JPS604165A - Sulfonium derivatives - Google Patents
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- JPS604165A JPS604165A JP58112460A JP11246083A JPS604165A JP S604165 A JPS604165 A JP S604165A JP 58112460 A JP58112460 A JP 58112460A JP 11246083 A JP11246083 A JP 11246083A JP S604165 A JPS604165 A JP S604165A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なスルホニウム化合物及びその製造法に関
する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a novel sulfonium compound and a method for producing the same.
本発明のスルホニウム化合物は、下記一般式(I)で表
わされる。The sulfonium compound of the present invention is represented by the following general formula (I).
〔式中R□及びR2は同一または相異なって低級アル+
ル基を、R3は水素原子または低級アル+ル基は水素原
子またはカルボ+シル基を、R6は水素原子、低級アル
]+シ基、ハロゲン原子、水酸基、トリフルオロメチル
基、低級アシル基、低級アル士ル基、テトラシリルカル
バモイル基、カルボ士ジメチル基、3−(2−オ士ソー
4−ハイドロ+シテトラ八イドロフリル)オ+シ基また
は低級アルコ+ジカルボニルメチルカルバtイル基を示
す)を夫々示す。またR3及びR1,は互いに結合して
メチレン鎖となり、之等の結合する窒素原子と共に複素
環基を形成してもよい。ルはI−3の整数及びYは酸残
基を示す。〕
上記一般式(I)中R□、R2、R3、R4及びR6で
表わされる低級アル中ル基としては、炭素数1〜6のア
ルキル基例えばメチル、エチル、−5oヒル、イソ″5
Dピル、づチル、イソづチル、を−づチル、ペンチル、
へ十シル基等を例示できる。[In the formula, R□ and R2 are the same or different and lower alk+
R3 is a hydrogen atom or a lower alkyl group is a hydrogen atom or a carboxyl group, R6 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, a trifluoromethyl group, a lower acyl group, lower alkyl group, tetrasilylcarbamoyl group, carboxydimethyl group, 3-(2-hydro4-hydro+cytetrahydrofuryl)o+cy group or lower alkoxy+dicarbonylmethylcarbatyl group) are shown respectively. Further, R3 and R1 may be bonded to each other to form a methylene chain, and together with the nitrogen atoms to which they are bonded, form a heterocyclic group. R represents an integer of I-3, and Y represents an acid residue. ] In the above general formula (I), the lower alkyl groups represented by R□, R2, R3, R4 and R6 include alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, such as methyl, ethyl, -5o hyal, iso''5
D pill, butyl, isobutyl, -butyl, pentyl,
Examples include hexyl group.
一般式(I)中R4で示されるシフ0アル+ル基として
は炭素数5〜7のシクロアル十ル基部ちシフ0ペンチル
、シクロへ+シル、シフ0へづチル基コ+シ基としては
炭素数1〜6のアル]+シ基、例えばメト士シ、エト+
シ、づDピルオ+シ、イソづロピルオ十シ、づト十シ、
を−づト士シ、ペンチルオ+シ、へ十シルオ+シ基等を
、ハロゲン原子としては弗素、塩素、臭素、沃素原子等
を、低級アシル基としては炭素数2〜6のアシル基、例
えばアセチル、″50ヒ才二ル、づチリル、ヒバロイル
、力″50イル基等を、低級アル]+ジカルボニルメチ
ルカルバtイル基としては炭素数4〜9のアルコ+ジカ
ルボニルメチルカルバ[イル基、例えばメト十ジカルボ
ニルメチルカルバ七イル、エト十ジカルボニルメチルカ
ルバモイル、′50ピルオ+ジカルボニルメチルカルバ
七イル、イソづ0ビルオ+ジカルボニルメチルカルバ七
イル、づト十ジカルボニルメチルカルバ七イル、を−づ
ト牛ジカルボニルメチルカルバtイル、へ+シ0十ジカ
ルボニルメチルカルバ七イル基等を夫々例示することが
できる。In the general formula (I), R4 represents a cycloalyl group having 5 to 7 carbon atoms, pentyl, cycloh+sil, and a co+cy group. C 1 to 6 Al]+ groups, such as methoxy, etho+
shi, zu D piluo + shi, isozuro piluo tenshi, zuto tenshi,
Examples of halogen atoms include fluorine, chlorine, bromine, and iodine atoms; examples of lower acyl groups include acyl groups having 2 to 6 carbon atoms, e.g. Acetyl, 50-hydroxyl, dityryl, hivaloyl, 50-yl group, etc., can be used as a lower alkyl group and a dicarbonylmethylcarbatyl group having 4 to 9 carbon atoms. , for example, meth-10-dicarbonylmethylcarb7yl, etho-10-dicarbonylmethylcarbamoyl, '50-pyruo + dicarbonylmethyl-carb7yl, isozy-dicarbonylmethyl-carb7yl, d-1-10-dicarbonylmethylcarb7yl, , and dicarbonylmethylcarbatyyl, and dicarbonylmethylcarba7yl, and the like, respectively.
一般式(I)中R3及びR4が互い圧結合して形成し得
るメチレジ鎖としては例えばエチレシ、トリメチレy、
テトラメチレジ、ベシタメチレシ、へ士すメチレン鎖等
を例示することができる。In the general formula (I), R3 and R4 may be bonded to each other to form a methylated chain, such as ethylene, trimethylene,
Examples include tetramethylene chain, beshitamethylene chain, and hesyl methylene chain.
一般式(I)中、Yで表わされる酸残基としては医薬品
として使用できるものであれば良く、具体的には次の無
機酸残基及び有機酸残基を例示できる。In general formula (I), the acid residue represented by Y may be any acid residue that can be used as a pharmaceutical, and specific examples include the following inorganic acid residues and organic acid residues.
無機酸残基・−・・・塩化水素、沃化水素、臭化水素、
四弗化硼素酸、過塩素酸、リシ酸等の酸残基。Inorganic acid residues --- hydrogen chloride, hydrogen iodide, hydrogen bromide,
Acid residues such as tetrafluoroboric acid, perchloric acid, and ricic acid.
有機酸残基・・・・・メタルスルホン酸、トルエyスル
ホシ酸、カシファースルホシe、1.5−4’ニア’2
1ノ、7ジスルホシ酸等の有機スルホン酸残基及び乳酸
、マレイン酸、マOン酸等のカルポジ酸残基。Organic acid residues: metal sulfonic acid, toluene sulfosic acid, cassifer sulfoshie, 1.5-4'near'2
Organic sulfonic acid residues such as 1- and 7-disulfosic acids, and carpositic acid residues such as lactic acid, maleic acid, and maronic acid.
本発明の上記一般式(I)で表わされるスルホニウム化
合物は、抗アレルギー作用等を有し、医薬品として有用
である。The sulfonium compound represented by the above general formula (I) of the present invention has antiallergic effects and is useful as a pharmaceutical.
