JPS604191A - Novel cephalosporin compound - Google Patents
Novel cephalosporin compoundInfo
- Publication number
- JPS604191A JPS604191A JP58113565A JP11356583A JPS604191A JP S604191 A JPS604191 A JP S604191A JP 58113565 A JP58113565 A JP 58113565A JP 11356583 A JP11356583 A JP 11356583A JP S604191 A JPS604191 A JP S604191A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- salts
- acid
- groups
- methyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規なセファロスポリン類、具体的には、
一般式
で表ワされるセファロスポリンおよびその塩類に関する
。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to novel cephalosporins, specifically cephalosporins represented by the general formula and salts thereof.
而して、本発明の目的とするところは、広範囲な抗菌ス
ペクトルを有し、ダラム陽性菌、グラム陰性菌に対し優
れた抗菌活性を示し、かつバクテリアが産生するβ−ラ
クタマーゼに対しても安定な性質を有し、人ならびに動
物の疾病に対し経口および非経口で優れた治療効果を発
揮する新規なセファロスポリンおよびその塩類を提供す
ることにある。Therefore, the object of the present invention is to have a broad antibacterial spectrum, exhibit excellent antibacterial activity against Durham-positive bacteria and Gram-negative bacteria, and be stable against β-lactamases produced by bacteria. The object of the present invention is to provide a novel cephalosporin and its salts, which have excellent therapeutic properties for human and animal diseases both orally and parenterally.
本発明のセファロスポリン類は、セフェム環の3位エキ
ンメチレン基に、式−N−8O*R” (式6
(式中−Wは前記した意味を有する。)で表わされる複
素環式基が結合しているところにその特徴がある。The cephalosporins of the present invention have a heterocyclic group represented by the formula -N-8O*R" (Formula 6 (in the formula, -W has the above-mentioned meaning) at the 3-position echinmethylene group of the cephem ring. Its characteristic lies in the way it is connected.
以下、さらに本発明の詳細な説明する。The present invention will be further explained in detail below.
本明細書において、特にことわらない限り、アルキルと
は、C1〜+4アルキル、たとえば、メチル、エチル、
n−プロピル、イングロビル、D−ブチル、インブチル
、5ea−ブチル、tert−フチル、ペンチル、ヘキ
シル、ヘフチル、オクチル、ドデシルまたはラウリルな
どを;アルコキシとは、上で定義したアルキル基を有す
る一〇−アルキルを;低級アルキルとは、C1〜Sアル
キル、たとえば、メチル、エチル、カープロピル、イン
プロビル、n−ブチル、イソブチル、5ee−ブチル、
tart−ブチルまたはペンチルなkを】低級アルコキ
シとは、上で定義した低級アルキル基を有する一〇−低
級アルキルを】アシルとは、自〜I!アシル、たとえば
、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ベンゾイル、ナ
フトイル、ペンタンカルボニル、シクロヘキサンカルボ
ニル、70イルまたはテノイ/l/などを】アシルオキ
シとは、上で定義したアシル基を[fる−0−アシルを
]アルキルチオとは、上で定義したアルキル基を有する
ーS−アルキルを;アルケニルとは、C禦〜10アルケ
ニル、タトエハ、ヒニル、アリル、1so−7’ロペニ
ル、2−ペンテニルまたはブテニルなどをiアルレキニ
ルとは、C8〜u+ 7 /’キニル、たとえば、エチ
ニルまたは2−プロビニAIなどを】シクロアルキ/l
/ トハ、Cs〜7 シクロアルキル、りとえi?、シ
クロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシルまたはシクロヘプチルなどヲ:シクロアルケニ
ルトハ、C襲〜マシクロアルケニル、たとえハ、シクロ
ペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニルなど
を;アリールとは、たとえば、フェニル、ナフチルまた
はインダニルなどをテアリールオキシとは、上で定義し
たアリール基を有する一〇−アリールを;アルアルキル
とは、たとえば、ベンジル、フェネチル、4−メチルベ
ンジルまたはナフチルメチルなどを;アルアルキルオキ
シとは、上で定義したアルアルキル基を有する−0−ア
ルアルキル基を;複素環式基とは、酸素、窒素および硫
黄から選択された少なくとも1個の複素原子を含む複素
環式基、たとえば、フリル、チェニル、ピロリル、ピラ
ゾリル、イミダゾリル、チアゾリル、インチアゾリル、
オキサシリル、インオキサシリル、チアジアゾリル、オ
キサジアゾリル、チアトリアゾリル、オキサトリアゾリ
ル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、3−(2
−メチル−4−ピロリニル)、3−(4−?”ロリニA
/)、N−(メチルピペリジニル)、ピリダジニル、キ
ノリル、7エナジニル、1.6−ペンゾジオキサラニル
、ベンゾ7リル、ペンツチェニル、ペンゾオキサソリル
、ベンゾチアゾリルまたはタマリニルなどを;複素環ア
ルキルとは、上で定義した複素環式基およびアルキル基
から成る基を】ハロゲン原子とは、たとえば、フッ素、
塩素、臭素またはヨウ素原子などをそれぞれ量比する。In this specification, unless otherwise specified, alkyl refers to C1-+4 alkyl, such as methyl, ethyl,
n-propyl, inglovir, D-butyl, imbutyl, 5ea-butyl, tert-phthyl, pentyl, hexyl, heftyl, octyl, dodecyl or lauryl; alkoxy means 10-alkyl having an alkyl group as defined above; ;Lower alkyl means C1-S alkyl, such as methyl, ethyl, carpropyl, improvil, n-butyl, isobutyl, 5ee-butyl,
tart-butyl or pentyl]Lower alkoxy means 10-lower alkyl having a lower alkyl group as defined above]Acyl means -I! [Acyloxy] refers to the acyl group defined above [f-0-acyl] Alkylthio refers to -S-alkyl having an alkyl group as defined above; alkenyl refers to C-10 alkenyl, tatoeha, hinyl, allyl, 1so-7'ropenyl, 2-pentenyl or butenyl, etc. means C8~u+7/'quinyl, such as ethynyl or 2-provinyl AI] cycloalkyl/l
/ Toha, Cs~7 cycloalkyl, Ritoe i? Aryl is, for example, phenyl, naphthyl or indanyl. Tearyloxy refers to 10-aryl having an aryl group as defined above; Aralkyl refers to, for example, benzyl, phenethyl, 4-methylbenzyl or naphthylmethyl; Aralkyloxy refers to A -0-aralkyl group having an aralkyl group as defined in , pyrrolyl, pyrazolyl, imidazolyl, thiazolyl, inthiazolyl,
oxacylyl, inoxasilyl, thiadiazolyl, oxadiazolyl, thiatriazolyl, oxatriazolyl, triazolyl, tetrazolyl, pyridyl, 3-(2
-Methyl-4-pyrrolinyl), 3-(4-?” Lorini A
/), N-(methylpiperidinyl), pyridazinyl, quinolyl, 7-enazinyl, 1,6-penzodioxalanyl, benzolyl, pentuchenyl, penzoxazolyl, benzothiazolyl or tamarinyl, etc.; heterocyclic alkyl means a group consisting of a heterocyclic group and an alkyl group as defined above] A halogen atom means, for example, fluorine,
Compare the amounts of chlorine, bromine, or iodine atoms, respectively.
本明細書中の各一般式におゆるR1は、水素原子または
カルボキシル基の保護基であり、カルボキシル基の保護
基としては、従来ペニシリンおよびセファロスポリン系
化合物の分野で通常使用されているものが挙げられる。In each general formula in this specification, R1 is a hydrogen atom or a carboxyl group-protecting group, and the carboxyl group-protecting group is one commonly used in the field of penicillin and cephalosporin compounds. can be mentioned.
これらのカルボキシル基の保護基としては接触還元、化
学的還元またはその他の緩和な条件下で処理すれば脱離
するエステル形成基、または生体内において容易に脱離
するエステル形成基、または水もしくはアルコールで処
理すれば容易に脱離する有機シリル基、有機リン基もし
くは有機スズ基など、またはその他の種々の公知エステ
ル形艮基が挙げられる。Protective groups for these carboxyl groups include ester-forming groups that can be eliminated by treatment under catalytic reduction, chemical reduction, or other mild conditions, or ester-forming groups that can be easily eliminated in vivo, or water or alcohol. Examples thereof include an organic silyl group, an organic phosphorus group, an organic tin group, etc., which are easily eliminated by treatment with a chemical compound, and various other known ester-type groups.
この種の保護基のうち好適な保護基としては、具体的に
次のものが挙げられる。Among these types of protecting groups, preferable protecting groups include the following.
(イ) アルキル基。(a) Alkyl group.
(ロ) 置換基の少なくとも1つがノ・ロゲン、ニトロ
、カルボアルコキシ、アシル、アルコキシ、オキソ、シ
アノ、シクロアルキル、アリール、アルキルチオ、アル
キルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルコキシカ
ルボニル、5−アルキル−2−オキシー1,6−シオキ
シー1v−4−イル、1−インダニル、2−インダニル
、フリル、ピリジル、4−イミダゾリル、7タルイミド
、スクシンイミド、アセチジノ、アジリジノ、ピロリジ
ノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノ、N−低
級アルキルビベラジノ、ピロリル、ピラゾリル、チアゾ
リル、インチアゾリル、オキサシリル、インオキサシリ
ル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、チアトリアゾ
リル、オキサトリアゾリル、トリアゾリル、テト・ラゾ
リル、ピリジル、キノリル、フエナジニル、ベンシフ1
ノル。(b) At least one of the substituents is norogen, nitro, carbalkoxy, acyl, alkoxy, oxo, cyano, cycloalkyl, aryl, alkylthio, alkylsulfinyl, alkylsulfonyl, alkoxycarbonyl, 5-alkyl-2-oxy-1 , 6-cyoxylv-4-yl, 1-indanyl, 2-indanyl, furyl, pyridyl, 4-imidazolyl, 7talimide, succinimide, acetidino, aziridino, pyrrolidino, piperidino, morpholino, thiomorpholino, N-lower alkyl biverazino , pyrrolyl, pyrazolyl, thiazolyl, inthiazolyl, oxasilyl, inoxasilyl, thiadiazolyl, oxadiazolyl, thiatriazolyl, oxatriazolyl, triazolyl, tetra-lazolyl, pyridyl, quinolyl, phenazinyl, bensif 1
Nor.
ペンツチェニル、ペンツチアゾリル、ペンツチアゾリル
、クマリニル、225−ジメチルピロリジノ、1.4.
5.6−チトラヒドロピリミジニル、4−メチルピペリ
ジノ、2,6−シメチルピベリジノ、5−(2−メチ/
l/−4−ピロリニル)、5−(4−ピロリニル)、N
−(メチルピペリジノ、TI/)、1,3−ペンゾジオ
キサラニル、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アシ
ルオキシ、アシルチオ、アシルアミノ、ジアルキルアミ
ノカルボニル、アルコキシカルボニルアミノ、アルアル
キン、アリールオキシ、アルアルキルオキシ、シクロア
ルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、複素環オキシ
、アルコキシカルボニルオキシ、アルケニルオキシカル
ボニルオキシ、アリールオキシカルボニルオキシ、アル
アルキルオキシカルボニルオキシ、複薬環オキシカルボ
ニルオキシ、アルケニルオキシカルボニル、アリールオ
キシカルボニル、アルアルキルオキシカルボニル、シク
ロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシ
カルボニル、複素環オキシカルボニル、アルキルアニリ
ノまタハハロゲン、低級アルキルもしくは低級アルコキ
シで置換されたアルキルアニリノである置換低級アルキ
ル基。Pentuchenyl, pentuthiazolyl, pentuthiazolyl, coumarinyl, 225-dimethylpyrrolidino, 1.4.
5.6-Titrahydropyrimidinyl, 4-methylpiperidino, 2,6-dimethylpiperidino, 5-(2-methy/
l/-4-pyrrolinyl), 5-(4-pyrrolinyl), N
-(methylpiperidino, TI/), 1,3-penzodioxalanyl, alkylamino, dialkylamino, acyloxy, acylthio, acylamino, dialkylaminocarbonyl, alkoxycarbonylamino, aralkyne, aryloxy, aralkyloxy, cycloalkyloxy , cycloalkenyloxy, heterocyclicoxy, alkoxycarbonyloxy, alkenyloxycarbonyloxy, aryloxycarbonyloxy, aralkyloxycarbonyloxy, polycyclic oxycarbonyloxy, alkenyloxycarbonyl, aryloxycarbonyl, aralkyloxycarbonyl, cyclo Substituted lower alkyl groups which are alkyloxycarbonyl, cycloalkenyloxycarbonyl, heterocyclic oxycarbonyl, alkylanilino or alkylanilino substituted with halogen, lower alkyl or lower alkoxy.
(ハ) シクロアルキル基:低級アルキル置換シクロア
ルキルまたは(2,2−ジ低級アルキル−13−ジオキ
ソ−/l/−4−イル)メチル基。(c) Cycloalkyl group: lower alkyl-substituted cycloalkyl or (2,2-dilower alkyl-13-dioxo-/l/-4-yl)methyl group.
←)アルケニル基。←) Alkenyl group.
犀) アルキニル基。Rhinoceros) Alkynyl group.
(へ) フェニル基または置換基が少なくとも1つの前
記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれた置換基で
ある置換フェニル基、または式
で示される基もしくはその置換誘導体(置換基は前記(
ロ)で例示した置換基より任意に選ばれる)、または式
で示される基もしくはその置換誘導体(置換基は前記(
ロ)で例示した置換基より任意に選ばれる)のようなア
リール基。(f) A phenyl group or a substituted phenyl group in which the substituent is at least one substituent arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above, or a group represented by the formula or a substituted derivative thereof (the substituent is (
b)), or a group represented by the formula or a substituted derivative thereof (the substituent is selected from the substituents exemplified above (
An aryl group arbitrarily selected from the substituents exemplified in b).
(トI ベンジルまたは置換基が少なくとも1つの前記
(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれた置換基であ
る置換ベンジyのようなアルアルキル基。(I) An aralkyl group such as benzyl or a substituted benzyl group in which the substituent is at least one substituent arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above.
(ト)複素環式基ズたは置換基が少なくとも1つの前記
(Cff+で例示した置換基より任意に選ばれた置換基
である置換された複素環式基。(g) A substituted heterocyclic group in which the heterocyclic group or substituent is at least one substituent arbitrarily selected from the substituents exemplified above (Cff+).
明 脂環インダニル、脂環フタリジルまたは置換基がメ
チルもしくはハロゲンであるそれらの置換誘導体、脂環
テトラヒドーロナフチルまたは置換基がメチルもしくは
ハロゲンであるその置換誘導体、トリチル、コレステリ
ル、ビシクロ(4,、4,O〕デシルなと。Alicyclic indanyl, alicyclic phthalidyl or their substituted derivatives whose substituent is methyl or halogen, alicyclic tetrahydronaphthyl or their substituted derivatives whose substituent is methyl or halogen, trityl, cholesteryl, bicyclo(4,, 4, O] Decyl.
09 脂環フタリジリデン低級アルキル基または置換基
がハロゲンもしくは低級アルキル基であるそれらの置換
誘導体。09 Alicyclophthalidylidene lower alkyl groups or substituted derivatives thereof, wherein the substituent is a halogen or a lower alkyl group.
上で例示したカルボキシル基の保護基は代表例であり、
これら以外にも、つぎの文献に記載されている保護基を
任意に選択することができる。The carboxyl group protecting groups exemplified above are representative examples,
In addition to these, protecting groups described in the following documents can be arbitrarily selected.
米国特許ろ、499,909号、5.57’3,296
号および5,641,018号;西独特許公開公報2.
301,014号、4255.287号および2.5
’34105号。U.S. Patent No. 499,909, 5.57'3,296
No. and No. 5,641,018; West German Patent Publication No. 2.
No. 301,014, No. 4255.287 and 2.5
'34105.
これらの中で好ましいカルボキシル基の保護基としては
、たとえば、5−低級アルキルー2−オキシー1,5−
ジオキソールー4−イに一低Rアルキル基、アシルオキ
シアルキル基、アシルチオアルキル基、7タリジル基、
インダニル基、フェニル基、置換基を有するかもしくは
有しないフタリジリデン低級アルキル基または仄の式で
表わされる基のように生体内で容易に脱離する基が挙げ
られる。Among these, preferred carboxyl group protecting groups include, for example, 5-lower alkyl-2-oxy-1,5-
Dioxol-4-i has one low R alkyl group, acyloxyalkyl group, acylthioalkyl group, 7-talidyl group,
Examples include groups that are easily eliminated in vivo, such as an indanyl group, a phenyl group, a phthalidylidene lower alkyl group with or without a substituent, or a group represented by the following formula.
2−オキソ−1,6−ジオキソ−ルー4−イル−メチル
、5−エチル−2−オキシー1,5−ジオキシールー4
−イル−メチル、5−n−プロピル−2−オキソ−1,
6−ジオキシ−ルー4イル−メチル基などの5−低級ア
ルキルー2−オキソ−1,6−シオキシールー4−イル
−メチル基】アセトキシメチル、ビバロイyvyl−キ
シメチル、プロピオニルオキシメチル、プチリルオギシ
メチル、インブチリルオキシメチル、バレリルオキシメ
チル、1−アセトキシエチル、1−アセトキシ−n−プ
ロピル、1−ピバロイルオキシエチル、1−ピバロイル
オキシ−n−プロピル基などのアシルオキシアルキル基
】アセチルチオメチル、ピバロイルチオメチル、ベンゾ
イルチオメチル、p−クロロベンゾイルチオメチル、1
−アセチルチオエチル、1−ピバロイルチオエチル、1
−ペンソイルチオエチル、1−(p−クロロベンゾイル
チオ)エチル基などのアシルチオアルキル基iメトキシ
メチル、エトキシメチル、D−プロボキシメチル、イン
プロポキシメチル、n−ブチルオキシメチル基などのア
ルコキシメチル基】メトキシカルボニルオキシメチル、
エトキシカルボニルオキシメチル、n−プロボキシカル
ボニルオキシメチル、インプロポキシカルボニルオキシ
メチル、n−ブチルオキシカルボニルオキシメチル、
tart−ブチルオキシカルボニルオキシメチル、1−
メトキシカルボニルオキシメチル、1−エトキシカルボ
ニルオキシ−エチル、1−n−フロポギシカルボニルオ
キシーエチル、1−インプロボキシカルポニルオキシー
エチル、1−n−7’チルオキシカルボニルオキシ−エ
チル基などのアルコキシカルボニルオキシ−アルキル基
iメトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチ
ル基などのアルコキシカルボニルメナル基;フタリジル
基;インダニル基;フェニル基;2−(フタリシリテン
)−エチル、2−(s−フルオロフタIJ シIJ f
ン)−エチル、2−(6−クロロフタリシリデン)−エ
チル、2−(6−メドキシフタリジリデン)−エチル基
などの7タリジリデンアルキル基などが挙げられる。2-oxo-1,6-dioxol-4-yl-methyl, 5-ethyl-2-oxy-1,5-dioxyl-4
-yl-methyl, 5-n-propyl-2-oxo-1,
5-lower alkyl-2-oxo-1,6-cyoxy-4-yl-methyl group such as 6-dioxy-4-yl-methyl group] acetoxymethyl, bivaloy-yvyl-xymethyl, propionyloxymethyl, butyryloxymethyl, [Acyloxyalkyl groups such as imbutyryloxymethyl, valeryloxymethyl, 1-acetoxyethyl, 1-acetoxy-n-propyl, 1-pivaloyloxyethyl, 1-pivaloyloxy-n-propyl] acetylthiomethyl, pivaloylthiomethyl, benzoylthiomethyl, p-chlorobenzoylthiomethyl, 1
-acetylthioethyl, 1-pivaloylthioethyl, 1
- Acylthioalkyl groups such as pensoylthioethyl and 1-(p-chlorobenzoylthio)ethyl groups iAlkoxymethyl groups such as methoxymethyl, ethoxymethyl, D-proboxymethyl, impropoxymethyl, and n-butyloxymethyl groups [Group] methoxycarbonyloxymethyl,
Ethoxycarbonyloxymethyl, n-proboxycarbonyloxymethyl, impropoxycarbonyloxymethyl, n-butyloxycarbonyloxymethyl,
tart-butyloxycarbonyloxymethyl, 1-
Alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyloxymethyl, 1-ethoxycarbonyloxy-ethyl, 1-n-flopoxycarbonyloxy-ethyl, 1-improboxycarbonyloxy-ethyl, and 1-n-7' thyloxycarbonyloxy-ethyl groups. Oxy-alkyl group i Alkoxycarbonylmenal group such as methoxycarbonylmethyl, ethoxycarbonylmethyl group; Phthalidyl group; Indanyl group; Phenyl group;
Examples include 7tallydylidene alkyl groups such as 2-(6-chlorophtallycylidene)-ethyl, 2-(6-medoxyphtallydylidene)-ethyl, and the like.
