JPS604191A - 新規セフアロスポリン類 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規なセファロスポリン類、具体的には、 一般式 で表ワされるセファロスポリンおよびその塩類に関する
。

而して、本発明の目的とするところは、広範囲な抗菌ス
ペクトルを有し、ダラム陽性菌、グラム陰性菌に対し優
れた抗菌活性を示し、かつバクテリアが産生するβ−ラ
クタマーゼに対しても安定な性質を有し、人ならびに動
物の疾病に対し経口および非経口で優れた治療効果を発
揮する新規なセファロスポリンおよびその塩類を提供す
ることにある。

本発明のセファロスポリン類は、セフェム環の３位エキ
ンメチレン基に、式−Ｎ−８Ｏ＊Ｒ”　（式６ （式中−Ｗは前記した意味を有する。）で表わされる複
素環式基が結合しているところにその特徴がある。

以下、さらに本発明の詳細な説明する。

本明細書において、特にことわらない限り、アルキルと
は、Ｃ１〜＋４アルキル、たとえば、メチル、エチル、
ｎ−プロピル、イングロビル、Ｄ−ブチル、インブチル
、５ｅａ−ブチル、ｔｅｒｔ−フチル、ペンチル、ヘキ
シル、ヘフチル、オクチル、ドデシルまたはラウリルな
どを；アルコキシとは、上で定義したアルキル基を有す
る一〇−アルキルを；低級アルキルとは、Ｃ１〜Ｓアル
キル、たとえば、メチル、エチル、カープロピル、イン
プロビル、ｎ−ブチル、イソブチル、５ｅｅ−ブチル、
ｔａｒｔ−ブチルまたはペンチルなｋを】低級アルコキ
シとは、上で定義した低級アルキル基を有する一〇−低
級アルキルを】アシルとは、自〜Ｉ！アシル、たとえば
、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ベンゾイル、ナ
フトイル、ペンタンカルボニル、シクロヘキサンカルボ
ニル、７０イルまたはテノイ／ｌ／などを】アシルオキ
シとは、上で定義したアシル基を［ｆる−０−アシルを
］アルキルチオとは、上で定義したアルキル基を有する
ーＳ−アルキルを；アルケニルとは、Ｃ禦〜１０アルケ
ニル、タトエハ、ヒニル、アリル、１ｓｏ−７’ロペニ
ル、２−ペンテニルまたはブテニルなどをｉアルレキニ
ルとは、Ｃ８〜ｕ＋　７　／’キニル、たとえば、エチ
ニルまたは２−プロビニＡＩなどを】シクロアルキ／ｌ
／　トハ、Ｃｓ〜７　シクロアルキル、りとえｉ？、シ
クロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシルまたはシクロヘプチルなどヲ：シクロアルケニ
ルトハ、Ｃ襲〜マシクロアルケニル、たとえハ、シクロ
ペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニルなど
を；アリールとは、たとえば、フェニル、ナフチルまた
はインダニルなどをテアリールオキシとは、上で定義し
たアリール基を有する一〇−アリールを；アルアルキル
とは、たとえば、ベンジル、フェネチル、４−メチルベ
ンジルまたはナフチルメチルなどを；アルアルキルオキ
シとは、上で定義したアルアルキル基を有する−０−ア
ルアルキル基を；複素環式基とは、酸素、窒素および硫
黄から選択された少なくとも１個の複素原子を含む複素
環式基、たとえば、フリル、チェニル、ピロリル、ピラ
ゾリル、イミダゾリル、チアゾリル、インチアゾリル、
オキサシリル、インオキサシリル、チアジアゾリル、オ
キサジアゾリル、チアトリアゾリル、オキサトリアゾリ
ル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、３−（２
−メチル−４−ピロリニル）、３−（４−？”ロリニＡ
／）、Ｎ−（メチルピペリジニル）、ピリダジニル、キ
ノリル、７エナジニル、１．６−ペンゾジオキサラニル
、ベンゾ７リル、ペンツチェニル、ペンゾオキサソリル
、ベンゾチアゾリルまたはタマリニルなどを；複素環ア
ルキルとは、上で定義した複素環式基およびアルキル基
から成る基を】ハロゲン原子とは、たとえば、フッ素、
塩素、臭素またはヨウ素原子などをそれぞれ量比する。

本明細書中の各一般式におゆるＲ１は、水素原子または
カルボキシル基の保護基であり、カルボキシル基の保護
基としては、従来ペニシリンおよびセファロスポリン系
化合物の分野で通常使用されているものが挙げられる。

これらのカルボキシル基の保護基としては接触還元、化
学的還元またはその他の緩和な条件下で処理すれば脱離
するエステル形成基、または生体内において容易に脱離
するエステル形成基、または水もしくはアルコールで処
理すれば容易に脱離する有機シリル基、有機リン基もし
くは有機スズ基など、またはその他の種々の公知エステ
ル形艮基が挙げられる。

この種の保護基のうち好適な保護基としては、具体的に
次のものが挙げられる。

（イ）　アルキル基。

（ロ）　置換基の少なくとも１つがノ・ロゲン、ニトロ
、カルボアルコキシ、アシル、アルコキシ、オキソ、シ
アノ、シクロアルキル、アリール、アルキルチオ、アル
キルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルコキシカ
ルボニル、５−アルキル−２−オキシー１，６−シオキ
シー１ｖ−４−イル、１−インダニル、２−インダニル
、フリル、ピリジル、４−イミダゾリル、７タルイミド
、スクシンイミド、アセチジノ、アジリジノ、ピロリジ
ノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノ、Ｎ−低
級アルキルビベラジノ、ピロリル、ピラゾリル、チアゾ
リル、インチアゾリル、オキサシリル、インオキサシリ
ル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、チアトリアゾ
リル、オキサトリアゾリル、トリアゾリル、テト・ラゾ
リル、ピリジル、キノリル、フエナジニル、ベンシフ１
ノル。

ペンツチェニル、ペンツチアゾリル、ペンツチアゾリル
、クマリニル、２２５−ジメチルピロリジノ、１．４．
５．６−チトラヒドロピリミジニル、４−メチルピペリ
ジノ、２，６−シメチルピベリジノ、５−（２−メチ／
ｌ／−４−ピロリニル）、５−（４−ピロリニル）、Ｎ
−（メチルピペリジノ、ＴＩ／）、１，３−ペンゾジオ
キサラニル、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アシ
ルオキシ、アシルチオ、アシルアミノ、ジアルキルアミ
ノカルボニル、アルコキシカルボニルアミノ、アルアル
キン、アリールオキシ、アルアルキルオキシ、シクロア
ルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、複素環オキシ
、アルコキシカルボニルオキシ、アルケニルオキシカル
ボニルオキシ、アリールオキシカルボニルオキシ、アル
アルキルオキシカルボニルオキシ、複薬環オキシカルボ
ニルオキシ、アルケニルオキシカルボニル、アリールオ
キシカルボニル、アルアルキルオキシカルボニル、シク
ロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシ
カルボニル、複素環オキシカルボニル、アルキルアニリ
ノまタハハロゲン、低級アルキルもしくは低級アルコキ
シで置換されたアルキルアニリノである置換低級アルキ
ル基。

（ハ）　シクロアルキル基：低級アルキル置換シクロア
ルキルまたは（２，２−ジ低級アルキル−１３−ジオキ
ソ−／ｌ／−４−イル）メチル基。

←）アルケニル基。

犀）　アルキニル基。

（へ）　フェニル基または置換基が少なくとも１つの前
記（ロ）で例示した置換基より任意に選ばれた置換基で
ある置換フェニル基、または式 で示される基もしくはその置換誘導体（置換基は前記（
ロ）で例示した置換基より任意に選ばれる）、または式 で示される基もしくはその置換誘導体（置換基は前記（
ロ）で例示した置換基より任意に選ばれる）のようなア
リール基。

（トＩ　ベンジルまたは置換基が少なくとも１つの前記
（ロ）で例示した置換基より任意に選ばれた置換基であ
る置換ベンジｙのようなアルアルキル基。

（ト）複素環式基ズたは置換基が少なくとも１つの前記
（Ｃｆｆ＋で例示した置換基より任意に選ばれた置換基
である置換された複素環式基。

明　脂環インダニル、脂環フタリジルまたは置換基がメ
チルもしくはハロゲンであるそれらの置換誘導体、脂環
テトラヒドーロナフチルまたは置換基がメチルもしくは
ハロゲンであるその置換誘導体、トリチル、コレステリ
ル、ビシクロ（４，、４，Ｏ〕デシルなと。

０９　脂環フタリジリデン低級アルキル基または置換基
がハロゲンもしくは低級アルキル基であるそれらの置換
誘導体。

上で例示したカルボキシル基の保護基は代表例であり、
これら以外にも、つぎの文献に記載されている保護基を
任意に選択することができる。

米国特許ろ、４９９，９０９号、５．５７’３，２９６
号および５，６４１，０１８号；西独特許公開公報２．
３０１，０１４号、４２５５．２８７号および２．５　
’３４１０５号。

これらの中で好ましいカルボキシル基の保護基としては
、たとえば、５−低級アルキルー２−オキシー１，５−
ジオキソールー４−イに一低Ｒアルキル基、アシルオキ
シアルキル基、アシルチオアルキル基、７タリジル基、
インダニル基、フェニル基、置換基を有するかもしくは
有しないフタリジリデン低級アルキル基または仄の式で
表わされる基のように生体内で容易に脱離する基が挙げ
られる。

２−オキソ−１，６−ジオキソ−ルー４−イル−メチル
、５−エチル−２−オキシー１，５−ジオキシールー４
−イル−メチル、５−ｎ−プロピル−２−オキソ−１，
６−ジオキシ−ルー４イル−メチル基などの５−低級ア
ルキルー２−オキソ−１，６−シオキシールー４−イル
−メチル基】アセトキシメチル、ビバロイｙｖｙｌ−キ
シメチル、プロピオニルオキシメチル、プチリルオギシ
メチル、インブチリルオキシメチル、バレリルオキシメ
チル、１−アセトキシエチル、１−アセトキシ−ｎ−プ
ロピル、１−ピバロイルオキシエチル、１−ピバロイル
オキシ−ｎ−プロピル基などのアシルオキシアルキル基
】アセチルチオメチル、ピバロイルチオメチル、ベンゾ
イルチオメチル、ｐ−クロロベンゾイルチオメチル、１
−アセチルチオエチル、１−ピバロイルチオエチル、１
−ペンソイルチオエチル、１−（ｐ−クロロベンゾイル
チオ）エチル基などのアシルチオアルキル基ｉメトキシ
メチル、エトキシメチル、Ｄ−プロボキシメチル、イン
プロポキシメチル、ｎ−ブチルオキシメチル基などのア
ルコキシメチル基】メトキシカルボニルオキシメチル、
エトキシカルボニルオキシメチル、ｎ−プロボキシカル
ボニルオキシメチル、インプロポキシカルボニルオキシ
メチル、ｎ−ブチルオキシカルボニルオキシメチル、　
ｔａｒｔ−ブチルオキシカルボニルオキシメチル、１−
メトキシカルボニルオキシメチル、１−エトキシカルボ
ニルオキシ−エチル、１−ｎ−フロポギシカルボニルオ
キシーエチル、１−インプロボキシカルポニルオキシー
エチル、１−ｎ−７’チルオキシカルボニルオキシ−エ
チル基などのアルコキシカルボニルオキシ−アルキル基
ｉメトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチ
ル基などのアルコキシカルボニルメナル基；フタリジル
基；インダニル基；フェニル基；２−（フタリシリテン
）−エチル、２−（ｓ−フルオロフタＩＪ　シＩＪ　ｆ
ン）−エチル、２−（６−クロロフタリシリデン）−エ
チル、２−（６−メドキシフタリジリデン）−エチル基
などの７タリジリデンアルキル基などが挙げられる。

また、Ｒ３は式−Ｎ−ｓｏｔＲ’（式中、Ｒ６は水素Ｒ
６゜ 原子または置換されていてもよいアルキル、アリールも
しくはアルアルキル基を、Ｒ′は置換されていてもよい
アルキル、アリール、アルアルキルまたは複素環式基を
示す。）で表わされるスルホンアミド基、または式 びスルホニル基と一緒になって、ハロゲン原子、ニトロ
、シアノ、アミノ、カルボキシル、カルバモイル、スル
ホまたはスルファモイル基もしくは置換されていてもよ
いアルキル、アルアルキル、アリール、アルケニル、ア
ルコキシ、アルキルチオ、アシル、アシルオキシまたは
アルコキシカルボニル基で置換されていてもよい５員環
または６員環を形成するは、１２６−チアジアジン−１
１−ジオキシノ」 ビー２−イル基、テトラヒドロ−１２−チアジン−１，
１−ジオキシド−２−イル基、インチアゾリジン−１，
１−ジオキシド−２−イル基、１．２．５−チアジアゾ
リン−１，１−ジオキシド−２−イル基などが挙げられ
る。

