JPS604165A - スルホニウム誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なスルホニウム化合物及びその製造法に関
する。

本発明のスルホニウム化合物は、下記一般式（Ｉ）で表
わされる。

〔式中Ｒ□及びＲ２は同一または相異なって低級アル＋
ル基を、Ｒ３は水素原子または低級アル＋ル基は水素原
子またはカルボ＋シル基を、Ｒ６は水素原子、低級アル
］＋シ基、ハロゲン原子、水酸基、トリフルオロメチル
基、低級アシル基、低級アル士ル基、テトラシリルカル
バモイル基、カルボ士ジメチル基、３−（２−オ士ソー
４−ハイドロ＋シテトラ八イドロフリル）オ＋シ基また
は低級アルコ＋ジカルボニルメチルカルバｔイル基を示
す）を夫々示す。またＲ３及びＲ１，は互いに結合して
メチレン鎖となり、之等の結合する窒素原子と共に複素
環基を形成してもよい。ルはＩ−３の整数及びＹは酸残
基を示す。〕 上記一般式（Ｉ）中Ｒ□、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６で
表わされる低級アル中ル基としては、炭素数１〜６のア
ルキル基例えばメチル、エチル、−５ｏヒル、イソ″５
Ｄピル、づチル、イソづチル、を−づチル、ペンチル、
へ十シル基等を例示できる。

一般式（Ｉ）中Ｒ４で示されるシフ０アル＋ル基として
は炭素数５〜７のシクロアル十ル基部ちシフ０ペンチル
、シクロへ＋シル、シフ０へづチル基コ＋シ基としては
炭素数１〜６のアル］＋シ基、例えばメト士シ、エト＋
シ、づＤピルオ＋シ、イソづロピルオ十シ、づト十シ、
を−づト士シ、ペンチルオ＋シ、へ十シルオ＋シ基等を
、ハロゲン原子としては弗素、塩素、臭素、沃素原子等
を、低級アシル基としては炭素数２〜６のアシル基、例
えばアセチル、″５０ヒ才二ル、づチリル、ヒバロイル
、力″５０イル基等を、低級アル］＋ジカルボニルメチ
ルカルバｔイル基としては炭素数４〜９のアルコ＋ジカ
ルボニルメチルカルバ［イル基、例えばメト十ジカルボ
ニルメチルカルバ七イル、エト十ジカルボニルメチルカ
ルバモイル、′５０ピルオ＋ジカルボニルメチルカルバ
七イル、イソづ０ビルオ＋ジカルボニルメチルカルバ七
イル、づト十ジカルボニルメチルカルバ七イル、を−づ
ト牛ジカルボニルメチルカルバｔイル、へ＋シ０十ジカ
ルボニルメチルカルバ七イル基等を夫々例示することが
できる。

一般式（Ｉ）中Ｒ３及びＲ４が互い圧結合して形成し得
るメチレジ鎖としては例えばエチレシ、トリメチレｙ、
テトラメチレジ、ベシタメチレシ、へ士すメチレン鎖等
を例示することができる。

一般式（Ｉ）中、Ｙで表わされる酸残基としては医薬品
として使用できるものであれば良く、具体的には次の無
機酸残基及び有機酸残基を例示できる。

無機酸残基・−・・・塩化水素、沃化水素、臭化水素、
四弗化硼素酸、過塩素酸、リシ酸等の酸残基。

有機酸残基・・・・・メタルスルホン酸、トルエｙスル
ホシ酸、カシファースルホシｅ、１．５−４’ニア’２
１ノ、７ジスルホシ酸等の有機スルホン酸残基及び乳酸
、マレイン酸、マＯン酸等のカルポジ酸残基。

本発明の上記一般式（Ｉ）で表わされるスルホニウム化
合物は、抗アレルギー作用等を有し、医薬品として有用
である。

以下本発明化合物の製造法につき説明する。

本発明化合物は、例えば下記各種の方法により製造でき
る。

〔製造法Ａ〕

一般式 （式中Ｒ□、Ｒ３、Ｒ４及びルは前記と同一の意味を示
す。） で表わされるスルファイド化合物と一般式％式％（） （式中Ｒ２及びＹは前記と同一の意味を示す。）で表わ
される化合物とを反応させる。