また、R3は式−N−sotR’(式中、R6は水素R
6゜
原子または置換されていてもよいアルキル、アリールも
しくはアルアルキル基を、R′は置換されていてもよい
アルキル、アリール、アルアルキルまたは複素環式基を
示す。)で表わされるスルホンアミド基、または式
びスルホニル基と一緒になって、ハロゲン原子、ニトロ
、シアノ、アミノ、カルボキシル、カルバモイル、スル
ホまたはスルファモイル基もしくは置換されていてもよ
いアルキル、アルアルキル、アリール、アルケニル、ア
ルコキシ、アルキルチオ、アシル、アシルオキシまたは
アルコキシカルボニル基で置換されていてもよい5員環
または6員環を形成するは、126−チアジアジン−1
1−ジオキシノ」
ビー2−イル基、テトラヒドロ−12−チアジン−1,
1−ジオキシド−2−イル基、インチアゾリジン−1,
1−ジオキシド−2−イル基、1.2.5−チアジアゾ
リン−1,1−ジオキシド−2−イル基などが挙げられ
る。Furthermore, R3 is represented by the formula -N-sotR' (wherein, R6 is hydrogen R
R' represents a 6° atom or an optionally substituted alkyl, aryl or aralkyl group, and R' represents an optionally substituted alkyl, aryl, aralkyl or heterocyclic group. ) or a sulfonyl group, together with a halogen atom, nitro, cyano, amino, carboxyl, carbamoyl, sulfo or sulfamoyl group, or an optionally substituted alkyl, aralkyl, aryl, Forming a 5- or 6-membered ring optionally substituted with alkenyl, alkoxy, alkylthio, acyl, acyloxy or alkoxycarbonyl group is 126-thiadiazine-1
1-Dioxyno” be-2-yl group, tetrahydro-12-thiazine-1,
1-dioxide-2-yl group, inthiazolidine-1,
Examples include 1-dioxid-2-yl group, 1.2.5-thiadiazolin-1,1-dioxid-2-yl group, and the like.
さらに、上で述べた種々の基の置換基としては、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アルアルキル%、アリール基、ア
ルクニル基、ヒドロキシル基、オキソ基、アルコキシ基
、アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ア
シル基、アシルオキシ基、カルボキシル基、カルバモイ
ル基、スルホ基、スルファモイル基; −NH−アルキ
ルで表わされるアルキルアミノ基; −N/アA/ J
JL/
\ア7.ヤ2.で表わされるジアルキ
ルアミノ基1−N−アシルで表わされるアシルアミノ基
; −C−O〜アルキルで表わされるアル1
コキシカルボニル基;アセチルメチル、プロビオニルメ
チルなどのアルアルキル基】アミノメチル、アミノエチ
ルなどのアミノアルキル基;N−メチルアミノメチル、
N−メチルアミノエチルなどのN−アルキルアミノアル
キル基;N、N−ジメチルアミノメチル、N、N−ジメ
チルアミノエチルなどのN、N−ジアルキルアミノアル
キル基3ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチルなどのヒ
ドロキシアルキル基;ヒドロキシイミノメチル、ヒドロ
キシイミノエチルなどのヒドロキシイミノアルキル基i
メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチル、エ
トキシエチルなどのアJbコキシアルキル基iカルボキ
シメチル、カルボキシエチルなどのカルボキシアルキル
基iメトキ7カルボニルメチル、メトキシカルボニルエ
チル、エトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニル
エチルなどのアルコキンカルボニルアルキル基;ベンジ
ルオキシカルボニルメチル、ベンジルオキシカルボニル
エチルなどのアルアルキルオキシカルボニルアルキル基
iスルホメチル、スルホニル基よどのスルホアルキル基
;スルファモイルメチル、スルファモイルエチルなどの
スル7アモイルアルキル基iカルバモイルメチル、カル
バモイルエチルなどのカルバモイルアルキル基tカルバ
モイルアリルなどのカルバモイルアルケニル基;N−ヒ
ドロキシカルバモイルメチル、麹−ヒドロキシカルバモ
イルエチルなどのへ一ヒドロキシカルバモイルアルキル
基などが挙げられ、種々の基はこれら一種以上の置換基
で置換されていてもよい。また、これらの置換基のうち
、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基などは通
常当該分野で用いられている適当な保護基で保護されて
いてもよい。Furthermore, substituents for the various groups mentioned above include halogen atoms, alkyl groups, aralkyl%, aryl groups, alknyl groups, hydroxyl groups, oxo groups, alkoxy groups, alkylthio groups, nitro groups, cyano groups, and amino groups. group, acyl group, acyloxy group, carboxyl group, carbamoyl group, sulfo group, sulfamoyl group; alkylamino group represented by -NH-alkyl; -N/A/J
JL/ \A7. Ya2. dialkylamino group represented by acylamino group represented by 1-N-acyl; Al 1-koxycarbonyl group represented by -C-O~alkyl; aralkyl group such as acetylmethyl, probionylmethyl; aminomethyl, aminoethyl Aminoalkyl groups such as; N-methylaminomethyl,
N-alkylaminoalkyl groups such as N-methylaminoethyl; N,N-dialkylaminoalkyl groups such as N,N-dimethylaminomethyl, N,N-dimethylaminoethyl; hydroxyalkyl groups such as 3-hydroxymethyl and hydroxyethyl; ;Hydroxyiminoalkyl group i such as hydroxyiminomethyl, hydroxyiminoethyl
AJboxyalkyl groups such as methoxymethyl, methoxyethyl, ethoxymethyl, and ethoxyethyl i Carboxyalkyl groups such as carboxymethyl and carboxyethyl i Alcokyne carbonyls such as methoxy7 carbonylmethyl, methoxycarbonylethyl, ethoxycarbonylmethyl, and ethoxycarbonylethyl Alkyl groups; aralkyloxycarbonylalkyl groups such as benzyloxycarbonylmethyl and benzyloxycarbonylethyl; sulfoalkyl groups such as sulfomethyl and sulfonyl groups; sulfamoylalkyl groups such as sulfamoylmethyl and sulfamoylethyl; carbamoyl Examples include carbamoylalkyl groups such as methyl and carbamoylethyl; carbamoylalkenyl groups such as carbamoylallyl; and he-hydroxycarbamoylalkyl groups such as N-hydroxycarbamoylmethyl and koji-hydroxycarbamoylethyl; various groups include one or more of these groups. It may be substituted with a substituent. Furthermore, among these substituents, hydroxyl groups, amino groups, carboxyl groups, etc. may be protected with suitable protecting groups commonly used in the field.
ここにおいてヒドロキシル基の保護基としては、通常ヒ
ドロキシル基の保護基として使用できるすべての基を含
み、たとえば、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフ
ラニル、ベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、4−7’ロモベンジルオキシカル
ボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、5,
4−ジメトキシペンジルオキシカルポニ/l/、4−(
フェニルアソ)ベンジルオキシカルボニル、4−(4−
メトキシエチルアソ)ベンジルオキシカルボニル、te
rt−ブトキシカルボニル、1,1−ジメチルプロポキ
シカルボニル、インプロボキシカルボニル、ジフェニル
メトキシカルボニル、2.2,2− トIJクロロエト
キシカルボニル、2.2,2−トリフロモエトキ7ヵル
ポニル、2−フルフリルオキシカルボニル、1−アダマ
ンチルオキシカルボニル、1−シクロプロビルエトキシ
カルボニル、8−キノリルオキシカルボニル、ホルミル
、アセチル、(モノ−、ジー、)!J−)クロロアセチ
ル、ベンゾイルまたはトリフルオロアセチ/l/ fl
どの脱離しゃすいアシル基】メタンスルホニル、エタン
スルホニルナトのアルキルスルホニル基jフェニルスル
ホニル、トルエンスルホニル基すと17)アリールスル
ホニル基およびベンジル基、トリチル基、メトキシメチ
ル基、0−ニトロフェニルスルフェニル基、2,4−ジ
ニトロフェニルスルフェニル基なトカ挙ケラレル。Here, the hydroxyl-protecting group includes all groups that can normally be used as hydroxyl-protecting groups, such as tetrahydropyranyl, tetrahydrofuranyl, benzyloxycarbonyl, 4-nitrobenzyloxycarbonyl, 4-7'romo Benzyloxycarbonyl, 4-methoxybenzyloxycarbonyl, 5,
4-dimethoxypenzyloxycarponi/l/, 4-(
phenylaso)benzyloxycarbonyl, 4-(4-
methoxyethyl aso)benzyloxycarbonyl, te
rt-butoxycarbonyl, 1,1-dimethylpropoxycarbonyl, improboxycarbonyl, diphenylmethoxycarbonyl, 2.2,2-toIJchloroethoxycarbonyl, 2.2,2-trifuromoethoxy7carbonyl, 2-furfuryloxycarbonyl , 1-adamantyloxycarbonyl, 1-cyclopropylethoxycarbonyl, 8-quinolyloxycarbonyl, formyl, acetyl, (mono-, di-, )! J-) Chloroacetyl, benzoyl or trifluoroacetyl/l/fl
Which acyl group can be eliminated] Methanesulfonyl, ethanesulfonyl, alkylsulfonyl group phenylsulfonyl, toluenesulfonyl group 17) Arylsulfonyl group and benzyl group, trityl group, methoxymethyl group, 0-nitrophenylsulfenyl group , 2,4-dinitrophenylsulfenyl group.
さらに、アミン基の保護基としては、通常アミノ基の保
護基として使用できるすべての基を含み、たとえば、ト
リクロロエトキシヵルホニル、+1フロモエトキシカル
ボニノペベンジルオキシカルポニル、P−1ルエンスル
ホニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル、o−ブ
ロモベンジルオキシカルボニル、(モノ−、ジーz)リ
−)タロロアセチル、トリフルオロアセチル、ポルミル
、Lert Lアミルオキシカルボニル、tert−フ
) # シカ)L/ ;f! 二/l/ 、 p−メト
キシベンジルオキシカルボニル、5,4−ジメトキシベ
ンジルオキシカルボニル、4−(フェニルアソ)ベンジ
ルオキシカルボニル、4−(4−メトキシカルニルアソ
)べフリルオキシカルボニル、ピリジン−1−オキシド
−2−イル−メトキシカルボニル、2−フリルオキシカ
ルボニル、シフェニルメトキ7カルボニル、1,1−ジ
メチルプロポキシカルボニル、インプロボキシヵルボニ
ル、1−シクロプロビルエトキシカルボニル、7タロイ
ル、スクシニル、1−7ダマンチルオキシカルボニル、
8−キノリルオキシカルボニルなどの脱離しゃすいアシ
ル基iトリチル、0−ニトロフェニルスルフェニ/l/
、2,4− シ= )ロフェニルスルフェニル、2−ヒ
ドロキシベンジリデン、2−ヒドロキシ−5−クロロベ
ンジリデン、2−ヒドロキシ−1−ナフチルメチレン、
6−ヒドロキシ−4−ピリジルメチレン、1−メトキシ
カルボニル−2−プロビリデン、1〜エトキシカルボニ
ル−2−プロビリデン、6−エトキシカルボニルー2−
ブチリデン、1−アセチル−2−プロビリデン、1−ベ
ンゾイル−2−グロビリデン、1−(N−(2−メ)キ
シフェニル)カルバモイル] −2−7−ロビリデン、
1’−(N−(4−メトキシフェニル)カルバモイル]
−2−グロビリデン、2−エトキシカルボニルシクロへ
キシリチン、2−二トキシカルボニルシクロベンチリテ
ン、2−アセチルシクロへキシリデン、625−ジメチ
ル−5−オキソンクロヘキシリデンなどの脱離しやすい
基およびジーもしくはトリーアルキルシリル基などのア
ミノ基の保護基が挙げられる。Furthermore, the protecting group for an amine group includes all groups that can be normally used as a protecting group for an amino group, such as trichloroethoxycarbonyl, +1 furomoethoxycarboninopebenzyloxycarponyl, P-1 luenesulfonyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, o-bromobenzyloxycarbonyl, (mono-, di-z)li-)taloloacetyl, trifluoroacetyl, porumyl, Lert L-amyloxycarbonyl, tert-f) # deer) L/; f! 2/l/, p-methoxybenzyloxycarbonyl, 5,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl, 4-(phenylaso)benzyloxycarbonyl, 4-(4-methoxycarnylaso)befuryloxycarbonyl, pyridine-1-oxide -2-yl-methoxycarbonyl, 2-furyloxycarbonyl, cyphenylmethoxycarbonyl, 1,1-dimethylpropoxycarbonyl, improboxycarbonyl, 1-cyclopropylethoxycarbonyl, 7taloyl, succinyl, 1-7 damantyloxycarbonyl,
Easily eliminated acyl groups such as 8-quinolyloxycarbonyl itrityl, 0-nitrophenylsulfenyl/l/
, 2,4-cy=)lophenylsulfenyl, 2-hydroxybenzylidene, 2-hydroxy-5-chlorobenzylidene, 2-hydroxy-1-naphthylmethylene,
6-hydroxy-4-pyridylmethylene, 1-methoxycarbonyl-2-propylidene, 1-ethoxycarbonyl-2-propylidene, 6-ethoxycarbonyl-2-
butylidene, 1-acetyl-2-propylidene, 1-benzoyl-2-glopylidene, 1-(N-(2-me)xyphenyl)carbamoyl]-2-7-ropylidene,
1'-(N-(4-methoxyphenyl)carbamoyl]
- Easily leaving groups such as -2-glopylidene, 2-ethoxycarbonylcyclohexylitine, 2-nitoxycarbonylcyclobentritene, 2-acetylcyclohexylidene, 625-dimethyl-5-oxonclohexylidene, and di- or tri- Examples include protecting groups for amino groups such as alkylsilyl groups.
つぎに、カルボキシル基の保護基としては、通常のカル
ボキシル基の保護基として使用できるすべての基を言み
、たとえば、メチル、エチル、n−プロピル、インプロ
ビル%tart−ブチル、n−ブチル、ベンジル、ジフ
ェニルメチル、ト17チル、p−ニトロベンジル、p−
メトキシベンジル、ベンゾイルメチル、アセチルメチル
、p−ニトロベンゾイルメチル、p−ブロモベンゾイル
メチル、p−メタンスルホニルベンゾイルメチル、7タ
ルイミドメチル、トリクロロエチル、1,1−ジメチA
/ 70ビル、アセチルメチル、プロピオニルオキシメ
チル、ヒバロイルオキシメチル、1.1−ジメチル−2
−プロペニル、3−メチル−3−ブテニル、スクシンイ
ミ、トメチル、1−シクロプロピルエチル、メチルチオ
メチル、フェニルチオメチル、ジメチルアミノメチル、
キノリン−1−オキシド−2−イル−メチル、ピリジン
−1−オキシド−2−イル−メチル、ビス(、−メトキ
シフェニル)メチルなどの基が挙げられ、さらに四塩化
チタンの如き非金属化合物でカルボキシル基が保護され
ている場合並びに特開昭46−7075号およびオラン
ダ国公開公報7105259 号に記載されているよう
にたとえばジメチルクロロシランの如きシリル化合物で
カルボキシル基が保護されている場合などが挙げられる
。Next, the carboxyl group-protecting group refers to all groups that can be used as normal carboxyl group-protecting groups, such as methyl, ethyl, n-propyl, Improvil% tart-butyl, n-butyl, benzyl , diphenylmethyl, to-17tyl, p-nitrobenzyl, p-
Methoxybenzyl, benzoylmethyl, acetylmethyl, p-nitrobenzoylmethyl, p-bromobenzoylmethyl, p-methanesulfonylbenzoylmethyl, 7talimidomethyl, trichloroethyl, 1,1-dimethyA
/ 70 biru, acetylmethyl, propionyloxymethyl, hivaloyloxymethyl, 1,1-dimethyl-2
-propenyl, 3-methyl-3-butenyl, succinimi, tomethyl, 1-cyclopropylethyl, methylthiomethyl, phenylthiomethyl, dimethylaminomethyl,
Examples include groups such as quinolin-1-oxid-2-yl-methyl, pyridin-1-oxid-2-yl-methyl, and bis(,-methoxyphenyl)methyl; Examples include cases where the group is protected, and cases where the carboxyl group is protected with a silyl compound such as dimethylchlorosilane, as described in JP-A-46-7075 and Dutch Publication No. 7105259.
また、R″は水素原子または保@されていてもよいアミ
ノ基を意味し、そのようなアミン基の保護基としては、
通常ペニシリン、セファロスポリンの分野で用いられる
多くの基が挙げられ、具体的には、R“について説明し
たアミノ基のすべての保護基が挙げられる。Further, R'' means a hydrogen atom or an optionally preserved amino group, and examples of protecting groups for such amine groups include:
Many groups commonly used in the fields of penicillins and cephalosporins are mentioned, and specifically, all the protecting groups for amino groups described for R'' are mentioned.
また、−人−は式−CHl−または式−C−基)
OH’
〔式中、R“は水素原子または置換されていてもよいア
ルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シ
クロアルケニル、アルアおよび110は同一または異な
って、ヒドロキシル、アルキル、アルアルキル、アリー
ル、アルコキシ、アルアルキルオキシまたはアリールオ
キシ基を示す。)で表わさする基を示し、−はシンまた
はアンチ異性体またはそれらの混合物でもよいことを示
す。〕を意味する。-Person- is a group of the formula -CHl- or a group of the formula -C-) OH' [wherein R' is a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, ara and 110 are the same or different and represent a hydroxyl, alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy, aralkyloxy or aryloxy group; ] means.
ここにおいてヒドロキシル基の保護基としては、Wにつ
いて説明したヒドロキシル基の保護基が挙げられる。さ
らに、上で示した種々の基の置換基としては、ハロゲン
原子、オキソ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ
基、複累壊式基筐たは
−NHCOB”もしくは式−シ、o n +4 ビ式中
、B“は\OR+ 1
前記した意味を有し、R14、Hr@およびRloは同
一または異なって、水素原子、アルキル、アルアルキy
またはアリール基を示す。)テ表わされる基が挙げられ
、上で示した種々の基は、これら一種以上の置換基で置
換されていてもよい。これらの置換基のうち、ヒドロキ
シル基およびアミン基などはそれぞれR1について説明
したヒドロキシル基およびアミノ基の保護基で保護され
ていてもよい。Here, examples of the hydroxyl group-protecting group include the hydroxyl group-protecting groups described for W. Furthermore, substituents for the various groups shown above include halogen atoms, oxo groups, cyano groups, hydroxyl groups, alkoxy groups, amino groups, alkylamino groups, dialkylamino groups, double broken groups, or - NHCOB" or the formula -S, on +4 B" in the formula \OR+ 1 has the above meaning, and R14, Hr@ and Rlo are the same or different and represent a hydrogen atom, alkyl, aralkyl
or represents an aryl group. ) The various groups shown above may be substituted with one or more of these substituents. Among these substituents, the hydroxyl group and the amine group may be protected with the hydroxyl group and amino group protecting groups described for R1, respectively.
つぎに、−〇−で表わされるオキシム体には、口
AR・
シンおよびアンチ異性体並びにそれらの混合物が存在す
るが、それらのいずれも本発明に包含される。Next, the oxime represented by -0- includes AR, anti isomers, and mixtures thereof, all of which are included in the present invention.
R1が保護されていてもよいアミノ基の場合は、つぎの
平衡式で示すように互変異性体が存在するが、その互変
異性体も本発明に包含される。When R1 is an optionally protected amino group, tautomers exist as shown in the following balanced formula, and these tautomers are also included in the present invention.
「
そして、上の式におけるR6′のイミノ基の保護基とし
ては、通常ペニシリン、セファロスポリンの分野で用い
る基が挙げられ、具体的には、R1について説明したア
ミン基の保護基のうち1価基と同様の基が挙げられる。In the above formula, the protecting group for the imino group of R6' includes groups normally used in the field of penicillin and cephalosporin, and specifically, one of the protecting groups for the amine group explained for R1. Groups similar to the valence groups can be mentioned.
一般式〔1〕の化合物の塩類としては、従来ペニシリン
及びセファロスポリン系化合物の分野で周知の塩基性基
または酸性基における塩を挙げることができる。そのよ
うな塩基性基における塩としては、たとえば、塩酸、硝
酸または硫酸などの鉱酸との塩】シュウ酸、コハク酸、
ギ酸、トリクロロ酢酸またはトリフルオロ酢酸などの有
機カルボン酸との塩jメタンスルホン酸、エタンスルホ
ン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエン−2−スルホン酸
、トルエン−4−スルホン酸、メシチレンスルホン酸(
2,4,6−)リメチルベンゼンスルホン酸)、ナフタ
レン−1−スルホン酸、ナフタレン−2−スルホン酸、
フェニルメタンスルホン酸、ベンゼン−1,3−ジスル
ホン酸、トルエン−3,5−ジスルホン酸、ナフタレン
−1,5−ジスルホン酸、ナフタレン−226−ジスル
ホン酸、ナフタレン−2,7−ジスルホン酸、ベンゼン
−1,3,5−トリスルホン酸、ベンゼン−1,2,4
−)ジスルホン酸、ナフタレン−1,3,5−トリスル
ホン酸などのスルホン酸との塩を、また酸性基における
塩としては、たとえば、ナトリウムまたはカリウムナト
のアルカリ金属との塩iカルシウムまたはマグネシウム
などのアルカリ土類金属との塩】アンモニウム塩iプロ
力イン、シベンジA/7ミ7、N−ベンジル−β−7エ
ネチルアミン、1−工7エナミン、N N−ジペンジル
エチレンジアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミ
ン、トリブチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、
N−メチルピペリジン、N−メチルモルホリン、ジエチ
ルアミン、ジシタロヘキシルアミンなどの含窒素有機塩
基との塩を挙げることができる。Examples of the salts of the compound of general formula [1] include salts with basic groups or acidic groups that are conventionally known in the field of penicillin and cephalosporin compounds. Salts with such basic groups include, for example, salts with mineral acids such as hydrochloric acid, nitric acid or sulfuric acid; oxalic acid, succinic acid;
Salts with organic carboxylic acids such as formic acid, trichloroacetic acid or trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluene-2-sulfonic acid, toluene-4-sulfonic acid, mesitylenesulfonic acid (
2,4,6-)limethylbenzenesulfonic acid), naphthalene-1-sulfonic acid, naphthalene-2-sulfonic acid,
Phenylmethanesulfonic acid, benzene-1,3-disulfonic acid, toluene-3,5-disulfonic acid, naphthalene-1,5-disulfonic acid, naphthalene-226-disulfonic acid, naphthalene-2,7-disulfonic acid, benzene- 1,3,5-trisulfonic acid, benzene-1,2,4
-) with sulfonic acids such as disulfonic acid, naphthalene-1,3,5-trisulfonic acid, and as salts with acidic groups, for example salts with alkali metals such as sodium or potassium salts such as calcium or magnesium. [Salts with alkaline earth metals] Ammonium salt ipropylene, Sibenzi A/7, N-benzyl-β-7enethylamine, 1-enamine, N-dipenzylethylenediamine, triethylamine, trimethylamine, triethylamine Butylamine, pyridine, dimethylaniline,
Salts with nitrogen-containing organic bases such as N-methylpiperidine, N-methylmorpholine, diethylamine, and dicitalohexylamine can be mentioned.