以下本発明化合物の製造法につき説明する。The method for producing the compound of the present invention will be explained below.
本発明化合物は、例えば下記各種の方法により製造でき
る。The compounds of the present invention can be produced, for example, by the following various methods.
一般式
(式中R□、R3、R4及びルは前記と同一の意味を示
す。)
で表わされるスルファイド化合物と一般式%式%()
(式中R2及びYは前記と同一の意味を示す。)で表わ
される化合物とを反応させる。A sulfide compound represented by the general formula (in which R□, R3, R4, and R have the same meanings as above) and the general formula % (%) (in which R2 and Y have the same meanings as above) .) is reacted with the compound represented by.
本反応は溶媒中或いは無溶媒で、−30〜150℃、好
ましくは0〜100℃以下、反応時間的0.5〜72時
間で行なわれる。化合物(III)はスルファイド化合
物(II)に対し、過剰量使用しても良いが好ましくけ
理論量の約1〜4倍モル量使用するのが良い。溶媒とし
てはメタノール、エタノール、づDパノール等のアルコ
ール類;アセトニトリル、ニドOメタシ、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホ牛サイド等の極性溶媒;メチ
リンク0ライド、りOOホルム等のハ0ゲシ化炭化水素
類;べ、7ゼシ、トルエン、牛シレシ等の芳香族炭化水
素類;エチルエーテル、づ0じルエーテル等のエーテル
類;その他アセトシ、石油エーテル、酢酸エチル、水、
及びこれら溶媒の混合溶媒等を使用できる。反応は必要
に応じて密閉容器中で行なうことができる。This reaction is carried out in a solvent or without a solvent at -30 to 150°C, preferably 0 to 100°C or less, for a reaction time of 0.5 to 72 hours. Compound (III) may be used in an excess amount relative to sulfide compound (II), but is preferably used in an amount of about 1 to 4 times the theoretical amount. Examples of solvents include alcohols such as methanol, ethanol, and panol; polar solvents such as acetonitrile, dimethylformamide, dimethylsulfonamide, and dimethylsulfonamide; halogenated hydrocarbons such as methylinolide and riOOform; Aromatic hydrocarbons such as beetroot, toluene, and beef sardine; ethers such as ethyl ether and sulfur ether; other acetate, petroleum ether, ethyl acetate, water,
A mixed solvent of these solvents can also be used. The reaction can be carried out in a closed container if necessary.
原料として用いられるスルファイド化合物(II)は、
例えば一般式
%式%()
(式中R□及びルは前記と同一の意味を示し、hal−
はハロゲン原子を示す。)
で表わされる化合物と、一般式
(式中R3及びR4は前記と同一の意味を示す。)で表
わされる化合物とを、好ましくは塩基性化合物、例えば
ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、これらの水素
化物、これらの水酸化物又はこれらの炭酸塩或いはヒリ
ジシ、tルホリン、ごペリジシ、ピベラ、;シ、トリエ
チルアミン等の存在下、無溶媒又は適当な溶媒中0〜2
oo℃程度の温度下に反応させることにょシ合成される
。該スルファイド化合物(n)の合成の詳細は、後記参
考例において記述する。The sulfide compound (II) used as a raw material is
For example, the general formula % formula % () (wherein R□ and R have the same meanings as above, hal-
indicates a halogen atom. ) and the compound represented by the general formula (in which R3 and R4 have the same meanings as above) are preferably combined with basic compounds, such as alkali metals such as sodium and potassium, and hydrogen thereof. compounds, hydroxides thereof, or carbonates thereof, or in the presence of hydroxides, t-sulfoline, peroxides, pipera, triethylamine, etc., without a solvent or in an appropriate solvent.
It is usually synthesized by reacting at a temperature of about 0°C. Details of the synthesis of the sulfide compound (n) will be described in Reference Examples below.
一般式
(式中R1%R2、R3、Ra及びルは前記と同一の意
味を示し、Xはハロゲン原子を示す。)で表ゎされるス
ルホニウムハライドと、一般式%式%()
(式中Zは銀原子又はアルカリ金属原子及びY□はXで
示されるハロゲン原子以外の酸残基を示す。)
で表わされる化合物とを反応させる。A sulfonium halide represented by the general formula (R1%R2, R3, Ra, and R have the same meanings as above, and X represents a halogen atom) and a sulfonium halide represented by the general formula Z represents a silver atom or an alkali metal atom, and Y□ represents an acid residue other than the halogen atom represented by X.
本方法は、スルホニウムハライド(■)(本発明の一般
式(I)で表わされる化合物中Yがハロゲン化水素酸残
基を示すもの)の塩交換反応を利用するものであシ、該
原料化合物は上記製造法Aに従い製造される。該スルホ
ニウムハライド(Vl)は、反応系より単離することな
く、反応混合物の形態でも本反応に有利に使用できる。This method utilizes a salt exchange reaction of a sulfonium halide (■) (in the compound represented by the general formula (I) of the present invention, Y represents a hydrohalic acid residue), and the raw material compound is produced according to production method A above. The sulfonium halide (Vl) can be advantageously used in this reaction in the form of a reaction mixture without being isolated from the reaction system.
勿論反応系より単離精製して用いることもできる。Of course, it can also be used after being isolated and purified from the reaction system.
他方の原料化合物とする化合物(■)としては、本発明
の一般式(I)中Yに対応する酸残基を提供し得る各酸
の銀塩又はアルカリ金属塩を使用できる。上記酸として
は例えば塩化水素、臭化水素、゛ヨウ化水素、過塩素酸
、四弗化硼素酸等の無機酸及びマレイン酸、マロン酸、
乳酸、カンファースルホン酸、メタシスルホシ酸、トシ
ル酸、ピクリルスルホシ酸、1.5−ナフタレンジスル
ホン酸等の有機酸を例示できる。またアルカリ金属とし
ては例えばナトリウム、カリウム、リチウム等を例示で
きる。As the compound (■) used as the other raw material compound, silver salts or alkali metal salts of acids capable of providing the acid residue corresponding to Y in the general formula (I) of the present invention can be used. Examples of the above-mentioned acids include inorganic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide, perchloric acid, and tetrafluoroboric acid; maleic acid, malonic acid;
Examples include organic acids such as lactic acid, camphorsulfonic acid, metacisulfosic acid, tosylic acid, picrylsulfosic acid, and 1,5-naphthalenedisulfonic acid. Examples of the alkali metals include sodium, potassium, and lithium.
水塩交換反応は溶媒中、約−30〜150℃、好ましく
は約0〜100℃で行われる。化合物(■)はスルホニ
ウムハライド(VI)に対し、好ましくは理論量の約1
〜4倍量で使用される。溶媒としては前記製造法Aの反
応に使用されると同一の各種の溶媒をいずれも使用でき
る。The water-salt exchange reaction is carried out in a solvent at about -30 to 150°C, preferably about 0 to 100°C. Compound (■) is preferably used in a theoretical amount of about 1
~4 times the amount used. As the solvent, any of the same various solvents used in the reaction of production method A above can be used.