本反応は溶媒中或いは無溶媒で、−３０〜１５０℃、好
ましくは０〜１００℃以下、反応時間的０．５〜７２時
間で行なわれる。化合物（ＩＩＩ）はスルファイド化合
物（ＩＩ）に対し、過剰量使用しても良いが好ましくけ
理論量の約１〜４倍モル量使用するのが良い。溶媒とし
てはメタノール、エタノール、づＤパノール等のアルコ
ール類；アセトニトリル、ニドＯメタシ、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホ牛サイド等の極性溶媒；メチ
リンク０ライド、りＯＯホルム等のハ０ゲシ化炭化水素
類；べ、７ゼシ、トルエン、牛シレシ等の芳香族炭化水
素類；エチルエーテル、づ０じルエーテル等のエーテル
類；その他アセトシ、石油エーテル、酢酸エチル、水、
及びこれら溶媒の混合溶媒等を使用できる。反応は必要
に応じて密閉容器中で行なうことができる。

原料として用いられるスルファイド化合物（ＩＩ）は、
例えば一般式 ％式％（） （式中Ｒ□及びルは前記と同一の意味を示し、ｈａｌ−
はハロゲン原子を示す。） で表わされる化合物と、一般式 （式中Ｒ３及びＲ４は前記と同一の意味を示す。）で表
わされる化合物とを、好ましくは塩基性化合物、例えば
ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、これらの水素
化物、これらの水酸化物又はこれらの炭酸塩或いはヒリ
ジシ、ｔルホリン、ごペリジシ、ピベラ、；シ、トリエ
チルアミン等の存在下、無溶媒又は適当な溶媒中０〜２
ｏｏ℃程度の温度下に反応させることにょシ合成される
。該スルファイド化合物（ｎ）の合成の詳細は、後記参
考例において記述する。

〔製造法Ｂ〕

一般式 （式中Ｒ１％Ｒ２、Ｒ３、Ｒａ及びルは前記と同一の意
味を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）で表ゎされるス
ルホニウムハライドと、一般式％式％（） （式中Ｚは銀原子又はアルカリ金属原子及びＹ□はＸで
示されるハロゲン原子以外の酸残基を示す。） で表わされる化合物とを反応させる。

本方法は、スルホニウムハライド（■）（本発明の一般
式（Ｉ）で表わされる化合物中Ｙがハロゲン化水素酸残
基を示すもの）の塩交換反応を利用するものであシ、該
原料化合物は上記製造法Ａに従い製造される。該スルホ
ニウムハライド（Ｖｌ）は、反応系より単離することな
く、反応混合物の形態でも本反応に有利に使用できる。

勿論反応系より単離精製して用いることもできる。

他方の原料化合物とする化合物（■）としては、本発明
の一般式（Ｉ）中Ｙに対応する酸残基を提供し得る各酸
の銀塩又はアルカリ金属塩を使用できる。上記酸として
は例えば塩化水素、臭化水素、゛ヨウ化水素、過塩素酸
、四弗化硼素酸等の無機酸及びマレイン酸、マロン酸、
乳酸、カンファースルホン酸、メタシスルホシ酸、トシ
ル酸、ピクリルスルホシ酸、１．５−ナフタレンジスル
ホン酸等の有機酸を例示できる。またアルカリ金属とし
ては例えばナトリウム、カリウム、リチウム等を例示で
きる。

水塩交換反応は溶媒中、約−３０〜１５０℃、好ましく
は約０〜１００℃で行われる。化合物（■）はスルホニ
ウムハライド（ＶＩ）に対し、好ましくは理論量の約１
〜４倍量で使用される。溶媒としては前記製造法Ａの反
応に使用されると同一の各種の溶媒をいずれも使用でき
る。