また、本発明は、一般式〔1〕のセファロスポリン、そ
の塩類のすべての光学異性体、およびラセミ体ならびに
すべての結晶形および水和物を包含するものである。Furthermore, the present invention includes all optical isomers and racemates of the cephalosporin of general formula [1] and its salts, as well as all crystal forms and hydrates.
さらに具体的に述べれば、一般式〔1〕の化合物中、好
ましい例としては、−Amが式−〇−で表わされるオキ
シム体が、その中でI
Δ□・
も、シン異性体が、さらにはBlが水素原子またはアル
キル基、特に、メチル基、エチル基もしくはR“が置換
されているアルキル基、式−CH! coon’ (式
中、R1は前記した意味を有する。)で表わされる各々
の基が挙げられる。More specifically, among the compounds of general formula [1], preferable examples are oxime bodies in which -Am is represented by the formula -〇-, among which I Δ□・, syn isomers, and is a hydrogen atom or an alkyl group, in particular a methyl group, an ethyl group or an alkyl group substituted with R'', each of the formula -CH!coon' (wherein R1 has the meaning given above); The following groups are mentioned.
つぎに、R1の、好ましいもqの例としては、素原子ま
たは低級アルキル基が、R′は低級する基の場合、置換
されていてもよい1.2.6−チアジアジン−1,1−
ジオキシド−2−イル基が挙げられる。Next, as a preferable example of q for R1, when an elementary atom or a lower alkyl group is used, and R' is a lower group, 1.2.6-thiadiazine-1,1- which may be substituted
Dioxide-2-yl group is mentioned.
一般式〔1〕の化合物の中から、いくつかの代表的化合
物について抗菌作用を示す。Among the compounds of general formula [1], some representative compounds exhibit antibacterial activity.
抗菌作用(表−1)
日本化学療法学会標準法[(CHEMOTHEIIAP
Y)第2!1巻第1〜2頁(1975年)〕に従い、H
eart 1nfuslon broth (栄研化学
社製)で37℃、20時間培養した菌液を薬剤を含むH
eart Infualon agar培地(栄研化学
社製)に接種し、67℃、20時間培養後、菌の発育の
有無を観察し、菌の発育が阻止された最小濃度をもって
MIC(μm声)とした。ただし、接種酌量は104個
/グレー)(1o’個/m)とした。Antibacterial action (Table 1) Japanese Society of Chemotherapy Standard Method [(CHEMOTHEIIAP
Y) Volume 2!1, pages 1-2 (1975)], H
H
It was inoculated into an earth Inphalon agar medium (manufactured by Eiken Kagaku Co., Ltd.), and after culturing at 67°C for 20 hours, the presence or absence of bacterial growth was observed, and the minimum concentration at which bacterial growth was inhibited was defined as the MIC (μm). However, the extenuating amount of inoculation was 104 pieces/gray) (1o' pieces/m).
試験化合物は以下のとおりである。The test compounds are as follows.
囚 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]−3−(
xr、5−ジメチル−ち2,6−チアジアジン−1,1
−ジオキシド−2−イ/I/)メチル−Δ3−セフェム
−4カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩
(Bl 7−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド〕−5
−(メタンスルホンアミド)メチル−Δ°−セフェムー
4−カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩
(C1’7−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(シン)−カルボキシメトキシイミノアセトア
ミド]−3−(3,5−ジメチル−1,2,6−チアジ
アジン−1,1−ジオキシド−2−イル)メチル−Δ1
−セフェムー4−カルボン酸のギ酸塩。Prisoner 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-
2-(syn)-methoxyiminoacetamide]-3-(
xr, 5-dimethyl-2,6-thiadiazine-1,1
-dioxide-2-y/I/)methyl-Δ3-cephem-4carboxylic acid trifluoroacetate (Bl 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyimino Acetamide]-5
-(methanesulfonamido)methyl-Δ°-cephemu 4-carboxylic acid trifluoroacetate (C1'7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-carboxymethoxyiminoacetamide ]-3-(3,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazin-1,1-dioxid-2-yl)methyl-Δ1
- Formate salt of cephemu 4-carboxylic acid.
つぎに、本発明の化合物の製造法について説明する。Next, a method for producing the compound of the present invention will be explained.
本発明の化合物は、たとえば、下に示す方法によって製
造することができる。The compound of the present invention can be produced, for example, by the method shown below.
以下、詳細に説明すると、HIYはアミノ基、れる基も
本発明に包含される。そしてR+6. BID。Hereinafter, when explaining in detail, HIY is an amino group, and groups such as HIY are also included in the present invention. And R+6. B.I.D.
BH,Fおよび111における反応に関与しない有機残
基としては、当該分野で知られている有機残基、たとえ
ば、置換基を有するかもしくは有しない脂肪族残基、脂
環式残基、芳香族残基、芳香脂肪族残基、複素環残基、
アシル基などが挙げられ、具体的には次のような基が例
示できる。Organic residues that do not participate in the reaction in BH, F and 111 include organic residues known in the art, such as aliphatic residues with or without substituents, alicyclic residues, aromatic residues. residue, araliphatic residue, heterocyclic residue,
Examples include acyl groups, and specific examples include the following groups.
+11 脂肪族残基:たとえば、メチル、エチル、プロ
ピル、n−ブチル、イソブチル、ペンチルなどのアルキ
ル基iビニル、プロペニル、ブテニルなどのアルケニル
基。+11 Aliphatic residues: for example, alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, n-butyl, isobutyl, pentyl, i alkenyl groups such as vinyl, propenyl, butenyl.
(2) 脂環式残基:たとえば、シクロペンチル、シク
ロヘキシル、シクロヘプチルナトのシフロアノン牟ル基
;シタロベンテニル、シクロヘキセニルなどのシクロア
ルケニル基。(2) Alicyclic residues: For example, cyfuranone groups such as cyclopentyl, cyclohexyl, and cycloheptylnato; cycloalkenyl groups such as cytalobentenyl and cyclohexenyl.
(3) 芳香族残基:たとえば、フェニル、ナフチルな
どのアリール基。(3) Aromatic residues: for example, aryl groups such as phenyl and naphthyl.
(4) 芳香脂肪族残基:たとえば、ベンジル、7エネ
チルなどのアルアルキル基。(4) Aroaliphatic residues: for example, aralkyl groups such as benzyl and 7enethyl.
(5) 複素環残基:たとえば、ピロリジニル、ピペラ
ジニル、フリル、チェニル、ヒロリル、ピラゾリル、オ
キサシリル、チアゾリル、ピリジル、イミダゾリル、キ
ノリル、ベンゾチアゾリル、オキサジアゾリル、チアジ
アゾリル、トリアゾリル、テトラゾリルなどの分子中に
ベテロ原子(酸素、窒素または硫黄原子)を任意に含有
する複素環残基。(5) Heterocyclic residues: For example, pyrrolidinyl, piperazinyl, furyl, chenyl, hyloryl, pyrazolyl, oxacylyl, thiazolyl, pyridyl, imidazolyl, quinolyl, benzothiazolyl, oxadiazolyl, thiadiazolyl, triazolyl, tetrazolyl, etc. , nitrogen or sulfur atoms).
(6)アシル基:有機カルボン酸から誘導されるアシル
基であり、このような有機カルボン酸としては、たとえ
ば、脂肪族カルボン酸i脂環式カルボン酸】脂環式脂肪
族カルボン酸;脂肪族カルボン酸に酸素または硫黄原子
を介してまたは介さずに芳香族残基もしくは複素環式基
が結合した芳香置換脂肪族カルボン酸、芳香族オキシ脂
肪族カルボン酸、芳香族チオ脂肪族カルボン酸、複素環
置換脂肪族カルボン酸、複素環オキシ脂肪族カルボン酸
、複素環チオ脂肪族カルボン酸iカルボニル基に酸素、
窒素または硫黄原子を介して芳香族残基、脂肪族残基も
しくは脂環式残基が結合した有機カルボン酸類i芳香族
カルボン酸i複素壌カルボン酸などの有機カルボン酸が
挙げられる。(6) Acyl group: An acyl group derived from an organic carboxylic acid, such organic carboxylic acids include, for example, aliphatic carboxylic acid, alicyclic carboxylic acid, alicyclic aliphatic carboxylic acid; Aromatic substituted aliphatic carboxylic acids, aromatic oxyaliphatic carboxylic acids, aromatic thioaliphatic carboxylic acids, heteroaromatics in which an aromatic residue or a heterocyclic group is bonded to a carboxylic acid with or without an oxygen or sulfur atom Ring-substituted aliphatic carboxylic acid, heterocyclic oxyaliphatic carboxylic acid, heterocyclic thioaliphatic carboxylic acid i Oxygen in the carbonyl group,
Examples include organic carboxylic acids to which an aromatic residue, aliphatic residue, or alicyclic residue is bonded via a nitrogen or sulfur atom, such as aromatic carboxylic acids, heteroaromatic carboxylic acids, and the like.
ここで脂肪族カルボン酸としては、ギ酸、酢酸、プロピ
オン酸、ブタン酸、イソブタン酸、ペンタン酸、メトキ
シ酢酸、メチルチオ酢酸、アクリル酸、クロトン酸など
が挙げられ、脂環式カルボン酸としては、シクロヘキサ
ン酸などが挙げられ、また脂環式脂肪族カルボン酸とし
ては、シクロペンタン酢酸、シクロヘキサン酢酸、シク
ロヘキサンプロピオン酸、シクロヘキサジエン酢酸など
が挙げられる。Here, examples of aliphatic carboxylic acids include formic acid, acetic acid, propionic acid, butanoic acid, isobutanoic acid, pentanoic acid, methoxyacetic acid, methylthioacetic acid, acrylic acid, crotonic acid, etc., and examples of alicyclic carboxylic acids include cyclohexane. Examples of the alicyclic aliphatic carboxylic acids include cyclopentane acetic acid, cyclohexane acetic acid, cyclohexane propionic acid, and cyclohexadiene acetic acid.
また、上述の有機カルボン酸における芳香族残基として
は、フェニル、ナフチルなどが挙げられ、さらに上述の
複素環式基としては、フラン、チオ7エ/、ビロール、
ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、チアゾール
、インチアゾール、オキサゾール、インオキサゾール、
チアジアゾール、オキサジアゾール、チアトリアゾール
、オキサトリアゾール、テトラゾール、ベンゾオキサゾ
ール、ベンシフラフなどのへテロ原子を環中に1個以上
含む複素環化合物の残基が挙げられる。Further, aromatic residues in the above-mentioned organic carboxylic acids include phenyl, naphthyl, etc., and further examples of the above-mentioned heterocyclic groups include furan, thio7e/, virol,
Pyrazole, imidazole, triazole, thiazole, inthiazole, oxazole, inoxazole,
Examples include residues of heterocyclic compounds containing one or more heteroatoms in the ring, such as thiadiazole, oxadiazole, thiatriazole, oxatriazole, tetrazole, benzoxazole, and benziflav.
そして、これらの有機カルボン酸を構成する各基は、た
とえば、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、保護されたヒ
ドロキシル基、アルキル基、アルコキシ基、アシール基
、ニトロ基、アミノ基、保護されたアミノ基、カルボキ
シル基、保護されたカルボキシル基などの置換基でさら
に置換されていてもよい。The groups constituting these organic carboxylic acids include, for example, a halogen atom, a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, an alkyl group, an alkoxy group, an acyl group, a nitro group, an amino group, a protected amino group, and a carboxyl group. It may be further substituted with a substituent such as a group or a protected carboxyl group.
また、R′“のアシルオキシおよびカルノくモイルオキ
シ基としては、たとえば、アセトキシ、プロビオニルオ
キシまtこはブチリルオキシなどのアルカノイルオキシ
基;アクリロイルオキシなどのアルケノイルオキシ基;
ヘンジイルオキシまたはナフトイルオキシなどのアロイ
ルオキシ基iおよびカルバモイルオキシ基が挙げられ、
これらはハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、アルキル
基、アルコキシ基、アルキルチオ基。In addition, examples of the acyloxy and carnocumyloxy groups of R'" include acetoxy, probionyloxy, and alkanoyloxy groups such as butyryloxy; alkenoyloxy groups such as acryloyloxy;
aroyloxy groups such as hendiyloxy or naphthoyloxy and carbamoyloxy groups,
These are halogen atoms, nitro groups, amino groups, alkyl groups, alkoxy groups, and alkylthio groups.
アシルオキシ基、アシルアミノ基、ヒドロイル基、カル
ボアルコキシスルファモイル基、了り−ル基、カルバモ
イルオキシ基などの一種以上の置換基で置換されていて
もよい。It may be substituted with one or more substituents such as an acyloxy group, an acylamino group, a hydroyl group, a carbalkoxysulfamoyl group, an aryol group, and a carbamoyloxy group.
上述したR“6の置換−において、ヒドロキシル基、ア
ミン基お−びカルボキシル基などは通常用いられ嘔る保
護基で保護されていてもよく、その保護基としては具体
的にはR2について説明したヒドロキシル基、アミン基
およびカルボキシル基の保護基などが挙げられる。In the above-mentioned substitution of R6, the hydroxyl group, amine group, carboxyl group, etc. may be protected with commonly used protecting groups, and the protecting groups are specifically explained for R2. Examples include protecting groups for hydroxyl groups, amine groups, and carboxyl groups.
(イ) 三位変換反応
一般式〔1〕の化合物またはその塩類に、酸または酸の
錯化合物の存在下、一般式〔ト〕のスルホンアミド類ま
たは一般式〔■b〕の複素環化合物もしくはそれらの塩
類を反応させ、所望により、ついで保護基の脱離または
カルボキシル基を保護または塩とすることKより、一般
式LIV)の7−置換または非置換アミノ−3−置換メ
チルセフェムカルボy酸類またはその塩類を工業的に容
易な操作で、好収率かつ高純度に製造することができる
。(a) Three-position conversion reaction The compound of general formula [1] or its salt is treated with a sulfonamide of general formula [g] or a heterocyclic compound of general formula [■b] or 7-substituted or unsubstituted amino-3-substituted methylcephemcarboxylic acids of the general formula LIV) are obtained by reacting the salts thereof and, if desired, removing the protecting group or protecting or converting the carboxyl group into a salt. or its salts can be produced with good yield and high purity through industrially easy operations.
さらに、所望により、7位アミノ基の置換基を常法によ
り除去し、7−非置換アミン体とすることができる′。Furthermore, if desired, the substituent at the 7-position amino group can be removed by a conventional method to obtain a 7-unsubstituted amine.
この方法によれば、Δ“−セフェム化合物のみならずΔ
′−セフェム化合物も用いることができ、Δ′−セフェ
ム化合物を用いた場合、反応後得られたが−セフエム化
合物をΔ1−セフェム化合物に変換することができる。According to this method, not only Δ“-cephem compounds but also Δ
A '-cephem compound can also be used, and when a Δ'-cephem compound is used, the -cephem compound obtained after the reaction can be converted into a Δ1-cephem compound.
また〉zが〉Sである化合物のみならず、>2が〉S→
Oである化合物も出発原料として用いることができ、そ
の場合、反応中または後処理の段階で〉→0を>Sとす
ることができる。Moreover, not only compounds where 〉z is 〉S, but also compounds where 〉2 is 〉S→
Compounds which are O can also be used as starting materials, in which case 〉→0 can be converted to >S during the reaction or in the after-treatment step.
また、この反応における反応試薬として用いられる一般
式〔■a〕のスルホンアミド類または一般式Llb]の
複素環化合物において、それらの置換基に塩基性基また
は酸性基を有する場合は、必要に応じ、それぞれの塩の
形で反応に供してもよく、その場合の塩基性基における
塩または酸性基におげる塩としては、一般式〔J〕の化
合物の塩類について説明したと同様の塩基性基または酸
性基における塩が挙げられる。In addition, when the sulfonamides of the general formula [■a] or the heterocyclic compounds of the general formula Llb] used as reaction reagents in this reaction have a basic group or an acidic group as a substituent, if necessary, may be subjected to the reaction in the form of their respective salts, and in that case, the salts in the basic group or the salts in the acidic group may be the same basic salts as explained for the salts of the compound of general formula [J]. salts on groups or acidic groups.
また、一般式(113および[バ〕の化合物の塩類とし
ては、塩基性基または酸性基における塩が挙げられ、そ
れらの塩類は一般式〔1〕の化合物の塩類について説明
したと同様の塩基性基または酸性基における塩が挙げら
れる。なお、一般式CI]の化合物の塩類は予め単離し
て用いてもよく、あるいは系内で調整してもよい。In addition, salts of the compound of general formula (113 and or an acidic group.Salts of the compound of general formula CI] may be isolated beforehand and used, or may be prepared in-system.
この反応において使用される酸または酸の錯化合物とし
ては、たとえば、プロトン酸、ルイス酸またはルイス酸
の錯化合物が挙げられる。プロトン酸としては、たとえ
ば、硫酸類、スルホン酸類または超強酸類(超強酸とは
100%硫酸より強い酸を意味し、前述の硫酸類および
スルホン酸類の一部も@止れる)が挙げられ、さらに具
体的には、硫酸、クロロ硫酸、フルオロ硫酸などの硫酸
類;メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸
などのアルキル(モノ−またはジー)スルホン酸、また
はP−)ルエンスルホン酸ナトノ了り−ル(モノ−、ジ
ーまたはト!J −)スルホン酸などのスルホン酸類i
過塩素酸、マジック酸(FSO壽H−8bFg )、F
SOs HhsFa 、 CF島5onH5bFi 、
HF BF島、 H@ 804 So場などの超強酸
が挙げられる。The acid or acid complex used in this reaction includes, for example, a protonic acid, a Lewis acid, or a Lewis acid complex. Examples of protonic acids include sulfuric acids, sulfonic acids, or super strong acids (super strong acid means an acid stronger than 100% sulfuric acid, and some of the above-mentioned sulfuric acids and sulfonic acids can also be used), More specifically, sulfuric acids such as sulfuric acid, chlorosulfuric acid, and fluorosulfuric acid; alkyl (mono- or di)sulfonic acids such as methanesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid; Sulfonic acids such as (mono-, di- or g!J-) sulfonic acid i
Perchloric acid, magic acid (FSO Ju H-8bFg), F
SOs HhsFa, CF island5onH5bFi,
Examples include super strong acids such as HF BF island and H@804 So field.
また、ルイス酸としては、たとえは、三弗化硼素などが
挙げられる。また、ルイス酸の錯化合物としては、たと
えば、三弗化硼素と、ジエチルエーテル、ジ−n−プロ
ビルエーテル、ジーn−ステルエーテルナどとのジアル
キルエーテル錯塩iエチルアミン、n−7’ロビルアミ
ン、p −ブチルアミン、トリエタノールアミンなどと
のアミン錯塩iギ酸エチル、酢酸エチルなどとのカルボ
ン層エステル錯塩i酢酸、プロピオン酸などとの脂肪酸
錯塩】アセトニトリル、プロピオニトリルなどとのニト
リル錯塩などが挙げられる。Furthermore, examples of the Lewis acid include boron trifluoride. In addition, examples of complex compounds of Lewis acids include dialkyl ether complex salts of boron trifluoride and diethyl ether, di-n-propylether, di-n-ster ether, etc., ethylamine, n-7'robylamine, Examples include amine complexes with p-butylamine, triethanolamine, etc., carbonaceous ester complexes with ethyl formate, ethyl acetate, etc., fatty acid complexes with acetic acid, propionic acid, etc., nitrile complexes with acetonitrile, propionitrile, etc. .