本方法も塩交換反応を利用するものであり、上記スルホ
ニウムパライト(Vl)に、酸化銀と一般式%式%()
(式中yiは前記と同一の意味を示す。)で表わされる
化合物とを反応させる。This method also utilizes a salt exchange reaction, in which silver oxide and a compound represented by the general formula % (in the formula yi has the same meaning as above) are added to the sulfonium pallite (Vl). react with.
原料として用いられるスルホニウムハライド(Vl)は
、製造法Bで示したものと同一であり、またBY□で表
わされる化合物(■)は、本発明の一般式(I)で表わ
される化合物中Yで示される酸残基を提供し得る遊離形
態の有機酸もしくは無機酸である。その具体例は、上記
製造法Bに示す通りである。The sulfonium halide (Vl) used as a raw material is the same as that shown in Production Method B, and the compound (■) represented by BY□ is the compound represented by Y in the compound represented by the general formula (I) of the present invention. An organic or inorganic acid in free form that can provide the indicated acid residue. A specific example thereof is as shown in the manufacturing method B above.
本反応において酸化銀は、原料とするスルホニウムハラ
イド(Vl)に対して通常等モル以上、好ましくは約1
−4倍モルの割合で用い得る。またff□で表わされる
酸の使用割合は、原料とするスルホニウムハライド(V
I)に対して等モル以上、好ましくは約1〜4倍℃ル比
とするのがよい。本反応は、通常溶媒中、約−30〜1
50℃、好ましくは約0〜100℃で行なわれる。溶媒
としては前記製造法Aのそれと同一でよい。In this reaction, the amount of silver oxide is usually at least equimolar, preferably about 1 mole or more, based on the sulfonium halide (Vl) used as the raw material.
- Can be used in a 4-fold molar ratio. In addition, the ratio of the acid represented by ff□ is the sulfonium halide (V
It is preferable that the amount is equal to or more, preferably about 1 to 4 times the molar ratio relative to I). This reaction is usually carried out in a solvent from about -30 to 1
It is carried out at 50°C, preferably about 0-100°C. The solvent may be the same as that used in Production Method A above.
上記製造法A−CK従い得られる本発明のスルホニウム
化合物は、反応終了後通常の分離方法に従って単離でき
る。該分離方法としては、−例えば再結晶法、抽出法、
濃縮法、カラムク0マドクラフイー等を採用できる。The sulfonium compound of the present invention obtained according to the above production method A-CK can be isolated according to a conventional separation method after the reaction is completed. The separation methods include - for example, recrystallization, extraction,
Concentration methods, column filters, etc. can be adopted.
本発明化合物は、抗アレルf−作用を有するほかKも生
体の免疫能を光通する作用;制癌作用;免疫調節作用:
消炎鎮痛作用:肝機能改善作用;抗自己免疫作用:感染
防御作用:副作用として免疫抑制作用を有する例えばス
テ0イド剤、制癌剤等の有効成分化合物のこれら副作用
防止作用;免疫療法の補助作用;血小板凝集阻止作用;
生物成長調節作用等を有し、医薬品、農薬として有用で
ある。The compound of the present invention has anti-allele f-action as well as K-transmitting action on the immune system of the living body; anticancer action; immunomodulatory action:
Anti-inflammatory and analgesic effect: Liver function improvement effect; Anti-autoimmune effect: Infection protection effect: Side effect prevention of active ingredient compounds such as steroids and anticancer drugs that have immunosuppressive effects as side effects; Adjunct effect for immunotherapy; Platelets Aggregation prevention effect;
It has biological growth regulating effects and is useful as medicines and agricultural chemicals.
本発明化合物は、これを医薬として用いるに当っては、
治療目的に応じて各種の投与形態を採用可能である。該
形態としては例えば、経口剤、注射剤、直腸坐剤、吸入
剤等のいずれでも良く、2等投与形態は、夫々当業者に
公知慣用の製剤方法により製造できる。経口用固型製剤
を調製する場合は、本発明化合物に賦形剤、必要に応じ
て結合剤、崩解剤、滑沢剤、着色剤、矯味剤、矯臭剤等
を加えた後、常法により錠剤、被覆錠剤、顆粒剤、散剤
、力づセル剤等を製造することができる。経口液状製剤
を調製する場合には、本発明化合物に矯味剤、緩衝剤、
安定化剤、矯臭剤等を加えて常法により、内服液剤、シ
Oツづ剤等を製造することができる。注射剤を調製する
場合は、本発明化合物にpH調整剤、緩衝剤、安定化剤
、等張化剤、局所麻酔剤等を添加し、常法により、皮下
、筋肉内、静脈内用注射剤を製造することができる。直
腸坐剤を調製する場合には1本発明化合物に賦形剤、更
に必要に応じて界面活性剤等を加えた後、常法によシ坐
剤を製造することができる。吸入剤を調製する場合には
、本発明化合物に賦形剤、噴射剤等を必要に応じて添加
し、常法により吸入剤を製造することができる。When using the compound of the present invention as a medicine,
Various dosage forms can be adopted depending on the therapeutic purpose. Such forms may be, for example, oral preparations, injections, rectal suppositories, inhalants, etc., and the secondary dosage forms can be manufactured by conventional formulation methods known to those skilled in the art. When preparing a solid preparation for oral use, after adding an excipient, if necessary, a binder, a disintegrant, a lubricant, a coloring agent, a flavoring agent, a flavoring agent, etc. to the compound of the present invention, By this method, tablets, coated tablets, granules, powders, force cells, etc. can be manufactured. When preparing an oral liquid preparation, the compound of the present invention may be added with a flavoring agent, a buffering agent,
Oral liquid preparations, ointment preparations, etc. can be manufactured by adding stabilizers, flavoring agents, etc., by conventional methods. When preparing an injection, a pH adjuster, a buffer, a stabilizer, a tonicity agent, a local anesthetic, etc. are added to the compound of the present invention, and a subcutaneous, intramuscular, or intravenous injection is prepared using a conventional method. can be manufactured. When preparing a rectal suppository, the compound of the present invention is added with an excipient and, if necessary, a surfactant and the like, and then the suppository can be produced in a conventional manner. When preparing an inhalant, an excipient, a propellant, etc. may be added to the compound of the present invention as necessary, and the inhalant can be manufactured by a conventional method.