〔製造法Ｃ〕

本方法も塩交換反応を利用するものであり、上記スルホ
ニウムパライト（Ｖｌ）に、酸化銀と一般式％式％（） （式中ｙｉは前記と同一の意味を示す。）で表わされる
化合物とを反応させる。

原料として用いられるスルホニウムハライド（Ｖｌ）は
、製造法Ｂで示したものと同一であり、またＢＹ□で表
わされる化合物（■）は、本発明の一般式（Ｉ）で表わ
される化合物中Ｙで示される酸残基を提供し得る遊離形
態の有機酸もしくは無機酸である。その具体例は、上記
製造法Ｂに示す通りである。

本反応において酸化銀は、原料とするスルホニウムハラ
イド（Ｖｌ）に対して通常等モル以上、好ましくは約１
−４倍モルの割合で用い得る。またｆｆ□で表わされる
酸の使用割合は、原料とするスルホニウムハライド（Ｖ
Ｉ）に対して等モル以上、好ましくは約１〜４倍℃ル比
とするのがよい。本反応は、通常溶媒中、約−３０〜１
５０℃、好ましくは約０〜１００℃で行なわれる。溶媒
としては前記製造法Ａのそれと同一でよい。

上記製造法Ａ−ＣＫ従い得られる本発明のスルホニウム
化合物は、反応終了後通常の分離方法に従って単離でき
る。該分離方法としては、−例えば再結晶法、抽出法、
濃縮法、カラムク０マドクラフイー等を採用できる。

本発明化合物は、抗アレルｆ−作用を有するほかＫも生
体の免疫能を光通する作用；制癌作用；免疫調節作用：
消炎鎮痛作用：肝機能改善作用；抗自己免疫作用：感染
防御作用：副作用として免疫抑制作用を有する例えばス
テ０イド剤、制癌剤等の有効成分化合物のこれら副作用
防止作用；免疫療法の補助作用；血小板凝集阻止作用；
生物成長調節作用等を有し、医薬品、農薬として有用で
ある。

本発明化合物は、これを医薬として用いるに当っては、
治療目的に応じて各種の投与形態を採用可能である。該
形態としては例えば、経口剤、注射剤、直腸坐剤、吸入
剤等のいずれでも良く、２等投与形態は、夫々当業者に
公知慣用の製剤方法により製造できる。経口用固型製剤
を調製する場合は、本発明化合物に賦形剤、必要に応じ
て結合剤、崩解剤、滑沢剤、着色剤、矯味剤、矯臭剤等
を加えた後、常法により錠剤、被覆錠剤、顆粒剤、散剤
、力づセル剤等を製造することができる。経口液状製剤
を調製する場合には、本発明化合物に矯味剤、緩衝剤、
安定化剤、矯臭剤等を加えて常法により、内服液剤、シ
Ｏツづ剤等を製造することができる。注射剤を調製する
場合は、本発明化合物にｐＨ調整剤、緩衝剤、安定化剤
、等張化剤、局所麻酔剤等を添加し、常法により、皮下
、筋肉内、静脈内用注射剤を製造することができる。直
腸坐剤を調製する場合には１本発明化合物に賦形剤、更
に必要に応じて界面活性剤等を加えた後、常法によシ坐
剤を製造することができる。吸入剤を調製する場合には
、本発明化合物に賦形剤、噴射剤等を必要に応じて添加
し、常法により吸入剤を製造することができる。

上記の各投与単位形態中に配合されるべき本発明化合物
の量はこれを適用すべき患者の症状によシ或いはその剤
型等により一定でないが、一般に投与単位形態当り経口
剤では約５〜１０００■、注射剤では約０．１〜５００
■、全開では約５〜ｌ０００■、吸入剤では約１〜５０
０■とするのが望ましい。又、上記投与形態を有する薬
剤の１日当りの投与量も症状等に応じ一概に決定できな
いが、通常約０．１〜５０００■とするのが好ましい。