また、この反応においては有機溶媒を用いた場合が好ま
しく、用いられる有機溶媒としては、反応に不活性な全
ての有機溶媒、たとえば、ニトロメタン、ニトロエタン
、ニトロプロパンナトのニトロアルカン類】ギ酸、酢酸
、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、プロピオン酸など
の有機カルボン酸類・アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトンなどのケトン類;ジエチルエー
テル、ジインプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ア
ニソール、ジメチルセルンルブなどのエーテル類;ギ酸
エチノペ炭酸ジエチル、酢酸メチル、酢酸エチル、クロ
ロ酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類】アセトニ
トリル、ブチロニトリルなどのニトリ′ル類i塩化メチ
レン、クロロホルム、1,2−シタロロエタンなどのハ
ロゲン化炭化水素類ヌスルホランなどのスルホラン類な
どが挙げられ、これらの溶媒を二種以上混合して用いて
もよい。In addition, it is preferable to use an organic solvent in this reaction, and examples of organic solvents that can be used include all organic solvents that are inert to the reaction, such as nitroalkanes such as nitromethane, nitroethane, nitropropanato, formic acid, acetic acid, Organic carboxylic acids such as trifluoroacetic acid, dichloroacetic acid, propionic acid, acetone, methyl ethyl ketone,
Ketones such as methyl isobutyl ketone; ethers such as diethyl ether, diimpropyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, anisole, dimethyl selenium; ethynope formate, diethyl carbonate, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl chloroacetate, butyl acetate Nitriles such as acetonitrile and butyronitrile, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, and 1,2-citaloloethane, sulfolanes such as nusulfolane, and mixtures of two or more of these solvents. It may also be used as
また、これらの有機溶媒とルイス酸とで形成される錯化
合物を溶媒として使用することもできる。Moreover, a complex compound formed by these organic solvents and a Lewis acid can also be used as a solvent.
酸または酸の錯化合物の使用量は、一般式[11〕の化
合物またはその塩類に対し当モル以上であればよく、個
々の場合に応じ適宜増減させることができる。特に、2
〜10倍モル量の使用が好ましい。酸の錯化合物を用い
る場合には、それ自体を溶媒として用いることができ、
二種以上の錯化合物を混合して用いてもよい。The amount of the acid or acid complex compound to be used may be at least the equivalent molar amount to the compound of general formula [11] or its salt, and can be increased or decreased as appropriate depending on the individual case. In particular, 2
It is preferable to use an amount of 1 to 10 times the molar amount. When using an acid complex compound, it can itself be used as a solvent,
A mixture of two or more types of complex compounds may be used.
また、この反応の反応試薬として用いられる一般式〔ト
〕のスルボンアミド類または一般式〔Ib〕の複素環化
合物もしくはそれらの塩類の使用量は、一般式CI〕の
化合物またはその塩類に対し、当モル以上であればよい
か、特に1o〜5.0倍モA/量の使用が好ましい。In addition, the amount of the sulbonamide of the general formula [g] or the heterocyclic compound of the general formula [Ib] or their salts used as a reaction reagent in this reaction is equivalent to the amount of the compound of the general formula CI] or its salt. The amount may be at least 1 mole, and it is particularly preferable to use 10 to 5.0 moles/amount.
この反応は、通常D〜80℃で行われ、数分〜数十時間
で完了する。This reaction is usually carried out at a temperature of D to 80°C and is completed in several minutes to several tens of hours.
この反応の系内に水分があると原料または生成物のラク
トン化およびβ−ラクタム環の開裂など好ましくない副
反応を惹起することがあるので、反応系内を無水の状態
に保つことが望ましい。この条件を満たすために、反応
系内に適当な脱水剤、たとえば、五酸化リン、ポリリン
酸、五塩化リン、三塩化リン、オキシ塩化リンなどのリ
ン化合物;口O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミ
ド、トリメチルシリルアセトアミド、トリメチルクロ
ロシラン、ジメチルジクロロシランなどの有機シリル化
剤】アセチルクロIJド、p−)ルエンスルホニルクロ
リドなどの有機酸クロリドj無水酢酸、無水トリフルオ
ロ酢酸などの酸無水物j無水硫酸マグネシウム、無水塩
化カルシウム、モレキュラーシーツ、カルシウムカーバ
イドなどの無機乾燥剤などを添加してもよい。If moisture is present in the reaction system, undesirable side reactions such as lactonization of the raw material or product and cleavage of the β-lactam ring may occur, so it is desirable to maintain the reaction system in an anhydrous state. To meet this condition, a suitable dehydrating agent is added to the reaction system, such as a phosphorus compound such as phosphorus pentoxide, polyphosphoric acid, phosphorus pentachloride, phosphorus trichloride, or phosphorus oxychloride; or O-bis(trimethylsilyl)acetamide. , trimethylsilylacetamide, trimethylchlorosilane, dimethyldichlorosilane, etc.; organic acid chlorides such as acetylchloride, p-)luenesulfonyl chloride; acid anhydrides such as acetic anhydride and trifluoroacetic anhydride; anhydrous magnesium sulfate; , anhydrous calcium chloride, molecular sheets, calcium carbide, and other inorganic desiccants may be added.
R″がカルボキシル保護基を示す一般式〔旧の化合物を
原料として使用した場合、反応後の処理によりR1が水
素原子である対応する一般式〔1■〕の化合物が得られ
ることもあるが、所望により保護基を常法で脱離させ、
R′が水素原子である一般式LIV:]の化合物を得る
こともできる。General formula in which R'' represents a carboxyl protecting group [If the old compound is used as a raw material, a compound of the corresponding general formula [1■] in which R1 is a hydrogen atom may be obtained by post-reaction treatment; If desired, the protecting group is removed by a conventional method,
It is also possible to obtain compounds of the general formula LIV:] in which R' is a hydrogen atom.
この反応における反応試薬として用いられる一般式C1
,]のスルホンアミド類または一般式[1b〕の複環化
合物もしくはそれらの塩類において、それらの置換基が
ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基などで置換
されている場合、この反応を実施するにあたり、これら
の基をVについて説明したと同様の保護基で保護し、反
応終了後、従来の脱離反応に付すことにより、所望の化
合物を得ることができる。General formula C1 used as a reaction reagent in this reaction
,] or the multicyclic compound of the general formula [1b] or their salts, when the substituent thereof is substituted with a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, etc., in carrying out this reaction, The desired compound can be obtained by protecting these groups with the same protecting group as explained for V and subjecting them to a conventional elimination reaction after completion of the reaction.
また、一般式LIV〕の化合物は、所望により、常法に
従ってカルボキシル基を保設または塩とすることができ
、目的の化合物を得ることもできる。また、Bl?がア
ミノ基である一般式〔1v〕の化合物は、常法により、
後述のようなアミノ基における反応性誘導体とすること
ができる。Further, in the compound of general formula LIV, if desired, a carboxyl group can be retained or a salt can be obtained according to a conventional method, and the desired compound can also be obtained. Also, Bl? The compound of general formula [1v] in which is an amino group can be prepared by a conventional method,
It can be a reactive derivative of the amino group as described below.
←) アシル化反応
斜上の方法で得られた一般式[1’V]の化合物または
そのアミノ基における反応性誘導体もしくはそれらの塩
類に、一般式〔V〕、〔■〕、〔■〕、〔1〕または(
XI)の化合物またたけそのカルボキシル基における反
応性誘導体もしくはそれらの塩類を反応させれば、一般
式Ll)、(XI、[)D、〔須〕または〔柑〕の化合
物またはその塩類が得られる。←) To the compound of the general formula [1'V] obtained by the acylation reaction method, or its reactive derivative at the amino group, or a salt thereof, the general formula [V], [■], [■], [1] or (
If a compound of XI) or a reactive derivative at the carboxyl group or a salt thereof is reacted, a compound of general formula Ll), (XI, [)D, [su] or [citrus] or a salt thereof can be obtained. .
また、一般式〔v〕、〔■〕、[、Vj〕、〔■〕、(
IXI、〔X〕、[Xl)、(XI)、1マタハ〔X1
v〕ノ化合物ノ塩類としては、塩基性基または酸性基に
おける塩が挙げられ、それらの塩類は一般式〔1〕の化
合物の塩類について説明したと同様の塩基性基または酸
性基における塩が挙げられる。Also, the general formula [v], [■], [, Vj], [■], (
IXI, [X], [Xl), (XI), 1 Mataha [X1
v] Salts of the compound include salts with a basic group or acidic group, and these salts include salts with the same basic group or acidic group as explained for the salts of the compound of general formula [1]. It will be done.
一般式(IVIの化合物のアミノ基における反応性誘導
体としては、たとえば、インシアネート、一般式〔■〕
の化合物またはその塩類とビス(トリメチルシリル)ア
セトアミド、トリメチルシリルアセトアミド、トリメチ
ルシリルクロライドなどのシリル化PCIなどのリン化
合物または(C4He )、l5nCffrどのスズ化
合物との反応により生成するシリル誘導体、リン綺尋俸
またはスズ誘導体など、アシル化反応において繁用され
るものはすべて包@サレる。Examples of reactive derivatives at the amino group of the compound of general formula (IVI) include incyanate, general formula [■]
Silyl derivatives, phosphorus or tin compounds produced by the reaction of compounds or their salts with phosphorus compounds such as silylated PCI such as bis(trimethylsilyl)acetamide, trimethylsilylacetamide, and trimethylsilyl chloride, or tin compounds such as (C4He) and l5nCffr. All substances frequently used in acylation reactions, such as derivatives, are included.
一般式EV)、〔■〕、〔t1〕、Cv讐:] 荀り&
i (Xl〕の化合物のカルボキシル基における反応性
誘導体としては、具体的には、酸ハロゲン化物、酸無水
物、混合酸無水物、活性酸アミド、活性エステルならび
に一般式LVI、(Vl)、〔i〕、〔糧〕またはしX
I)の化合物とビルスマイヤー試薬との反応性誘導体な
どが挙げられる。混合酸無水物としては、たとえば、炭
酸モノエチルエステル、炭酸モノインブチルエステルな
どの炭酸モノアルキルエステルとの混合酸無水物、ピバ
リン酸やトリクロロ酢酸などのハロゲンで置換されてい
てもよい低級アルカン酸との混合酸無水物などが用いら
れる。活性酸アミドとしては、たとえば、N−アシルサ
ッカリン、N−アシルイミダゾール、N−アシルベンゾ
イルアミド、N N’−ジシクロへキシル−N−アシル
尿素、N−アシルスルホンアミドなどが用いられる。つ
ぎに、活性エステルとしては、たとえば、シアノメチル
エステル、置換フェニルエステル、置換ベンジルエステ
ル、置換チェニルエステルナトが用いられる。General formula EV), [■], [t1], Cven: ] Sunri &
Examples of reactive derivatives at the carboxyl group of the compound of i (Xl) include acid halides, acid anhydrides, mixed acid anhydrides, active acid amides, active esters, and general formulas LVI, (Vl), [ i], [food] or shi
Examples include reactive derivatives of the compound I) and Vilsmeier's reagent. Examples of mixed acid anhydrides include mixed acid anhydrides with carbonic acid monoalkyl esters such as carbonic acid monoethyl ester and carbonic acid monoimbutyl ester, and lower alkanoic acids which may be substituted with halogens such as pivalic acid and trichloroacetic acid. Mixed acid anhydrides with and the like are used. As the active acid amide, for example, N-acylsaccharin, N-acylimidazole, N-acylbenzoylamide, N N'-dicyclohexyl-N-acylurea, N-acylsulfonamide, etc. are used. Next, as the active ester, for example, cyanomethyl ester, substituted phenyl ester, substituted benzyl ester, and substituted thenyl ester are used.
また、ビルスマイヤー試薬との反応性誘導体とし℃は、
N、 N−ジメチルホルムアミド、N、 N−ジメチル
アセトアミドなどの酸アミドに、ホスゲン、塩化チオニ
ル、三[化リン、三臭化リン、オキシ塩化リン、五塩化
リン、トリクσロメチル=クロロホルメート、塩化オキ
ザリルなどのハロゲン化剤を作用させて得らnるビルス
マイヤー試薬との反応性誘導体などが挙げられる。In addition, as a reactive derivative with Vilsmeier reagent, °C
Acid amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, phosgene, thionyl chloride, phosphorus trichloride, phosphorus tribromide, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride, trichlormethyl chloroformate, Examples include derivatives reactive with Vilsmeier's reagent obtained by the action of a halogenating agent such as oxalyl chloride.
一般式〔v〕、(VIA、(■〕、〔■〕またはcxi
〕の各々の化合物を遊離酸または塩の状態で使用する場
合は、適当な縮合剤を用いる。General formula [v], (VIA, (■), [■] or cxi
] When using each compound in the form of a free acid or salt, a suitable condensing agent is used.
このような縮合剤としては、たとえば、)N−ジシクロ
へキシルカルボジイミドのようなN、N/−ジ置換カル
ボジイミド;)N′−チオニルジイミダゾールのような
アゾライド化合物iN−エトキシカルボニル−2−エト
キシ−122−ヒドロキシキノリン、オキシ塩化燐、ア
ルコキシアセチレンナトの脱水剤;2−タロロビリジニ
クムメチルヨージド、2−フルオロピリジニウムメチル
ヨーシトなどの2−ハロゲンピリジニウム塩などが用い
られる。Such condensing agents include, for example:) N,N/-disubstituted carbodiimides such as N-dicyclohexylcarbodiimide;) azolide compounds such as N'-thionyldiimidazole iN-ethoxycarbonyl-2-ethoxy- Dehydrating agents for 122-hydroxyquinoline, phosphorus oxychloride, and alkoxyacetylenato; 2-halogenpyridinium salts such as 2-talolopyridinicum methyl iodide and 2-fluoropyridinium methyl iosite are used.
このアシル化反応は、一般に適当な溶媒中−塩基の存在
または不存在下で実施される。溶媒として、たとえば、
クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素
類;テトラヒドロ7ラン、ジオキサンなどのx −チル
類5N、N−ジメチルホルムアミド、N、 N −ジメ
チルアセトアミド、アセトン、水またはこれらの混合物
などが使用できる。また、塩基としては、水酸化アルカ
リ、炭酸水素アルカリ、炭酸アルカリまたは酢酸アルカ
リなどの無機塩基ニトリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ピリジン、N−メチルピペリジ
ン1、N−1チルモルホリン、ルチジン、コリジンなど
の第3級アミンあるいはジシクロヘキシルアミン、ジエ
チルアミンなどの第2級アミンなどの有機塩基が挙げら
れる。This acylation reaction is generally carried out in a suitable solvent - with or without a base. As a solvent, e.g.
Halogenated hydrocarbons such as chloroform and methylene chloride; x-thyl compounds 5N such as tetrahydro7rane and dioxane, N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, acetone, water, and mixtures thereof can be used. Examples of bases include inorganic bases such as alkali hydroxide, alkali hydrogen carbonate, alkali carbonate, and acetate; Examples include organic bases such as tertiary amines or secondary amines such as dicyclohexylamine and diethylamine.
なお、本発明の一般式〔1m〕または〔1b〕の化合物
もしくはそれらの塩類に誘導する−ことができる一般式
(IX)の化合物またはその塩類は、次のj5にして創
造することもできる。In addition, the compound of the general formula (IX) or the salt thereof that can be derived from the compound of the general formula [1m] or [1b] or the salt thereof of the present invention can also be created as the following j5.
一般式(Inの化合物またはその塩類を使って一般式〔
■〕の化合物またはその塩類を得るには、ジケテンと塩
素、もしくは臭素などのハロゲンとの反応〔ジャーナル
・オプ・ザ・ケミカル・ソサイエティ 97゜)
1987(1910)]により得られる4−ハロゲノ−
3−オキシープチリルハライドと、一般式(rV]の化
合物またはその塩類とを常法に従って反応させればよい
。この反応条件及び操作は、当該分野で知られた条件お
よび操作が適用できる。また、一般式[3の化合物の塩
類は、常法に従って容易忙得ることができ、その塩類と
しては、前述の一般式〔夏〕の化合物の塩のところで説
明したと同様の塩基性基または酸性基における塩が挙げ
られる。得られる一般式■〕の化合物または鷺の塩類は
、常法によって単離精製してもよいが、単離することな
く、次の反応に用いることもできる。Using a compound of the general formula (In or its salts), the general formula [
To obtain the compound or its salts, 4-halogen-
3-oxybutyryl halide and the compound of general formula (rV) or a salt thereof may be reacted according to a conventional method.For this reaction conditions and operations, conditions and operations known in the art can be applied. , the salts of the compound of the general formula [3] can be easily obtained according to a conventional method, and the salts include the same basic group or acidic group as explained above for the salt of the compound of the general formula [summer]. The resulting compound of general formula (1) or the salts of Sagi may be isolated and purified by a conventional method, but may also be used in the next reaction without being isolated.
なお、一般式EV)、[V]’)、〔■〕、〔■〕また
ハ園の化合物またはそのカルボキシル基における反応性
誘導体もしくはそれらの塩類の使用量は一般式(IV)
の化合物またはそのアミノ基における反応性誘導体もし
くはそれらの塩類1モルに対し、それぞれ通常約1〜数
モル程度が好ましい。In addition, the amount of the compound of the general formula EV), [V]'), [■], [■] or the reactive derivative or salt thereof in the carboxyl group is determined according to the general formula (IV).
Usually about 1 to several mol each is preferably used per 1 mol of the compound, its reactive derivative at the amino group, or a salt thereof.
これらの反応は、通常−50〜40℃で行われ、10分
〜48時間で完了する。These reactions are usually carried out at -50 to 40°C and are completed in 10 minutes to 48 hours.
また、このアシル化反応において、保護基の導入および
脱離ならびに塩類への変換は常法に従って行い、対応す
る目的化合物に変換することができる。In addition, in this acylation reaction, the introduction and removal of a protecting group and the conversion to a salt can be carried out according to conventional methods to convert it into the corresponding target compound.
以上のようにして得られた一般式〔1〕、(DD、EX
)、(Xl〕または(XJV)の化合物もしくはそれら
の塩類は、公知の手段により単離精製できるが、さらに
一般式CIXI、〔X〕、[Xl]または[XIDの化
合物もしくはそれらの塩類は単離することなく次の反応
の原料とじて用いることもできる。General formula [1], (DD, EX
), (Xl] or (XJV), or their salts can be isolated and purified by known means. It can also be used as a raw material for the next reaction without separating it.
(ハ)ニトロン化反応
つぎに一般式(IX)の化合物またはその塩類から一般
式(X)の化合物またはその塩類を得るには、一般式(
IX)の化合物またはその塩類に、ニトロフ化剤を反応
させる。(c) Nitronization reaction Next, in order to obtain the compound of general formula (X) or its salts from the compound of general formula (IX) or its salts, the general formula (
The compound of IX) or its salt is reacted with a nitrifying agent.
この反応は、通常溶媒中で行われ、溶媒としては、水、
酢酸、ベンゼン、メタノール、エタノール、テトラヒド
ロフラン、その他の反応に不活性な溶媒が使用できる。This reaction is usually carried out in a solvent, such as water,
Acetic acid, benzene, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, and other solvents inert to the reaction can be used.
ニトロフ化剤の好ましい例としては、硝酸およびその誘
導体、たとえば、塩化ニトロシル、臭化ニトロシルナト
のハロゲン化ニトロシル;亜硝酸ナトリ2ム、亜硝酸カ
リウムなどの亜硝酸アルカリ金属塩i亜硝酸ブチルエス
テル、亜硝酸ヘンチルエステルtx と(D亜硝酸アル
キルエステルなどが挙げられる。Preferred examples of nitrifying agents include nitric acid and its derivatives, such as nitrosyl chloride, nitrosyl bromide and other nitrosyl halides; alkali metal salts of nitrite such as sodium nitrite and potassium nitrite; i. Examples include hentyl nitrate tx and (D nitrite alkyl ester).
ニトロフ化剤として亜硝酸の塩を使用するときKは、塩
酸、硫酸、ギ酸、酢酸などの無機もしくは有機の酸の存
在下に反応な行うのが好tLい。亜硝酸アルキルエステ
ルをニトロフ化剤として使用する場合には、アルカリ金
属アルコキシドのような強塩基の存在下に行うのが好ま
しい。When a salt of nitrous acid is used as a nitrifying agent, it is preferable to react K in the presence of an inorganic or organic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, formic acid, or acetic acid. When a nitrite alkyl ester is used as a nitrifying agent, it is preferably carried out in the presence of a strong base such as an alkali metal alkoxide.
反応は一般に一15〜30℃で行われ、10分から10
時間で完了する。また、一般式〔X〕の化合物の塩類は
常′法に従って容易に得ることができ、その塩類として
は、一般式〔1〕の化合物の塩のところで説明したと同
様の塩基性基または酸性基における塩が挙げられる。さ
らに、保護基の導入および脱離は常法に従って行い、対
応する目的化合物に変換することができる。The reaction is generally carried out at -15 to 30°C, and from 10 minutes to 10 minutes.
Complete in time. In addition, the salts of the compound of general formula [X] can be easily obtained according to conventional methods, and the salts include the same basic group or acidic group as explained for the salt of the compound of general formula [1]. Examples include salt. Furthermore, the introduction and removal of a protecting group can be carried out according to a conventional method to convert the compound into the corresponding target compound.
このようにして得られる一般式〔x〕の化合物またはそ
の塩類は、常法によって単離精製してもよいが、単離す
ることなく次の反応に用いることもできる。The compound of general formula [x] or its salt obtained in this way may be isolated and purified by a conventional method, but it can also be used in the next reaction without being isolated.
に) エーテル化反応およびボスボリル化反応つぎに、
一般式〔X〕の化合物またはその塩類ρ・ら一般式[X
I]の化合物またはその塩類を得るには、一般式(Xl
の化合物またはその塩類をエーテル化反応またはホスボ
リル化反応に付す。) etherification reaction and vosborylation reaction;
Compounds of general formula [X] or salts thereof ρ, etc. of general formula [X]
I] or its salts, the general formula (Xl
or a salt thereof is subjected to an etherification reaction or a phosphorylation reaction.