上記の各投与単位形態中に配合されるべき本発明化合物
の量はこれを適用すべき患者の症状によシ或いはその剤
型等により一定でないが、一般に投与単位形態当り経口
剤では約5〜1000■、注射剤では約0.1〜500
■、全開では約5〜l000■、吸入剤では約1〜50
0■とするのが望ましい。又、上記投与形態を有する薬
剤の1日当りの投与量も症状等に応じ一概に決定できな
いが、通常約0.1〜5000■とするのが好ましい。The amount of the compound of the present invention to be incorporated into each of the above dosage unit forms is not constant depending on the symptoms of the patient to whom it is applied or the dosage form, but generally it is about 5 to 5 to 1000■, approximately 0.1 to 500 for injections
■、Approx. 5~1000■ when fully opened, approx. 1~50 when using an inhaler.
It is desirable to set it to 0■. Further, the daily dosage of the drug having the above dosage form cannot be determined unconditionally depending on the symptoms, etc., but it is usually preferably about 0.1 to 5,000 μl.
次に本発明を更に説明するため、本発明化合物を製造す
るための原料化合物(スルファイド化合物(■))の製
造例を参考例として挙げ、次いで本発明化合物の製造例
を実施例として挙げる。Next, in order to further explain the present invention, an example of the production of a raw material compound (sulfide compound (■)) for producing the compound of the present invention will be given as a reference example, and then an example of the production of the compound of the present invention will be given as an example.
参考例 I
2−シフOへ士ジルカルバ七イルエチルメチルスルファ
イドの合成
エーテル1001mにシフDへ牛シルア三ン21.4F
及びトリエチルアミン24.Ofを溶解させる。これに
、氷冷下、β−メ子ルメルカづトづロヒオニルク0ライ
ト30.Ofを加える。室温で2時間攪拌し、反応液を
水洗する。芒硝脱水後、エーテル層を濃縮し、残渣をシ
フDへ牛サシより再結晶して2−シフ0へ+ジルカルバ
七イルエチルメチルスルファイド+2.5fC収率97
.7%)を得る。Reference Example I Synthesis of 2-Schiff O to Zylcarba7ylethyl Methyl Sulfide Ether 1001m to Schiff D to Bovine Siluatrines 21.4F
and triethylamine24. Dissolve Of. To this, under ice cooling, add 30. Add Of. Stir at room temperature for 2 hours and wash the reaction solution with water. After dehydration of Glauber's salt, the ether layer was concentrated, and the residue was recrystallized from beef tenderloin to Schiff D and converted to 2-Schif 0 + zilcarba 7ylethyl methyl sulfide + 2.5 fC yield 97
.. 7%).
rILP93−94℃
参考例 2
2−(メチルフェニルカルバ上イル)エチルメチルスル
ファイドの合成
べ′Ji!ン100−にメチルアニリン10.79及び
ヒリジル9.48fを溶解させる。これに、氷冷下、β
−メチルメルカづト″50ヒオニルク0ライト13.9
9を加える。室温で1時間攪拌し、反応液を水洗する。rILP93-94℃ Reference Example 2 Synthesis of 2-(methylphenylcarbayl)ethylmethyl sulfide Ji! 10.79 of methylaniline and 9.48 f of hyridyl are dissolved in 100-. To this, under ice cooling, β
-Methyl Mercato''50 Hionilku0 Light 13.9
Add 9. Stir at room temperature for 1 hour, and wash the reaction solution with water.
芒硝脱水後、ベニ、l′l!ン層を濃縮し、残渣を減圧
蒸留して2−(メチルフェニルカルバ上イル)エチルメ
チルスルファイド19.94(収率95.2チ)を得る
。After mirabilite dehydration, beni, l'l! The filtrate layer was concentrated, and the residue was distilled under reduced pressure to obtain 19.94 g of 2-(methylphenylcarbayl)ethyl methyl sulfide (yield: 95.2 g).
1’P149=I50℃/ 2 tuH?実施例 1
ジメチル−2−シクロへ士ジルカルバLイルエチルスル
ホニウム P−トルエンスルホネート(化合物l)の合
成
2−シフDへ士ジルカルバtイルエチルメチルスルファ
イド2.Olfをメチリンク0ライト30ゴに溶解後、
これにp−トルエンスルホン酸メチル5.58tを加え
て室温で48時間攪拌する。反応液にエーテルを加え不
溶部を沢取し、エタノール−エーテルよシ再結晶して、
ジメチル−2−シクロへ+ジルカルバモイルエチルスル
ホニウムP−トルニジスルホネート(化合物1 ) 3
−68 F(収率94.8チ)を得る。1'P149=I50℃/2 tuH? Example 1 Synthesis of dimethyl-2-cyclohexylcarbyl ethylsulfonium P-toluenesulfonate (compound l) 2-Schiff Dhylcarbyl ethylmethylsulfide 2. After dissolving Olf in Methilink 0 Light 30 Go,
To this was added 5.58 t of methyl p-toluenesulfonate, and the mixture was stirred at room temperature for 48 hours. Ether was added to the reaction solution, the insoluble portion was collected, and recrystallized from ethanol-ether.
Dimethyl-2-cyclo+dylcarbamoylethylsulfonium P-tornidisulfonate (compound 1) 3
-68F (yield 94.8%) is obtained.
mp187〜188℃
実施例 2
実施例1と同様の操作によシ後記表1に示す化合物6.
8.12.13.22.23.24および25を合成し
た。mp187-188°C Example 2 Compound 6.
8.12.13.22.23.24 and 25 were synthesized.
実施例 3
ジメチル−2−(3−(5−テトラソリル力ルバ七イル
)フェニル)カルバ七イルエチルスルホニウム p−ト
ルエンスルホネート(化合物16) の合成213−(
5−テトラソリル力ルバ七イル)フェニル11チルメチ
ルスルフアイド3.06gをジメチルホルムアミド30
11/に溶解後、これに戸−トルエンスルホン酸メチル
5.58fを加えて室温で48時間攪拌する。反応液に
エーテルを加え不溶部を沖取し、ジメチルホルムア三F
−エーテルよシ再結晶してジメチル−2−(3−(5−
デトラソリル力ルバ七イル)フェニル)カルバ七イルエ
チルスルホニウム 戸−トルエンスルホネート(化合物
16) 4.55 F (収率92.3%)を得る。Example 3 Synthesis of dimethyl-2-(3-(5-tetrasolyl)phenyl)carbanetylsulfonium p-toluenesulfonate (compound 16) 213-(
3.06 g of 5-tetrasolyl)phenyl 11thylmethyl sulfide was dissolved in 30 g of dimethylformamide.
After dissolving in 11/, 5.58 g of methyl toluenesulfonate was added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 48 hours. Ether was added to the reaction solution, the insoluble portion was removed, and dimethylforma 3F was added.
-Recrystallize from dimethyl-2-(3-(5-
Detrazolyl(phenyl)carb7ylethylsulfonium toluenesulfonate (compound 16) 4.55 F (yield 92.3%) is obtained.
ffi/194−195℃
実施例 4
実施例3と同様の操作により、後記表1に示す化合物1
7を合成した。ffi/194-195°C Example 4 Compound 1 shown in Table 1 below was prepared in the same manner as in Example 3.