次に本発明を更に説明するため、本発明化合物を製造す
るための原料化合物（スルファイド化合物（■））の製
造例を参考例として挙げ、次いで本発明化合物の製造例
を実施例として挙げる。

参考例　Ｉ ２−シフＯへ士ジルカルバ七イルエチルメチルスルファ
イドの合成 エーテル１００１ｍにシフＤへ牛シルア三ン２１．４Ｆ
及びトリエチルアミン２４．Ｏｆを溶解させる。これに
、氷冷下、β−メ子ルメルカづトづロヒオニルク０ライ
ト３０．Ｏｆを加える。室温で２時間攪拌し、反応液を
水洗する。芒硝脱水後、エーテル層を濃縮し、残渣をシ
フＤへ牛サシより再結晶して２−シフ０へ＋ジルカルバ
七イルエチルメチルスルファイド＋２．５ｆＣ収率９７
．７％）を得る。

ｒＩＬＰ９３−９４℃ 参考例　２ ２−（メチルフェニルカルバ上イル）エチルメチルスル
ファイドの合成 べ′Ｊｉ！ン１００−にメチルアニリン１０．７９及び
ヒリジル９．４８ｆを溶解させる。これに、氷冷下、β
−メチルメルカづト″５０ヒオニルク０ライト１３．９
９を加える。室温で１時間攪拌し、反応液を水洗する。

芒硝脱水後、ベニ、ｌ′ｌ！ン層を濃縮し、残渣を減圧
蒸留して２−（メチルフェニルカルバ上イル）エチルメ
チルスルファイド１９．９４（収率９５．２チ）を得る
。

１’Ｐ１４９＝Ｉ５０℃／　２　ｔｕＨ？実施例　１ ジメチル−２−シクロへ士ジルカルバＬイルエチルスル
ホニウム　Ｐ−トルエンスルホネート（化合物ｌ）の合
成 ２−シフＤへ士ジルカルバｔイルエチルメチルスルファ
イド２．Ｏｌｆをメチリンク０ライト３０ゴに溶解後、
これにｐ−トルエンスルホン酸メチル５．５８ｔを加え
て室温で４８時間攪拌する。反応液にエーテルを加え不
溶部を沢取し、エタノール−エーテルよシ再結晶して、
ジメチル−２−シクロへ＋ジルカルバモイルエチルスル
ホニウムＰ−トルニジスルホネート（化合物１　）　３
−６８　Ｆ（収率９４．８チ）を得る。

ｍｐ１８７〜１８８℃ 実施例　２ 実施例１と同様の操作によシ後記表１に示す化合物６．
８．１２．１３．２２．２３．２４および２５を合成し
た。

実施例　３ ジメチル−２−（３−（５−テトラソリル力ルバ七イル
）フェニル）カルバ七イルエチルスルホニウム　ｐ−ト
ルエンスルホネート（化合物１６）　の合成２１３−（
５−テトラソリル力ルバ七イル）フェニル１１チルメチ
ルスルフアイド３．０６ｇをジメチルホルムアミド３０
１１／に溶解後、これに戸−トルエンスルホン酸メチル
５．５８ｆを加えて室温で４８時間攪拌する。反応液に
エーテルを加え不溶部を沖取し、ジメチルホルムア三Ｆ
−エーテルよシ再結晶してジメチル−２−（３−（５−
デトラソリル力ルバ七イル）フェニル）カルバ七イルエ
チルスルホニウム　戸−トルエンスルホネート（化合物
１６）　４．５５　Ｆ　（収率９２．３％）を得る。

ｆｆｉ／１９４−１９５℃ 実施例　４ 実施例３と同様の操作により、後記表１に示す化合物１
７を合成した。

実施例　５ ジメチル−２−（メチルフェニルカルバ七イル）エチル
スルホニウム　／’−）ルエンスルホネート（化合物２
）の合成 ２−（メチルフェニルカルバ七イル）エチルメチルスル
ファイト２．０９ｆにｐ−トルエンスルホシ酸メチル６
．０７を加え、室温で１２時間攪拌する。反応液にエー
テルを加え、不溶部を戸数し、エタノール−エーテルよ
り再結晶して、ジメチル−２−（メチルフェニルカルバ
七イル）エチルスルホニウム　ｐ−トルニジスルホネー
ト（化合物２）３．８２２（収率９６．５％）を得る。