さらに、上で述べた種々の基の置換基としては、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アルアルキル％、アリール基、ア
ルクニル基、ヒドロキシル基、オキソ基、アルコキシ基
、アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ア
シル基、アシルオキシ基、カルボキシル基、カルバモイ
ル基、スルホ基、スルファモイル基；　−ＮＨ−アルキ
ルで表わされるアルキルアミノ基；　−Ｎ／アＡ／　Ｊ
　ＪＬ／ ＼ア７．ヤ２．で表わされるジアルキ ルアミノ基１−Ｎ−アシルで表わされるアシルアミノ基
；　−Ｃ−Ｏ〜アルキルで表わされるアル１ コキシカルボニル基；アセチルメチル、プロビオニルメ
チルなどのアルアルキル基】アミノメチル、アミノエチ
ルなどのアミノアルキル基；Ｎ−メチルアミノメチル、
Ｎ−メチルアミノエチルなどのＮ−アルキルアミノアル
キル基；Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノメチル、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアミノエチルなどのＮ、Ｎ−ジアルキルアミノアル
キル基３ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチルなどのヒ
ドロキシアルキル基；ヒドロキシイミノメチル、ヒドロ
キシイミノエチルなどのヒドロキシイミノアルキル基ｉ
メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチル、エ
トキシエチルなどのアＪｂコキシアルキル基ｉカルボキ
シメチル、カルボキシエチルなどのカルボキシアルキル
基ｉメトキ７カルボニルメチル、メトキシカルボニルエ
チル、エトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニル
エチルなどのアルコキンカルボニルアルキル基；ベンジ
ルオキシカルボニルメチル、ベンジルオキシカルボニル
エチルなどのアルアルキルオキシカルボニルアルキル基
ｉスルホメチル、スルホニル基よどのスルホアルキル基
；スルファモイルメチル、スルファモイルエチルなどの
スル７アモイルアルキル基ｉカルバモイルメチル、カル
バモイルエチルなどのカルバモイルアルキル基ｔカルバ
モイルアリルなどのカルバモイルアルケニル基；Ｎ−ヒ
ドロキシカルバモイルメチル、麹−ヒドロキシカルバモ
イルエチルなどのへ一ヒドロキシカルバモイルアルキル
基などが挙げられ、種々の基はこれら一種以上の置換基
で置換されていてもよい。また、これらの置換基のうち
、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基などは通
常当該分野で用いられている適当な保護基で保護されて
いてもよい。

ここにおいてヒドロキシル基の保護基としては、通常ヒ
ドロキシル基の保護基として使用できるすべての基を含
み、たとえば、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフ
ラニル、ベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、４−７’ロモベンジルオキシカル
ボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、５，
４−ジメトキシペンジルオキシカルポニ／ｌ／、４−（
フェニルアソ）ベンジルオキシカルボニル、４−（４−
メトキシエチルアソ）ベンジルオキシカルボニル、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニル、１，１−ジメチルプロポキ
シカルボニル、インプロボキシカルボニル、ジフェニル
メトキシカルボニル、２．２，２−　トＩＪクロロエト
キシカルボニル、２．２，２−トリフロモエトキ７ヵル
ポニル、２−フルフリルオキシカルボニル、１−アダマ
ンチルオキシカルボニル、１−シクロプロビルエトキシ
カルボニル、８−キノリルオキシカルボニル、ホルミル
、アセチル、（モノ−、ジー、）！Ｊ−）クロロアセチ
ル、ベンゾイルまたはトリフルオロアセチ／ｌ／　ｆｌ
どの脱離しゃすいアシル基】メタンスルホニル、エタン
スルホニルナトのアルキルスルホニル基ｊフェニルスル
ホニル、トルエンスルホニル基すと１７）アリールスル
ホニル基およびベンジル基、トリチル基、メトキシメチ
ル基、０−ニトロフェニルスルフェニル基、２，４−ジ
ニトロフェニルスルフェニル基なトカ挙ケラレル。

さらに、アミン基の保護基としては、通常アミノ基の保
護基として使用できるすべての基を含み、たとえば、ト
リクロロエトキシヵルホニル、＋１フロモエトキシカル
ボニノペベンジルオキシカルポニル、Ｐ−１ルエンスル
ホニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｏ−ブ
ロモベンジルオキシカルボニル、（モノ−、ジーｚ）リ
−）タロロアセチル、トリフルオロアセチル、ポルミル
、Ｌｅｒｔ　Ｌアミルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ−フ
）　＃　シカ）Ｌ／　；ｆ！　二／ｌ／　、　ｐ−メト
キシベンジルオキシカルボニル、５，４−ジメトキシベ
ンジルオキシカルボニル、４−（フェニルアソ）ベンジ
ルオキシカルボニル、４−（４−メトキシカルニルアソ
）べフリルオキシカルボニル、ピリジン−１−オキシド
−２−イル−メトキシカルボニル、２−フリルオキシカ
ルボニル、シフェニルメトキ７カルボニル、１，１−ジ
メチルプロポキシカルボニル、インプロボキシヵルボニ
ル、１−シクロプロビルエトキシカルボニル、７タロイ
ル、スクシニル、１−７ダマンチルオキシカルボニル、
８−キノリルオキシカルボニルなどの脱離しゃすいアシ
ル基ｉトリチル、０−ニトロフェニルスルフェニ／ｌ／
、２，４−　シ＝　）ロフェニルスルフェニル、２−ヒ
ドロキシベンジリデン、２−ヒドロキシ−５−クロロベ
ンジリデン、２−ヒドロキシ−１−ナフチルメチレン、
６−ヒドロキシ−４−ピリジルメチレン、１−メトキシ
カルボニル−２−プロビリデン、１〜エトキシカルボニ
ル−２−プロビリデン、６−エトキシカルボニルー２−
ブチリデン、１−アセチル−２−プロビリデン、１−ベ
ンゾイル−２−グロビリデン、１−（Ｎ−（２−メ）キ
シフェニル）カルバモイル］　−２−７−ロビリデン、
１’−（Ｎ−（４−メトキシフェニル）カルバモイル］
−２−グロビリデン、２−エトキシカルボニルシクロへ
キシリチン、２−二トキシカルボニルシクロベンチリテ
ン、２−アセチルシクロへキシリデン、６２５−ジメチ
ル−５−オキソンクロヘキシリデンなどの脱離しやすい
基およびジーもしくはトリーアルキルシリル基などのア
ミノ基の保護基が挙げられる。

つぎに、カルボキシル基の保護基としては、通常のカル
ボキシル基の保護基として使用できるすべての基を言み
、たとえば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、インプロ
ビル％ｔａｒｔ−ブチル、ｎ−ブチル、ベンジル、ジフ
ェニルメチル、ト１７チル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−
メトキシベンジル、ベンゾイルメチル、アセチルメチル
、ｐ−ニトロベンゾイルメチル、ｐ−ブロモベンゾイル
メチル、ｐ−メタンスルホニルベンゾイルメチル、７タ
ルイミドメチル、トリクロロエチル、１，１−ジメチＡ
／　７０ビル、アセチルメチル、プロピオニルオキシメ
チル、ヒバロイルオキシメチル、１．１−ジメチル−２
−プロペニル、３−メチル−３−ブテニル、スクシンイ
ミ、トメチル、１−シクロプロピルエチル、メチルチオ
メチル、フェニルチオメチル、ジメチルアミノメチル、
キノリン−１−オキシド−２−イル−メチル、ピリジン
−１−オキシド−２−イル−メチル、ビス（、−メトキ
シフェニル）メチルなどの基が挙げられ、さらに四塩化
チタンの如き非金属化合物でカルボキシル基が保護され
ている場合並びに特開昭４６−７０７５号およびオラン
ダ国公開公報７１０５２５９　号に記載されているよう
にたとえばジメチルクロロシランの如きシリル化合物で
カルボキシル基が保護されている場合などが挙げられる
。

また、Ｒ″は水素原子または保＠されていてもよいアミ
ノ基を意味し、そのようなアミン基の保護基としては、
通常ペニシリン、セファロスポリンの分野で用いられる
多くの基が挙げられ、具体的には、Ｒ“について説明し
たアミノ基のすべての保護基が挙げられる。

また、−人−は式−ＣＨｌ−または式−Ｃ−基） ＯＨ’ 〔式中、Ｒ“は水素原子または置換されていてもよいア
ルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シ
クロアルケニル、アルアおよび１１０は同一または異な
って、ヒドロキシル、アルキル、アルアルキル、アリー
ル、アルコキシ、アルアルキルオキシまたはアリールオ
キシ基を示す。）で表わさする基を示し、−はシンまた
はアンチ異性体またはそれらの混合物でもよいことを示
す。〕を意味する。

ここにおいてヒドロキシル基の保護基としては、Ｗにつ
いて説明したヒドロキシル基の保護基が挙げられる。さ
らに、上で示した種々の基の置換基としては、ハロゲン
原子、オキソ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ
基、複累壊式基筐たは −ＮＨＣＯＢ”もしくは式−シ、ｏ　ｎ　＋４　ビ式中
、Ｂ“は＼ＯＲ＋　１ 前記した意味を有し、Ｒ１４、Ｈｒ＠およびＲｌｏは同
一または異なって、水素原子、アルキル、アルアルキｙ
またはアリール基を示す。）テ表わされる基が挙げられ
、上で示した種々の基は、これら一種以上の置換基で置
換されていてもよい。これらの置換基のうち、ヒドロキ
シル基およびアミン基などはそれぞれＲ１について説明
したヒドロキシル基およびアミノ基の保護基で保護され
ていてもよい。

つぎに、−〇−で表わされるオキシム体には、口 ＡＲ・ シンおよびアンチ異性体並びにそれらの混合物が存在す
るが、それらのいずれも本発明に包含される。

Ｒ１が保護されていてもよいアミノ基の場合は、つぎの
平衡式で示すように互変異性体が存在するが、その互変
異性体も本発明に包含される。

「 そして、上の式におけるＲ６′のイミノ基の保護基とし
ては、通常ペニシリン、セファロスポリンの分野で用い
る基が挙げられ、具体的には、Ｒ１について説明したア
ミン基の保護基のうち１価基と同様の基が挙げられる。

一般式〔１〕の化合物の塩類としては、従来ペニシリン
及びセファロスポリン系化合物の分野で周知の塩基性基
または酸性基における塩を挙げることができる。そのよ
うな塩基性基における塩としては、たとえば、塩酸、硝
酸または硫酸などの鉱酸との塩】シュウ酸、コハク酸、
ギ酸、トリクロロ酢酸またはトリフルオロ酢酸などの有
機カルボン酸との塩ｊメタンスルホン酸、エタンスルホ
ン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエン−２−スルホン酸
、トルエン−４−スルホン酸、メシチレンスルホン酸（
２，４，６−）リメチルベンゼンスルホン酸）、ナフタ
レン−１−スルホン酸、ナフタレン−２−スルホン酸、
フェニルメタンスルホン酸、ベンゼン−１，３−ジスル
ホン酸、トルエン−３，５−ジスルホン酸、ナフタレン
−１，５−ジスルホン酸、ナフタレン−２２６−ジスル
ホン酸、ナフタレン−２，７−ジスルホン酸、ベンゼン
−１，３，５−トリスルホン酸、ベンゼン−１，２，４
−）ジスルホン酸、ナフタレン−１，３，５−トリスル
ホン酸などのスルホン酸との塩を、また酸性基における
塩としては、たとえば、ナトリウムまたはカリウムナト
のアルカリ金属との塩ｉカルシウムまたはマグネシウム
などのアルカリ土類金属との塩】アンモニウム塩ｉプロ
力イン、シベンジＡ／７ミ７、Ｎ−ベンジル−β−７エ
ネチルアミン、１−工７エナミン、Ｎ　Ｎ−ジペンジル
エチレンジアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミ
ン、トリブチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、
Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ジエチ
ルアミン、ジシタロヘキシルアミンなどの含窒素有機塩
基との塩を挙げることができる。

また、本発明は、一般式〔１〕のセファロスポリン、そ
の塩類のすべての光学異性体、およびラセミ体ならびに
すべての結晶形および水和物を包含するものである。

さらに具体的に述べれば、一般式〔１〕の化合物中、好
ましい例としては、−Ａｍが式−〇−で表わされるオキ
シム体が、その中でＩ Δ□・ も、シン異性体が、さらにはＢｌが水素原子またはアル
キル基、特に、メチル基、エチル基もしくはＲ“が置換
されているアルキル基、式−ＣＨ！　ｃｏｏｎ’　（式
中、Ｒ１は前記した意味を有する。）で表わされる各々
の基が挙げられる。

つぎに、Ｒ１の、好ましいもｑの例としては、素原子ま
たは低級アルキル基が、Ｒ′は低級する基の場合、置換
されていてもよい１．２．６−チアジアジン−１，１−
ジオキシド−２−イル基が挙げられる。

