメトキ
シベンゾール、2ーアミノー4−アセトアミノアニソー
ル、3ーアミノ−4−ヒドロキシ安息香酸メチルェステ
ル、3ーアミノー4−メトキシ安息香酸アミド、3−ア
ミノー4ーメトキシ安息香酸アニリド、3ーアミノー4
−メトキシ−安息香酸−3′ークロルー2−メチルアニ
リド、3ーアミノ−4−メトキシ安息香酸−2・5−ジ
クロルアニリド、5−アミノ−6−ヒドロキシベンズイ
ミダゾロンー2、5ーアミノー6−ヒドロキシー7−ク
ロルベンズイミダゾロンー20本発明による新規化合物
は価値あるピグメントで、印刷インキ、デイスパージョ
ンベイント、塗料に途し、又高分子有機材料、例えばセ
ルローズーェーテル及びーェステル、ポリアミド、ポリ
ウレタン、ポリエステル、アセチルセルローズ、ニトロ
セルローズ、天然樹脂又は人造樹脂、例えばアミ/プラ
スチック、殊に尿素−及びメラミンーホルムアルデヒド
樹脂、アルキド樹脂、フェノールプラスチック、ポリカ
ーポネ−ト、ポリオレフイン、例えばポリエチレン又は
ポリプロピレン、ポリピニルクロリド、ポリアクリルニ
トリル、ボリアクリル酸ェステル、ゴム、カゼイン、シ
リコーン、シリコーン樹脂などの単独又は混合物を着色
するのに適する。
その際上記高分子化合物が可塑性物質又は熔融物として
或は抜糸溶液、ラッカー又は印漆ペーストの形で存在す
るか否かは問題ではない。使用目的の如何により該新規
ピグメントをトーナーとして又は調製物の形で使用する
のが有利である。該ビグメントは温度の着色力及び透明
度、極めて良好な上塗り堅牢性及び卓越した日光塗牢性
を有することで特にすぐれており、そしてこれらの性質
に基き特にメタリックラッカーを着色するのに適する。
或は抜糸溶液、ラッカー又は印漆ペーストの形で存在す
るか否かは問題ではない。使用目的の如何により該新規
ピグメントをトーナーとして又は調製物の形で使用する
のが有利である。該ビグメントは温度の着色力及び透明
度、極めて良好な上塗り堅牢性及び卓越した日光塗牢性
を有することで特にすぐれており、そしてこれらの性質
に基き特にメタリックラッカーを着色するのに適する。
以下の例は本発明を一層詳細に説明するためのものであ
る。
る。
例1
1ーホスミル−2ーヒドロキシー3ーナフトエ酸アニリ
ド29.2夕をエタノール200の‘と水20.0の‘
との中に加え、15分間激しく澄拝する。
ド29.2夕をエタノール200の‘と水20.0の‘
との中に加え、15分間激しく澄拝する。
ついで2−アミノフェノール11.4夕を加え、更に1
時間激しく縄拝する。その際反応容器を窒素で重畳せし
める。ついで加熱して90分間6び0に保った後冷却し
、結晶を吸引炉敬し、水洗し、6び○で乾燥する。かく
して黄色のアザメチンが袷んど定量的収量で得られる(
斑の。得られたアザメチン19.1夕をジメチルホルム
アミド100凧【中に熔解し、酢酸鋤く0)10夕をグ
リコールジメチルェーテル100の【に加えたものを添
加する。
時間激しく縄拝する。その際反応容器を窒素で重畳せし
める。ついで加熱して90分間6び0に保った後冷却し
、結晶を吸引炉敬し、水洗し、6び○で乾燥する。かく
して黄色のアザメチンが袷んど定量的収量で得られる(
斑の。得られたアザメチン19.1夕をジメチルホルム
アミド100凧【中に熔解し、酢酸鋤く0)10夕をグ
リコールジメチルェーテル100の【に加えたものを添
加する。
ついで4時間105qoで蝿拝し、冷却し、生成物を室
温で吸引炉取する。これを一度ジメチルホルムアミドで
、続いて水で洗練し、乾燥る。かくして次式なる濃黄色
のアザメチン−鋼鰭化合物18.3夕が得られた。
温で吸引炉取する。これを一度ジメチルホルムアミドで
、続いて水で洗練し、乾燥る。かくして次式なる濃黄色
のアザメチン−鋼鰭化合物18.3夕が得られた。
例 2〜42
例1に従い式(m)のアルデヒドを式(W)のアミンと
縮合せしめて得られる一般式(ロ)のアザメチン化合物
を例1に従って金属塩と反応せしめると、その他のアザ
メチンー金属鍔化合物(1)が得られる。
縮合せしめて得られる一般式(ロ)のアザメチン化合物
を例1に従って金属塩と反応せしめると、その他のアザ
メチンー金属鍔化合物(1)が得られる。
なお以下の例に於て使用された金属塩は例2、3、8〜
11及び19に於ては酢酸鋼であり、例4及び26に於
てはステアリン酸鋼であり、例5〜7、12〜1も 1
0 17、20〜25及び27〜42に於ては硫酸鍵で
あり、例15に於てはステアリン酸亜鉛であり、例18
に於ては酢酸ニッケルである。
11及び19に於ては酢酸鋼であり、例4及び26に於
てはステアリン酸鋼であり、例5〜7、12〜1も 1
0 17、20〜25及び27〜42に於ては硫酸鍵で
あり、例15に於てはステアリン酸亜鉛であり、例18
に於ては酢酸ニッケルである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記一般式(I) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、X_1、X_2及びX_3は同一でも相異つて
いてもよく、夫々水素−又はハロゲン−原子、アルキル
−、アルコキシ−、フエニル−、トリル−、ニトロ−、
カルボアルコキシ−、スルホンアミド−、モノ−又はジ
−アルキルスルホンアミド−、カルボンアミド−、モノ
−又はジ−アルキルカルボンアミド−、アルカノイルア
ミノ−基、又は次式▲数式、化学式、表等があります▼
(式中、Gは−NHCO−又は−CONH−を、Rは水
素原子を表わす。 )なる基を意味するか又はX_1とX_2とはフエニル
環と一緒になつてベンズイミダゾロン環を形成し且つX