７ｉ７）！５０−１５１℃ 実施例　６ 実施例５と同様の操作により後記表１に示す化合物４．
５．９および１８を合成した。

実施例　７ ジメチルー２−（４−（５−テトラシリルカルバ七イル
）フェニル）カルバｔイルエチルスルホニウムアイオタ
イド（化合物＋４）の合成２−（４−（５−テトラリリ
ルカルバｔ−１ル）フェニル）カルバｔイルエ千ルメチ
ルスルファイド３．０６ｆをジメチルホルムアミドｌＯ
ｍ／に溶解する。これにメチルアイオタイド４．２１を
加え、室温で１２時間攪拌する。反応液にエーテルを加
え、不溶部を沖取し、メタノール−エーテルより再結晶
して１．；メチル−２−（４−（５−テトラゾリルカル
バ上イル）フェニルｊカルバ七イルエチルスルホニウム
アイオタイド（化合物＋＋）４．２５５’（収率９４．
９チ）を得る。

”Ｐ２６４−２６５℃ 実施例　８ 実施例７と同様の操作により、後記表■に示す化合物１
９を合成した。

実施例　９ ジメチル−２−（４−（５−テトラシリルカルバ七イル
）フェニル）カルバ七イルエチルスルホニウム　Ｆ−）
ルエシスルホネート（化合物＋　５　’）の合成 実施例７で合成した２−（４−（５−テトラシリルカル
バ七イル）フェニル）カルバ七イルエチルジメチルスル
ホニウムアイオタイド（化合物１４）４．４８ｆをジメ
チルホルムアミド３０ｍに溶解し、Ｐ−トルニジスルホ
ン酸銀２，７９りを加え、室温で１時間攪拌する。反応
液を濾過し、Ｆ液に硫化水素及び活性炭を加えて濾過す
る。Ｐ液を濃縮し、残渣をジメチルホルムアミド−エー
テルよシ精製してジメチル−２−ｒ４−（５−テトラシ
リルカルバ七イル）フェニル）カルバ七イルエチルスル
ホニウム　Ｆ−）ルエンスルホネート（化合物＋５）４
．５２ｆ（収率９１．７％）を得る。

ｒＩＬＰ２１Ｂ−２１９℃ 実施例　ｌＯ ジメチル−２１４−（エト＋ジカルボニルメチルカルバ
七イル）フェニルカルバ七イル）エチルスルホニウム　
ｐ−１−ルエンスルホネート（化合物２０）の合成 実施例８で合成した２−（４−（エト中ジカルボニルメ
チルカルバモイル）フェニル′−カルバ七イル）エチル
ジメチルスルホニウムアイ才タイド４．６６Ｆをエタノ
ール２０Ｈに溶解し、これに酸化銀２．３１ｒを加えて
室温で３０分攪拌後、濾過する。Ｆ液に、エタノール５
ｍ１ＶＣｐ−１−ルエシスルホシ酸３．４４ｇＴを溶解
した液を加えた後、濃縮する。残渣をアセトニトリル−
エーテルで精製してジメチル−２−（４−（エト十ジカ
ルボニルメチルカルバ℃イル）フェニルカルバ七イル）
エチルスルホニウム　ｐ−トルニジスルホネート（化合
物２０）４．９５Ｆ（収率９６．９％）を得る。

７１ＬＰ１３２−１３５℃ 実施例　１１ ２−（カルボ士ジメチルカルバ七イル）エチルジメチル
スルホニウム　Ｆ−トルニジスルホネート（化合物３）
の合成 ２−（カルボ士ジメチルカルバ℃イル）エチルメチルス
ルファイド１．７７ｆのアセト、７３Ｑｍ／溶液にメチ
ルアイオタイド４．２６ｆ、次いでｐ−トルエンスルホ
ン酸銀２．７９Ｆを加えて、室温で１２時間攪拌する。