一般式〔１〕の化合物の中から、いくつかの代表的化合
物について抗菌作用を示す。

抗菌作用（表−１） 日本化学療法学会標準法［（ＣＨＥＭＯＴＨＥＩＩＡＰ
Ｙ）第２！１巻第１〜２頁（１９７５年）〕に従い、Ｈ
ｅａｒｔ　１ｎｆｕｓｌｏｎ　ｂｒｏｔｈ　（栄研化学
社製）で３７℃、２０時間培養した菌液を薬剤を含むＨ
ｅａｒｔ　Ｉｎｆｕａｌｏｎ　ａｇａｒ培地（栄研化学
社製）に接種し、６７℃、２０時間培養後、菌の発育の
有無を観察し、菌の発育が阻止された最小濃度をもって
ＭＩＣ（μｍ声）とした。ただし、接種酌量は１０４個
／グレー）（１ｏ’個／ｍ）とした。

試験化合物は以下のとおりである。

囚　７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−（シン）−メトキシイミノアセトアミド］−３−（
ｘｒ、５−ジメチル−ち２，６−チアジアジン−１，１
−ジオキシド−２−イ／Ｉ／）メチル−Δ３−セフェム
−４カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩 （Ｂｌ　７−（２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（シン）−メトキシイミノアセトアミド〕−５
−（メタンスルホンアミド）メチル−Δ°−セフェムー
４−カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩 （Ｃ１’７−（２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（シン）−カルボキシメトキシイミノアセトア
ミド］−３−（３，５−ジメチル−１，２，６−チアジ
アジン−１，１−ジオキシド−２−イル）メチル−Δ１
−セフェムー４−カルボン酸のギ酸塩。

つぎに、本発明の化合物の製造法について説明する。

本発明の化合物は、たとえば、下に示す方法によって製
造することができる。

以下、詳細に説明すると、ＨＩＹはアミノ基、れる基も
本発明に包含される。そしてＲ＋６．　ＢＩＤ。

ＢＨ，Ｆおよび１１１における反応に関与しない有機残
基としては、当該分野で知られている有機残基、たとえ
ば、置換基を有するかもしくは有しない脂肪族残基、脂
環式残基、芳香族残基、芳香脂肪族残基、複素環残基、
アシル基などが挙げられ、具体的には次のような基が例
示できる。

＋１１　脂肪族残基：たとえば、メチル、エチル、プロ
ピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ペンチルなどのアルキ
ル基ｉビニル、プロペニル、ブテニルなどのアルケニル
基。

（２）　脂環式残基：たとえば、シクロペンチル、シク
ロヘキシル、シクロヘプチルナトのシフロアノン牟ル基
；シタロベンテニル、シクロヘキセニルなどのシクロア
ルケニル基。

（３）　芳香族残基：たとえば、フェニル、ナフチルな
どのアリール基。

（４）　芳香脂肪族残基：たとえば、ベンジル、７エネ
チルなどのアルアルキル基。

（５）　複素環残基：たとえば、ピロリジニル、ピペラ
ジニル、フリル、チェニル、ヒロリル、ピラゾリル、オ
キサシリル、チアゾリル、ピリジル、イミダゾリル、キ
ノリル、ベンゾチアゾリル、オキサジアゾリル、チアジ
アゾリル、トリアゾリル、テトラゾリルなどの分子中に
ベテロ原子（酸素、窒素または硫黄原子）を任意に含有
する複素環残基。

（６）アシル基：有機カルボン酸から誘導されるアシル
基であり、このような有機カルボン酸としては、たとえ
ば、脂肪族カルボン酸ｉ脂環式カルボン酸】脂環式脂肪
族カルボン酸；脂肪族カルボン酸に酸素または硫黄原子
を介してまたは介さずに芳香族残基もしくは複素環式基
が結合した芳香置換脂肪族カルボン酸、芳香族オキシ脂
肪族カルボン酸、芳香族チオ脂肪族カルボン酸、複素環
置換脂肪族カルボン酸、複素環オキシ脂肪族カルボン酸
、複素環チオ脂肪族カルボン酸ｉカルボニル基に酸素、
窒素または硫黄原子を介して芳香族残基、脂肪族残基も
しくは脂環式残基が結合した有機カルボン酸類ｉ芳香族
カルボン酸ｉ複素壌カルボン酸などの有機カルボン酸が
挙げられる。

ここで脂肪族カルボン酸としては、ギ酸、酢酸、プロピ
オン酸、ブタン酸、イソブタン酸、ペンタン酸、メトキ
シ酢酸、メチルチオ酢酸、アクリル酸、クロトン酸など
が挙げられ、脂環式カルボン酸としては、シクロヘキサ
ン酸などが挙げられ、また脂環式脂肪族カルボン酸とし
ては、シクロペンタン酢酸、シクロヘキサン酢酸、シク
ロヘキサンプロピオン酸、シクロヘキサジエン酢酸など
が挙げられる。

また、上述の有機カルボン酸における芳香族残基として
は、フェニル、ナフチルなどが挙げられ、さらに上述の
複素環式基としては、フラン、チオ７エ／、ビロール、
ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、チアゾール
、インチアゾール、オキサゾール、インオキサゾール、
チアジアゾール、オキサジアゾール、チアトリアゾール
、オキサトリアゾール、テトラゾール、ベンゾオキサゾ
ール、ベンシフラフなどのへテロ原子を環中に１個以上
含む複素環化合物の残基が挙げられる。

そして、これらの有機カルボン酸を構成する各基は、た
とえば、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、保護されたヒ
ドロキシル基、アルキル基、アルコキシ基、アシール基
、ニトロ基、アミノ基、保護されたアミノ基、カルボキ
シル基、保護されたカルボキシル基などの置換基でさら
に置換されていてもよい。

また、Ｒ′“のアシルオキシおよびカルノくモイルオキ
シ基としては、たとえば、アセトキシ、プロビオニルオ
キシまｔこはブチリルオキシなどのアルカノイルオキシ
基；アクリロイルオキシなどのアルケノイルオキシ基；
ヘンジイルオキシまたはナフトイルオキシなどのアロイ
ルオキシ基ｉおよびカルバモイルオキシ基が挙げられ、
これらはハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、アルキル
基、アルコキシ基、アルキルチオ基。

アシルオキシ基、アシルアミノ基、ヒドロイル基、カル
ボアルコキシスルファモイル基、了り−ル基、カルバモ
イルオキシ基などの一種以上の置換基で置換されていて
もよい。

上述したＲ“６の置換−において、ヒドロキシル基、ア
ミン基お−びカルボキシル基などは通常用いられ嘔る保
護基で保護されていてもよく、その保護基としては具体
的にはＲ２について説明したヒドロキシル基、アミン基
およびカルボキシル基の保護基などが挙げられる。

（イ）　三位変換反応 一般式〔１〕の化合物またはその塩類に、酸または酸の
錯化合物の存在下、一般式〔ト〕のスルホンアミド類ま
たは一般式〔■ｂ〕の複素環化合物もしくはそれらの塩
類を反応させ、所望により、ついで保護基の脱離または
カルボキシル基を保護または塩とすることＫより、一般
式ＬＩＶ）の７−置換または非置換アミノ−３−置換メ
チルセフェムカルボｙ酸類またはその塩類を工業的に容
易な操作で、好収率かつ高純度に製造することができる
。

さらに、所望により、７位アミノ基の置換基を常法によ
り除去し、７−非置換アミン体とすることができる′。

この方法によれば、Δ“−セフェム化合物のみならずΔ
′−セフェム化合物も用いることができ、Δ′−セフェ
ム化合物を用いた場合、反応後得られたが−セフエム化
合物をΔ１−セフェム化合物に変換することができる。

また〉ｚが〉Ｓである化合物のみならず、＞２が〉Ｓ→
Ｏである化合物も出発原料として用いることができ、そ
の場合、反応中または後処理の段階で〉→０を＞Ｓとす
ることができる。

また、この反応における反応試薬として用いられる一般
式〔■ａ〕のスルホンアミド類または一般式Ｌｌｂ］の
複素環化合物において、それらの置換基に塩基性基また
は酸性基を有する場合は、必要に応じ、それぞれの塩の
形で反応に供してもよく、その場合の塩基性基における
塩または酸性基におげる塩としては、一般式〔Ｊ〕の化
合物の塩類について説明したと同様の塩基性基または酸
性基における塩が挙げられる。

また、一般式（１１３および［バ〕の化合物の塩類とし
ては、塩基性基または酸性基における塩が挙げられ、そ
れらの塩類は一般式〔１〕の化合物の塩類について説明
したと同様の塩基性基または酸性基における塩が挙げら
れる。なお、一般式ＣＩ］の化合物の塩類は予め単離し
て用いてもよく、あるいは系内で調整してもよい。

この反応において使用される酸または酸の錯化合物とし
ては、たとえば、プロトン酸、ルイス酸またはルイス酸
の錯化合物が挙げられる。プロトン酸としては、たとえ
ば、硫酸類、スルホン酸類または超強酸類（超強酸とは
１００％硫酸より強い酸を意味し、前述の硫酸類および
スルホン酸類の一部も＠止れる）が挙げられ、さらに具
体的には、硫酸、クロロ硫酸、フルオロ硫酸などの硫酸
類；メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸
などのアルキル（モノ−またはジー）スルホン酸、また
はＰ−）ルエンスルホン酸ナトノ了り−ル（モノ−、ジ
ーまたはト！Ｊ　−）スルホン酸などのスルホン酸類ｉ
過塩素酸、マジック酸（ＦＳＯ壽Ｈ−８ｂＦｇ　）、Ｆ
ＳＯｓ　ＨｈｓＦａ　、　ＣＦ島５ｏｎＨ５ｂＦｉ　、
　ＨＦ　ＢＦ島、　Ｈ＠　８０４　Ｓｏ場などの超強酸
が挙げられる。

また、ルイス酸としては、たとえは、三弗化硼素などが
挙げられる。また、ルイス酸の錯化合物としては、たと
えば、三弗化硼素と、ジエチルエーテル、ジ−ｎ−プロ
ビルエーテル、ジーｎ−ステルエーテルナどとのジアル
キルエーテル錯塩ｉエチルアミン、ｎ−７’ロビルアミ
ン、ｐ　−ブチルアミン、トリエタノールアミンなどと
のアミン錯塩ｉギ酸エチル、酢酸エチルなどとのカルボ
ン層エステル錯塩ｉ酢酸、プロピオン酸などとの脂肪酸
錯塩】アセトニトリル、プロピオニトリルなどとのニト
リル錯塩などが挙げられる。

また、この反応においては有機溶媒を用いた場合が好ま
しく、用いられる有機溶媒としては、反応に不活性な全
ての有機溶媒、たとえば、ニトロメタン、ニトロエタン
、ニトロプロパンナトのニトロアルカン類】ギ酸、酢酸
、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、プロピオン酸など
の有機カルボン酸類・アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトンなどのケトン類；ジエチルエー
テル、ジインプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ア
ニソール、ジメチルセルンルブなどのエーテル類；ギ酸
エチノペ炭酸ジエチル、酢酸メチル、酢酸エチル、クロ
ロ酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類】アセトニ
トリル、ブチロニトリルなどのニトリ′ル類ｉ塩化メチ
レン、クロロホルム、１，２−シタロロエタンなどのハ
ロゲン化炭化水素類ヌスルホランなどのスルホラン類な
どが挙げられ、これらの溶媒を二種以上混合して用いて
もよい。

また、これらの有機溶媒とルイス酸とで形成される錯化
合物を溶媒として使用することもできる。

酸または酸の錯化合物の使用量は、一般式［１１〕の化
合物またはその塩類に対し当モル以上であればよく、個
々の場合に応じ適宜増減させることができる。特に、２
〜１０倍モル量の使用が好ましい。酸の錯化合物を用い
る場合には、それ自体を溶媒として用いることができ、
二種以上の錯化合物を混合して用いてもよい。

また、この反応の反応試薬として用いられる一般式〔ト
〕のスルボンアミド類または一般式〔Ｉｂ〕の複素環化
合物もしくはそれらの塩類の使用量は、一般式ＣＩ〕の
化合物またはその塩類に対し、当モル以上であればよい
か、特に１ｏ〜５．０倍モＡ／量の使用が好ましい。

この反応は、通常Ｄ〜８０℃で行われ、数分〜数十時間
で完了する。

この反応の系内に水分があると原料または生成物のラク
トン化およびβ−ラクタム環の開裂など好ましくない副
反応を惹起することがあるので、反応系内を無水の状態
に保つことが望ましい。この条件を満たすために、反応
系内に適当な脱水剤、たとえば、五酸化リン、ポリリン
酸、五塩化リン、三塩化リン、オキシ塩化リンなどのリ
ン化合物；口Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミ
　ド、トリメチルシリルアセトアミド、トリメチルクロ
ロシラン、ジメチルジクロロシランなどの有機シリル化
剤】アセチルクロＩＪド、ｐ−）ルエンスルホニルクロ
リドなどの有機酸クロリドｊ無水酢酸、無水トリフルオ
ロ酢酸などの酸無水物ｊ無水硫酸マグネシウム、無水塩
化カルシウム、モレキュラーシーツ、カルシウムカーバ
イドなどの無機乾燥剤などを添加してもよい。