_3は水素原子を意味する。 Yは水素−、クロル−又はブロム−原子を意味し、Ar
はナフチル基、フエニル基(この基は1〜3個のアルキ
ル−、アルコキシ−、アルキルスルホニル−、カルボア
ルコキシ−、トリフルオルメチル−、ニトロ−、シアン
−アルカノイルアミノ−、ベンゾイルアミノ−、カルボ
ンアミド−、スルホンアミド−、モノ−又はジ−アルキ
ルカルボン−又は−スルホン−アミド−基、又はハロゲ
ン原子によつて置換されていてもよい)、ベンズイミダ
ゾロン−、クロルベンズイミダゾロン−、キナゾリンジ
オン−、キノキザリン−、フタルイミド−又はフタラジ
ン−基を意味し、Mは亜鉛−、ニツケル−、又は銅−原
子を意味する。その際アルキル−、アルコキシ−及びア
ルカノイル−基は4個までの炭素原子を含む。〕で示さ
れるアザメチン−金属錯化合物。 ただし下記式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1は水素原子又はメチル基を意味し、R_
2は水素−又はハロゲン−原子、アルキル−、アルコキ
シ−、ニトロ−、カルボアルコキシ−、カルボンアミド
−、モノ−又はジ−アルキルカルボンアミド−、フエニ
ルアミノカルボニル−、アルカノイルアミノ−、アルキ
シカルボニルアミノ−、ベンゾイルアミノ−又はベンジ
ルカルボニルアミノ−基を意味し、R_3は水素−、ク
ロル−又はブロム−原子を意味し、R_4はベンズイミ
ダゾロン基、フエニル基又は−クロル、ブロム及びメチ
ルの群から選ばれる3個までとシアン、ニトロ、メトキ
シ、エトキシ及びトリフルオルメチルの群から選ばれる
2個までとから選ばれる3個までの置換基をもつ−フエ
ニル基を意味する〕で示される化合物の場合を除く。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51000625A JPS6038422B2 (ja) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | アザメチン−金属錯化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51000625A JPS6038422B2 (ja) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | アザメチン−金属錯化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5285216A JPS5285216A (en) | 1977-07-15 |
| JPS6038422B2 true JPS6038422B2 (ja) | 1985-08-31 |
Family
ID=11478900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51000625A Expired JPS6038422B2 (ja) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | アザメチン−金属錯化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6038422B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05275132A (ja) * | 1992-03-27 | 1993-10-22 | Mitsubishi Denki Shomei Kk | アース端子付接続端子台 |
| US6914114B2 (en) | 2000-07-17 | 2005-07-05 | Honeywell International Inc. | Absorbing compounds for spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography |
| US8992806B2 (en) | 2003-11-18 | 2015-03-31 | Honeywell International Inc. | Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof |
-
1976
- 1976-01-01 JP JP51000625A patent/JPS6038422B2/ja not_active Expired
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05275132A (ja) * | 1992-03-27 | 1993-10-22 | Mitsubishi Denki Shomei Kk | アース端子付接続端子台 |
| US6914114B2 (en) | 2000-07-17 | 2005-07-05 | Honeywell International Inc. | Absorbing compounds for spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography |
| US8992806B2 (en) | 2003-11-18 | 2015-03-31 | Honeywell International Inc. | Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5285216A (en) | 1977-07-15 |
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