7 was synthesized.
実施例 5
ジメチル−2−(メチルフェニルカルバ七イル)エチル
スルホニウム /’−)ルエンスルホネート(化合物2
)の合成
2−(メチルフェニルカルバ七イル)エチルメチルスル
ファイト2.09fにp−トルエンスルホシ酸メチル6
.07を加え、室温で12時間攪拌する。反応液にエー
テルを加え、不溶部を戸数し、エタノール−エーテルよ
り再結晶して、ジメチル−2−(メチルフェニルカルバ
七イル)エチルスルホニウム p−トルニジスルホネー
ト(化合物2)3.822(収率96.5%)を得る。Example 5 Dimethyl-2-(methylphenylcarb7yl)ethylsulfonium /'-)luenesulfonate (compound 2
) Synthesis of 2-(methylphenylcarb7yl)ethylmethylsulfite 2.09f and methyl p-toluenesulfosinate 6
.. Add 07 and stir at room temperature for 12 hours. Ether was added to the reaction solution, the insoluble portion was separated, and recrystallized from ethanol-ether to give dimethyl-2-(methylphenylcarb7yl)ethylsulfonium p-tornidisulfonate (compound 2) 3.822 (yield 96.5%).
7i7)!50−151℃
実施例 6
実施例5と同様の操作により後記表1に示す化合物4.
5.9および18を合成した。7i7)! 50-151°C Example 6 Compound 4 shown in Table 1 below was prepared in the same manner as in Example 5.
5.9 and 18 were synthesized.
実施例 7
ジメチルー2−(4−(5−テトラシリルカルバ七イル
)フェニル)カルバtイルエチルスルホニウムアイオタ
イド(化合物+4)の合成2−(4−(5−テトラリリ
ルカルバt−1ル)フェニル)カルバtイルエ千ルメチ
ルスルファイド3.06fをジメチルホルムアミドlO
m/に溶解する。これにメチルアイオタイド4.21を
加え、室温で12時間攪拌する。反応液にエーテルを加
え、不溶部を沖取し、メタノール−エーテルより再結晶
して1.;メチル−2−(4−(5−テトラゾリルカル
バ上イル)フェニルjカルバ七イルエチルスルホニウム
アイオタイド(化合物++)4.255’(収率94.
9チ)を得る。Example 7 Synthesis of dimethyl-2-(4-(5-tetrasilylcarb7yl)phenyl)carbatylethylsulfonium iotide (compound +4) 2-(4-(5-tetralylylcarb7yl)phenyl) ) 3.06f of carbatyl methyl sulfide in dimethylformamide lO
Dissolve in m/. Add 4.21 g of methyl iotide to this and stir at room temperature for 12 hours. Ether was added to the reaction solution, the insoluble portion was scraped off, and recrystallized from methanol-ether to obtain 1. ; Methyl-2-(4-(5-tetrazolylcarbazoyl)phenyljcarba7ylethylsulfonium iotide (compound ++) 4.255' (yield 94.
9ch).
”P264−265℃
実施例 8
実施例7と同様の操作により、後記表■に示す化合物1
9を合成した。"P264-265°C Example 8 Compound 1 shown in Table ■ below was prepared by the same operation as in Example 7.
9 was synthesized.
実施例 9
ジメチル−2−(4−(5−テトラシリルカルバ七イル
)フェニル)カルバ七イルエチルスルホニウム F−)
ルエシスルホネート(化合物+ 5 ’)の合成
実施例7で合成した2−(4−(5−テトラシリルカル
バ七イル)フェニル)カルバ七イルエチルジメチルスル
ホニウムアイオタイド(化合物14)4.48fをジメ
チルホルムアミド30mに溶解し、P−トルニジスルホ
ン酸銀2,79りを加え、室温で1時間攪拌する。反応
液を濾過し、F液に硫化水素及び活性炭を加えて濾過す
る。P液を濃縮し、残渣をジメチルホルムアミド−エー
テルよシ精製してジメチル−2−r4−(5−テトラシ
リルカルバ七イル)フェニル)カルバ七イルエチルスル
ホニウム F−)ルエンスルホネート(化合物+5)4
.52f(収率91.7%)を得る。Example 9 Dimethyl-2-(4-(5-tetrasilylcarba7yl)phenyl)carba7ylethylsulfonium F-)
Synthesis of 2-(4-(5-tetrasilylcarba7yl)phenyl)carba7ylethyldimethylsulfonium iotide (compound 14) synthesized in Example 7 4.48f was synthesized in Example 7. Dissolve in 30ml of formamide, add 2,79ml of silver P-tornidisulfonate, and stir at room temperature for 1 hour. The reaction solution is filtered, hydrogen sulfide and activated carbon are added to solution F, and the mixture is filtered. The P solution was concentrated, and the residue was purified with dimethylformamide-ether to give dimethyl-2-r4-(5-tetrasilylcarb7yl)phenyl)carb7ylethylsulfonium F-)luenesulfonate (compound +5) 4
.. 52f (yield 91.7%) is obtained.
rILP21B−219℃
実施例 lO
ジメチル−214−(エト+ジカルボニルメチルカルバ
七イル)フェニルカルバ七イル)エチルスルホニウム
p−1−ルエンスルホネート(化合物20)の合成
実施例8で合成した2−(4−(エト中ジカルボニルメ
チルカルバモイル)フェニル′−カルバ七イル)エチル
ジメチルスルホニウムアイ才タイド4.66Fをエタノ
ール20Hに溶解し、これに酸化銀2.31rを加えて
室温で30分攪拌後、濾過する。F液に、エタノール5
m1VCp−1−ルエシスルホシ酸3.44gTを溶解
した液を加えた後、濃縮する。残渣をアセトニトリル−
エーテルで精製してジメチル−2−(4−(エト十ジカ
ルボニルメチルカルバ℃イル)フェニルカルバ七イル)
エチルスルホニウム p−トルニジスルホネート(化合
物20)4.95F(収率96.9%)を得る。rILP21B-219°C Example lO Dimethyl-214-(etho+dicarbonylmethylcarb7yl)phenylcarb7yl)ethylsulfonium
Synthesis of p-1-ruenesulfonate (compound 20) 2-(4-(dicarbonylmethylcarbamoyl)phenyl'-carb7yl)ethyldimethylsulfonium acid Tide 4.66F synthesized in Example 8 was dissolved in ethanol 20H. 2.31 r of silver oxide is added thereto, stirred at room temperature for 30 minutes, and then filtered. Add 5 ethanol to solution F
After adding a solution in which 3.44 g of m1VCp-1-luethysulfosic acid was dissolved, the mixture was concentrated. The residue was dissolved in acetonitrile.