Ｒ″がカルボキシル保護基を示す一般式〔旧の化合物を
原料として使用した場合、反応後の処理によりＲ１が水
素原子である対応する一般式〔１■〕の化合物が得られ
ることもあるが、所望により保護基を常法で脱離させ、
Ｒ′が水素原子である一般式ＬＩＶ：］の化合物を得る
こともできる。

この反応における反応試薬として用いられる一般式Ｃ１
，］のスルホンアミド類または一般式［１ｂ〕の複環化
合物もしくはそれらの塩類において、それらの置換基が
ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基などで置換
されている場合、この反応を実施するにあたり、これら
の基をＶについて説明したと同様の保護基で保護し、反
応終了後、従来の脱離反応に付すことにより、所望の化
合物を得ることができる。

また、一般式ＬＩＶ〕の化合物は、所望により、常法に
従ってカルボキシル基を保設または塩とすることができ
、目的の化合物を得ることもできる。また、Ｂｌ？がア
ミノ基である一般式〔１ｖ〕の化合物は、常法により、
後述のようなアミノ基における反応性誘導体とすること
ができる。

←）　アシル化反応 斜上の方法で得られた一般式［１’Ｖ］の化合物または
そのアミノ基における反応性誘導体もしくはそれらの塩
類に、一般式〔Ｖ〕、〔■〕、〔■〕、〔１〕または（
ＸＩ）の化合物またたけそのカルボキシル基における反
応性誘導体もしくはそれらの塩類を反応させれば、一般
式Ｌｌ）、（ＸＩ、［）Ｄ、〔須〕または〔柑〕の化合
物またはその塩類が得られる。

また、一般式〔ｖ〕、〔■〕、［、Ｖｊ〕、〔■〕、（
ＩＸＩ、〔Ｘ〕、［Ｘｌ）、（ＸＩ）、１マタハ〔Ｘ１
ｖ〕ノ化合物ノ塩類としては、塩基性基または酸性基に
おける塩が挙げられ、それらの塩類は一般式〔１〕の化
合物の塩類について説明したと同様の塩基性基または酸
性基における塩が挙げられる。

一般式（ＩＶＩの化合物のアミノ基における反応性誘導
体としては、たとえば、インシアネート、一般式〔■〕
の化合物またはその塩類とビス（トリメチルシリル）ア
セトアミド、トリメチルシリルアセトアミド、トリメチ
ルシリルクロライドなどのシリル化ＰＣＩなどのリン化
合物または（Ｃ４Ｈｅ　）、ｌ５ｎＣｆｆｒどのスズ化
合物との反応により生成するシリル誘導体、リン綺尋俸
またはスズ誘導体など、アシル化反応において繁用され
るものはすべて包＠サレる。

一般式ＥＶ）、〔■〕、〔ｔ１〕、Ｃｖ讐：］　荀り＆
ｉ　（Ｘｌ〕の化合物のカルボキシル基における反応性
誘導体としては、具体的には、酸ハロゲン化物、酸無水
物、混合酸無水物、活性酸アミド、活性エステルならび
に一般式ＬＶＩ、（Ｖｌ）、〔ｉ〕、〔糧〕またはしＸ
Ｉ）の化合物とビルスマイヤー試薬との反応性誘導体な
どが挙げられる。混合酸無水物としては、たとえば、炭
酸モノエチルエステル、炭酸モノインブチルエステルな
どの炭酸モノアルキルエステルとの混合酸無水物、ピバ
リン酸やトリクロロ酢酸などのハロゲンで置換されてい
てもよい低級アルカン酸との混合酸無水物などが用いら
れる。活性酸アミドとしては、たとえば、Ｎ−アシルサ
ッカリン、Ｎ−アシルイミダゾール、Ｎ−アシルベンゾ
イルアミド、Ｎ　Ｎ’−ジシクロへキシル−Ｎ−アシル
尿素、Ｎ−アシルスルホンアミドなどが用いられる。つ
ぎに、活性エステルとしては、たとえば、シアノメチル
エステル、置換フェニルエステル、置換ベンジルエステ
ル、置換チェニルエステルナトが用いられる。

また、ビルスマイヤー試薬との反応性誘導体とし℃は、
Ｎ、　Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、　Ｎ−ジメチル
アセトアミドなどの酸アミドに、ホスゲン、塩化チオニ
ル、三［化リン、三臭化リン、オキシ塩化リン、五塩化
リン、トリクσロメチル＝クロロホルメート、塩化オキ
ザリルなどのハロゲン化剤を作用させて得らｎるビルス
マイヤー試薬との反応性誘導体などが挙げられる。

一般式〔ｖ〕、（ＶＩＡ、（■〕、〔■〕またはｃｘｉ
〕の各々の化合物を遊離酸または塩の状態で使用する場
合は、適当な縮合剤を用いる。

このような縮合剤としては、たとえば、）Ｎ−ジシクロ
へキシルカルボジイミドのようなＮ、Ｎ／−ジ置換カル
ボジイミド；）Ｎ′−チオニルジイミダゾールのような
アゾライド化合物ｉＮ−エトキシカルボニル−２−エト
キシ−１２２−ヒドロキシキノリン、オキシ塩化燐、ア
ルコキシアセチレンナトの脱水剤；２−タロロビリジニ
クムメチルヨージド、２−フルオロピリジニウムメチル
ヨーシトなどの２−ハロゲンピリジニウム塩などが用い
られる。

このアシル化反応は、一般に適当な溶媒中−塩基の存在
または不存在下で実施される。溶媒として、たとえば、
クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素
類；テトラヒドロ７ラン、ジオキサンなどのｘ　−チル
類５Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、　Ｎ　−ジメ
チルアセトアミド、アセトン、水またはこれらの混合物
などが使用できる。また、塩基としては、水酸化アルカ
リ、炭酸水素アルカリ、炭酸アルカリまたは酢酸アルカ
リなどの無機塩基ニトリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルピペリジ
ン１、Ｎ−１チルモルホリン、ルチジン、コリジンなど
の第３級アミンあるいはジシクロヘキシルアミン、ジエ
チルアミンなどの第２級アミンなどの有機塩基が挙げら
れる。

なお、本発明の一般式〔１ｍ〕または〔１ｂ〕の化合物
もしくはそれらの塩類に誘導する−ことができる一般式
（ＩＸ）の化合物またはその塩類は、次のｊ５にして創
造することもできる。

一般式（Ｉｎの化合物またはその塩類を使って一般式〔
■〕の化合物またはその塩類を得るには、ジケテンと塩
素、もしくは臭素などのハロゲンとの反応〔ジャーナル
・オプ・ザ・ケミカル・ソサイエティ　９７゜） １９８７（１９１０）］により得られる４−ハロゲノ−
３−オキシープチリルハライドと、一般式（ｒＶ］の化
合物またはその塩類とを常法に従って反応させればよい
。この反応条件及び操作は、当該分野で知られた条件お
よび操作が適用できる。また、一般式［３の化合物の塩
類は、常法に従って容易忙得ることができ、その塩類と
しては、前述の一般式〔夏〕の化合物の塩のところで説
明したと同様の塩基性基または酸性基における塩が挙げ
られる。得られる一般式■〕の化合物または鷺の塩類は
、常法によって単離精製してもよいが、単離することな
く、次の反応に用いることもできる。

なお、一般式ＥＶ）、［Ｖ］’）、〔■〕、〔■〕また
ハ園の化合物またはそのカルボキシル基における反応性
誘導体もしくはそれらの塩類の使用量は一般式（ＩＶ）
の化合物またはそのアミノ基における反応性誘導体もし
くはそれらの塩類１モルに対し、それぞれ通常約１〜数
モル程度が好ましい。

これらの反応は、通常−５０〜４０℃で行われ、１０分
〜４８時間で完了する。

また、このアシル化反応において、保護基の導入および
脱離ならびに塩類への変換は常法に従って行い、対応す
る目的化合物に変換することができる。

以上のようにして得られた一般式〔１〕、（ＤＤ、ＥＸ
）、（Ｘｌ〕または（ＸＪＶ）の化合物もしくはそれら
の塩類は、公知の手段により単離精製できるが、さらに
一般式ＣＩＸＩ、〔Ｘ〕、［Ｘｌ］または［ＸＩＤの化
合物もしくはそれらの塩類は単離することなく次の反応
の原料とじて用いることもできる。

（ハ）ニトロン化反応 つぎに一般式（ＩＸ）の化合物またはその塩類から一般
式（Ｘ）の化合物またはその塩類を得るには、一般式（
ＩＸ）の化合物またはその塩類に、ニトロフ化剤を反応
させる。

この反応は、通常溶媒中で行われ、溶媒としては、水、
酢酸、ベンゼン、メタノール、エタノール、テトラヒド
ロフラン、その他の反応に不活性な溶媒が使用できる。

ニトロフ化剤の好ましい例としては、硝酸およびその誘
導体、たとえば、塩化ニトロシル、臭化ニトロシルナト
のハロゲン化ニトロシル；亜硝酸ナトリ２ム、亜硝酸カ
リウムなどの亜硝酸アルカリ金属塩ｉ亜硝酸ブチルエス
テル、亜硝酸ヘンチルエステルｔｘ　と（Ｄ亜硝酸アル
キルエステルなどが挙げられる。

ニトロフ化剤として亜硝酸の塩を使用するときＫは、塩
酸、硫酸、ギ酸、酢酸などの無機もしくは有機の酸の存
在下に反応な行うのが好ｔＬい。亜硝酸アルキルエステ
ルをニトロフ化剤として使用する場合には、アルカリ金
属アルコキシドのような強塩基の存在下に行うのが好ま
しい。

反応は一般に一１５〜３０℃で行われ、１０分から１０
時間で完了する。また、一般式〔Ｘ〕の化合物の塩類は
常′法に従って容易に得ることができ、その塩類として
は、一般式〔１〕の化合物の塩のところで説明したと同
様の塩基性基または酸性基における塩が挙げられる。さ
らに、保護基の導入および脱離は常法に従って行い、対
応する目的化合物に変換することができる。

このようにして得られる一般式〔ｘ〕の化合物またはそ
の塩類は、常法によって単離精製してもよいが、単離す
ることなく次の反応に用いることもできる。

に）　エーテル化反応およびボスボリル化反応つぎに、
一般式〔Ｘ〕の化合物またはその塩類ρ・ら一般式［Ｘ
Ｉ］の化合物またはその塩類を得るには、一般式（Ｘｌ
の化合物またはその塩類をエーテル化反応またはホスボ
リル化反応に付す。

このエーテル化反応およびボスボリル化反応は特開昭５
３−１３７９８８号、特開昭５５−１０５６８９号、特
開昭５５− １４９２９５号などに記載しであるエーテル化反応およ
びホスボリル化反応などの通常の方法で行うことができ
る。

たとえば、アルキル化反応は常法に従って行うことがで
きる。反応は一般に一２０〜６０℃で行われ、５分から
１０時間で完了する。

溶媒としては本反応を阻害しない限りいかなるものでも
よく、たとえば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メ
タノール、エタノール、クロロボルム、［化メチレン、
酢酸エチル、酢酸ブチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ＮＮ−ジメチルアセトアノ ミド、水など、またはこわらの混合物などが用いられる
。

アルキル化剤としては、たとえば、ヨウ化メチル、臭化
メチル、ヨウ化エチル、臭化エチルなどのノ・ロゲン化
低級アルキル、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、ジアゾメ
タン、ジアゾエタンまたはｐ−）ルエンスルホン酸メチ
ルなどが用いられる。ジアゾメタン、ジアゾエタン以外
のアルキル化剤を用いるときは、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウムなどのアルカリ金属の炭酸塩、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物、ト
リエチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリンなどの塩
基の存在下に一般に行う。

また、一般式〔須〕の化合物の塩類は常法に従って容易
に得ることができ、その塩類としては、一般式〔ｌ〕の
化合物の塩のところで説明したと同様の塩基性基または
酸性基における塩が挙げられる。

さらに保護基の導入および脱離は常法に従つて行い、対
応する目的化合物に変換することができる。

このようＫして得られる一般式ＣＭ〕の化合物またはそ
の塩類は、常法によって単離精製してもよいが、単離す
ることなく次の反応に用いることもできる。

（本　閉環反応 つぎに一般式〔ＩＸ〕、ＣＸ）または〔■〕の各化合物
もしくはそれらの塩類に、一般式〔■〕のチオボルムア
ミドまたはチオ尿素類を反応させれば５本発明の一般式
（Ｉａ　：ｌ　または（ｘｂ’：ｌ　の化合物もしくは
それらの塩類が得られる。

この反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、本
反応を阻害しない限りいかなるものでもよいが、たとえ
ば、水、メタノール、エタノール、アセトン、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルビリド
ンなど、またはこれら二種以上の混合溶媒が用いられる
。

脱酸剤の添加は、特に必要としないが、セファロスポリ
ン骨格に変化を与えない範囲の量の脱酸剤を添加すると
円滑に反応が進行することもある。この反応に用いられ
る脱酸剤としては、水酸化アルカリ金属塩、炭酸水素ア
ルカリ金属塩、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−
ジメチルアニリンなどの無機または有機塩基が挙げられ
る。