反応液を濾過し、Ｆ液に硫化水素及び活性炭を加えて濾
過する。ろ液を濃縮し、アセトニトリル−エーテルより
再結晶して２−（カルボ中ジメチルカルバモイル）エチ
ルジメチルスルホニウム　Ｆ−）ルエシスルホネート、
（化合物３）３．４５Ｆ（収率９５．０％）を得る。

ｍＰ８５−８６℃ 実施例　１２ ジメチル−２−（４−メト牛ジフェニルカルバ七イル）
エチルスルホニウム　ｐ−トルエンスルホネート（化合
物７）の合成 ２−（４−メト中ジフェニルカルバモイル）エチルジメ
チルスルファイド２．２５Ｆのメチリンク０ライド５０
肩ｌ溶液に、メチルアイオタイド４．２６５’、次いで
Ｐ−トルエンスルホン酸銀２−７９ｒを加えて、室温で
１２時間攪拌する。反応液を濾過後、実施例１Ｏと同様
に処理して、ジメチル−２−（今一メト中ジフェニルカ
ルバモイル）エチルスルホニウム　ｐ−ｔ−ルエンスル
ホネート（化合物７）３．９５Ｆ（収率９５．９チ）を
得る。

ｍＰ１１９−１２３℃ 実施例　１３ 実施例１２と同様の操作により後記表１に示す化合物１
Ｏ１１１および２１を合成した。

上記各実施例で得られた化合物（化合物１〜２５）の構
造と共に、各側における収率（％）並びに各化合物のｍ
ｐ　（℃）、元素分析値及び核磁気共鳴スペクトル（Ｎ
ＭＲ）分析結果（δ値、　ｐｐｒｒｔ　）を下記表１に
示す。尚表１中元素分析値における（　）を付して示し
た数値は計算値（チ）を、また（　）を付さないで示し
た数値は実測値（４）を示すものとする。４　たＮＭＲ
ＦｉＤＭＳＯ−ｄ６中、ＴＭＳを内部標準物質として測
定した値である。

表　１ 以下、本発明化合物を用いた製剤例を挙げる。

製剤例１　錠　剤 化合物１３　ｔｏｏｒｎ９ 乳糖　４７■ トウ七ａコシダンプシ　５０１９ 結晶セルロース　５０■ ヒト０牛シづロピルセルロース　１５■タルク　２岬 ステアリン酸マグネシウム　２ｍｇ エチルセルロース　３０岬 脂肪酸グリセリンエステル　２岬 夏錠当り　３００岬 上記配合割合で錠剤を調製する。

製剤例２　顆粒剤 化合物７　２００　ｗａｙ マンニトール　５４０■ トウ七〇コシデンづ、／　１００■ 結晶セルロース　１００岬 ヒト０＋ジプロピルセル０−ス　５０岬タルク　１０Ｗ
Ｉ？ ｌ包当り　１０００■ 上記配合割合で顆粒剤を調製する。

製剤例３　細粒剤 化合物１２　２００■ マンニトール　５２０■ トウ七〇コシデンプン　１００■ 結晶セＪｌ／［１−ス　１ｏｏｑ ヒドロ＋シづ０ピルセルロース　７０岬タルク　ｌＯ岬 ｌ包中　１０００岬 上記配合割合で細粒剤を調製する。

製剤例今　カプセル剤 化合物１０　１００■ 乳糖　５０■ トウ七〇コシデンづン　４７Ｗ 結晶セルロース　５０ｍｙ タルク　２■ ！力づセル当り　２５０＋ＩＩ！ 上記配合割合で力づセル剤を調製する。