Purification with ether gives dimethyl-2-(4-(ethodeca-dicarbonylmethylcarbayl)phenylcarb7yl)
Ethylsulfonium p-tornidisulfonate (compound 20) 4.95F (yield 96.9%) is obtained.
71LP132−135℃
実施例 11
2−(カルボ士ジメチルカルバ七イル)エチルジメチル
スルホニウム F−トルニジスルホネート(化合物3)
の合成
2−(カルボ士ジメチルカルバ℃イル)エチルメチルス
ルファイド1.77fのアセト、73Qm/溶液にメチ
ルアイオタイド4.26f、次いでp−トルエンスルホ
ン酸銀2.79Fを加えて、室温で12時間攪拌する。71LP132-135°C Example 11 2-(Carbodimethylcarba7yl)ethyldimethylsulfonium F-tornidisulfonate (Compound 3)
Synthesis of 2-To a solution of 1.77f of (carbodimethylcarbayl)ethyl methyl sulfide in acetate, 73Qm/solution, 4.26f of methyl iotide and then 2.79F of silver p-toluenesulfonate were added, and 12 Stir for an hour.
反応液を濾過し、F液に硫化水素及び活性炭を加えて濾
過する。ろ液を濃縮し、アセトニトリル−エーテルより
再結晶して2−(カルボ中ジメチルカルバモイル)エチ
ルジメチルスルホニウム F−)ルエシスルホネート、
(化合物3)3.45F(収率95.0%)を得る。The reaction solution is filtered, hydrogen sulfide and activated carbon are added to solution F, and the mixture is filtered. The filtrate was concentrated and recrystallized from acetonitrile-ether to give 2-(dimethylcarbamoyl)ethyldimethylsulfonium F-)lecissulfonate,
(Compound 3) 3.45F (yield 95.0%) is obtained.
mP85−86℃
実施例 12
ジメチル−2−(4−メト牛ジフェニルカルバ七イル)
エチルスルホニウム p−トルエンスルホネート(化合
物7)の合成
2−(4−メト中ジフェニルカルバモイル)エチルジメ
チルスルファイド2.25Fのメチリンク0ライド50
肩l溶液に、メチルアイオタイド4.265’、次いで
P−トルエンスルホン酸銀2−79rを加えて、室温で
12時間攪拌する。反応液を濾過後、実施例1Oと同様
に処理して、ジメチル−2−(今一メト中ジフェニルカ
ルバモイル)エチルスルホニウム p−t−ルエンスル
ホネート(化合物7)3.95F(収率95.9チ)を
得る。mP85-86°C Example 12 Dimethyl-2-(4-methoxydiphenylcarb7yl)
Synthesis of ethylsulfonium p-toluenesulfonate (compound 7) 2-(diphenylcarbamoyl in 4-meth)ethyl dimethyl sulfide 2.25F methylinolide 50
Add 4.265' of methyl iotide and then 2-79r of silver P-toluenesulfonate to the solution and stir at room temperature for 12 hours. After filtering the reaction solution, it was treated in the same manner as in Example 1O to obtain dimethyl-2-(diphenylcarbamoyl)ethylsulfonium pt-ruenesulfonate (compound 7) 3.95F (yield 95.9%). ).
mP119−123℃
実施例 13
実施例12と同様の操作により後記表1に示す化合物1
O111および21を合成した。mP119-123°C Example 13 Compound 1 shown in Table 1 below was prepared in the same manner as in Example 12.
O111 and 21 were synthesized.
上記各実施例で得られた化合物(化合物1〜25)の構
造と共に、各側における収率(%)並びに各化合物のm
p (℃)、元素分析値及び核磁気共鳴スペクトル(N
MR)分析結果(δ値、 pprrt )を下記表1に
示す。尚表1中元素分析値における( )を付して示し
た数値は計算値(チ)を、また( )を付さないで示し
た数値は実測値(4)を示すものとする。4 たNMR
FiDMSO−d6中、TMSを内部標準物質として測
定した値である。Along with the structure of the compounds (compounds 1 to 25) obtained in each of the above examples, the yield (%) on each side and m of each compound
p (℃), elemental analysis values and nuclear magnetic resonance spectra (N
MR) analysis results (δ value, pprrt) are shown in Table 1 below. In Table 1, the numerical values shown in parentheses in the elemental analysis values are calculated values (h), and the numerical values shown without parentheses are actually measured values (4). 4 NMR
This is a value measured in FiDMSO-d6 using TMS as an internal standard.
表 1 以下、本発明化合物を用いた製剤例を挙げる。Table 1 Examples of formulations using the compounds of the present invention are listed below.
製剤例1 錠 剤 化合物13 toorn9 乳糖 47■ トウ七aコシダンプシ 5019 結晶セルロース 50■ ヒト0牛シづロピルセルロース 15■タルク 2岬 ステアリン酸マグネシウム 2mg エチルセルロース 30岬 脂肪酸グリセリンエステル 2岬 夏錠当り 300岬 上記配合割合で錠剤を調製する。Formulation example 1 tablet Compound 13 toorn9 Lactose 47■ Tou 7a Koshidampusi 5019 Crystalline cellulose 50■ Human 0 Bovine Cydulopyl Cellulose 15 ■ Talc 2 Misaki Magnesium stearate 2mg Ethylcellulose 30 Misaki Fatty acid glycerin ester 2 Misaki 300 capes per summer tablet Tablets are prepared at the above mixing ratio.
製剤例2 顆粒剤
化合物7 200 way
マンニトール 540■
トウ七〇コシデンづ、/ 100■
結晶セルロース 100岬
ヒト0+ジプロピルセル0−ス 50岬タルク 10W
I?
l包当り 1000■
上記配合割合で顆粒剤を調製する。Formulation Example 2 Granule Compound 7 200 ways Mannitol 540 ■ Tou 70 Koshidenzu / 100 ■ Crystalline Cellulose 100 Misaki Human 0 + Dipropyl Cell 0-su 50 Misaki Talc 10 W
I? 1000 ml per 1 pack Granules are prepared at the above blending ratio.
製剤例3 細粒剤 化合物12 200■ マンニトール 520■ トウ七〇コシデンプン 100■ 結晶セJl/[1−ス 1ooq ヒドロ+シづ0ピルセルロース 70岬タルク lO岬 l包中 1000岬 上記配合割合で細粒剤を調製する。Formulation example 3 fine granules Compound 12 200■ Mannitol 520■ Bean starch 100■ Crystal Ce Jl/[1-su 1ooq Hydro+Sizu0 Pill Cellulose 70 Misaki Talc 10 Misaki 1000 Misaki Fine granules are prepared at the above blending ratio.