反応は一般に０〜１００℃の範囲で行われる。通常、一
般式（ＩＸＩ、〔Ｘ〕または（Ｘｌ〕の化合物もしくは
それらの塩類１当量に対し、そ２ｔぞれ１〜数当量のチ
オホルムアミドまたはチオ尿素類が用いられる。反応時
間は、通常１〜４８時間、好ましくは１〜１０時間であ
る。

また、この閉環反応において、保護基の導入および脱離
ならびに塩類への変換は常法に従って行い、対応する目
的化合物に変換することができる。

以上のようにして得られた本発明の一般式［Ｉａ］また
は［：ｘｂ：］の目的化合物もしくはそれらの塩類は、
常法によって単離することができる。

（へ）オキシム化反応 一般式（ＸＩＶ：の化合物またはその塩類に、一般式［
ＸＶＩの化合物またはその塩類を反応させることによっ
て、一般式〔より〕の化合物またはその塩類が得られる
。

一般式（ＸＶＩの化合物の塩類としては、たとえば、塩
酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩などが挙げられる。そして
、この反応は、通常、水、アルコールなどの溶媒のほか
に、反応に不活性な溶媒、またはこれらの混合溶媒中で
行われ、反応は通常、０〜１００℃、好ましくは１０〜
５０℃の範囲で行われ、１０分〜４８時間で完了する。

一般式〔庸〕の化合物またはその塩類１当量に対して、
１〜数当量の一般式［ＸＶＩの化合物またはその塩類が
用いられる。

尚一般式〔Ｘｖ〕の化合物の塩類はそのまま未反応に用
いることができるが、たとえば、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属】水酸化マグネ
シウム、水酸化カルシウムなどの水酸化アルカリ土類金
属ｉ炭酸ナトリウム、炭酸カリウム１よとの炭酸アルカ
リ金属テ炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなどの炭酸
アルカリ土類金属】炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウムなどの炭酸水素アルカリ金属ミリン酸マグネシウム
、リン酸カルシウムなどのリン酸アルカリ土類金属】リ
ン酸水素２ナトリウム、リン酸水素２カリウムなどのリ
ン酸水素アルカリ金属などの無機塩基、または酢酸ナト
リウム、酢酸カリウムなどの酢酸アルカリ金属メトリメ
チルアミン、トリエチルアミンなどのトリアルキルアミ
ン５ピコリン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモル
ホリン、１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］　−］
５−ノネン１，４−ジアザビシクロＣ２，２，２〕オク
タン、１，５−ジアザビシクロ［５，４，Ｏ〕−７−ウ
ンデセンなどの有機塩基などの塙基の存在下に反応させ
ることもできる。

マタ、コのオキシム化反応において、保護基の導入およ
び脱離ならびに塩類への変換は常法に従って行い、対応
する目的化合物に変換することができる。以上のように
して得られた本発明の一般式〔１〕の化合物またはその
塩類は常法によって単離することができる。

つぎに、Ｂゝがアルコキシである一般式〔１ｖ〕の化合
物またはその塩は、自体公知の方法、たとえば、有機合
成協会誌５５巻７号、５６３〜５７４頁（１９７７年）
の記載の方法に基づいてＲ“が水素原子である一般式Ｃ
ＩＶ：］の化合物またはその塩を使って合成すすること
ができる。

サラにＲ１がアルコキシである一般式 ％式％ 〔ｘＩｖ〕の化合物もしくはそれらの塩は、自体公知の
方法、たとえば、特開昭５４−２４８８８号および特開
昭５４−１０３８８９号に記載の方法に基づいて、Ｗが
水素原子である一般式〔］〕、口、〕、（Ｉｂ］、（Ｘ
Ｉ）、〔ｘ〕、０ｆｆｌ　−１：　ｆ、：　ハ〔ＸＪＶ
：１の化合物もしくはそれらの塩を使用して合成するこ
とができる。

以上のようにして得られた一般式〔１〕の化合物または
その塩類は、遊離酸の形、非毒性塩または生理的に許容
されるエステルの形で細菌感染症の治療および予防のた
めに人および動物に投与することができ、遊離酸の形も
しくは非毒性塩の形で非経口的投与方法、または生理的
に許容されるエステルの形で経口的投与方法を適用する
ことが好ましい。その場合、通常セファロスボリン系薬
剤に適用されている剤形、たとえば、錠剤、カプセル剤
、散剤、顆粒剤、細粒剤、シロップ剤、注射剤（点滴剤
も含む）、座剤なとの形に調整すればよい。上の薬剤な
調製する際、必要に応じ、たとえば、デンプン、乳糖、
砂糖、リン酸カルシウム、炭酸カルシウムなどの賦形剤
；アラビアゴム、デンプン、結晶セルロース、カルボキ
シメチルセルロース、ヒドロキシプロビルセルロースな
どの結合剤；タルク、ステアリン酸マグネシウムなどの
滑沢剤５およびカルボキシメチルカルシウム、タルクな
どの崩壊剤などの希釈剤および／または添加剤を用いて
もよい。

また、一般式〔１〕の化合物またはその塩類を投与する
場合、症状忙よって投与量、投与回数および投与方法は
適宜選択できるが、一般に成人１人当り、１同量約５０
〜５０００■を１日１〜４回程度経口まγこは非経口投
与すればよい。

つぎに、本発明を参考例および実施例を挙げて説明する
が、本発明はこＩＬらに限定されるものではない。

参考例１ 三弗化硼素１３．６９を含むスルホラン溶液５０ｍに７
−アミツセフアロスボラン酸（ＤＬ下、７’−ＡＣＡと
略記する。）１５．６９およびメタンスルホンアミド４
．７５　ｇを加えて溶解させた後、室温で４時間反応さ
せる。反応終了後、反応液を水冷下メタノール２５ＯＪ
Ｉｔ中へ導入し、ついでピリジン１５８グを滴下する。

析出具をＰ取し、メタノールで十分洗浄した後乾燥すれ
ば、融点１８８〜１９１℃（分解）を示す７−アミノ−
６−（メタンスルホンアミド）メチル−Δ８−セフェム
ー４−カルボン酸７．　ａ　ｓ　ｙ　（収率５１１％）
を得る。

Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　）　♂’　ｔ　ｌ″Ｃ＝＝０１７９
０ｐ　１６１　ＤｈＭＲ（ｃｐｓ　ｃｏｏＤ）δ値ｉ ｓ、２６（３Ｈ，ｓ、−ｃａｎル ５．９０　（２Ｈ，ｂｌ、　Ｃｍ　−Ｈ）。

４．５５（２馬ｂ　％　ｓ；Ｌ□−）ノ５．４９（２Ｈ
，すＣ・−Ｈ，Ｃｌ　−Ｈ）同様にして、次の化合物を
得た。

ｏ７−アミノ−３−〔（ｐ−クロロベンゼンスルホンア
ミド）メチル〕−Δ１−セフェムー４−カルボン酸 融点；１９７〜１９９℃（分解） −１ν ＩＢ（ＫＢｒ）傷　；Ｃ−０１７９０，１６１ＯＮＭＭ
ＣＦ舅Ｃ００Ｄ）δ値； ３．８０（２Ｈ，＠、　ＣＩ−Ｉｆ）。

５．３５（２Ｈ，８，Ｃｌ−Ｈ，Ｃ７−Ｈ）。

参考例２ （１）　三弗化硼素２Ｚ１２を含むスルホラン溶液１０
０ｄに７−ＡＣＡ２７．２Ｓｌおよび５，５−ジメチル
−１，２，＜ｉ−チアジアジン−１，１−ジオキシド１
６．０ｇを　加えて溶解させた後、室温で４時間反応さ
せる。反し終了後、反ＷｒＷを水冷下メタノール５００
ｄ中へ導入し、ついでピリジン３１．６　ｇを滴下する
。析出具をｒ取し、メタノールで十分洗浄した後乾燥す
れば、７−アミノ−３−（３，５−ジメチル−１゜２．
６−チアジアジン−１，１−ジオキシド−２−イル）メ
チル−が−セフェム−４−カルボン酸の粗結晶３０．　
ｓ　ｇ（収率８２，０％）を得る。

同様にして、次の化合物の粗結晶を得た。

ｏ７−アミノ−３−（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド
）メチル−Δ８−セフェムー４−カルボン酸 ０７−アミノ−３−（１，２，（Ｓ−チアジアジン−１
１−ジオキシド−２−イル）メチル−が−セフエムー４
−カルボン酸 ０７−アミノ−６−（テトラヒドロ−１，２−チアジン
−１，１−ジオキシド−２−イル）メチル−Δ３−セフ
ェムー４−カルボン酸０７−アミノ−３−（５−メチル
−インチアゾリジン−１，１−ジオキシド−２−イル）
メチル−Δ３−セフェムー４−カルホン酸＋２１　ｆｌ
＋で得られた７−アミノ−３−（３，５−ジメタツール
３００ｄＫ懸濁させ、これにｐ−トルエンスルホン酸・
１水和物１２．３ｇヲ７１［＋える。ついでジフェニル
ジアゾメタン４６．９７を徐々に加え、室温で１５分間
反応させる。

反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に
酢酸エチル６００ｄおよび水３００Ｖを加え、炭酸水素
ナトリウムを加えてｐＨ７、ＯＫ調整する。ついで不溶
物をＰ別した後、有機層を分取し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去する。残留物をカ
ラムクロマトグラフィー（和光シリカゲルｃ＝２００．
溶離液；ベンゼン：酢酸エチル＝３：１）で精製すｎば
、融点９７〜９９℃（分解）を示すジフェニルメチル−
７−アミノ−５−（５，−５−ジメチｐｖ−１，２，６
−チアジアジン−１，１−ジオキシド−２−イル）メチ
ル−が−セフェム−４−カルボキシレート２０、　ｓ　
ｙ　（収率４７．２％）を得る。

Ｉ　１１　（ＫＢ　ｒ　）　国ｐ　Ｃ−０１７８０ｐ　
１７２　ＤＮＭＲ（ＣＤＣｉｍ）δ値； １、９０　（３Ｈ，＠、　−Ｃ＆　）。

２．２２　（３Ｈ，１１，−〇Ｈｉ　）。

！１．４４　（２Ｈ，ｂｓ、　ｃ、　＝）ｉ）。

４−７　ｓ　（Ｉ　Ｈ７ａｔ　Ｊ　＝ｓ　Ｈｚ、　ｃ　
＠−ｕ　）ｙ４．９２（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝５Ｈ１，ＣＷ
　−Ｈ）。

７．０３（ＩＨ，ｉ、−ＣＨ／　’）。

＼ ７．２３−１７０（１０Ｉ（＋ｍ＋　−＠Ｘ２）同様に
して、表−２の化合物を得た。

（３１＋２１で得られたジフェニルメチル−７−アミノ
−３−（５，５−ジメチル−１，２，６−チアジアジン
−１，１−ジオキシド−２−イル）メチル−Δ１−セフ
ェムー４−カルボキシレート１ノをトリフルオロ酢酸５
Ｍおよびアニソール２　ｍｌの混合ｍ媒に溶解させ、室
温で２時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留
去し、残留物にジエチルエーテルを°加え結晶を戸数す
る。ジエチルエーテルで十分洗浄し乾燥すれば、融点１
８５〜１８６℃（分解）を示す７−アミノ−ｓ　−（５
，５−ジメチル＝１、２．６−チアジアジン−１，１−
ジオキシド−２−イ）ｌ／）メチル−Δ１−セフェムー
４−カルボン酸のトリフルオロム′「酸塩０．７９　ｙ
　（収率８７８％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）　ＣＩ＋　’　；　’Ｃ＝０　１７８０
．１７１　ＯＮＭＲ（ＣＦｍ　ＧＯＯＤ）δ値】 ２．４４（（ＳＨ，ｌ、　−ＣＨ鳳×２）。

１６４（２Ｈ，ｂｓ、　Ｃｍ　−ｎ）。

５、．５４（２Ｈ，ｂｌ、　Ｓ；Ｌ、、、　）。

５．６５　（２）Ｉ７　ｂ　ａ、Ｃａ−Ｉ（、Ｃｔ　Ｈ
）７６２５　（１％　Ｂ７　＞　Ｈ） 同様にして、表−６の化合物を得た。

実施例１ ＋１＋　２　（２−ｔｅｒｔ−アミルオキシカルボキサ
ミトチアゾール−４−イル）−２−（シン）−メトキシ
イミノ酢酸３．１５９をＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド
５１．５１１１Ｚに溶解させ、−１０℃でオキシ塩化燐
ｔ６２５’を滴下し、−５〜Ｄ℃で１時間反応させる。