このエーテル化反応およびボスボリル化反応は特開昭5
3−137988号、特開昭55−105689号、特
開昭55−
149295号などに記載しであるエーテル化反応およ
びホスボリル化反応などの通常の方法で行うことができ
る。This etherification reaction and bosborylation reaction were carried out in JP-A No. 5
It can be carried out by conventional methods such as etherification reaction and phosphorylation reaction described in JP-A No. 3-137988, JP-A-55-105689, JP-A-55-149295, and the like.
たとえば、アルキル化反応は常法に従って行うことがで
きる。反応は一般に一20〜60℃で行われ、5分から
10時間で完了する。For example, the alkylation reaction can be carried out according to conventional methods. The reaction is generally carried out at -20 to 60°C and is completed in 5 minutes to 10 hours.
溶媒としては本反応を阻害しない限りいかなるものでも
よく、たとえば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メ
タノール、エタノール、クロロボルム、[化メチレン、
酢酸エチル、酢酸ブチル、N、N−ジメチルホルムアミ
ド、NN−ジメチルアセトアノ
ミド、水など、またはこわらの混合物などが用いられる
。Any solvent may be used as long as it does not inhibit this reaction, such as tetrahydrofuran, dioxane, methanol, ethanol, chloroborum, [methylene chloride,
Ethyl acetate, butyl acetate, N,N-dimethylformamide, NN-dimethylacetanomide, water, etc., or a mixture of stiff straws, etc. are used.
アルキル化剤としては、たとえば、ヨウ化メチル、臭化
メチル、ヨウ化エチル、臭化エチルなどのノ・ロゲン化
低級アルキル、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、ジアゾメ
タン、ジアゾエタンまたはp−)ルエンスルホン酸メチ
ルなどが用いられる。ジアゾメタン、ジアゾエタン以外
のアルキル化剤を用いるときは、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウムなどのアルカリ金属の炭酸塩、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物、ト
リエチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリンなどの塩
基の存在下に一般に行う。Examples of the alkylating agent include methyl iodide, methyl bromide, ethyl iodide, lower alkyl bromide such as ethyl bromide, dimethyl sulfate, diethyl sulfate, diazomethane, diazoethane, or methyl p-)luenesulfonate. is used. When using alkylating agents other than diazomethane and diazoethane, alkylating agents such as alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, triethylamine, pyridine, dimethylaniline, etc. Generally carried out in the presence of a base.
また、一般式〔須〕の化合物の塩類は常法に従って容易
に得ることができ、その塩類としては、一般式〔l〕の
化合物の塩のところで説明したと同様の塩基性基または
酸性基における塩が挙げられる。In addition, salts of the compound of the general formula [su] can be easily obtained according to conventional methods, and the salts include the same basic group or acidic group as explained for the salt of the compound of the general formula [l]. Salt is an example.
さらに保護基の導入および脱離は常法に従つて行い、対
応する目的化合物に変換することができる。Furthermore, the introduction and removal of a protecting group can be carried out according to a conventional method to convert the compound into the corresponding target compound.
このようKして得られる一般式CM〕の化合物またはそ
の塩類は、常法によって単離精製してもよいが、単離す
ることなく次の反応に用いることもできる。The compound of the general formula CM or its salts obtained in this way may be isolated and purified by a conventional method, but it can also be used in the next reaction without being isolated.
(本 閉環反応
つぎに一般式〔IX〕、CX)または〔■〕の各化合物
もしくはそれらの塩類に、一般式〔■〕のチオボルムア
ミドまたはチオ尿素類を反応させれば5本発明の一般式
(Ia :l または(xb’:l の化合物もしくは
それらの塩類が得られる。(This ring-closing reaction) Next, each compound of the general formula [IX], CX) or [■] or a salt thereof is reacted with a thioborumamide or thiourea of the general formula [■], resulting in the reaction of the general formula ( Compounds of Ia:l or (xb':l) or salts thereof are obtained.
この反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、本
反応を阻害しない限りいかなるものでもよいが、たとえ
ば、水、メタノール、エタノール、アセトン、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、N、N−ジメチルホルムアミ
ド、N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチルビリド
ンなど、またはこれら二種以上の混合溶媒が用いられる
。This reaction is usually carried out in a solvent. Any solvent may be used as long as it does not inhibit this reaction, such as water, methanol, ethanol, acetone, tetrahydrofuran, dioxane, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methylpyridone, etc. A mixed solvent of two or more of these is used.
脱酸剤の添加は、特に必要としないが、セファロスポリ
ン骨格に変化を与えない範囲の量の脱酸剤を添加すると
円滑に反応が進行することもある。この反応に用いられ
る脱酸剤としては、水酸化アルカリ金属塩、炭酸水素ア
ルカリ金属塩、トリエチルアミン、ピリジン、N、N−
ジメチルアニリンなどの無機または有機塩基が挙げられ
る。Although it is not particularly necessary to add a deoxidizing agent, the reaction may proceed smoothly if the deoxidizing agent is added in an amount within a range that does not change the cephalosporin skeleton. The deoxidizers used in this reaction include alkali metal hydroxide, alkali metal hydrogen carbonate, triethylamine, pyridine, N, N-
Mention may be made of inorganic or organic bases such as dimethylaniline.
反応は一般に0〜100℃の範囲で行われる。通常、一
般式(IXI、〔X〕または(Xl〕の化合物もしくは
それらの塩類1当量に対し、そ2tぞれ1〜数当量のチ
オホルムアミドまたはチオ尿素類が用いられる。反応時
間は、通常1〜48時間、好ましくは1〜10時間であ
る。The reaction is generally carried out at a temperature in the range of 0 to 100°C. Usually, 1 to several equivalents of thioformamide or thioureas are used per 1 equivalent of the compound of general formula (IXI, [X] or (Xl) or a salt thereof. The reaction time is usually 1 ~48 hours, preferably 1 to 10 hours.
また、この閉環反応において、保護基の導入および脱離
ならびに塩類への変換は常法に従って行い、対応する目
的化合物に変換することができる。In addition, in this ring-closing reaction, the introduction and removal of a protecting group and the conversion to a salt can be carried out according to conventional methods to convert it into the corresponding target compound.
以上のようにして得られた本発明の一般式[Ia]また
は[:xb:]の目的化合物もしくはそれらの塩類は、
常法によって単離することができる。The target compounds of the general formula [Ia] or [:xb:] or salts thereof of the present invention obtained as above are as follows:
It can be isolated by conventional methods.
(へ)オキシム化反応
一般式(XIV:の化合物またはその塩類に、一般式[
XVIの化合物またはその塩類を反応させることによっ
て、一般式〔より〕の化合物またはその塩類が得られる
。(to) Oxime formation reaction A compound of the general formula (XIV: or a salt thereof) is reacted with the general formula [
By reacting the compound of XVI or its salt, a compound of general formula [from] or its salt can be obtained.
一般式(XVIの化合物の塩類としては、たとえば、塩
酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩などが挙げられる。そして
、この反応は、通常、水、アルコールなどの溶媒のほか
に、反応に不活性な溶媒、またはこれらの混合溶媒中で
行われ、反応は通常、0〜100℃、好ましくは10〜
50℃の範囲で行われ、10分〜48時間で完了する。Examples of the salts of the compound of general formula The reaction is carried out in an active solvent or a mixed solvent thereof, and the reaction is usually carried out at a temperature of 0 to 100°C, preferably 10 to 100°C.
It is carried out at a temperature of 50°C and is completed in 10 minutes to 48 hours.
一般式〔庸〕の化合物またはその塩類1当量に対して、
1〜数当量の一般式[XVIの化合物またはその塩類が
用いられる。For 1 equivalent of the compound of general formula [Yu] or its salt,
One to several equivalents of the compound of the general formula [XVI or its salts are used.
尚一般式〔Xv〕の化合物の塩類はそのまま未反応に用
いることができるが、たとえば、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属】水酸化マグネ
シウム、水酸化カルシウムなどの水酸化アルカリ土類金
属i炭酸ナトリウム、炭酸カリウム1よとの炭酸アルカ
リ金属テ炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなどの炭酸
アルカリ土類金属】炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウムなどの炭酸水素アルカリ金属ミリン酸マグネシウム
、リン酸カルシウムなどのリン酸アルカリ土類金属】リ
ン酸水素2ナトリウム、リン酸水素2カリウムなどのリ
ン酸水素アルカリ金属などの無機塩基、または酢酸ナト
リウム、酢酸カリウムなどの酢酸アルカリ金属メトリメ
チルアミン、トリエチルアミンなどのトリアルキルアミ
ン5ピコリン、N−メチルピロリジン、N−メチルモル
ホリン、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0] −]
5−ノネン1,4−ジアザビシクロC2,2,2〕オク
タン、1,5−ジアザビシクロ[5,4,O〕−7−ウ
ンデセンなどの有機塩基などの塙基の存在下に反応させ
ることもできる。The salts of the compound of general formula [Xv] can be used unreacted as they are; Alkali earth metals such as magnesium carbonate and calcium carbonate] Alkali metals of hydrogen carbonates such as sodium bicarbonate and potassium bicarbonate Phosphorus such as magnesium myphosphate and calcium phosphate Acid alkaline earth metal] Inorganic bases such as alkali metal hydrogen phosphates such as disodium hydrogen phosphate and dipotassium hydrogen phosphate, or alkali metal acetates such as sodium acetate and potassium acetate Trialkylamines such as metrimethylamine and triethylamine 5 Picoline, N-methylpyrrolidine, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo[4,3,0] -]
The reaction can also be carried out in the presence of an organic base such as 5-nonene, 1,4-diazabicycloC2,2,2]octane, and 1,5-diazabicyclo[5,4,O]-7-undecene.
マタ、コのオキシム化反応において、保護基の導入およ
び脱離ならびに塩類への変換は常法に従って行い、対応
する目的化合物に変換することができる。以上のように
して得られた本発明の一般式〔1〕の化合物またはその
塩類は常法によって単離することができる。In the oximation reaction of mata and co, the introduction and removal of a protecting group and the conversion to a salt can be carried out according to conventional methods, and the reaction can be converted to the corresponding target compound. The compound of general formula [1] of the present invention or its salts obtained as described above can be isolated by a conventional method.
つぎに、Bゝがアルコキシである一般式〔1v〕の化合
物またはその塩は、自体公知の方法、たとえば、有機合
成協会誌55巻7号、563〜574頁(1977年)
の記載の方法に基づいてR“が水素原子である一般式C
IV:]の化合物またはその塩を使って合成すすること
ができる。Next, the compound of the general formula [1v] in which B is alkoxy or a salt thereof can be obtained by a method known per se, for example, the Organic Synthesis Association Journal, Vol. 55, No. 7, pp. 563-574 (1977).
General formula C in which R" is a hydrogen atom based on the method described in
IV: It can be synthesized using the compound or its salt.
サラにR1がアルコキシである一般式
%式%
〔xIv〕の化合物もしくはそれらの塩は、自体公知の
方法、たとえば、特開昭54−24888号および特開
昭54−103889号に記載の方法に基づいて、Wが
水素原子である一般式〔]〕、口、〕、(Ib]、(X
I)、〔x〕、0ffl −1: f、: ハ〔XJV
:1の化合物もしくはそれらの塩を使用して合成するこ
とができる。Compounds of the general formula [xIv] in which R1 is alkoxy or salts thereof can be prepared by methods known per se, for example, the methods described in JP-A-54-24888 and JP-A-54-103889. Based on the general formula [ ]], ], (Ib], (X
I), [x], 0ffl -1: f,: C [XJV
: Can be synthesized using the compounds of 1 or their salts.
以上のようにして得られた一般式〔1〕の化合物または
その塩類は、遊離酸の形、非毒性塩または生理的に許容
されるエステルの形で細菌感染症の治療および予防のた
めに人および動物に投与することができ、遊離酸の形も
しくは非毒性塩の形で非経口的投与方法、または生理的
に許容されるエステルの形で経口的投与方法を適用する
ことが好ましい。その場合、通常セファロスボリン系薬
剤に適用されている剤形、たとえば、錠剤、カプセル剤
、散剤、顆粒剤、細粒剤、シロップ剤、注射剤(点滴剤
も含む)、座剤なとの形に調整すればよい。上の薬剤な
調製する際、必要に応じ、たとえば、デンプン、乳糖、
砂糖、リン酸カルシウム、炭酸カルシウムなどの賦形剤
;アラビアゴム、デンプン、結晶セルロース、カルボキ
シメチルセルロース、ヒドロキシプロビルセルロースな
どの結合剤;タルク、ステアリン酸マグネシウムなどの
滑沢剤5およびカルボキシメチルカルシウム、タルクな
どの崩壊剤などの希釈剤および/または添加剤を用いて
もよい。The compound of general formula [1] or its salts obtained as above can be used in the treatment and prevention of bacterial infections in the form of free acid, non-toxic salt or physiologically acceptable ester. It is preferable to apply parenteral administration methods in the form of free acids or non-toxic salts, or oral administration methods in the form of physiologically acceptable esters. In that case, the dosage forms normally applied to cephalosborin drugs, such as tablets, capsules, powders, granules, fine granules, syrups, injections (including infusions), and suppositories, may be used. Just adjust the shape. When preparing the above drugs, if necessary, for example, starch, lactose,
Excipients such as sugar, calcium phosphate, calcium carbonate; binders such as gum arabic, starch, crystalline cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose; lubricants such as talc, magnesium stearate, and carboxymethyl calcium, talc, etc. Diluents and/or additives such as disintegrants may also be used.
また、一般式〔1〕の化合物またはその塩類を投与する
場合、症状忙よって投与量、投与回数および投与方法は
適宜選択できるが、一般に成人1人当り、1同量約50
〜5000■を1日1〜4回程度経口まγこは非経口投
与すればよい。In addition, when administering the compound of general formula [1] or its salts, the dosage, frequency of administration, and administration method can be selected as appropriate depending on the symptoms, but in general, the same amount of about 50
~5,000 μl may be administered orally or parenterally about 1 to 4 times a day.
つぎに、本発明を参考例および実施例を挙げて説明する
が、本発明はこILらに限定されるものではない。Next, the present invention will be explained with reference to reference examples and examples, but the present invention is not limited to these examples.
参考例1
三弗化硼素13.69を含むスルホラン溶液50mに7
−アミツセフアロスボラン酸(DL下、7’−ACAと
略記する。)15.69およびメタンスルホンアミド4
.75 gを加えて溶解させた後、室温で4時間反応さ
せる。反応終了後、反応液を水冷下メタノール25OJ
It中へ導入し、ついでピリジン158グを滴下する。Reference example 1 7 in 50 m of sulfolane solution containing 13.69 boron trifluoride
- Amitusephalosboranic acid (abbreviated as 7'-ACA under DL) 15.69 and methanesulfonamide 4
.. After adding and dissolving 75 g, react at room temperature for 4 hours. After the reaction is completed, the reaction solution is cooled with water and mixed with 25OJ of methanol.
Then, 158 g of pyridine is added dropwise.
析出具をP取し、メタノールで十分洗浄した後乾燥すれ
ば、融点188〜191℃(分解)を示す7−アミノ−
6−(メタンスルホンアミド)メチル−Δ8−セフェム
ー4−カルボン酸7. a s y (収率511%)
を得る。If the precipitation tool is removed, thoroughly washed with methanol, and then dried, 7-amino-
6-(methanesulfonamido)methyl-Δ8-cephemu-4-carboxylic acid7. a sy (yield 511%)
get.
I R(KB r ) ♂’ t l″C==0179
0p 161 DhMR(cps cooD)δ値i
s、26(3H,s、−canル
5.90 (2H,bl、 Cm −H)。I R(KB r ) ♂' t l″C==0179
0p 161 DhMR (cps cooD) δ value is, 26 (3H, s, -can le 5.90 (2H, bl, Cm -H).
4.55(2馬b % s;L□−)ノ5.49(2H
,すC・−H,Cl −H)同様にして、次の化合物を
得た。4.55 (2 horses b % s; L□-) no 5.49 (2H
, C.-H, Cl-H) The following compound was obtained in the same manner.
o7−アミノ−3−〔(p−クロロベンゼンスルホンア
ミド)メチル〕−Δ1−セフェムー4−カルボン酸
融点;197〜199℃(分解)
−1ν
IB(KBr)傷 ;C−01790,161ONMM
CF舅C00D)δ値;
3.80(2H,@、 CI−If)。o7-Amino-3-[(p-chlorobenzenesulfonamido)methyl]-Δ1-cephemu 4-carboxylic acid Melting point: 197-199°C (decomposition) -1ν IB (KBr) scratch; C-01790,161ONMM
CF (C00D) δ value; 3.80 (2H, @, CI-If).
5.35(2H,8,Cl−H,C7−H)。5.35 (2H, 8, Cl-H, C7-H).
参考例2
(1) 三弗化硼素2Z12を含むスルホラン溶液10
0dに7−ACA27.2Slおよび5,5−ジメチル
−1,2,<i−チアジアジン−1,1−ジオキシド1
6.0gを 加えて溶解させた後、室温で4時間反応さ
せる。反し終了後、反WrWを水冷下メタノール500
d中へ導入し、ついでピリジン31.6 gを滴下する
。析出具をr取し、メタノールで十分洗浄した後乾燥す
れば、7−アミノ−3−(3,5−ジメチル−1゜2.
6−チアジアジン−1,1−ジオキシド−2−イル)メ
チル−が−セフェム−4−カルボン酸の粗結晶30.
s g(収率82,0%)を得る。Reference Example 2 (1) Sulfolane solution 10 containing boron trifluoride 2Z12
7-ACA27.2Sl and 5,5-dimethyl-1,2,<i-thiadiazine-1,1-dioxide 1 at 0d
After adding and dissolving 6.0 g, react at room temperature for 4 hours. After stirring, soak the anti-WrW in methanol 500 ml while cooling with water.
d, and then 31.6 g of pyridine are added dropwise. If the precipitation tool is taken, thoroughly washed with methanol and dried, 7-amino-3-(3,5-dimethyl-1゜2.
Crude crystals of 6-thiadiazin-1,1-dioxid-2-yl)methyl-cephem-4-carboxylic acid 30.
s g (yield 82.0%).
同様にして、次の化合物の粗結晶を得た。In the same manner, crude crystals of the following compound were obtained.
o7−アミノ−3−(N−メチルメタンスルホンアミド
)メチル−Δ8−セフェムー4−カルボン酸
07−アミノ−3−(1,2,(S−チアジアジン−1
1−ジオキシド−2−イル)メチル−が−セフエムー4
−カルボン酸
07−アミノ−6−(テトラヒドロ−1,2−チアジン
−1,1−ジオキシド−2−イル)メチル−Δ3−セフ
ェムー4−カルボン酸07−アミノ−3−(5−メチル
−インチアゾリジン−1,1−ジオキシド−2−イル)
メチル−Δ3−セフェムー4−カルホン酸+21 fl
+で得られた7−アミノ−3−(3,5−ジメタツール
300dK懸濁させ、これにp−トルエンスルホン酸・
1水和物12.3gヲ71[+える。ついでジフェニル
ジアゾメタン46.97を徐々に加え、室温で15分間
反応させる。o7-amino-3-(N-methylmethanesulfonamido)methyl-Δ8-cephemu-4-carboxylic acid 07-amino-3-(1,2,(S-thiadiazine-1)
1-dioxid-2-yl)methyl-cephemu 4
-carboxylic acid 07-amino-6-(tetrahydro-1,2-thiazin-1,1-dioxid-2-yl)methyl-Δ3-cephemu-4-carboxylic acid 07-amino-3-(5-methyl-inthiazolidine) -1,1-dioxide-2-yl)
Methyl-Δ3-cephemu-4-carphonic acid +21 fl
300 dK of 7-amino-3-(3,5-dimetatool) obtained in + was suspended, and p-toluenesulfonic acid/p-toluenesulfonic acid was added to this.
12.3g of monohydrate = 71%. Then, 46.97 g of diphenyldiazomethane was gradually added, and the mixture was allowed to react at room temperature for 15 minutes.
反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に
酢酸エチル600dおよび水300Vを加え、炭酸水素
ナトリウムを加えてpH7、OK調整する。ついで不溶
物をP別した後、有機層を分取し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去する。残留物をカ
ラムクロマトグラフィー(和光シリカゲルc=200.
溶離液;ベンゼン:酢酸エチル=3:1)で精製すnば
、融点97〜99℃(分解)を示すジフェニルメチル−
7−アミノ−5−(5,−5−ジメチpv−1,2,6
−チアジアジン−1,1−ジオキシド−2−イル)メチ
ル−が−セフェム−4−カルボキシレート20、 s
y (収率47.2%)を得る。After the reaction is completed, the solvent is distilled off under reduced pressure, and 600 d of ethyl acetate and 300 V of water are added to the resulting residue, and the pH is adjusted to 7 by adding sodium hydrogen carbonate. After removing insoluble matter from P, the organic layer is separated, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to column chromatography (Wako silica gel c=200.
When purified with eluent; benzene:ethyl acetate = 3:1), diphenylmethyl-
7-amino-5-(5,-5-dimethypv-1,2,6
-Thiadiazin-1,1-dioxid-2-yl)methyl-cephem-4-carboxylate 20, s
y (yield 47.2%).