製剤例今 カプセル剤 化合物10 100■ 乳糖 50■ トウ七〇コシデンづン 47W 結晶セルロース 50my タルク 2■ !力づセル当り 250+II! 上記配合割合で力づセル剤を調製する。Formulation example: Capsules Compound 10 100■ Lactose 50■ Tow 70 Koshidenzun 47W Crystalline cellulose 50my Talc 2■ ! 250+II per power cell! A force cell agent is prepared using the above blending ratio.
製剤例5 シ0ツづ剤 化合物8 1F 精製白糖 60f パラしドロ+シ安息香酸エチル 5η パうしドO+シ安息香酸づチル 5η 香 料 適 量 着色料 全 量 +0014! 上記配合割合でシ0ツづ剤を調製する。Formulation Example 5 Dropper Compound 8 1F Refined white sugar 60f Para-hydrochloride + ethyl benzoate 5η Paushido O+Dutyl Cybenzoate 5η Appropriate amount of fragrance coloring agent Total amount +0014! A disinfectant is prepared at the above blending ratio.
製剤例6 注射剤 化合物1 100■ 注射用蒸留水 適 量 l管中 2d 上記配合割合で注射剤を調製する。Formulation example 6 Injection Compound 1 100■ Appropriate amount of distilled water for injection l tube middle 2d An injection is prepared at the above mixing ratio.
製剤例7 坐 剤 化合物11 100■ ウイテツプジールF−351400■ 1個当勺 1500■ 上記配合割合で全開を調製する。Formulation example 7 Suppositories Compound 11 100■ Uitetspujil F-351400■ 1 piece cost 1500■ Prepare full opening with the above mixing ratio.
製剤例8 吸入剤 化合物5 I00■ ソルビタン七ノオレエート 10■ フ0シ12 9890〜 全 量 10f 上記配合割合で吸入剤を調製する。Formulation example 8 Inhalant Compound 5 I00■ Sorbitan Seven Oleate 10■ Fu0shi12 9890~ Total amount 10f An inhaler is prepared at the above mixing ratio.
次に本発明化合物の薬理作用試験、急性毒性試験結果を
示す。Next, the results of pharmacological action tests and acute toxicity tests of the compounds of the present invention will be shown.
(1) 同種受身皮膚アナフイラ士シー(PCA)に及
はす影春
実験に使用する組織親和性抗体は、づ夕回虫の虫体抽出
物に、ジニトロフェニル基を結合させた物(DNP −
A!>と百日咳ワクチシとでラットを免疫することによ
る夕4CTαdα)らの方法〔ジャーナル オづ イム
ノ[1、; (J、 ImnubnoLagy )10
6.1002 (197+ ))で作成した。この組織
親和性抗体を含む血清を、あらかじめ剪毛した雄性ウィ
スター系ラット(体重180〜200り)の背部4ケ所
に皮内注射した。48時間後にDNP−AJ?1.5
ynyとエバシスブルー2.52とを含む生理食塩水1
t/を静脈内注射して反応を惹起し、30分後にラット
を脱血致死せしめ、カタセマ(Katayama )ら
の方法〔マイクロバイオ0ジ−アシド イムノD ”;
−(MicrohioLogy andImmuno
Logy ) 22.89 (+978) )に従って
漏出色素量を測定し、PCAの指標とした。化合物は抗
原誘発30分前に腹腔内投与した。結果を表2に示す。(1) The tissue-tropic antibody used in the shadow spring experiment for allogeneic passive cutaneous anaphylaxis (PCA) is made by binding a dinitrophenyl group to a roundworm body extract (DNP-
A! method by immunizing rats with > and pertussis vaccine [Journal Ozu Immuno [1, ; (J, ImnubnoLagy) 10]
6.1002 (197+)). The serum containing this tissue-affinity antibody was intradermally injected into four points on the back of male Wistar rats (weight 180-200 kg) whose hair had been shaved in advance. DNP-AJ in 48 hours? 1.5
Physiological saline containing yny and Evasys Blue 2.52 1
A reaction was induced by intravenous injection of t/, and 30 minutes later, the rats were sacrificed by exsanguination, using the method of Katayama et al.
-(MicrohioLogy and Immuno
The amount of leaked dye was measured in accordance with 22.89 (+978)) and used as an index of PCA. Compounds were administered intraperitoneally 30 minutes before antigen challenge. The results are shown in Table 2.
表 2
(2)急性毒性試験
tLdY系雄性マウス(体重201)を使用し、化合物
を生理食塩水に溶解し、腹腔内投与し、50チ致死量L
D5o(η/に9)をアラづタウシ法によ請求めた。結
果を下記表3に示す。Table 2 (2) Acute toxicity test Using tLdY male mice (body weight: 201 kg), the compound was dissolved in physiological saline and administered intraperitoneally, and a lethal dose of 50 L was administered.
D5o (9 in η/) was calculated using the Arazu Taushi method. The results are shown in Table 3 below.
表 3 (以 上) 徳島県板野郡上板町佐藤塚字西 261−1 0発 明 者 松本宏 徳島県板野郡上板町引野字寺の 束31−2 0発 明 者 両脇一部 徳島市上吉野町3丁目30−5Table 3 (that's all) Satozuka Nishi, Kamita-cho, Itano-gun, Tokushima Prefecture 261-1 0 shots clear person Hiroshi Matsumoto Tokushima Prefecture Itano District Kamiita Town Hikinoji Temple Bundle 31-2 0 shots, part of both sides 3-30-5 Kamiyoshinocho, Tokushima City
Claims (1)
基を、R3は水素原子または低級アル+ル基を、R1,
は水素原子、低級アル中ル基、シフ0基を、R6は水素
原子、低級アルコ+シ基、ハロゲン原子、水酸基、トリ
フルオロメチル基、低級アシル基、低級アル+ル基、テ
トラリリル力ルバtイル基、カルボ士ジメチル基、3−
(2−オ中ソー4−ハイド0+シテトラハイドロフリル
)オ十シ基または低級アルコ+シカ、ルポニルメチル力
ルバ七イル基を示す)を夫々示す。 またR3及びR4は互いに結合してメチレジ鎖となり、
之等の結合する窒素原子と共に複素環基を形成してもよ
い。ルは1〜3の整数及びYは酸残基を示す。〕 で表わされるスルホニウム誘導体。 ■ 一般式 〔式中R□は低級アル中ル基を、R3は水素原子または
低級アル+ル基を、R4は水素原子、低級ルポ十シル基
を、R6は水素原子、低級アルコ+シ基、ハロゲン原子
、水酸基、トリフルオロメチル基、低級アシル基、低級
アル+ル基、テトラリリル力ルバ℃イル基、カルボ士ジ
メチル基、3−(2−オ+ソー4−ハイド0中シテトラ
ハイド0フリル)オ十シ基または低級アルコ+シカルボ
ニルメチルカルバ上イル基を示す)を夫々示す。またR
3及びR4は互いに結合してメチレン鎖となり、之等の
結合する窒素原子と共に複素環基を形成してもよい。ル
は1〜3の整数を示す。〕 で表わされるスルファイド化合物と、一般式2Y 〔式中R2は低級アル+ル基及びYは酸残基を示す。〕 で表わされる化合物とを反応させることを特徴とする一
般式 〔式中R1%R2、R3、R4、Y及びルは前記と同一
の意味を示す。〕 で表わされるスルホニウム化合物の製造法。 ■ 一般式 〔式中R□及びR2は同一または相異なって低級アル+
ル基を、R3は水素原子または低級アル中ル基を、R4
は水素原子、低級アル+ル基、シクロアル中ル基、カル
ボ士ジメチル基、または基を、R6F−1水素原子、低
級アルコ+シ基、ハロゲン原子、水酸基、トリフルオロ
メチル基、低級アシル基、低級アル中ル基、テトラリリ
ル力ルバ七イル基、カルボ士ジメチル基、3−(2−オ
+ソー4−ハイドO+シテトラハイドOフリル)オ十シ
基または低級アル]+ジカルボニルメチルカルバ℃イル
基を示す。またR3及びR1゜は互いに結合してメチレ
ジ鎖となり、之等の結合する窒素原子と共に複素環基を
形成してもよい。路は1〜3の整数及びXはへ〇、’f
′JJgr、子を示す。〕 で表わされるスルホニウムパライト、一般式〔式中Zは
銀原子またはアルカリ金属原子及びY□はXで示される
ハロゲン原子以外の酸残基を示す。〕 で表わされる化合物とを反応させることを特徴とする一