ついでこの溶液にジフェニルメチル＝７−アミノ〜３−
　（３，５−ジメチル−１，２，６−チアジアジン−１
，１−ジオキシド−２−イ／Ｌ／）メチル−Δ５−セフ
ェムー４−カルボキシレート５３８ｇを加え、−５〜０
℃で１時間反応させる。反応終了後、反応液を酢酸エチ
ル１００ｄおよび水１００ｇの混合溶媒中へ導入し、炭
酸水素ナトリウムを９口えてｐＨ６，５に調整する。つ
いで有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、減圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチルエーテル
を加えて結晶を１取すれば、融点１４５〜１４６℃（分
解）を示すジフェニルメチル＝　７−（２（２−ｔａｒ
ｔ−アミルオキシカルボキサミトチアゾール−４−イル
）−２−（シン）−メトキシイミノアセトアミド〕−５
−（３，５−ジメチル−１，２，Ｓ−チアジアジン−１
１−ジオキシド−２−イル）メチル−Δ１−セフェムー
４−カルボキシレート６、８５　ｙ　（収率８２．０％
）を得る。

ＩＢ（ＫＢｒ）　ｃｒ＋　’　７　ｖＣ＝０　１７９０
　１７５０６８５ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ、ｌ　）δ値ｉ ０．８５　（３Ｈ，Ｊ　＝７　ＨＺＪ　ＣＣＨｅ　’　
Ｍｌ　）７夏 １７９（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ、　−ｒ−ＣＨ，、ＣＨ
ＨＩ３８７（５Ｈ，ａ、−Ｃｌ　）。

２．２６（５Ｈ１ｓ、−ｃＨ，ル ３．４８　（２Ｈ，ｂｅ、　ｃｍ　−Ｈ）。

４．０５（３Ｈ，Ｂ、−０ＣＨＲ）。

５−０８　（２１（、ｂ　ｍ、Ｓｙ曇）７５．１６（１
Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚｚ　０ｓ−Ｈ：）ｐａｙｓ（１Ｈ，
ｓ、＞ｎ）。

６．１９（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ、　Ｊ＝８Ｈｚ、
　Ｃｔ　Ｈ）。

７．０１（１）いべ入）。

１１４　’（１Ｆ４　ａ、ＣＨぐ　）。

１３１〜７．６２（１０）Ｉ、　ｍ、　−＠Ｘ２）。

８．１４（１１％　ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ、　−ＣＯＮＨ−
）。

９！　４５　（１％　ｓｐ　ＣＯＮ　Ｈ）同様にして、
表−４の化合物を得た。

［２１＋１１で得られたジフェニルメチル＝７−（２（
２ｔｅｒｔ−アミルオキシカルボキサミトチアゾール−
４−イル）−２−（シン）−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−５−（ｓ、５−一ジメチル−１，２，６−チアジ
アジン−１，１−ジオキシド−２−イル）メチルーム１
−セフェム−４−カルボキシレート５．０９　Ｆ）　Ｉ
Ｊフルオロ酢酸２５ａｊおよびアニソール１０１１１ｔ
の混合溶媒に溶解させ、室温で２時間反応させる。

反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチル
エーテルを加えて結晶をＰ取する。

ジエチルエーテルで十分洗浄し乾燥すれば、融点１４８
〜１５０℃（分解）を示す７−［２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル−２−（シン）−メトキシイミノアセ
トアミド〕−ｓ　−（！１，５−ジメチルー１．２．６
−チアジアジン−１１−ジオキシド−２−イル）メチル
−Δ８−セフェムー４−カルボン酸のトリフルオロ酢酸
塩！１．６０　＄１　（収＄９０．０％）を得る。

Ｉｎ（ＫＢｒ）　ｘ’；　’Ｃ＝０１７８０．１７１０
〜１６３ＯＮＭｉａ−ｎＭｓｏ）δ値】 ２．２１　（３Ｈ，ｉ、　−ＣＨＩ　）。

２−２９　（５％　８７　ＣＨ畠　）。

３．４５（２馬ｂ　ｓｐ　Ｃ＊　Ｈ）ｐ！１．９４　（
３Ｈ，ａ、　−０ＣＲ＋＋　）。

５．０５　（２Ｈｐ　ｂ　ｌ、８；Ｌ４．り７戻施例２ 笑施例１−（２＋で得られた７−（２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−（シン）−メトキシイミノ
アセトアミド］−３−（３，５−ジメチル−１，２，６
−チアジアジン−１１−ジオキシド−２−イル）メチル
−Δ１−セフェムー４−カルボン酸のトリフルオロ酢酸
塩２ｇをＮ、Ｎ　−ジメチルアセトアミド１０ｄに溶解
させ、−１０℃で１，８−ジアザビジタロ（５，４，０
）　−７−ウンデセン０８６ノおよびビバロイルオキシ
メチルヨージド１０９ｇを加えて、−１０〜０℃で５０
分間反応させる。反応終了後、反応液を酢酸エチル３Ｑ
ｉｕおよび水６Ｑ　ｍｌの混合浴媒中へ導入する。つい
で有機層を分取し、水３Ｑｍで洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、残留物
にジエチルエーテルを加えて結晶なＰ取すｎば、融点１
１６〜１１８℃（分解）を示すピバロイルオキシメチル
＝７−（２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（シン）−メトキシイミノアセドアミド）−３−（３
，５−ジメチル−１，２，６−チアジアジン−１，１−
ジオキシド−２−イル）メチル−Δ１−セフェムー４−
カルボキシンート１．４２ノ（収率７ｔＯ％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）　０１１７　Ｃ＝０　１７８０．１７４
５．１６７ＯＮＭＲ（ＣＤＣＩＭ　）δ値】 １．２４（９馬８７　−Ｃ（ＣＨｌ　）畠）。

２．２　ｓ　（６Ｈ，１１，−ＣＨＩ　ｘ　２　）。

５．４７（２Ｈ，ｂａ、　ｃ、−Ｈ）。

３９７（ろＨ，ｍ、ＯＣＨ譚）。

５．１６（３Ｈ，ｂｅ、　ｓ≧、　、　Ｃｇ　Ｈ）Ｊ５
．８５（１４８，＞−Ｈ）。

５．９６（５Ｈ，ｂａ、　−ＯＣＨ雪０−７．　ｃｙ−
Ｈ，−ＮＨ怠）。

６−７５　（Ｉ　Ｈ，ｍぺ鳥）。

８．４１（ＩＪちａ、　Ｊ＝８Ｈｚ、−ＣｏＮＨ−）同
様にし壬、次の化合物を得た。

０ピバロイルオキシメチル＝７−、Ｌ２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−２−（シン）−メトキシイミ
ノアセトアミド）−３−（５−メチル−イソチアゾリジ
ン−１，１−ジオキーカルボキシレート 融点；１１２〜１１６℃（分解） Ｉｎ（ＫＢｒ）　ａｍ’　；　’Ｃ＝０１７８０．１７
５０．１６７５ｔｕＨ（ｃＤｃｔｘ）δ値】 １．２３（９Ｈ，ｓ、−ｃ（ｃＨｓ）ｓ）；１ｉ９（３
Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ、〉ＣＭ−Ｃ３，）。

３．６５（２Ｈ，ｂＢ、　Ｃ１−Ｈ）。

４、ｏ５（ｓ■ｘ、　８．−０ＣＨＪ、　”：）　ｃＩ
ｉ、　）。

５．１８（ＩＩｉ、　ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ、　ｔ、−Ｈ）
。

ｓ、ｓｏ〜６．３ｑ（ｓｒｒ、　ｍ、−０ＣＨｔ０７　
Ｃ，−Ｈ，−ＮＨＪ）。

６．７３（ＩＨ，与ゴＨ）。

８．２９（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚｚ　−ＣＯＮＨ−）
実施例３ （１１ジケテン０．９５５’を無水塩化メチレン１０ｄ
に溶解させ、臭素１．８１９を一６０℃で滴下し、−３
０〜−２０’Ｃで３０分間反応させる。ついでこの反Ｆ
［をジフェニルメチル＝７−アミノ−３−（３，５−ジ
メチル−１，２，６−チアジアジン−１−１−ジオキシ
ド−２−イル）メチル−Δ１−セフェムー４−カルボキ
シレート５０ノおよびＮ、Ｎ−ジメチルアニリン３３８
２を含む無水塩化メチレン５ｏｍ溶ｇ中へ−３０〜−２
０℃で滴下する。滴下した後−２０〜−１０℃で１時間
反応すせる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留
物に酢酸エチル８０ｍおよび水８０ｍを加え、有機層を
分取する。ついで水３Ｑｄで洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。得らｎた
残留物をカラムタロマドグラフィー（和光シリカゲルＣ
−２００．溶離液］クロロホルム）で精製すれば、融点
１２４〜１２６℃（分解）を示すジフェニルメチ／Ｉ／
＝７−（４−プロモー３−オキシブチルアミド）−５−
＜５，５−ジメチル−１，２，６−チアジアジン−１，
１−ジオキシド−２−イル）メチル−が−セフェム−４
−カルボキシレートｓ、ｓｏｙ’（収率８４．５％）を
得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）　ａ＋＋’；　Ｉ′Ｃ＝０１７７５．１
７２０．１６８０゜６４Ｏ ＮＭＲ（ｄｇ　−ＤＭＳＯ）δ値１ ２Ａ４（３１１，ａ、−ＣＨｘ　）。

２．２１（３Ｈ，ｌ、−ＣＨｌ　）。

３．５５（４Ｈ，ｂＢ、　ｃ、　−Ｈ，−ＣＯＣＨＩＣ
Ｏ−）。

４５１　（２Ｈｌ　ｔｉｔ　Ｂ　ｒ　ｃＨ，ＣＯ）１５
０８　（２％　ｂ　ｓｐ　ＳＱｎ、　）／ｓ、６ｏ（ｕ
＋、　ａ、　Ｊ＝５Ｈ１，ＣＭ−Ｈ）。

５、？４（Ｈ（、ｄｄ、　Ｊ＝５ＨＥ、　Ｊ＝８Ｈｚパ
ｙ　Ｈ）／６Ａ５（１■（凸　）−Ｈ）。

７．０９（ＩＨ，ａ、−ＣＨ＼ル ア、１　ｓ　〜７．８７（１０’Ｈ，ｍ、−＠　Ｘ２）
。

−９，３２（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚｚ　−ｅＯＮＨ−
）＋２１　ｆｌ＋で得られたジフェニルメチル＝７−（
４〜ブロモ−３−オキシプチルアミド）−！ｌ−（多５
−ジメチルーチ２２６−チアジアジン−１，１−ジオキ
シド−２−イル）メチル−Δ８−セフェムー４−カルボ
キシレー）５．０５”＆酢酸２５ｄに溶解させ、氷酎下
亜硝酸ナトリウム０．５４　Ｓｌを含む水２紅溶液を滴
下し、室温で２時間反応させる。反応終了後、反応液を
水２０〇−中に導入し、析出晶をＰ取し、水で十分洗浄
した後、乾燥する。ついでこの結晶をクロロボルムに溶
解させ、カラムクロマトグラフィー（和光シリカゲルＣ
−２００゜溶離液；クロロホルム）で精製すれば、融点
１３８〜１４１℃（分解）を示すジフェニルメチル＝７
−（４−プロモー２−ヒドロ千ジイミノ−６−オキシプ
チルアミド）−Ｘ−（３，５−ジメチル−１，２，６−
チアジアジン−１，１−ジオキシド−２−イ／Ｉ／）メ
チルーム８−セフェム−４−カルボキシレー）　３．１
７９（収率６１．０％）を得る。

Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　）　０Ｉ　ｐ　ｃ＝＝ｏ　１　７　
８　５ｙ　１　７　２　５ノロ９Ｏ ＮＭＲ（ｄｉ−ＤＭＳＯ）δ値： ２．１８（Ｆｕ、　ｓ、−ＣＨ寓）。

２．２４　（３Ｈ７ｓ、ＣＨａ　）７ ３．５４（２弓ｂｌ、Ｃ會−■）。

４．７２（２Ｈ，ｂｉ、　ＢｒＣＨｍＣＯ−）。

ｓ−０９（２Ｈ，ｂＳＪ　、；Ｌ、＆　）、＊５．３６
（ＩＨ，ａ、Ｊ＝５Ｈ１，ＣＩ−Ｈ）。

６．１０（Ｉ　Ｈ，ｄ　ｄＪＪ　＝５　ＨＺ）　Ｊ−８
Ｈｚｓ　Ｃｙ　Ｈ）Ｊ６．１４（ＩＨ，ｓ、％Ｈ）。

１０９（１％　１７　ＣＨぐ　）。

７．２２−７．９９　（１０Ｈ，ｍ、→Ｘ２　）。

９．６５（１）ｉ、　ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ、−ＣＯＮＨ−
）ｔｌ　３−３　”　（Ｉ　ＨＪｓ、ＯＨ）（３）（２
］で得られたジフェニルメチル−７−（４プロモー２−
ヒドロキシイミノ−３−オキソブチルアミド）−３−（
５，５−ジメチル−１、２，６−チアジアジン−１−一
ジオキシドー２−イル）メチル−ｇ−セフェム−４−カ
ルボキシレート２．０ｇをメタノール２０ＭＩＣ溶解さ
せ、０〜５℃でジアゾメタンのジエチルエーテル溶液を
ゆっくり加え、同温度で３０分間反応させる。反応終了
後、ジアゾメタンの消失を確認しに後、減圧下に溶媒を
留去する。ついで得られた残留物をカラムクロマトグラ
フィー（和光シリカゲルＣ−２００．溶離液ｉトルエン
：酢酸エチル＝３：１）で精製すれは、融点１４５〜１
４８℃（分解）を示スジフェニルメチル＝７−（４−７
’ロモー２−（シン）−メトキシイミノ−３−オキソブ
チルアミド）−３−（３，５−ジメチルール２．６−チ
アジアジン−１，１−ジオキシド−２−イル）メチル−
が−セフェム−４−カルポキシレー）　１．１２　ｙ　
（収出５４．９％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）　ｔｔ＋’；　’Ｃ＝０　１７８０　１
７２０ノ 　６７Ｏ Ｎ　ｊＬＲ（ｄｉＤＭＳＯ）δ値； ２．１３　（３Ｈ，ｌ、−ＣＨｓ　）／２．２０（３Ｈ
，８，−Ｃ＆　）。