製剤例５　シ０ツづ剤 化合物８　１Ｆ 精製白糖　６０ｆ パラしドロ＋シ安息香酸エチル　５η パうしドＯ＋シ安息香酸づチル　５η 香　料　適　量 着色料 全　量　＋００１４！ 上記配合割合でシ０ツづ剤を調製する。

製剤例６　注射剤 化合物１　１００■ 注射用蒸留水　適　量 ｌ管中　２ｄ 上記配合割合で注射剤を調製する。

製剤例７　坐　剤 化合物１１　１００■ ウイテツプジールＦ−３５１４００■ １個当勺　１５００■ 上記配合割合で全開を調製する。

製剤例８　吸入剤 化合物５　Ｉ００■ ソルビタン七ノオレエート　１０■ フ０シ１２　９８９０〜 全　量　１０ｆ 上記配合割合で吸入剤を調製する。

次に本発明化合物の薬理作用試験、急性毒性試験結果を
示す。

（１）　同種受身皮膚アナフイラ士シー（ＰＣＡ）に及
はす影春 実験に使用する組織親和性抗体は、づ夕回虫の虫体抽出
物に、ジニトロフェニル基を結合させた物（ＤＮＰ　−
Ａ！＞と百日咳ワクチシとでラットを免疫することによ
る夕４ＣＴαｄα）らの方法〔ジャーナル　オづ　イム
ノ［１、；　（Ｊ、　ＩｍｎｕｂｎｏＬａｇｙ　）１０
６．１００２　（１９７＋　））で作成した。この組織
親和性抗体を含む血清を、あらかじめ剪毛した雄性ウィ
スター系ラット（体重１８０〜２００り）の背部４ケ所
に皮内注射した。４８時間後にＤＮＰ−ＡＪ？１．５　
ｙｎｙとエバシスブルー２．５２とを含む生理食塩水１
ｔ／を静脈内注射して反応を惹起し、３０分後にラット
を脱血致死せしめ、カタセマ（Ｋａｔａｙａｍａ　）ら
の方法〔マイクロバイオ０ジ−アシド　イムノＤ　”；
　−（ＭｉｃｒｏｈｉｏＬｏｇｙ　ａｎｄＩｍｍｕｎｏ
Ｌｏｇｙ　）　２２．８９　（＋９７８）　）に従って
漏出色素量を測定し、ＰＣＡの指標とした。化合物は抗
原誘発３０分前に腹腔内投与した。結果を表２に示す。

表　２ （２）急性毒性試験 ｔＬｄＹ系雄性マウス（体重２０１）を使用し、化合物
を生理食塩水に溶解し、腹腔内投与し、５０チ致死量Ｌ
Ｄ５ｏ（η／に９）をアラづタウシ法によ請求めた。結
果を下記表３に示す。

表　３ （以　上） 徳島県板野郡上板町佐藤塚字西 ２６１−１ ０発　明　者　松本宏 徳島県板野郡上板町引野字寺の 束３１−２ ０発　明　者　両脇一部 徳島市上吉野町３丁目３０−５

