JPS6042700A - ビ−ムダンプ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はビームダンプに関する。詳しくは、本発明は水
素ガスの再放出を低減できる水素、重水素、三重水素の
イオンビームまたは原子ビーム（以下これらをまとめて
水素ビームと呼ぶ）を受けるビームダンプに関する。

従来例を第１図に示す。図のように従来は銅などの金属
板のビームダンプ１は直接水素ビーム２を受けている。

ビームダンプ１に衝突した水素ビーム２はビームダンプ
１の内部に入り、その飛程を走って止まったあと水素原
子として拡散してビームダンプ１の表面に到達したもの
は水素ガス３となって表面から再放出される。従来例で
はプラズマ加熱用の中性粒子入射装置の場合のように、
水素ビーム２の通過する空間を超高真空に保つ必要があ
るとぎは、ビームダンプ１から再放出された水素ガス３
を排気する大容量の真空排気設備が必要であった。

本発明は上述の点に鑑み成されたもので、その目的は、
ビームダンプより再放出される水素ガスを低減してこの
水素ガスを排気する真空排気設備の容量を小さくしたり
、真空排気設備そのものを不必要にするすることである
。

本発明の一具体例を第２図について説明する。

水素ビーム２を受けるビームダンプ１の表面をＺｒ−Ａ
ｌ１合金などの水素吸収材４で覆っである。

水素吸収材４の厚さが水素ビーム２の飛程よりも厚けれ
ば、ビームダンプ１に衝突した水素ビーム２は水率吸収
材４の内部で止まったあと水素吸収ＩｆＡ４の内部に水
素原子として拡散するが、水素吸取材４の表面に到達し
ても、水素原子と水素吸収材の結合力は強いので、表面
で水素ガスとなって再放出されるものは非常に少ない。

このため再放出水素ガスを排気する真空排気設備を小さ
くしたり不必要にすることが可能となる。なお、水素吸
収材は水素吸収量に飽和値があるが、一定量の水素ガス
を吸収させたあと、水素吸収材を加熱すること等により
水素ガスを放出して再生するので、長期間使用可能であ
る。

以−ヒ述べたように本発明によればビームダンプから再
放出される水素ガスを少なくできる。このため再放出さ
れる水素ガスを排気する真空排気設備を小さくしたり不
必要にすることが可能となる。

４、〔図面吸収の簡単な説明〕 第１図は従来のビームダンプ、第２図は本発明のビーム
ダンプの説明図である。

図において、 】、ビームダンプ ２、水素ビーム ３、水素ガス ４、水素吸収材 特許出願人　日本原子力研究所 秦１図 ｈ　− 毛２し

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、水素、重水素、三重水素のイオンビームまたは原子
   ビームを受けるビームダンプにおいてビームを受ける表
   面を水素吸収材で覆ったことを特徴とするビームダンプ
   。 ２６該吸収材はＺｒ−Ａｌ７合金であるビームダンプ。