５．５０（２Ｈ，ｂ町Ｃｍ　Ｈ）ｙ ｓ、ｑ３（Ｓ馬ｓｐ　−ＯＣ山）。

４．０Ｂ、　４．６６（２Ｈ，ＡＢＱ、　Ｊ＝５Ｈｚ、
　ＢｒＣＬＣＯ−）。

５．０３　（２Ｈｐ　ｂ　８７　”＞　−）。

すに ５．２６（ＩＨ，ｄ、　Ｊ−５Ｈｚ、Ｃ５−Ｈ）。

５．８５（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５Ｈ！、　Ｊ＝８Ｈｚ、
　Ｃｖ　−Ｈ）。

６．０７（ＩＨ，ｓ、　＞Ｈ）。

７．０２（ＩＨ，ｍ、−ｃａ〈）。

７．１０〜７．７７　（１０Ｈ，ｍ、Ｒ→Ｘ　２　）。

９７５　（Ｉ　Ｈ，ｄｐ　Ｊ　ミ８　Ｈｚｐ　−ＣＯＮ
　Ｈ）（４）（３］で得られたジフェニルメチル＝７−
（４−フロモー２−（シン）−メトキシイミノ−６−オ
キソブチルアミド）−３−（３，５−ジメチル−１，２
，，６−チアジアジン−１，１−ジオキシド−２−イル
）メチル−が−セフェム−４−カルボキシレート１．Ｏ
ｆおよびチオ尿素０１５グをＮ、Ｎ−ジメチルアセトア
ミド５ｇに溶解させ、室温で２時間反応させる。反応終
了後、反応液を酢酸エチル２０１１ｊおよび水２０１の
混合溶媒中に導入し、炭酸水素ナトリウムを加えてｐＨ
７，０に調整する。ついで有機層を分取し、水２Ｑａｇ
で洗浄した後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に
溶媒を留去する。残留物にジエチルエーテルを加えて結
晶をＰ取すれば、融点１４５〜１４８℃（分解）を示す
ジフェニルメチル−７−〔２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−２−（シン）−メトキシイミノアセトア
ミド〕−３−（！＋、５−ジメチルー１，２１．Ｓ−チ
アジアジン−１）１−ジオキシド−２−イル）メチル−
Δ３−セフェムー４−カルボキシレート０．６７９（収
率６９１％）を得る。

１Ｒ（ＫＢｒ）　ａｎ’　；　ＩＣ＝０　１７８０．１
７２０．１６７ＯＮＭＢ　（ｄｓ　ＤＭＳＯ）δ値； ２．１８（３Ｈ，Ｓ、−ＣＨ，）。

Ｚ　２４　（５Ｈｚ　ｍ、ｒ　ＣＨｓ　）ｙ１４９（２
ルｂ　ｓｙ　Ｃ寓−Ｈ）。

乙９６（６馬ｓ、ＯＣＨａ　）ｙ ５．１２（２巧ｂす８ン　−）。

虫 ５５８　（Ｉ　Ｈｐ　％　Ｊ　カ５　ＨＺＴ　Ｃｓ　”
　）、＋／ｓ−０９（１１’ｖ　ｄ　ｄｔ　Ｊ　〜５　
Ｈｚ＊　Ｊ　〜８　Ｈｊ、　Ｃｔ−Ｈ）。

６１５　（Ｉ　ＨＪ　ｓｐ　＞イル ６．９６　（１％＠、：入）。

７．１２（１Ｂ、　ｌ、−ｃｕ〈）。

７．２２〜７．９２（１０Ｈ，ｒＩＩＪ−＠Ｘ２）。

９．９４（ＩＨ，ａ、　Ｊ−８Ｈ！、−ＣＯＮＨ−）（
５１（４１で得られたジフェニルメチル＝７−（２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（シン）−メ
トキシイミノアセトアミド〕−５−（３，５−ジメチル
−１，２，６−チアジアジン−１，１−ジオキシド−２
−イル）メチル−Δ５−セフェムー４−カルボキシレー
）　０．５９をトリフルオロ＃酸２．５ｍおよび丁二ン
ール１ｄの混合溶媒に溶解させ、室温で１時間反応させ
る。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物にジエ
チルエーテルを加えて結晶なＰ取すれば、融点１４８〜
１５０℃（分解）を示す７−４２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イｙｖ　）　−２−（シン）−メトキシイミ
ノアセトアミドｍｌ−３−（３，５−ジメチル−１゜２
．６−チアジアジン−１，１−ジオキシド−２−イル）
メチル−Δ８−セフェムー４−カルボン酸のトリフルオ
ロ酢酸塩０．４１５１　（収率８９．１％）を得る。尚
この化合物の物性（ＩＲおよびＮＭＲ）は実施例１−１
２１で得りものと一致した。

実施例４ ＋１１２−（２〜ホルムアミドチアゾール−４−イル）
グリオキシル酸ｔＯりをＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド
５、Ｏａｉｊｌｃ懸うさせ、−２０℃でオキシ塩化燐０
８１２を滴ドし、同温度で２時間反応させる。ついでジ
フェニルメチル＝７−アミノ−３−（３，５−ジメチル
−１，２，６−チアジアジン−１，１−ジオキシド−２
−イル）メチル−が−セフェム−４−カルボキシレー）
　２．４５５１を含む無水塩化メチレン溶液１２１１１
７を−３０〜−２０℃で滴下し、−２０〜−１０℃で１
時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、
残留物に酢酸エチル５０＃１１および水５０ｍを加え、
炭酸水素ナトリウムを加えてｐＨ７，０に調整する。つ
いで不溶物を除去し、有機層を分取し水５ｏａｖで洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムでｉ燥し、減圧下に溶媒
を留去する。　残留物を カラムクロマトグラフィー（和光シリカゲルＣ−２００
．溶離ＹＬ；クロロホルム）で精製すれば、融点１４１
〜１４３℃（分解）を示スジフェニルメチル−７−（２
−（２−ホルｔアミドチアゾールー４−イル）−グリオ
キシルアミド）−３−（５，５−ジメチル−１，２゜６
−チアジアジン−１，１−ジオキシド−２−イ／Ｉ／）
メチル−Δ３−セフェムー４−カルボキシレート２．２
７９　（収率６８．８％）を得る。

Ｉ　ｌ’ｌ　（ＫＢｒ　）　Ｃｌｌ　ｔ　Ｃ±０　１７
８０．１７２０．１６６５ＮＭＲ（ｄａ　ＤＭＳＯ）δ
値； ２．１９（３Ｈ，＠、−ＣＨｍ　）。

２．２３（３Ｈ，Ｉ、−ＣＨｆｉ　）。

３．５１　（２Ｈ，Ｍ、　Ｃｍ−Ｈ）〜５．４１　（Ｉ
Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５ＨＬ、　ｃ、　−Ｈ）。

６．０２（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５Ｈｚｚ　Ｊ＝８ＨＩ、
　ｃｙ−ｎ）。

６．１３（ＩＨ，すΣＨ）２ ７．０９（ＩＨ，ｌ、−ＣＨ（）。

１２７〜７８　Ｂ　（１０Ｈ，ｍｔ　−■×２）。

８．６５（１馬８　）。

８．７６（ＩＨ，ｓ　） １０．１３（ＩＨ，ｄ、、　Ｊ　＝８Ｈｚ、−ＣＯＮＨ
−）（２１（１１で得られたジフェニルメチル−７−〔
２−（２−ボルムアミドチアゾール−４−イル）−グリ
オキシルアミド）−５−（５，５−ジメチル−１，２，
、６−チアジアジン−１，１−ジオキシド−２−イル）
メチル−が−セフエムー４−カルボキシレート０．８９
をＮｊＮ−ジメチルアセトアミド４ｄに溶解させ、水冷
下メトキシアミン塩酸塩０．１４Ｐを加えて室温で３時
間反応させる。反応終了後、反応液を酢酸エチル２０　
ｍｌおよび水２０１の混合溶媒中へ導入し、有機層を分
取し、水２０ｍで洗浄しん後無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。ついで減圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチ
ルエーテルを加えて結晶をｒ取すれば、融点１６２〜１
６５℃（分解）を示すジフェニルメチル＝７−（２−（
２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）−２−（シン
）−メトキシイミノアセトアミド）−５−（３，５−ジ
メチル−１２６−チアジアジン−１１−ジオキシド−２
−イル）メチル−Δ５−セフェムー４−カルボキシレー
ト０．６５１（収率７８．５％）を得る。

Ｉ　Ｂ　（ＫＢ　ｒ　）　ｉｌＪ　’　Ｃ−０１７８０
７１７２０，１６８５ＮＭＲ（ｄｓ　−ＤＭＳＯ）δ値
５ ２．０６（５Ｈ，リ　−ＯＨ港）。

２−１５　（３Ｈｌｌｉｐ　Ｌ　Ｈｓ　）Ｊ６．４ｏ　
（２Ｈ／　ｂ　ａ　、Ｃ２ｎ）ｐ５．８Ｂ（５Ｈ，Ｂ、
−０ＣＨＩ）。

４．９３　（２Ｈ，ｂａｙ　、）−函−）。

５．２０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、ＣＩ−Ｈ）。

５．９３（ＩＨ，ｄａ、　Ｊ＝５Ｈｚ、　Ｊ＝８Ｈｚ、
Ｃ７−Ｈ）。

５．９４（１Ｈ，Ｂ）＼Ｈ）。

６９０　（Ｉ　Ｈ，ｅｙ　ＣＨ＜　）、？７．０３〜７
．６６（１１鴇人つ×２）。

８．４８（ＩＨ，８，ＨＣＯ−）。

９．７６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８ＨＥ、−ＣＯＮｎ−）。

１２．６６（１馬ｓ、−ＣＯＮＨ−） （３１１２１で得られたジフェニルメチル＝７−（２−
（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル−２−（シン
）−メトキシイミノアセトアミド）−３−（３，５−ジ
メチル−１，２，６−チアジアジン−１，１−ジオキシ
ド−２−イル）メチル−Δ１−セフェムー４−カルボキ
シレートα６ノをメタノール５ｄに溶解させ、濃塩酸０
３３ｄを加えて３５〜４０℃で２時間反応させる。反応
終了後、反応液を酢酸エチル２０１ｔおよび水２０Ｒｔ
の混合溶媒中へ導入し、炭酸水素ナトリウムを加えてｐ
Ｈ６，０に調整する。ついで有機層を分取し、水２０ｄ
で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。

減圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチルエーテルを加
えて結晶を１取すれば、融点１４５〜１４８℃（分解）
を示すジフェニルメチル＝７−［２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２−（シン）−メトキシイミノア
セトアミド）−３−（４５−ジメチル−１，２，６−チ
アジアジン−１，１−ジオキシド−２−イル）メチル−
Δ１−セフェムー４−カルボキシレート０．４　Ｂ　ｙ
　（収率８２．８％）を得る。尚この化合物の物性（Ｉ
ＲおよびＮＭＲ）は実施例３−（４）で得られたものと
一致した。

実施例５ ＋１１２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル
）−２−（シン）　−ｔａｒｔ−ブトキシカルボニルメ
トキシイミノ酢酸１．６１をＮＮ−ノ ジメチルアセトアミド８．０１に溶解させ、−１０℃で
オキシ塩化燐０．４７９を滴下し、−５〜０℃で１時間
反応させる。ついでジフェニルメチル＝７−アミノ−３
−（５，５−ジメチル−２，２，６−チアジアジン−１
，１−ジオキシド−２−イル）メチル−Δ８−セフェム
ー４−カルボキシレー）　１．５８　Ｆを加え、０〜５
℃で２時間反応させる。反応終了後、反応液を酢酸エチ
ル５Ｑｄおよび水５　Ｑ　ｍｌの混合溶媒中へ導入し、
有機層を分取し水３０ｍで洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。