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ■　一般式 〔式中Ｒ１及びＲ２は同一または異なって低級アル＋ル
   基を、Ｒ３は水素原子または低級アル＋ル基を、Ｒ１，
   は水素原子、低級アル中ル基、シフ０基を、Ｒ６は水素
   原子、低級アルコ＋シ基、ハロゲン原子、水酸基、トリ
   フルオロメチル基、低級アシル基、低級アル＋ル基、テ
   トラリリル力ルバｔイル基、カルボ士ジメチル基、３−
   （２−オ中ソー４−ハイド０＋シテトラハイドロフリル
   ）オ十シ基または低級アルコ＋シカ、ルポニルメチル力
   ルバ七イル基を示す）を夫々示す。 またＲ３及びＲ４は互いに結合してメチレジ鎖となり、
   之等の結合する窒素原子と共に複素環基を形成してもよ
   い。ルは１〜３の整数及びＹは酸残基を示す。〕 で表わされるスルホニウム誘導体。 ■　一般式 〔式中Ｒ□は低級アル中ル基を、Ｒ３は水素原子または
   低級アル＋ル基を、Ｒ４は水素原子、低級ルポ十シル基
   を、Ｒ６は水素原子、低級アルコ＋シ基、ハロゲン原子
   、水酸基、トリフルオロメチル基、低級アシル基、低級
   アル＋ル基、テトラリリル力ルバ℃イル基、カルボ士ジ
   メチル基、３−（２−オ＋ソー４−ハイド０中シテトラ
   ハイド０フリル）オ十シ基または低級アルコ＋シカルボ
   ニルメチルカルバ上イル基を示す）を夫々示す。またＲ
   ３及びＲ４は互いに結合してメチレン鎖となり、之等の
   結合する窒素原子と共に複素環基を形成してもよい。ル
   は１〜３の整数を示す。〕 で表わされるスルファイド化合物と、一般式２Ｙ 〔式中Ｒ２は低級アル＋ル基及びＹは酸残基を示す。〕 で表わされる化合物とを反応させることを特徴とする一
   般式 〔式中Ｒ１％Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｙ及びルは前記と同一
   の意味を示す。〕 で表わされるスルホニウム化合物の製造法。 ■　一般式 〔式中Ｒ□及びＲ２は同一または相異なって低級アル＋
   ル基を、Ｒ３は水素原子または低級アル中ル基を、Ｒ４
   は水素原子、低級アル＋ル基、シクロアル中ル基、カル
   ボ士ジメチル基、または基を、Ｒ６Ｆ−１水素原子、低
   級アルコ＋シ基、ハロゲン原子、水酸基、トリフルオロ
   メチル基、低級アシル基、低級アル中ル基、テトラリリ
   ル力ルバ七イル基、カルボ士ジメチル基、３−（２−オ
   ＋ソー４−ハイドＯ＋シテトラハイドＯフリル）オ十シ
   基または低級アル］＋ジカルボニルメチルカルバ℃イル
   基を示す。またＲ３及びＲ１゜は互いに結合してメチレ
   ジ鎖となり、之等の結合する窒素原子と共に複素環基を
   形成してもよい。路は１〜３の整数及びＸはへ〇、’ｆ
   ′ＪＪｇｒ、子を示す。〕 で表わされるスルホニウムパライト、一般式〔式中Ｚは
   銀原子またはアルカリ金属原子及びＹ□はＸで示される
   ハロゲン原子以外の酸残基を示す。〕 で表わされる化合物とを反応させることを特徴とする一
   般式 〔式中Ｒ□、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｙ□及びルは前記と同
   一の意味を示す。〕 で表わされるスルホニウム化合物の製造法。 ■　一般式 〔式中Ｒ□及びＲ２は同一または相異なって低級アル＋
   ル基を、Ｒ３は水素原子または低級アル＋ル基を、Ｒ４
   は水素原子、低級アル＋ル基、シクＤアル＋ル基、カル
   ボ士ジメチル基または基を、Ｒ６け水素原子、低級アル
   コ＋シ基、ハロゲン原子、水酸基、トリフルオロメチル
   基、低級アシル基、低級アル中ル基、テトラリリルカル
   バ七イル基、カルボ士ジメチル基％３−（２−オ＋ソー
   ４−ハイドロ＋シテトラハイド０フリル）オ十シ基また
   は低級アルコ＋ジカルボニルメチルカルバｔイル基を示
   す）を夫々示す。 またＲ３及びＲ４は互いに結合してメチレジ鎖となり、
   之等の結合する窒素原子と共に複素環基を形成してもよ
   い。ｒＬは１〜３の整数及びＸはハロゲン原子を示す。 〕 で表わされるスルホニウムハライドに、酸化銀及び一般
   式 〔式中ＹｉけＸで示されるへロゲシ原子以外の酸残基を
   示す。〕 で表わされる化合物を反応させることを特徴とする一般
   式 〔式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｙ□及びｒＬは前記と
   同一の意味を示す。〕 で表わされるスルホニウム化合物の製造法。