I 11 (KB r ) 国p C−01780p
172 DNMR(CDCim)δ値;
1、90 (3H,@、 −C& )。I 11 (KB r ) Country p C-01780p
172 DNMR (CDCim) δ value; 1,90 (3H,@, -C&).
2.22 (3H,11,−〇Hi )。2.22 (3H, 11, -〇Hi).
!1.44 (2H,bs、 c、 =)i)。! 1.44 (2H, bs, c, =)i).
4−7 s (I H7at J =s Hz、 c
@−u )y4.92(IH,d、 J=5H1,CW
−H)。4-7 s (I H7at J = s Hz, c
@-u)y4.92(IH,d, J=5H1,CW
-H).
7.03(IH,i、−CH/ ’)。7.03 (IH, i, -CH/').
\
7.23−170(10I(+m+ −@X2)同様に
して、表−2の化合物を得た。\7.23-170 (10I(+m+ -@X2) Compounds shown in Table 2 were obtained in the same manner.
(31+21で得られたジフェニルメチル−7−アミノ
−3−(5,5−ジメチル−1,2,6−チアジアジン
−1,1−ジオキシド−2−イル)メチル−Δ1−セフ
ェムー4−カルボキシレート1ノをトリフルオロ酢酸5
Mおよびアニソール2 mlの混合m媒に溶解させ、室
温で2時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留
去し、残留物にジエチルエーテルを°加え結晶を戸数す
る。ジエチルエーテルで十分洗浄し乾燥すれば、融点1
85〜186℃(分解)を示す7−アミノ−s −(5
,5−ジメチル=1、2.6−チアジアジン−1,1−
ジオキシド−2−イ)l/)メチル−Δ1−セフェムー
4−カルボン酸のトリフルオロム′「酸塩0.79 y
(収率878%)を得る。(diphenylmethyl-7-amino-3-(5,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazin-1,1-dioxide-2-yl)methyl-Δ1-cephemu 4-carboxylate 1 obtained in 31+21 Trifluoroacetic acid 5
Dissolve in a mixed solvent of 2 ml of M and anisole and react at room temperature for 2 hours. After the reaction is completed, the solvent is distilled off under reduced pressure, and diethyl ether is added to the residue to obtain crystals. If thoroughly washed with diethyl ether and dried, the melting point is 1.
7-Amino-s-(5
,5-dimethyl=1,2.6-thiadiazine-1,1-
Dioxide-2-y) l/) Trifluorome' acid salt of methyl-Δ1-cephemu-4-carboxylic acid 0.79 y
(yield 878%).
IR(KBr) CI+ ’ ; ’C=0 1780
.171 ONMR(CFm GOOD)δ値】
2.44((SH,l、 −CH鳳×2)。IR(KBr) CI+';'C=0 1780
.. 171 ONMR (CFm GOOD) δ value] 2.44 ((SH, l, -CH Otori x 2).
164(2H,bs、 Cm −n)。164 (2H, bs, Cm-n).
5、.54(2H,bl、 S;L、、、 )。5. 54 (2H, bl, S; L, , ).
5.65 (2)I7 b a、Ca−I(、Ct H
)7625 (1% B7 > H)
同様にして、表−6の化合物を得た。5.65 (2) I7 b a, Ca-I(, Ct H
)7625 (1% B7 > H) In the same manner, the compounds shown in Table 6 were obtained.
実施例1
+1+ 2 (2−tert−アミルオキシカルボキサ
ミトチアゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキシ
イミノ酢酸3.159をN、N−ジメチルアセトアミド
51.5111Zに溶解させ、−10℃でオキシ塩化燐
t625’を滴下し、−5〜D℃で1時間反応させる。Example 1 +1+ 2 (2-tert-amyloxycarboxamitothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetic acid 3.159 was dissolved in N,N-dimethylacetamide 51.5111Z and heated at -10°C. Then, phosphorus oxychloride t625' was added dropwise to the mixture, and the mixture was allowed to react at -5 to D°C for 1 hour.
ついでこの溶液にジフェニルメチル=7−アミノ〜3−
(3,5−ジメチル−1,2,6−チアジアジン−1
,1−ジオキシド−2−イ/L/)メチル−Δ5−セフ
ェムー4−カルボキシレート538gを加え、−5〜0
℃で1時間反応させる。反応終了後、反応液を酢酸エチ
ル100dおよび水100gの混合溶媒中へ導入し、炭
酸水素ナトリウムを9口えてpH6,5に調整する。つ
いで有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、減圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチルエーテル
を加えて結晶を1取すれば、融点145〜146℃(分
解)を示すジフェニルメチル= 7−(2(2−tar
t−アミルオキシカルボキサミトチアゾール−4−イル
)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド〕−5
−(3,5−ジメチル−1,2,S−チアジアジン−1
1−ジオキシド−2−イル)メチル−Δ1−セフェムー
4−カルボキシレート6、85 y (収率82.0%
)を得る。Then, diphenylmethyl=7-amino~3-
(3,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazine-1
, 1-dioxide-2-i/L/) methyl-Δ5-cephemu 4-carboxylate (538 g) was added, -5 to 0
Incubate at ℃ for 1 hour. After the reaction is completed, the reaction solution is introduced into a mixed solvent of 100 d of ethyl acetate and 100 g of water, and the pH is adjusted to 6.5 by adding 9 mouthfuls of sodium hydrogen carbonate. Then, the organic layer is separated, dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent is distilled off under reduced pressure, and diethyl ether is added to the residue to obtain one crystal, which shows a melting point of 145-146°C (decomposition). diphenylmethyl = 7-(2(2-tar
t-Amyloxycarboxamitothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]-5
-(3,5-dimethyl-1,2,S-thiadiazine-1
1-dioxid-2-yl) methyl-Δ1-cephemu 4-carboxylate 6,85 y (yield 82.0%
).
IB(KBr) cr+ ’ 7 vC=0 1790
1750685
NMR(CDCl、l )δ値i
0.85 (3H,J =7 HZJ CCHe ’
Ml )7夏
179(2H,q、J=7Hz、 −r−CH,、CH
HI387(5H,a、−Cl )。IB(KBr) cr+' 7 vC=0 1790
1750685 NMR (CDCl, l) δ value i 0.85 (3H, J =7 HZJ CCHe'
Ml) 7 summer 179 (2H, q, J=7Hz, -r-CH,,CH
HI387 (5H,a,-Cl).
2.26(5H1s、−cH,ル 3.48 (2H,be、 cm −H)。2.26 (5H1s, -cH, le 3.48 (2H, be, cm -H).
4.05(3H,B、−0CHR)。4.05 (3H, B, -0CHR).
5−08 (21(、b m、Sy曇)75.16(1
H,d、J=5Hzz 0s−H:)pays(1H,
s、>n)。5-08 (21 (, b m, Sy cloud) 75.16 (1
H, d, J=5Hz 0s-H:)pays(1H,
s, > n).
6.19(IH,dd、 J=5Hz、 J=8Hz、
Ct H)。6.19 (IH, dd, J=5Hz, J=8Hz,
Ct H).
7.01(1)いべ入)。7.01 (1) Ibeiri).
114 ’(1F4 a、CHぐ )。114' (1F4a, CHgu).
131〜7.62(10)I、 m、 −@X2)。131-7.62 (10) I, m, -@X2).
8.14(11% d、 J=8Hz、 −CONH−
)。8.14 (11% d, J=8Hz, -CONH-
).
9! 45 (1% sp CON H)同様にして、
表−4の化合物を得た。9! 45 (1% sp CON H) Similarly,
The compounds shown in Table 4 were obtained.
[21+11で得られたジフェニルメチル=7−(2(
2tert−アミルオキシカルボキサミトチアゾール−
4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−5−(s、5−一ジメチル−1,2,6−チアジ
アジン−1,1−ジオキシド−2−イル)メチルーム1
−セフェム−4−カルボキシレート5.09 F) I
Jフルオロ酢酸25ajおよびアニソール10111t
の混合溶媒に溶解させ、室温で2時間反応させる。[Diphenylmethyl obtained in 21+11=7-(2(
2tert-amyloxycarboxamitothiazole-
4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]-5-(s,5-1dimethyl-1,2,6-thiadiazin-1,1-dioxid-2-yl)methylome 1
-cephem-4-carboxylate 5.09 F) I
J fluoroacetic acid 25aj and anisole 10111t
Dissolve in a mixed solvent of and react at room temperature for 2 hours.
反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチル
エーテルを加えて結晶をP取する。After the reaction is completed, the solvent is distilled off under reduced pressure, and diethyl ether is added to the residue to collect crystals.
ジエチルエーテルで十分洗浄し乾燥すれば、融点148
〜150℃(分解)を示す7−[2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル−2−(シン)−メトキシイミノアセ
トアミド〕−s −(!1,5−ジメチルー1.2.6
−チアジアジン−11−ジオキシド−2−イル)メチル
−Δ8−セフェムー4−カルボン酸のトリフルオロ酢酸
塩!1.60 $1 (収$90.0%)を得る。If thoroughly washed with diethyl ether and dried, the melting point is 148.
7-[2-(2-aminothiazol-4-yl-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]-s-(!1,5-dimethyl-1.2.6
-Thiadiazin-11-dioxid-2-yl)methyl-Δ8-cephemu-4-carboxylic acid trifluoroacetate! Obtain 1.60 $1 (yield: $90.0%).
In(KBr) x’; ’C=01780.1710
〜163ONMia−nMso)δ値】
2.21 (3H,i、 −CHI )。In(KBr) x';'C=01780.1710
~163ONMia-nMso) δ value] 2.21 (3H,i, -CHI).
2−29 (5% 87 CH畠 )。2-29 (5% 87 CH Hatake).
3.45(2馬b sp C* H)p!1.94 (
3H,a、 −0CR++ )。3.45 (2 horses b sp C* H) p! 1.94 (
3H,a, -0CR++).
5.05 (2Hp b l、8;L4.り7戻施例2
笑施例1−(2+で得られた7−(2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノ
アセトアミド]−3−(3,5−ジメチル−1,2,6
−チアジアジン−11−ジオキシド−2−イル)メチル
−Δ1−セフェムー4−カルボン酸のトリフルオロ酢酸
塩2gをN、N −ジメチルアセトアミド10dに溶解
させ、−10℃で1,8−ジアザビジタロ(5,4,0
) −7−ウンデセン086ノおよびビバロイルオキシ
メチルヨージド109gを加えて、−10〜0℃で50
分間反応させる。反応終了後、反応液を酢酸エチル3Q
iuおよび水6Q mlの混合浴媒中へ導入する。つい
で有機層を分取し、水3Qmで洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、残留物
にジエチルエーテルを加えて結晶なP取すnば、融点1
16〜118℃(分解)を示すピバロイルオキシメチル
=7−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−(シン)−メトキシイミノアセドアミド)−3−(3
,5−ジメチル−1,2,6−チアジアジン−1,1−
ジオキシド−2−イル)メチル−Δ1−セフェムー4−
カルボキシンート1.42ノ(収率7tO%)を得る。5.05 (2 Hp b l, 8; -methoxyiminoacetamide]-3-(3,5-dimethyl-1,2,6
2 g of trifluoroacetate of -thiadiazin-11-dioxid-2-yl)methyl-Δ1-cephemu-4-carboxylic acid was dissolved in 10 d of N,N-dimethylacetamide, and 1,8-diazabiditalo(5, 4,0
) Add 086 g of -7-undecene and 109 g of bivaloyloxymethyl iodide, and heat at -10 to 0°C for 50
Let it react for a minute. After the reaction is complete, the reaction solution is diluted with 3Q ethyl acetate.
iu and 6Q ml of water into a mixed bath medium. The organic layer is then separated, washed with 3Qm of water, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and diethyl ether was added to the residue to obtain crystalline P, which had a melting point of 1.
Pivaloyloxymethyl 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2 exhibiting 16-118°C (decomposition)
-(syn)-methoxyiminoacedeamide)-3-(3
,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazine-1,1-
dioxide-2-yl)methyl-Δ1-cephemu-4-
1.42 g of carboxylate (yield 7 tO%) is obtained.
IR(KBr) 0117 C=0 1780.174
5.167ONMR(CDCIM )δ値】
1.24(9馬87 −C(CHl )畠)。IR(KBr) 0117 C=0 1780.174
5.167 ONMR (CDCIM) δ value] 1.24 (9 horses 87 -C (CHl) Hatake).
2.2 s (6H,11,−CHI x 2 )。2.2 s (6H, 11, -CHI x 2).
5.47(2H,ba、 c、−H)。5.47 (2H, ba, c, -H).
397(ろH,m、OCH譚)。397 (RoH, m, OCH Tan).
5.16(3H,be、 s≧、 、 Cg H)J5
.85(148,>−H)。5.16 (3H, be, s≧, , Cg H) J5
.. 85 (148,>-H).
5.96(5H,ba、 −OCH雪0−7. cy−
H,−NH怠)。5.96 (5H, ba, -OCH snow 0-7. cy-
H, -NH neglect).
6−75 (I H,mぺ鳥)。6-75 (IH, m petori).
8.41(IJちa、 J=8Hz、−CoNH−)同
様にし壬、次の化合物を得た。8.41 (IJa, J=8Hz, -CoNH-) Similarly, the following compound was obtained.
0ピバロイルオキシメチル=7−、L2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミ
ノアセトアミド)−3−(5−メチル−イソチアゾリジ
ン−1,1−ジオキーカルボキシレート
融点;112〜116℃(分解)
In(KBr) am’ ; ’C=01780.17
50.1675tuH(cDctx)δ値】
1.23(9H,s、−c(cHs)s);1i9(3
H,d、 J=7Hz、〉CM−C3,)。0 pivaloyloxymethyl = 7-, L2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide)-3-(5-methyl-isothiazolidine-1,1-dioky Carboxylate melting point; 112-116°C (decomposed) In(KBr) am';'C=01780.17
50.1675tuH(cDctx)δ value] 1.23(9H,s,-c(cHs)s);1i9(3
H, d, J=7Hz, 〉CM-C3,).
3.65(2H,bB、 C1−H)。3.65 (2H, bB, C1-H).
4、o5(s■x、 8.−0CHJ、 ”:) cI
i、 )。4, o5(s x, 8.-0CHJ, ”:) cI
i, ).
5.18(IIi、 d、 J=5Hz、 t、−H)
。5.18 (IIi, d, J=5Hz, t, -H)
.
s、so〜6.3q(srr、 m、−0CHt07
C,−H,−NHJ)。s, so~6.3q (srr, m, -0CHt07
C, -H, -NHJ).
6.73(IH,与ゴH)。6.73 (IH, Yogo H).
8.29(IH,d、 J=8Hzz −CONH−)
実施例3
(11ジケテン0.955’を無水塩化メチレン10d
に溶解させ、臭素1.819を一60℃で滴下し、−3
0〜−20’Cで30分間反応させる。ついでこの反F
[をジフェニルメチル=7−アミノ−3−(3,5−ジ
メチル−1,2,6−チアジアジン−1−1−ジオキシ
ド−2−イル)メチル−Δ1−セフェムー4−カルボキ
シレート50ノおよびN、N−ジメチルアニリン338
2を含む無水塩化メチレン5om溶g中へ−30〜−2
0℃で滴下する。滴下した後−20〜−10℃で1時間
反応すせる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留
物に酢酸エチル80mおよび水80mを加え、有機層を
分取する。ついで水3Qdで洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。得らnた
残留物をカラムタロマドグラフィー(和光シリカゲルC
−200.溶離液]クロロホルム)で精製すれば、融点
124〜126℃(分解)を示すジフェニルメチ/I/
=7−(4−プロモー3−オキシブチルアミド)−5−
<5,5−ジメチル−1,2,6−チアジアジン−1,
1−ジオキシド−2−イル)メチル−が−セフェム−4
−カルボキシレートs、soy’(収率84.5%)を
得る。8.29 (IH, d, J=8Hz -CONH-)
Example 3 (0.955' of 11 diketene was dissolved in 10 d of anhydrous methylene chloride)
1.819 bromine was added dropwise at -60°C, and -3
React for 30 minutes at 0 to -20'C. Then this anti-F
[diphenylmethyl=7-amino-3-(3,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazin-1-1-dioxide-2-yl)methyl-Δ1-cephemu 4-carboxylate 50 and N, N-dimethylaniline 338
-30 to -2 into a 5 ml solution of anhydrous methylene chloride containing 2
Add dropwise at 0°C. After dropping, the mixture was allowed to react at -20 to -10°C for 1 hour. After the reaction is completed, the solvent is distilled off under reduced pressure, 80 ml of ethyl acetate and 80 ml of water are added to the residue, and the organic layer is separated. After washing with 3Qd of water, it is dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure. The obtained residue was subjected to column talomagography (Wako silica gel C
-200. When purified with [eluent] chloroform), diphenylmethy/I/
=7-(4-promo 3-oxybutyramide)-5-
<5,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazine-1,
1-dioxid-2-yl)methyl-cephem-4
-carboxylate s, soy' (yield 84.5%).
IR(KBr) a++’; I′C=01775.1
720.1680゜64O
NMR(dg −DMSO)δ値1
2A4(311,a、−CHx )。IR(KBr) a++';I'C=01775.1
720.1680°64O NMR (dg-DMSO) δ value 1 2A4 (311,a,-CHx).
2.21(3H,l、−CHl )。2.21 (3H, l, -CHl).
3.55(4H,bB、 c、 −H,−COCHIC
O−)。3.55 (4H, bB, c, -H, -COCHIC
O-).
451 (2Hl tit B r cH,CO)15
08 (2% b sp SQn、 )/s、6o(u
+、 a、 J=5H1,CM−H)。451 (2Hl tit B r cH, CO) 15
08 (2% b sp SQn, )/s, 6o(u
+, a, J=5H1,CM-H).
5、?4(H(、dd、 J=5HE、 J=8Hzパ
y H)/6A5(1■(凸 )−H)。5.? 4(H(, dd, J=5HE, J=8Hz pie H)/6A5(1■(convex)-H).
7.09(IH,a、−CH\ル
ア、1 s 〜7.87(10’H,m、−@ X2)
。7.09 (IH, a, -CH\Lua, 1 s ~ 7.87 (10'H, m, -@X2)
.
−9,32(IH,d、 J=8Hzz −eONH−
)+21 fl+で得られたジフェニルメチル=7−(
4〜ブロモ−3−オキシプチルアミド)−!l−(多5
−ジメチルーチ226−チアジアジン−1,1−ジオキ
シド−2−イル)メチル−Δ8−セフェムー4−カルボ
キシレー)5.05”&酢酸25dに溶解させ、氷酎下
亜硝酸ナトリウム0.54 Slを含む水2紅溶液を滴
下し、室温で2時間反応させる。反応終了後、反応液を
水20〇−中に導入し、析出晶をP取し、水で十分洗浄
した後、乾燥する。ついでこの結晶をクロロボルムに溶
解させ、カラムクロマトグラフィー(和光シリカゲルC
−200゜溶離液;クロロホルム)で精製すれば、融点
138〜141℃(分解)を示すジフェニルメチル=7
−(4−プロモー2−ヒドロ千ジイミノ−6−オキシプ
チルアミド)−X−(3,5−ジメチル−1,2,6−
チアジアジン−1,1−ジオキシド−2−イ/I/)メ
チルーム8−セフェム−4−カルボキシレー) 3.1
79(収率61.0%)を得る。-9,32(IH,d, J=8Hz -eONH-
) + 21 fl + diphenylmethyl = 7-(
4~Bromo-3-oxybutylamide)-! l-(many 5
-dimethylthi226-thiadiazin-1,1-dioxido-2-yl)methyl-Δ8-cephemu-4-carboxylate) 5.05"& water containing 0.54 Sl of sodium nitrite dissolved in 25 d of acetic acid and distilled under ice. 2 red solution was added dropwise and allowed to react at room temperature for 2 hours. After the reaction was completed, the reaction solution was introduced into 200 ml of water, and the precipitated crystals were collected, thoroughly washed with water, and then dried. The crystals were then dried. was dissolved in chloroborum and subjected to column chromatography (Wako silica gel C
Diphenylmethyl = 7 has a melting point of 138-141°C (decomposition) when purified with -200° eluent; chloroform).
-(4-promo 2-hydrothousandiimino-6-oxybutylamide)-X-(3,5-dimethyl-1,2,6-
Thiadiazine-1,1-dioxide-2-i/I/) methylome 8-cephem-4-carboxyle) 3.1
79 (yield 61.0%) is obtained.
I R(KB r ) 0I p c==o 1 7
8 5y 1 7 2 5ノロ9O
NMR(di−DMSO)δ値:
2.18(Fu、 s、−CH寓)。I R(KB r ) 0I p c==o 1 7
85y1725Noro9O NMR (di-DMSO) δ value: 2.18 (Fu, s, -CH).
2.24 (3H7s、CHa )7 3.54(2弓bl、C會−■)。2.24 (3H7s, CHa)7 3.54 (2 bow BL, C meeting-■).
4.72(2H,bi、 BrCHmCO−)。4.72 (2H, bi, BrCHmCO-).
s−09(2H,bSJ 、;L、& )、*5.36
(IH,a、J=5H1,CI−H)。s-09 (2H, bSJ, ;L, &), *5.36
(IH,a,J=5H1,CI-H).
6.10(I H,d dJJ =5 HZ) J−8
Hzs Cy H)J6.14(IH,s、%H)。6.10 (I H, d dJJ = 5 HZ) J-8
Hzs Cy H) J6.14 (IH, s, %H).