ついで減圧下に溶媒を留去し、残留物をカラムクロマト
グラフィー（相光シリカゲルＣ−２ｏｏ、’ｆ８離ｔＬ
；ベンゼン：酢酸エチル−５＝１）で精製すれば、融点
１２３〜１２５℃（分解）を示すジフェニルメチル−７
−〔２−（２−）リチルアミノチアゾールー４−イル）
−２−（シン）　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメト
キシイミノアセトアミド〕−６−（３５−ジメチル−１
，２，６−チアジアジン＝１．１−ジオキシド−２−イ
ル）メチル−Δ３−セフエムー４−カルボキシレート２
−１０５１（収率６Ｚ１％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ　、　ｐ　Ｃ＝０１７９０．１７
３０．　１６８ＯＮＭＢ　（ｄｓ　ＤＭＳＯ）δ値】 １４５　（９Ｈｚ　ｓ、’　（Ｃ”ｓ　）ｍ　）。

２．１５（３Ｈ，８，−Ｃ＆　）。

２．２　ｓ　（３Ｈ，Ｓ、−ＣＨＩ　）。

３．４ｓ（２ｎ、ｂｅ、ＣＩ−Ｈ）。

４．６５（２Ｈ，ｂａ、−ＯＣＨ！Ｇｏ−）。

５．０７（２Ｎ（、ｂｌｌ、８）−ニー）。

５．３２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５ＨＫ、Ｃ５−Ｈ）。

５．９４（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ、Ｊ＝８Ｈｚ、Ｃ
７−Ｔ（）。

６．１ｓ　（Ｉ　Ｈ７ＩＩｔ　＞Ｈ）／６．９４（１馬
８　）。

１０８　（Ｉ　Ｈ，＋１　）Ｊ ｌ　２２〜ｌ　９０　（２５Ｈｐ　ｍｐ　＃　×５　）
ｐ９．０３（１１Ｂ；　−ＮＨ＜　）。

９．７２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、−ＣＯＮＨ−）（２
１＋１１で得られたジフェニルメチル＝７−［２−（２
−）ジチルアミノチアゾール−４−イル）−２−（シン
）　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノア
セトアミド］−３−（３，５−ジメチル−１，２，６−
チアジアジン−１，１−ジオキシド−２−イル）メチル
−Δ３−セフェムー４−カルボキシレー）　２．　ＯＳ
＋　ｉ　トリフルオロ酢酸１０Ｉｌ／およびアニソール
４ａの混合溶媒に溶解させ、室温で１時間反応させる。

反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチル
エーテルを加えて結晶をＰ取する。ついでこの結晶を５
０％ギ酸水＋に＋　？Ｆｊ２０ｍに溶解させ、４０〜５
０℃で１時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒な
留去し、残留物にｌ￥Ｆ酸エテルを調えて結晶なｒ取す
る。酢酸エチルで十分洗浄し乾燥すれば、融点１８６〜
１８９℃（分解）を示す　７−（２−４２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２−（シン）−カルボキシメトキ
シイミノ　“アセトアミド］　−３−（３，５−ジメチ
ル−１゜２．６−チアジアジン−１，１−ジオキシド−
２−イル）メチル−Δ３−セフェムー４−カルボン酸の
ギ酸塩ｔ　ｏ　ｓ　ｙ　（収率８６，８％）を得る。

Ｉ　ｎ　（ＫＢ　ｒ　）　ｃｍ　ｐ　ｃ−＝ｔｔ　１７
７５　１７３０１６７５　１６５０ ！ ＮＭＲ（ｄａ　ＤＭＳＯ）δ値； ２．２０（Ｆ）Ｉ、　ａ、−ＣＨＩ　）。

２．２５　（３Ｈ，ｓ、　ＣＨｓ　）。

３．４１　（，２Ｈ，ｂＢ、Ｃ＊−Ｈ）。

４．６９’（２Ｈ，ｈａ、−０ＣＨｊＣＯ−）。

５．０９（２Ｈ，ｂｓ、ソー）。

５．２４　（Ｉ　Ｉ％　ｄ　ｐ　Ｊ　＝５　ＨＺ／　Ｃ
ａ−Ｈ）ｐ５．９１　（Ｉ　Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝５Ｈ１，
Ｊ＝１０ＨＩ、　ｃ、−ｎ）。

６１５（１Ｈ７ｓ、〜Ｈ）。

７．０４（ＩＨ，ａ、　”、几）。

ｑ、７５（１Ｈ，ｄ、　Ｊ＝１０Ｈ１，−ＣＯＮＨ−）
実施例６ ｆｉｌ　２　（２ｔａｒｔ−アミルオキシカルボキサミ
トチアゾール−４−イル）酢酸１ｇを無水塩化メチレン
２０１Ｌｔに溶解させ、Ｎ−メチルモルホリン０４１ノ
を加えて一３０℃に冷却する。ついでクロル炭酸エチル
０４２２を加え、−３０〜２０℃で１時間反応させた後
、ジフェニルメチル−７−アミノ−３−（３，５−ジメ
チル−１，２，６−チアジアジン−１，１−ジオキシド
−２−イル）メチル−△３−セフェムー４−カルボキシ
レート１９８ｇを加え、−１０〜０℃で２時間反応させ
る。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物に酢酸
エチル３０μおよび水５０Ｍを加え有機層を分取する０
再び水３Ｑ＋ｊを加え、炭酸水素す）　ＩＪウムを加え
てｐＨ７，０に調整する。有機層を分取し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去し、残留
物にジエチルエーテルを加えて結晶をＰ取すれば、融点
１４７〜１４９℃（分解）を示すジフェニルメチル＝７
　、　（２（２−ｔｅｒｔ−アミルオキシカルボキサミ
トチアゾール−４−イル）−アセトアミド）−３−（３
，５−ジメチル−１，２，６−チアジアジ７−１，１−
ジオキシド−２−イル）メチル−が−セフエムー４−カ
ルボキシレート２６３り（収藁８０．１％）を得る。

１１１（ＫＢｒ）ＬＭ；　Ｃ＝０１７８０．１７２０．
１６７ＯＮＭＲ（ｄ・−ＤＭＳＯ）δ値； ２．１６　（３Ｈ７ｓｐ　−ｃ　Ｈａ　）。

２．２４（３Ｉシリ　−ＣＨＭ）。

５４９　（２％　ｂ　８．　Ｃ諺−Ｈ）。

３．６５（２Ｈ，ｂｓｔ　’；止）ノ ５．０７（２Ｈ，ｂｌ、ｓ馬ケ）。

５．３１（ＩＨ，ｄ、　Ｊ−５Ｈｚ、ＣＩ−Ｈ）。

５、ｑ　ｅ　（Ｉ　Ｈ／　ａａｐ　Ｊ　＝ｓ　ａ　ｚｔ
　Ｊ　＝ａ　Ｈ＄７　”？　Ｈ）ｙ６．１７（１馬１？
　＞ａ　）ｊ ｌ　０１　（１％　ｍｙ　ＣＨぐ）。

７．１０（ＩＨ，Ｉ、大）。

７２６〜７．９２（１０Ｈ，ｍ、−＠Ｘ２）。

９．２２　（Ｉ　Ｈ，％　Ｊ　＝８　Ｈｚｙ　ＣＯＮ　
Ｈ）＋２１　＋１１で得られたジフェニルメチル＝７−
［２（２−ｔｅｒｔ−アミルオキシカルボキサミトチア
ゾ−ＪＬ／−４−イル）−アセトアミド〕−３−（３，
５−ジメチル−１，２，、６−チアジアシンーレ１−ジ
オキシド−２−イル）メチル−Δ’　−セフ　！　Ａ　
−４−カルボキシレート１．０９をトリフルオロ酢酸５
Ｒｔおよびアニソール２ｄの混合溶媒中に溶解し、室温
で２時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去
し、残留物にジエチルエーテルを即えて結晶を１取すれ
ば、融点１５５〜１５７℃（分解）を示す　７−（２−
（２−アミンチアゾール−４−イル）−アセトアミド〕
−３−（５，５−ジメチ／ｌ／−１，２，６−チアジア
ジン−１，１−ジオキシド−２−イル）メチル−Δ１−
セフェムー４−カルボン酸のトリフルオロ６Ｆ酸ｔｍｏ
、６ａ９（収率８６．１％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｓ＋　、Ｃ＝０　１７７５　１７１
０１６７０　１　６３Ｏ ＮＭｎ（ｄ−ＤＭＳＯ）δ値； ２．２９（３Ｈ，１，−ＣＨＩ　）。

２ｊ　６（５Ｈ７４，ＣＨ＋＋　）。

５．５１（２几ｂ〜　ＣＩ−）１）。

５−２５　（２Ｉ％　ｂ　ｓｔ　＞、ａ−）ｔ５．３４
（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ、　ＣＩ−Ｈ）。

５．９５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、Ｊ＝８Ｈｚ、Ｃ？
−Ｈ）。

６．２７（１Ｈ２ｓ、′）−Ｈ）。

６．８２（１い、ま−。

９、４０　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊｍ８Ｈｚ、　−ＣＯＮＨ
−）特許出願人 富山化学工業株式会社 第１頁の続き ０発　明　者　才用勇 富山市大泉中町７−５２

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 で表わされるセファロスポリンおよびその塩類。 ＋２１　１”が水素原子である特許請求の範囲第（１１
   項記載のセファロスポリンおよびその塩類。 （３１Ｒ’が水素原子である特許請求の範囲第（１１ま
   たは（２）項記載のセファロスポリンおよびその塩類。 （４１Ｒ’がアば）基である特許請求の範囲第（１）〜
   （３）項いずれかの項記載のセファロスポリンおよびそ
   の塩類。 た意味を有する。）で表わされる基である特許請求の範
   囲第（１）〜（４）項いずれかの項記載のセファロスポ
   リンおよびその塩類。 ｔ６）　Ｂ’が置換されていてもよいアルキル基である
   特許請求の範囲第（１１〜（５］項いずれかの項記載の
   セファロスポリンおよびその塩類。 ある。）で表わされる基である特￥ｆ請求の範囲第（１
   ）〜（６）項いすｈかの項記載のセファロスｌリンおよ
   びその塩類。 柱体であり、Ｂ１は前記した意味を有する。）で表わさ
   れる基である特許請求の範囲第（１）〜（６）項いずれ
   かの項記載のセファロスポリンおよびその塩類。 した意味な有する。）で表わされる特許請求の範囲第（
   １）〜（８）項いずれかの項記載のセファロスポリンお
   よびその塩類。 ｕＧ　Ｒ，’が水素原子または置換され℃いてもよいア
   ルキル基である特許請求の範囲第（９）項記載のセファ
   ロスポリ／およびその塩類。 αυ　ＲＷが置換されていてもよいアルキルまたはアリ
   ール基である特許請求の範囲第（９）またはＣＬＧ　項
   記載のセファロスポリンおよびその塩類。 を有する。）で表わされる特許請求の範囲第Ｈ１〜（８
   ）項いずれかの項記載のセファロスポリンおよびその塩
   類。 ０３Ｂ２が置換されていてもよい１，２，６−チアジア
   ジン−１，１−ジオキシド−２−イル基である特許請求
   の範囲第叩項記載のセファロスポリンおよびその塩類。 ０４Ｒ８が置換されていてもよいテトラヒドロ−１２−
   チアジン−１１−ジオキシド−２−イル基である特許請
   求の範囲第Ｕ項記載のセファロスポリンおよびその塩類
   。 （１５Ｆｌ”が置換され℃いてもよいインチアゾリジン
   −１，１−ジオキシド−２−イル基である特許請求の範
   囲第Ｕ項記載のセファロスポリンおよびその塩類。 ＩＪ（５７−（２−（２−アミノチアゾール−４−イル
   ）−２−（シン）−メトキシイミノアセトアミド）−３
   −（メタンスルホンアミド）メチル−Δ５−セフェムー
   ４−カルボン酸、ソのエステルまたはそれらの塩である
   特許請求の範囲第回項記載の化合物。 ０η　７−（２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
   −２−（シン）−メトキシイミノアセトアミド）−３−
   （３，５−ジメチル−１，２，６−チアジアジン−１１
   −ジオキシド−２−イル）メチル−Δ８−セフェムー４
   −カルボン酸、そのエステルまたはそれらの塩である特
   許請求の範囲第（２）項記載の化合物。 囮　７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
   ２−（シン）−メトキシイミノアセトアミド］−３−（
   テトラヒドロ−１，２−チアジン−１，１−ジオキシド
   −２−イル）メチルーム８−セフェム−４−カルボン酸
   、ソのエステルまたはそれらの塩である特許請求の範囲
   第（１４）項記載の化合物。 α１　７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
   −２−（シン）−メトキシイミノアセトアミド］−３−
   （５−メチルーイソチアゾリジン−１，１−ジオキシド
   −２−イル）メチル−Δ１−セフームー４−カルボンａ
   −そのエステル、または七扛らの塩である特許請求の範
   囲第０９項記載の化合物。 ■　７−４２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
   ２−（シン）−カルボキシメトキシイミノアセトアミド
   ］−５−（３，５−ジメチ／ｌ／−１，２，６−チアジ
   アジン−１，１−ジオキシド−２−イ／Ｌ／　）メチル
   −Δ１−セフェムー４−カルボン酸、そのエステルまた
   はそれらの塩である特許請求の範囲第ａ３虫記載の化合
   物、