般式 〔式中R□、R2、R3、R4、Y□及びルは前記と同
一の意味を示す。〕 で表わされるスルホニウム化合物の製造法。 ■ 一般式 〔式中R□及びR2は同一または相異なって低級アル+
ル基を、R3は水素原子または低級アル+ル基を、R4
は水素原子、低級アル+ル基、シクDアル+ル基、カル
ボ士ジメチル基または基を、R6け水素原子、低級アル
コ+シ基、ハロゲン原子、水酸基、トリフルオロメチル
基、低級アシル基、低級アル中ル基、テトラリリルカル
バ七イル基、カルボ士ジメチル基%3−(2−オ+ソー
4−ハイドロ+シテトラハイド0フリル)オ十シ基また
は低級アルコ+ジカルボニルメチルカルバtイル基を示
す)を夫々示す。 またR3及びR4は互いに結合してメチレジ鎖となり、
之等の結合する窒素原子と共に複素環基を形成してもよ
い。rLは1〜3の整数及びXはハロゲン原子を示す。 〕 で表わされるスルホニウムハライドに、酸化銀及び一般
式 〔式中YiけXで示されるへロゲシ原子以外の酸残基を
示す。〕 で表わされる化合物を反応させることを特徴とする一般
式 〔式中R1、R2、R3、R4、Y□及びrLは前記と
同一の意味を示す。〕 で表わされるスルホニウム化合物の製造法。[Claims] ■ General formula [In the formula, R1 and R2 are the same or different and represent a lower alkyl group, R3 is a hydrogen atom or a lower alkyl group, R1,
is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a Schiff group, R6 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, a trifluoromethyl group, a lower acyl group, a lower alkyl group, a tetralylyl group group, carboxydimethyl group, 3-
(2-hydro, 4-hydro+cytetrahydrofuryl) or lower alkoxy, luponylmethyl, and hydroxyl, respectively. In addition, R3 and R4 combine with each other to form a methylated chain,
A heterocyclic group may be formed together with the bonded nitrogen atom. R represents an integer of 1 to 3, and Y represents an acid residue. ] A sulfonium derivative represented by ■ General formula [In the formula, R□ is a lower alkyl group, R3 is a hydrogen atom or a lower alkyl group, R4 is a hydrogen atom or a lower lupocyl group, R6 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, Halogen atom, hydroxyl group, trifluoromethyl group, lower acyl group, lower alkyl group, tetralylyl group, carboxydimethyl group, 3-(2-o+so-4-hydro, tetrahydrofuryl)o 10-cy group or lower alkoxy+cyclocarbonylmethylcarbayl group) respectively. Also R
3 and R4 may be bonded to each other to form a methylene chain, and may form a heterocyclic group together with the nitrogen atoms to which they are bonded. indicates an integer from 1 to 3. ] A sulfide compound represented by the general formula 2Y [wherein R2 represents a lower alkyl group and Y represents an acid residue. [In the formula, R1%R2, R3, R4, Y and R have the same meanings as above. ] A method for producing a sulfonium compound represented by ■ General formula [In the formula, R□ and R2 are the same or different, lower alk +
R3 is a hydrogen atom or a lower alkyl group, R4 is
is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a cycloalkyl group, a carboxydimethyl group, or a group; A lower alkyl group, a tetralylyl group, a carboxydimethyl group, a 3-(2-o+so-4-hydro+cytetrahydrofuryl)oxy group or a lower alk]+dicarbonylmethylcarbayl group show. Further, R3 and R1° may be bonded to each other to form a methylated chain, and together with the nitrogen atoms to which they are bonded, a heterocyclic group may be formed. Path is an integer from 1 to 3 and X is 〇, 'f
'JJgr, indicates child. ] Sulfonium pallite represented by the general formula [where Z is a silver atom or an alkali metal atom and Y□ represents an acid residue other than the halogen atom represented by X]. [In the formula, R□, R2, R3, R4, Y□ and R have the same meanings as above. ] A method for producing a sulfonium compound represented by ■ General formula [In the formula, R□ and R2 are the same or different, lower alk +
R3 is a hydrogen atom or a lower alkyl group, R4 is
represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a cycloalkyl group, a carboxydimethyl group or group, a hydrogen atom, a lower alkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, a trifluoromethyl group, a lower acyl group, Indicates a lower alkyl group, a tetralylylcarb7yl group, a carboxydimethyl group%3-(2-o+so4-hydro+cytetrahydrofuryl)oxy group or a lower alkoxy+dicarbonylmethylcarbatyl group ) are shown respectively. In addition, R3 and R4 combine with each other to form a methylated chain,
A heterocyclic group may be formed together with the bonded nitrogen atom. rL represents an integer of 1 to 3, and X represents a halogen atom. ] In the sulfonium halide represented by the formula, silver oxide and the general formula [wherein, Yi and X represent acid residues other than the hydrogen atom. [In the formula, R1, R2, R3, R4, Y□ and rL have the same meanings as above. ] A method for producing a sulfonium compound represented by
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| JP58112460A JPS604165A (en) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | Sulfonium derivatives |
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| JP58112460A JPS604165A (en) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | Sulfonium derivatives |
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Cited By (5)
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-
1983
- 1983-06-21 JP JP58112460A patent/JPS604165A/en active Granted
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