109(1% 17 CHぐ )。109 (1% 17 CHgu).
7.22−7.99 (10H,m、→X2 )。7.22-7.99 (10H, m, →X2).
9.65(1)i、 d、 J=8Hz、−CONH−
)tl 3−3 ” (I HJs、OH)(3)(2
]で得られたジフェニルメチル−7−(4プロモー2−
ヒドロキシイミノ−3−オキソブチルアミド)−3−(
5,5−ジメチル−1、2,6−チアジアジン−1−一
ジオキシドー2−イル)メチル−g−セフェム−4−カ
ルボキシレート2.0gをメタノール20MIC溶解さ
せ、0〜5℃でジアゾメタンのジエチルエーテル溶液を
ゆっくり加え、同温度で30分間反応させる。反応終了
後、ジアゾメタンの消失を確認しに後、減圧下に溶媒を
留去する。ついで得られた残留物をカラムクロマトグラ
フィー(和光シリカゲルC−200.溶離液iトルエン
:酢酸エチル=3:1)で精製すれは、融点145〜1
48℃(分解)を示スジフェニルメチル=7−(4−7
’ロモー2−(シン)−メトキシイミノ−3−オキソブ
チルアミド)−3−(3,5−ジメチルール2.6−チ
アジアジン−1,1−ジオキシド−2−イル)メチル−
が−セフェム−4−カルポキシレー) 1.12 y
(収出54.9%)を得る。9.65(1)i, d, J=8Hz, -CONH-
) tl 3-3 ” (I HJs, OH) (3) (2
] Diphenylmethyl-7-(4promo 2-
Hydroxyimino-3-oxobutyramide)-3-(
2.0 g of 5,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazin-1-1dioxido-2-yl)methyl-g-cephem-4-carboxylate was dissolved in 20 MIC of methanol, and the diethyl ether of diazomethane was heated at 0 to 5°C. Add the solution slowly and react at the same temperature for 30 minutes. After the reaction is completed, the solvent is distilled off under reduced pressure after confirming that diazomethane has disappeared. The resulting residue was then purified by column chromatography (Wako silica gel C-200, eluent: toluene:ethyl acetate = 3:1) to give a melting point of 145-1.
48°C (decomposition) Diphenylmethyl = 7-(4-7
'Romo2-(syn)-methoxyimino-3-oxobutyramide)-3-(3,5-dimethylol2,6-thiadiazin-1,1-dioxid-2-yl)methyl-
(-cephem-4-carpoxyle) 1.12 y
(yield 54.9%).
IR(KBr) tt+’; ’C=0 1780 1
720ノ
67O
N jLR(diDMSO)δ値;
2.13 (3H,l、−CHs )/2.20(3H
,8,−C& )。IR(KBr) tt+';'C=0 1780 1
720 no 67O N jLR (diDMSO) δ value; 2.13 (3H, l, -CHs)/2.20 (3H
,8,-C&).
5.50(2H,b町Cm H)y s、q3(S馬sp −OC山)。5.50 (2H, b town Cm H)y s, q3 (S horse sp - OC mountain).
4.0B、 4.66(2H,ABQ、 J=5Hz、
BrCLCO−)。4.0B, 4.66 (2H, ABQ, J=5Hz,
BrCLCO-).
5.03 (2Hp b 87 ”> −)。5.03 (2Hp b 87”>-).
すに 5.26(IH,d、 J−5Hz、C5−H)。Suni 5.26 (IH, d, J-5Hz, C5-H).
5.85(IH,dd、 J=5H!、 J=8Hz、
Cv −H)。5.85 (IH, dd, J=5H!, J=8Hz,
Cv-H).
6.07(IH,s、 >H)。6.07 (IH, s, >H).
7.02(IH,m、−ca〈)。7.02 (IH, m, -ca〈).
7.10〜7.77 (10H,m、R→X 2 )。7.10 to 7.77 (10H, m, R→X 2).
975 (I H,dp J ミ8 Hzp −CON
H)(4)(3]で得られたジフェニルメチル=7−
(4−フロモー2−(シン)−メトキシイミノ−6−オ
キソブチルアミド)−3−(3,5−ジメチル−1,2
,,6−チアジアジン−1,1−ジオキシド−2−イル
)メチル−が−セフェム−4−カルボキシレート1.O
fおよびチオ尿素015グをN、N−ジメチルアセトア
ミド5gに溶解させ、室温で2時間反応させる。反応終
了後、反応液を酢酸エチル2011jおよび水201の
混合溶媒中に導入し、炭酸水素ナトリウムを加えてpH
7,0に調整する。ついで有機層を分取し、水2Qag
で洗浄した後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に
溶媒を留去する。残留物にジエチルエーテルを加えて結
晶をP取すれば、融点145〜148℃(分解)を示す
ジフェニルメチル−7−〔2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−(!+、5−ジメチルー1,21.S−チ
アジアジン−1)1−ジオキシド−2−イル)メチル−
Δ3−セフェムー4−カルボキシレート0.679(収
率691%)を得る。975 (I H, dp J Mi8 Hzp -CON
H) (4) Diphenylmethyl obtained in (3) = 7-
(4-furomo2-(syn)-methoxyimino-6-oxobutyramide)-3-(3,5-dimethyl-1,2
,,6-thiadiazin-1,1-dioxid-2-yl)methyl-cephem-4-carboxylate 1. O
F and 15g of thiourea are dissolved in 5g of N,N-dimethylacetamide and reacted at room temperature for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was introduced into a mixed solvent of ethyl acetate 2011j and water 201, and the pH was adjusted by adding sodium hydrogen carbonate.
Adjust to 7.0. Then, separate the organic layer and add 2Qag of water.
After washing with water and drying with anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. Add diethyl ether to the residue and collect the crystals to obtain diphenylmethyl-7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-, which has a melting point of 145-148°C (decomposition). Methoxyiminoacetamide]-3-(!+,5-dimethyl-1,21.S-thiadiazin-1)1-dioxid-2-yl)methyl-
0.679 of Δ3-cephemu 4-carboxylate (691% yield) is obtained.
1R(KBr) an’ ; IC=0 1780.1
720.167ONMB (ds DMSO)δ値;
2.18(3H,S、−CH,)。1R(KBr) an'; IC=0 1780.1
720.167ONMB (ds DMSO) δ value; 2.18 (3H,S,-CH,).
Z 24 (5Hz m、r CHs )y149(2
ルb sy C寓−H)。Z 24 (5Hz m, r CHs )y149(2
Le bsy C-H).
乙96(6馬s、OCHa )y 5.12(2巧bす8ン −)。Otsu96 (6 horses, OCHa)y 5.12 (2 skill b 8 -).
虫
558 (I Hp % J カ5 HZT Cs ”
)、+/s−09(11’v d dt J 〜5
Hz* J 〜8 Hj、 Ct−H)。Mushi558 (I Hp % J Ka5 HZT Cs”
), +/s-09 (11'v d dt J ~5
Hz* J ~8 Hj, Ct-H).
615 (I HJ sp >イル 6.96 (1%@、:入)。615 (I HJ sp>il 6.96 (1% @, : entered).
7.12(1B、 l、−cu〈)。7.12 (1B, l, -cu<).
7.22〜7.92(10H,rIIJ−@X2)。7.22-7.92 (10H, rIIJ-@X2).
9.94(IH,a、 J−8H!、−CONH−)(
51(41で得られたジフェニルメチル=7−(2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(シン)−メ
トキシイミノアセトアミド〕−5−(3,5−ジメチル
−1,2,6−チアジアジン−1,1−ジオキシド−2
−イル)メチル−Δ5−セフェムー4−カルボキシレー
) 0.59をトリフルオロ#酸2.5mおよび丁二ン
ール1dの混合溶媒に溶解させ、室温で1時間反応させ
る。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物にジエ
チルエーテルを加えて結晶なP取すれば、融点148〜
150℃(分解)を示す7−42−(2−アミノチアゾ
ール−4−イyv ) −2−(シン)−メトキシイミ
ノアセトアミドml−3−(3,5−ジメチル−1゜2
.6−チアジアジン−1,1−ジオキシド−2−イル)
メチル−Δ8−セフェムー4−カルボン酸のトリフルオ
ロ酢酸塩0.4151 (収率89.1%)を得る。尚
この化合物の物性(IRおよびNMR)は実施例1−1
21で得りものと一致した。9.94 (IH, a, J-8H!, -CONH-) (
51 (diphenylmethyl obtained in 41 = 7-(2-(
2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]-5-(3,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazine-1,1-dioxide-2
-yl)methyl-Δ5-cephemu-4-carboxylene) 0.59 is dissolved in a mixed solvent of 2.5 m of trifluoro#acid and 1 d of trifluoroacid, and reacted at room temperature for 1 hour. After the reaction, the solvent is distilled off under reduced pressure and diethyl ether is added to the residue to obtain crystalline P, which has a melting point of 148~
7-42-(2-aminothiazol-4-yv)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide ml-3-(3,5-dimethyl-1°2) showing 150°C (decomposition)
.. 6-thiadiazin-1,1-dioxide-2-yl)
0.4151 (yield: 89.1%) of trifluoroacetate of methyl-Δ8-cephemu-4-carboxylic acid is obtained. The physical properties (IR and NMR) of this compound are as shown in Example 1-1.
21 was the same as what I got.
実施例4
+112−(2〜ホルムアミドチアゾール−4−イル)
グリオキシル酸tOりをN、N−ジメチルアセトアミド
5、Oaijlc懸うさせ、−20℃でオキシ塩化燐0
812を滴ドし、同温度で2時間反応させる。ついでジ
フェニルメチル=7−アミノ−3−(3,5−ジメチル
−1,2,6−チアジアジン−1,1−ジオキシド−2
−イル)メチル−が−セフェム−4−カルボキシレー)
2.4551を含む無水塩化メチレン溶液12111
7を−30〜−20℃で滴下し、−20〜−10℃で1
時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、
残留物に酢酸エチル50#11および水50mを加え、
炭酸水素ナトリウムを加えてpH7,0に調整する。つ
いで不溶物を除去し、有機層を分取し水5oavで洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムでi燥し、減圧下に溶媒
を留去する。 残留物を
カラムクロマトグラフィー(和光シリカゲルC−200
.溶離YL;クロロホルム)で精製すれば、融点141
〜143℃(分解)を示スジフェニルメチル−7−(2
−(2−ホルtアミドチアゾールー4−イル)−グリオ
キシルアミド)−3−(5,5−ジメチル−1,2゜6
−チアジアジン−1,1−ジオキシド−2−イ/I/)
メチル−Δ3−セフェムー4−カルボキシレート2.2
79 (収率68.8%)を得る。Example 4 +112-(2-formamidothiazol-4-yl)
Glyoxylic acid was suspended in N,N-dimethylacetamide 5, Oaijlc, and phosphorus oxychloride was dissolved at -20°C.
812 was added dropwise and reacted at the same temperature for 2 hours. Then diphenylmethyl=7-amino-3-(3,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazine-1,1-dioxide-2
-yl)methyl-cephem-4-carboxylate)
Anhydrous methylene chloride solution containing 2.4551 12111
7 was added dropwise at -30 to -20°C, and 1 was added at -20 to -10°C.
Allow time to react. After the reaction was completed, the solvent was distilled off under reduced pressure.
Ethyl acetate 50#11 and water 50ml were added to the residue,
Add sodium bicarbonate to adjust pH to 7.0. Then, insoluble matters were removed, and the organic layer was separated, washed with 5 oav of water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by column chromatography (Wako silica gel C-200
.. If purified with elution YL (chloroform), the melting point was 141.
~143°C (decomposition) diphenylmethyl-7-(2
-(2-fort-amidothiazol-4-yl)-glyoxylamide)-3-(5,5-dimethyl-1,2゜6
-thiadiazine-1,1-dioxide-2-i/I/)
Methyl-Δ3-cephemu-4-carboxylate 2.2
79 (yield 68.8%) is obtained.
I l’l (KBr ) Cll t C±0 17
80.1720.1665NMR(da DMSO)δ
値;
2.19(3H,@、−CHm )。I l'l (KBr) Cll t C±0 17
80.1720.1665NMR(da DMSO)δ
Value; 2.19 (3H, @, -CHm).
2.23(3H,I、−CHfi )。2.23 (3H, I, -CHfi).
3.51 (2H,M、 Cm−H)〜5.41 (I
H,d、 J=5HL、 c、 −H)。3.51 (2H, M, Cm-H) ~ 5.41 (I
H, d, J=5HL, c, -H).
6.02(IH,dd、 J=5Hzz J=8HI、
cy−n)。6.02 (IH, dd, J=5Hz J=8HI,
cy-n).
6.13(IH,すΣH)2 7.09(IH,l、−CH()。6.13 (IH, ΣH)2 7.09(IH,l,-CH().
127〜78 B (10H,mt −■×2)。127-78 B (10H, mt - ■ x 2).
8.65(1馬8 )。8.65 (1 horse 8).
8.76(IH,s )
10.13(IH,d、、 J =8Hz、−CONH
−)(21(11で得られたジフェニルメチル−7−〔
2−(2−ボルムアミドチアゾール−4−イル)−グリ
オキシルアミド)−5−(5,5−ジメチル−1,2,
、6−チアジアジン−1,1−ジオキシド−2−イル)
メチル−が−セフエムー4−カルボキシレート0.89
をNjN−ジメチルアセトアミド4dに溶解させ、水冷
下メトキシアミン塩酸塩0.14Pを加えて室温で3時
間反応させる。反応終了後、反応液を酢酸エチル20
mlおよび水201の混合溶媒中へ導入し、有機層を分
取し、水20mで洗浄しん後無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。ついで減圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチ
ルエーテルを加えて結晶をr取すれば、融点162〜1
65℃(分解)を示すジフェニルメチル=7−(2−(
2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)−2−(シン
)−メトキシイミノアセトアミド)−5−(3,5−ジ
メチル−126−チアジアジン−11−ジオキシド−2
−イル)メチル−Δ5−セフェムー4−カルボキシレー
ト0.651(収率78.5%)を得る。8.76(IH,s) 10.13(IH,d,, J =8Hz, -CONH
-)(21(diphenylmethyl-7- obtained in 11)
2-(2-borumamidothiazol-4-yl)-glyoxylamide)-5-(5,5-dimethyl-1,2,
, 6-thiadiazin-1,1-dioxide-2-yl)
Methyl-cefemu 4-carboxylate 0.89
is dissolved in 4d of NjN-dimethylacetamide, 0.14P of methoxyamine hydrochloride is added under water cooling, and the mixture is reacted at room temperature for 3 hours. After the reaction is completed, the reaction solution is diluted with ethyl acetate for 20 minutes.
ml and water, and the organic layer was separated, washed with 20 ml of water, and dried over anhydrous magnesium sulfate. Then, the solvent is distilled off under reduced pressure, diethyl ether is added to the residue, and the crystals are collected.
Diphenylmethyl = 7-(2-(
2-formamidothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide)-5-(3,5-dimethyl-126-thiadiazine-11-dioxide-2
-yl)methyl-Δ5-cephemu 4-carboxylate 0.651 (yield 78.5%) is obtained.
I B (KB r ) ilJ ’ C−01780
71720,1685NMR(ds −DMSO)δ値
5
2.06(5H,リ −OH港)。IB(KBr)ilJ'C-01780
71720, 1685 NMR (ds-DMSO) δ value 5 2.06 (5H, Lee-OH port).
2−15 (3Hllip L Hs )J6.4o
(2H/ b a 、C2n)p5.8B(5H,B、
−0CHI)。2-15 (3Hllip L Hs) J6.4o
(2H/ b a , C2n) p5.8B (5H, B,
-0CHI).
4.93 (2H,bay 、)−函−)。4.93 (2H, bay, )-box-).
5.20(IH,d、J=5Hz、CI−H)。5.20 (IH, d, J=5Hz, CI-H).
5.93(IH,da、 J=5Hz、 J=8Hz、
C7−H)。5.93 (IH, da, J=5Hz, J=8Hz,
C7-H).
5.94(1H,B)\H)。5.94 (1H, B)\H).
690 (I H,ey CH< )、?7.03〜7
.66(11鴇人つ×2)。690 (I H,ey CH< ),? 7.03-7
.. 66 (11 Tokitotsu x 2).
8.48(IH,8,HCO−)。8.48 (IH, 8, HCO-).
9.76(IH,d、J=8HE、−CONn−)。9.76 (IH, d, J=8HE, -CONn-).
12.66(1馬s、−CONH−)
(31121で得られたジフェニルメチル=7−(2−
(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル−2−(シン
)−メトキシイミノアセトアミド)−3−(3,5−ジ
メチル−1,2,6−チアジアジン−1,1−ジオキシ
ド−2−イル)メチル−Δ1−セフェムー4−カルボキ
シレートα6ノをメタノール5dに溶解させ、濃塩酸0
33dを加えて35〜40℃で2時間反応させる。反応
終了後、反応液を酢酸エチル201tおよび水20Rt
の混合溶媒中へ導入し、炭酸水素ナトリウムを加えてp
H6,0に調整する。ついで有機層を分取し、水20d
で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。12.66 (1 horse, -CONH-) (diphenylmethyl obtained in 31121 = 7-(2-
(2-formamidothiazol-4-yl-2-(syn)-methoxyiminoacetamide)-3-(3,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazin-1,1-dioxido-2-yl)methyl- Δ1-cephemu 4-carboxylate α6 was dissolved in methanol 5d, and concentrated hydrochloric acid 0
Add 33d and react at 35-40°C for 2 hours. After the reaction, the reaction solution was mixed with 201t of ethyl acetate and 20Rt of water.
into a mixed solvent, add sodium hydrogen carbonate and p
Adjust to H6.0. Then, separate the organic layer and add 20 d of water.
After washing with water, dry with anhydrous magnesium sulfate.
減圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチルエーテルを加
えて結晶を1取すれば、融点145〜148℃(分解)
を示すジフェニルメチル=7−[2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノア
セトアミド)−3−(45−ジメチル−1,2,6−チ
アジアジン−1,1−ジオキシド−2−イル)メチル−
Δ1−セフェムー4−カルボキシレート0.4 B y
(収率82.8%)を得る。尚この化合物の物性(I
RおよびNMR)は実施例3−(4)で得られたものと
一致した。The solvent is distilled off under reduced pressure, and diethyl ether is added to the residue to obtain one crystal, which has a melting point of 145-148°C (decomposition).
Diphenylmethyl = 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide)-3-(45-dimethyl-1,2,6-thiadiazine-1,1 -dioxide-2-yl)methyl-
Δ1-cephemu 4-carboxylate 0.4 B y
(yield 82.8%). Furthermore, the physical properties of this compound (I
R and NMR) were consistent with those obtained in Example 3-(4).
実施例5
+112−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル
)−2−(シン) −tart−ブトキシカルボニルメ
トキシイミノ酢酸1.61をNN−ノ
ジメチルアセトアミド8.01に溶解させ、−10℃で
オキシ塩化燐0.479を滴下し、−5〜0℃で1時間
反応させる。ついでジフェニルメチル=7−アミノ−3
−(5,5−ジメチル−2,2,6−チアジアジン−1
,1−ジオキシド−2−イル)メチル−Δ8−セフェム
ー4−カルボキシレー) 1.58 Fを加え、0〜5
℃で2時間反応させる。反応終了後、反応液を酢酸エチ
ル5Qdおよび水5 Q mlの混合溶媒中へ導入し、
有機層を分取し水30mで洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。Example 5 1.61 of +112-(2-tritylaminothiazol-4-yl)-2-(syn)-tart-butoxycarbonylmethoxyiminoacetic acid was dissolved in 8.01 of NN-nodimethylacetamide and the mixture was heated at -10°C. 0.479 g of phosphorus oxychloride is added dropwise and reacted at -5 to 0°C for 1 hour. Then diphenylmethyl=7-amino-3
-(5,5-dimethyl-2,2,6-thiadiazine-1
, 1-dioxid-2-yl)methyl-Δ8-cephemu-4-carboxylene) 1.58 F was added, and 0 to 5
Incubate at ℃ for 2 hours. After the reaction was completed, the reaction solution was introduced into a mixed solvent of 5 Q ml of ethyl acetate and 5 Q ml of water,
The organic layer is separated, washed with 30 ml of water, and then dried over anhydrous magnesium sulfate.
ついで減圧下に溶媒を留去し、残留物をカラムクロマト
グラフィー(相光シリカゲルC−2oo、’f8離tL
;ベンゼン:酢酸エチル−5=1)で精製すれば、融点
123〜125℃(分解)を示すジフェニルメチル−7
−〔2−(2−)リチルアミノチアゾールー4−イル)
−2−(シン) −tert−ブトキシカルボニルメト
キシイミノアセトアミド〕−6−(35−ジメチル−1
,2,6−チアジアジン=1.1−ジオキシド−2−イ
ル)メチル−Δ3−セフエムー4−カルボキシレート2
−1051(収率6Z1%)を得る。Then, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to column chromatography (Aiko Silica Gel C-2oo, 'f8-tL).
; When purified with benzene:ethyl acetate-5=1), diphenylmethyl-7 has a melting point of 123-125°C (decomposition).
-[2-(2-)lytylaminothiazol-4-yl)
-2-(syn)-tert-butoxycarbonylmethoxyiminoacetamide]-6-(35-dimethyl-1
,2,6-thiadiazine=1,1-dioxid-2-yl)methyl-Δ3-cefemu 4-carboxylate 2
-1051 (yield 6Z1%) is obtained.
IR(KBr) cm 、 p C=01790.17
30. 168ONMB (ds DMSO)δ値】
145 (9Hz s、’ (C”s )m )。IR(KBr) cm, pC=01790.17
30. 168ONMB (ds DMSO) δ value] 145 (9Hz s,' (C”s)m).
2.15(3H,8,−C& )。2.15 (3H,8,-C&).
2.2 s (3H,S、−CHI )。2.2s (3H, S, -CHI).
3.4s(2n、be、CI−H)。3.4s (2n, be, CI-H).
4.65(2H,ba、−OCH!Go−)。4.65 (2H, ba, -OCH!Go-).
5.07(2N(、bll、8)−ニー)。5.07 (2N(,bll,8)-knee).
5.32(IH,d、J=5HK、C5−H)。5.32 (IH, d, J=5HK, C5-H).
5.94(IH,dd、 J=5Hz、J=8Hz、C
7−T()。5.94 (IH, dd, J=5Hz, J=8Hz, C
7-T().
6.1s (I H7IIt >H)/6.94(1馬
8 )。6.1s (I H7IIt >H)/6.94 (1 horse 8).
108 (I H,+1 )J
l 22〜l 90 (25Hp mp # ×5 )
p9.03(11B; −NH< )。108 (I H, +1) J l 22~l 90 (25Hp mp # ×5)
p9.03 (11B; -NH<).
9.72(IH,d、J=8Hz、−CONH−)(2
1+11で得られたジフェニルメチル=7−[2−(2
−)ジチルアミノチアゾール−4−イル)−2−(シン
) −tert−ブトキシカルボニルメトキシイミノア
セトアミド]−3−(3,5−ジメチル−1,2,6−
チアジアジン−1,1−ジオキシド−2−イル)メチル
−Δ3−セフェムー4−カルボキシレー) 2. OS
+ i トリフルオロ酢酸10Il/およびアニソール
4aの混合溶媒に溶解させ、室温で1時間反応させる。9.72 (IH, d, J=8Hz, -CONH-) (2
Diphenylmethyl obtained in 1+11=7-[2-(2
-) dithylaminothiazol-4-yl)-2-(syn)-tert-butoxycarbonylmethoxyiminoacetamide]-3-(3,5-dimethyl-1,2,6-
Thiadiazin-1,1-dioxid-2-yl)methyl-Δ3-cephemu-4-carboxyle) 2. OS
+ i Dissolve in a mixed solvent of 10 Il of trifluoroacetic acid and 4a of anisole and react at room temperature for 1 hour.
反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチル
エーテルを加えて結晶をP取する。ついでこの結晶を5
0%ギ酸水+に+ ?Fj20mに溶解させ、40〜5
0℃で1時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒な
留去し、残留物にl¥F酸エテルを調えて結晶なr取す
る。酢酸エチルで十分洗浄し乾燥すれば、融点186〜
189℃(分解)を示す 7−(2−42−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−(シン)−カルボキシメトキ
シイミノ “アセトアミド] −3−(3,5−ジメチ
ル−1゜2.6−チアジアジン−1,1−ジオキシド−
2−イル)メチル−Δ3−セフェムー4−カルボン酸の
ギ酸塩t o s y (収率86,8%)を得る。After the reaction is completed, the solvent is distilled off under reduced pressure, and diethyl ether is added to the residue to collect crystals. Next, add this crystal to 5
0% formic acid water+? Dissolve in Fj20m, 40-5
React at 0°C for 1 hour. After the reaction was completed, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was mixed with l\F acid ether to obtain crystals. If thoroughly washed with ethyl acetate and dried, the melting point will be 186~
189℃ (decomposition) 7-(2-42-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-carboxymethoxyimino "acetamido" -3-(3,5-dimethyl-1°2.6- Thiadiazine-1,1-dioxide-
The formate salt of 2-yl)methyl-Δ3-cephemu-4-carboxylic acid is obtained (yield 86.8%).
I n (KB r ) cm p c−=tt 17
75 17301675 1650
!
NMR(da DMSO)δ値;
2.20(F)I、 a、−CHI )。I n (KB r ) cm p c-=tt 17
75 17301675 1650! NMR (da DMSO) δ value; 2.20 (F)I, a, -CHI).
2.25 (3H,s、 CHs )。2.25 (3H, s, CHs).
3.41 (,2H,bB、C*−H)。3.41 (,2H, bB, C*-H).
4.69’(2H,ha、−0CHjCO−)。4.69'(2H, ha, -0CHjCO-).
5.09(2H,bs、ソー)。5.09 (2H, bs, so).
5.24 (I I% d p J =5 HZ/ C
a−H)p5.91 (I H,dd、 J=5H1,
J=10HI、 c、−n)。5.24 (II% d p J = 5 HZ/C
a-H) p5.91 (I H, dd, J=5H1,
J=10HI, c, -n).
615(1H7s、〜H)。615 (1H7s, ~H).
7.04(IH,a、 ”、几)。7.04 (IH, a, ”, 几).
q、75(1H,d、 J=10H1,−CONH−)
実施例6
fil 2 (2tart−アミルオキシカルボキサミ
トチアゾール−4−イル)酢酸1gを無水塩化メチレン
201Ltに溶解させ、N−メチルモルホリン041ノ
を加えて一30℃に冷却する。ついでクロル炭酸エチル
0422を加え、−30〜20℃で1時間反応させた後
、ジフェニルメチル−7−アミノ−3−(3,5−ジメ
チル−1,2,6−チアジアジン−1,1−ジオキシド
−2−イル)メチル−△3−セフェムー4−カルボキシ
レート198gを加え、−10〜0℃で2時間反応させ
る。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物に酢酸
エチル30μおよび水50Mを加え有機層を分取する0
再び水3Q+jを加え、炭酸水素す) IJウムを加え
てpH7,0に調整する。有機層を分取し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去し、残留
物にジエチルエーテルを加えて結晶をP取すれば、融点
147〜149℃(分解)を示すジフェニルメチル=7
、 (2(2−tert−アミルオキシカルボキサミ
トチアゾール−4−イル)−アセトアミド)−3−(3
,5−ジメチル−1,2,6−チアジアジ7−1,1−
ジオキシド−2−イル)メチル−が−セフエムー4−カ
ルボキシレート263り(収藁80.1%)を得る。q, 75 (1H, d, J=10H1, -CONH-)
Example 6 1 g of fil 2 (2tart-amyloxycarboxamitothiazol-4-yl)acetic acid is dissolved in 201 Lt of anhydrous methylene chloride, 041 L of N-methylmorpholine is added, and the mixture is cooled to -30°C. Next, ethyl chlorocarbonate 0422 was added and the reaction was carried out at -30 to 20°C for 1 hour. 198 g of -2-yl)methyl-Δ3-cephemu 4-carboxylate is added and reacted at -10 to 0°C for 2 hours. After the reaction is complete, the solvent is distilled off under reduced pressure, and 30μ of ethyl acetate and 50M of water are added to the residue to separate the organic layer.
Add water 3Q+j again, add hydrogen carbonate, and adjust the pH to 7.0. The organic layer is separated, dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent is distilled off under reduced pressure, diethyl ether is added to the residue, and the crystals are collected to give diphenyl having a melting point of 147-149°C (decomposed) Methyl = 7
, (2(2-tert-amyloxycarboxamitothiazol-4-yl)-acetamido)-3-(3
,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazidi7-1,1-
263 methyl dioxide-2-yl-cefemu 4-carboxylate (yield: 80.1%) was obtained.
111(KBr)LM; C=01780.1720.
167ONMR(d・−DMSO)δ値;
2.16 (3H7sp −c Ha )。111(KBr)LM; C=01780.1720.
167ONMR (d-DMSO) δ value; 2.16 (3H7sp-cHa).
2.24(3Iシリ −CHM)。2.24 (3I series-CHM).
549 (2% b 8. C諺−H)。549 (2% b 8. C proverb-H).
3.65(2H,bst ’;止)ノ 5.07(2H,bl、s馬ケ)。3.65 (2H, bst'; stop) no 5.07 (2H, bl, s horse).
5.31(IH,d、 J−5Hz、CI−H)。5.31 (IH, d, J-5Hz, CI-H).
5、q e (I H/ aap J =s a zt
J =a H$7 ”? H)y6.17(1馬1?
>a )j
l 01 (1% my CHぐ)。5, q e (I H/ aap J = s a zt
J = a H$7”? H)y6.17 (1 horse 1?
>a) j l 01 (1% my CHgu).
7.10(IH,I、大)。7.10 (IH, I, large).
726〜7.92(10H,m、−@X2)。726-7.92 (10H, m, -@X2).
9.22 (I H,% J =8 Hzy CON
H)+21 +11で得られたジフェニルメチル=7−
[2(2−tert−アミルオキシカルボキサミトチア
ゾ−JL/−4−イル)−アセトアミド〕−3−(3,
5−ジメチル−1,2,、6−チアジアシンーレ1−ジ
オキシド−2−イル)メチル−Δ’ −セフ ! A
−4−カルボキシレート1.09をトリフルオロ酢酸5
Rtおよびアニソール2dの混合溶媒中に溶解し、室温
で2時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去
し、残留物にジエチルエーテルを即えて結晶を1取すれ
ば、融点155〜157℃(分解)を示す 7−(2−
(2−アミンチアゾール−4−イル)−アセトアミド〕
−3−(5,5−ジメチ/l/−1,2,6−チアジア
ジン−1,1−ジオキシド−2−イル)メチル−Δ1−
セフェムー4−カルボン酸のトリフルオロ6F酸tmo
、6a9(収率86.1%)を得る。9.22 (I H, % J = 8 Hz CON
H) +21 +diphenylmethyl obtained in 11 = 7-
[2(2-tert-amyloxycarboxamitothiazo-JL/-4-yl)-acetamide]-3-(3,
5-dimethyl-1,2,,6-thiadiacycin-1-dioxide-2-yl)methyl-Δ'-cef! A
-4-carboxylate 1.09 to trifluoroacetic acid 5
Dissolve in a mixed solvent of Rt and anisole 2d and react at room temperature for 2 hours. After the reaction is complete, the solvent is distilled off under reduced pressure, the residue is mixed with diethyl ether, and one crystal is taken, which shows a melting point of 155-157°C (decomposition).7-(2-
(2-aminethiazol-4-yl)-acetamide]
-3-(5,5-dimethy/l/-1,2,6-thiadiazin-1,1-dioxid-2-yl)methyl-Δ1-
Cephemu 4-carboxylic acid trifluoro6F acid tmo
, 6a9 (yield 86.1%) is obtained.
IR(KBr) cs+ 、C=0 1775 171
01670 1 63O
NMn(d−DMSO)δ値;
2.29(3H,1,−CHI )。IR (KBr) cs+, C=0 1775 171
01670 1 63 O NMn (d-DMSO) δ value; 2.29 (3H,1,-CHI).
2j 6(5H74,CH++ )。2j 6 (5H74, CH++).
5.51(2几b〜 CI−)1)。5.51 (2 liters b ~ CI-) 1).
5−25 (2I% b st >、a−)t5.34
(IH,d、 J=5Hz、 CI−H)。5-25 (2I% b st >, a-)t5.34
(IH, d, J=5Hz, CI-H).
5.95(IH,dd、J=5Hz、J=8Hz、C?
−H)。5.95 (IH, dd, J=5Hz, J=8Hz, C?
-H).
6.27(1H2s、′)−H)。6.27(1H2s,')-H).
6.82(1い、ま−。6.82 (1, ma-.
9、40 (I H,d、 Jm8Hz、 −CONH
−)特許出願人
富山化学工業株式会社
第1頁の続き
0発 明 者 才用勇
富山市大泉中町7−529, 40 (I H, d, Jm8Hz, -CONH
-) Patent Applicant: Toyama Chemical Industry Co., Ltd. Continued from page 1 0 Inventor: Yu Saiyo 7-52 Oizumi Nakacho, Toyama City
Claims (1)
項記載のセファロスポリンおよびその塩類。 (31R’が水素原子である特許請求の範囲第(11ま
たは(2)項記載のセファロスポリンおよびその塩類。 (41R’がアば)基である特許請求の範囲第(1)〜
(3)項いずれかの項記載のセファロスポリンおよびそ
の塩類。 た意味を有する。)で表わされる基である特許請求の範
囲第(1)〜(4)項いずれかの項記載のセファロスポ
リンおよびその塩類。 t6) B’が置換されていてもよいアルキル基である
特許請求の範囲第(11〜(5]項いずれかの項記載の
セファロスポリンおよびその塩類。 ある。)で表わされる基である特¥f請求の範囲第(1
)〜(6)項いすhかの項記載のセファロスlリンおよ
びその塩類。 柱体であり、B1は前記した意味を有する。)で表わさ
れる基である特許請求の範囲第(1)〜(6)項いずれ
かの項記載のセファロスポリンおよびその塩類。 した意味な有する。)で表わされる特許請求の範囲第(
1)〜(8)項いずれかの項記載のセファロスポリンお
よびその塩類。 uG R,’が水素原子または置換され℃いてもよいア
ルキル基である特許請求の範囲第(9)項記載のセファ
ロスポリ/およびその塩類。 αυ RWが置換されていてもよいアルキルまたはアリ
ール基である特許請求の範囲第(9)またはCLG 項
記載のセファロスポリンおよびその塩類。 を有する。)で表わされる特許請求の範囲第H1〜(8
)項いずれかの項記載のセファロスポリンおよびその塩
類。 03B2が置換されていてもよい1,2,6−チアジア
ジン−1,1−ジオキシド−2−イル基である特許請求
の範囲第叩項記載のセファロスポリンおよびその塩類。 04R8が置換されていてもよいテトラヒドロ−12−
チアジン−11−ジオキシド−2−イル基である特許請
求の範囲第U項記載のセファロスポリンおよびその塩類
。 (15Fl”が置換され℃いてもよいインチアゾリジン
−1,1−ジオキシド−2−イル基である特許請求の範
囲第U項記載のセファロスポリンおよびその塩類。 IJ(57−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド)−3
−(メタンスルホンアミド)メチル−Δ5−セフェムー
4−カルボン酸、ソのエステルまたはそれらの塩である
特許請求の範囲第回項記載の化合物。 0η 7−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド)−3−
(3,5−ジメチル−1,2,6−チアジアジン−11
−ジオキシド−2−イル)メチル−Δ8−セフェムー4
−カルボン酸、そのエステルまたはそれらの塩である特
許請求の範囲第(2)項記載の化合物。 囮 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]−3−(
テトラヒドロ−1,2−チアジン−1,1−ジオキシド
−2−イル)メチルーム8−セフェム−4−カルボン酸
、ソのエステルまたはそれらの塩である特許請求の範囲
第(14)項記載の化合物。 α1 7−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]−3−
(5−メチルーイソチアゾリジン−1,1−ジオキシド
−2−イル)メチル−Δ1−セフームー4−カルボンa
−そのエステル、または七扛らの塩である特許請求の範
囲第09項記載の化合物。 ■ 7−42−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−(シン)−カルボキシメトキシイミノアセトアミド
]−5−(3,5−ジメチ/l/−1,2,6−チアジ
アジン−1,1−ジオキシド−2−イ/L/ )メチル
−Δ1−セフェムー4−カルボン酸、そのエステルまた
はそれらの塩である特許請求の範囲第a3虫記載の化合
物、(1) Cephalosporin and its salts represented by the general formula. +21 1" is a hydrogen atom, Claim No. (11)
Cephalosporins and their salts as described in Section. The cephalosporin and its salts according to claim 11 or (2), wherein (31R' is a hydrogen atom). Claims (1) to 3, wherein (41R' is an aba) group
(3) The cephalosporin and its salts according to any one of the items. It has a meaning. ) The cephalosporin and its salts according to any one of claims (1) to (4). t6) B' is an optionally substituted alkyl group; ¥fClaim No. 1
) to (6) The cephalosporous phosphorus and its salts as described in item 1. It is a columnar body, and B1 has the meaning described above. ) The cephalosporin and its salts according to any one of claims (1) to (6). It has meaning. ) Claim No. (
The cephalosporin and its salts according to any one of items 1) to (8). The cephalosporin/and its salts according to claim (9), wherein uG R,' is a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group. The cephalosporin and its salts according to claim (9) or CLG, wherein αυ RW is an optionally substituted alkyl or aryl group. has. ) Claims H1 to (8)
) A cephalosporin and its salts as described in any of the above. The cephalosporin and its salts according to claim 1, wherein 03B2 is an optionally substituted 1,2,6-thiadiazin-1,1-dioxido-2-yl group. 04R8 optionally substituted tetrahydro-12-
The cephalosporin and salts thereof according to claim U, which are thiazin-11-dioxide-2-yl groups. Cephalosporins and salts thereof according to claim U, wherein (15Fl'' is an optionally substituted inthiazolidin-1,1-dioxid-2-yl group. IJ(57-(2-(2 -aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide)-3
-(methanesulfonamido)methyl-Δ5-cephemu-4-carboxylic acid, an ester thereof, or a salt thereof. 0η 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)
-2-(syn)-methoxyiminoacetamide)-3-
(3,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazine-11
-dioxido-2-yl)methyl-Δ8-cephemu 4
- The compound according to claim (2), which is a carboxylic acid, an ester thereof, or a salt thereof. Decoy 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-
2-(syn)-methoxyiminoacetamide]-3-(
The compound according to claim 14, which is an ester of tetrahydro-1,2-thiazin-1,1-dioxid-2-yl)methylome-8-cephem-4-carboxylic acid, or a salt thereof. α1 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)
-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]-3-
(5-Methyl-isothiazolidin-1,1-dioxide-2-yl)methyl-Δ1-cehumu-4-carbon a
- The compound according to claim 09, which is an ester thereof or a salt thereof. ■ 7-42-(2-aminothiazol-4-yl)-
2-(syn)-carboxymethoxyiminoacetamide]-5-(3,5-dimethy/l/-1,2,6-thiadiazine-1,1-dioxido-2-y/l/)methyl-Δ1-cephemu 4-carboxylic acid, an ester thereof or a salt thereof;
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58113565A JPS604191A (en) | 1983-06-23 | 1983-06-23 | Novel cephalosporin compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58113565A JPS604191A (en) | 1983-06-23 | 1983-06-23 | Novel cephalosporin compound |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS604191A true JPS604191A (en) | 1985-01-10 |
| JPH0454677B2 JPH0454677B2 (en) | 1992-08-31 |
Family
ID=14615480
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58113565A Granted JPS604191A (en) | 1983-06-23 | 1983-06-23 | Novel cephalosporin compound |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS604191A (en) |
-
1983
- 1983-06-23 JP JP58113565A patent/JPS604191A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0454677B2 (en) | 1992-08-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1204735A (en) | Cephalosporins, processes for producing the same, intermediates thereof and process for producing the intermediates | |
| US4264595A (en) | 7-[2-(2-Imino-4-thiazolin-4-yl)-2-(syn)-hydroxy-iminoacetamido]-cephalosporins | |
| NO155347B (en) | ANALOGICAL PROCEDURES FOR THE PREPARATION OF A THERAPEUTIC ACTIVE (6R, 7R) -7 - ((Z) -2- (2-AMINO-THIAZOL-4-YL) -2- (2-CARBOXY-PROP-2-OXYIMINO) -ACETAMIDO) -3- (1-PYRIDINIUM Methyl) CEF-3-EM-4-CARBOXYLATE. | |
| HU184631B (en) | Process for preparing cef-3-em-4-carboxylic acid derivatives with antiaiotic activity | |
| JPH0559066A (en) | Thioalkyl thiocephalosporin derivatives | |
| HU193158B (en) | Sposob poluchenija 3,7-dizamehhennykh proizvodnykh 3-cefem-4-karbonovykh kislot | |
| EP0267733A2 (en) | Cephalosporin compounds, process for their preparation and pharmaceutical compositions containing them | |
| JPS6052755B2 (en) | New cephalosporins | |
| JP2529093B2 (en) | Method for producing cephalosporin intermediate | |
| JPS59231090A (en) | Fluoromethylthioxacephalosporin | |
| JPH0633281B2 (en) | New cephalosporin compounds and antibacterial agents | |
| JPS604191A (en) | Novel cephalosporin compound | |
| KR870000611B1 (en) | Method for preparing cephalosporin | |
| JPS6137274B2 (en) | ||
| JPS606694A (en) | Novel cephalosporins | |
| JP3218363B2 (en) | Cephem compound, method for producing the same, and antibacterial agent containing the compound | |
| EP0006011B1 (en) | Cephalosporins and pharmaceutical compositions containing them | |
| KR870001796B1 (en) | Process for preparing cephalosporins | |
| KR860000487B1 (en) | Process for preparing cephalosporins | |
| JPS6092293A (en) | Novel cephalosporin compound | |
| JPH0530836B2 (en) | ||
| JPS59193893A (en) | Novel cephalosporins | |
| JPH0357913B2 (en) | ||
| HU201946B (en) | Process for producing cefemcarboxylic acid derivatives and pharmaceutical compositions comprising same | |
| JPS5998089A (en) | Novel 7-amino-3-(1-(4-substituted or unsubstituted 2,3-dioxo- 1,2,3,4-tetrahydropyrazinyl))methyl-cephem-4-carboxylic acid and salt thereof and preparation thereof |