JPS6043347B2 - テトラヒドロ‐α‐ピロン誘導体の新規な製造法 - Google Patents

テトラヒドロ‐α‐ピロン誘導体の新規な製造法

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JPS6043347B2
JPS6043347B2 JP51068655A JP6865576A JPS6043347B2 JP S6043347 B2 JPS6043347 B2 JP S6043347B2 JP 51068655 A JP51068655 A JP 51068655A JP 6865576 A JP6865576 A JP 6865576A JP S6043347 B2 JPS6043347 B2 JP S6043347B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はテトラヒドローα−ピロン誘導体の新規な製造
法、更に詳しくは一般式〔式中、R1、R2及びR5は
同一又は相異なつて、水素原子、非置換低級アルキル基
又はフェニル基を示す。
〕で表わされるテトラヒドローα−ピロン誘導体の新規
な製造法に関する。
テトラヒドローα−ピロン誘導体は無力症、知的疲労状
態、老年期衰退に起因す病理状態、集中力欠如の状態等
の治療に有効な医薬の製造の極めて重要な一次物質であ
り(特にフランス国特許出願第7423928号参照)
、該誘導体を簡単に且つ経済的に有利な方法で製造する
ことは極めて重要なことである。
テトラヒドロ化されたα−ピロン誘導体の製造例は既に
文献に記載されている。その製造例は4・4・6−トリ
メチルー3−フェニルー2−テトラヒドロピロンの製造
例(R.LONGERAYandJ.DREUX.,B
Llll.SOc.Chim.Fr.l963、280
5〕及び6−メチルー3・4−ジフェニルー3・4●5
●6−テトラヒドロー2−ピロンの製造例〔A.M.B
ARADEL.sR.LONGERAYandJ.DR
EUX..Bull.SOc.Chim.Fr.l97
Ol255〕等である。
しかしながら上記文献に記載されている製造工程は複雑
であり、しかも目的化合物の収率は全体的に低くほとん
ど1%を越えないという欠点がある。而して製造の困難
性及び経済的な利点の欠如の故に、これら化合物を工業
的に製造することが実際には不可能となつている。本発
明の目的は従来法に比べてより実際的な要望、特に収率
に満足でき製造工程を相当簡略化し得、経済的に有利な
条件で工業的なスケールに利用し得るという要望に応え
たテトラヒドロー2ーピロン誘導体の新規な製造法を提
供することにある。
本発明は、一般式 〔式中、R1、R2及びR5は上記に同じ。
〕で表わされるアルケノンに対するシアン化ベンジルの
作用により得られる4−オキソーアルカンーカルボニト
リルから5−オキソーアルカノイツクアシツドのアルキ
ルエステルを製造し、次いで得られるエステルを適当な
媒体中でケン化、水素添加及び環化することを特徴とす
る、一般式〔式中、R1、R2及びR5は上記に同じ。
〕で表われるテトラヒドローα−ピロン誘導体の新規な
製造法を提供するものである。本発明の好ましい一実施
態様に依れば、4−オキソーアルカンーカルボニトリル
を得るためのアルケノンに対するシアン化ベンジルの反
応は製造工程の第1段を構成しており、該反応は好まし
くはエタノ−ルーヘキサン混合物により構成されている
溶媒中て好ましくはカリウムにより構成される触媒の存
在下て行なわれる。
本発明の他の好ましい実施態様に依れば、相当する4−
オキソーアルカンーカルボニトリルから5−オキソーア
ルカノイツクアシツドのエチルエステルの製造は製造工
程の第2段を構成し、この反応は酸の存在下で行なわれ
る。
本発明方法の第3段(5−オキソーアルカノイツクアシ
ツドからテトラヒドローα−ピロン誘導体を製造する工
程)の実施の好ましい方法に依れば、該エステルの水素
添加はエステルのケン化前に達せられる。
本発明方法の第3段の実施の他の好ましい方法に依れば
、ケン化及び水素添加は水素添加容器中で同時に行われ
る。
本発明方法の第3段の実施の他の好ましい方法に依れば
、ケン化及び/又は水素添加がアルコール性溶媒中で行
なわれる時には該アルコール性溶媒は環化の前に蒸留に
より除去される。
本発明の好ましい。
一実施態様に依れば、水素添加触媒ラニー合金から得ら
れるニッケルにより構成される。本発明の特に好ましい
一実施態様に依れば、第3段に於ける水素添加は加圧下
で行なわれる。
本発明の他の好ましい実施態様に依れば、第3段に於け
る環化が酸の存在下に行なわれる。本発明の他の特に好
ましい実施態様に依れぱ製造工程の第1段及び第2段に
於てそれぞれ得られる中間生成物は硫酸をO〜2%含有
する無水アルコール中で再結晶することにより精製され
る。上記の特徴とは別に本発明は下記の詳述から明らか
な特徴をも包含する。本発明は更に詳しくは上記の特徴
によるα−ピロン誘導体の製造法及び該製造法を逐行す
るに際しての適合した手段に関し、本発明方法に於ける
あらゆる製造法及び製造工程が包含される。
本発明をよソー層明らかにするために以下に本発明の実
施例を掲げるが、本発明はこれに限定されるものではな
い。実施例1 6−メチルー3・4−ジフェニルー3・4・5・6−テ
トラヒドロー2−ピロンの製造第1段 1●2−ジフェニルー4−オキソーペンタンーカルボニ
トリの製造:シアン化ベンジル60y(0.51モル)
に4−フェニルー3−ブテンー2−オン(トランス)7
3y(イ).5モル)を溶解する。
ヘキサン及び無水アルコールの混合物(70:30)2
00mLを添加する。該溶液を約−5゜Cの冷浴中で攪
拌、冷却する。次いで触媒即ち2N−KOHのエタノー
ル溶液20mt(20mt0f2Nethan01K0
H)を加える。添加は徐々に(約1時間)を行ない、温
度が0℃を越えないようにしなければならない。時間の
経過と共に反応容器中に結晶が生成する。
添加開始から4時間後に反応容器を一夜冷凍機の中に入
れる。次いで該容器を部分的にランプの中に置き該容器
の中身を枦過する。カリウムを除去するために結晶を冷
ヘキサン100m1で2回、次いで冷ヘキサン200m
1で1回、次いで冷メタノール100m1で2回洗浄す
る。収率約90%。CVP分析ではスレオ体が98%、
エリスロ体が2%の割合であり、出発物質はもはや存在
しなかつた。元素分析値Cl8Hl7ONとして 1重量%の硫酸を含有する無水アルコールから再結晶し
てスレオ体100%の化合物を得る。
収率80%、融点1000C第2段 2・3−ジフェニルー5−オキソーヘキサン酸のエチル
エステルの製造:95度のアルコール(AlcOhOl
at95に第1段で得られた1・2−ジフェニルー4−
オキソーペンタンーカルボニトリル30yを熱時溶解す
る。
次いで濃硫酸90m1を加える。反応混合物を環流下に
6時間加熱する。冷却後水層がほとんど完全に脱色され
るはでCH2Cl2−エーテル(50:50)で少くと
も4回(200110へ10へ100mt)抽出する。
回収された有機層を10%のNa2cO3溶液100m
1で2回、次でブライン100m1で3回洗浄し、次い
で硫酸ナトリウムを用いて乾燥する。
溶媒を留去した後真空下で蒸留を行ない、0.6mHg
で166〜167℃の留分を得る。
収率ほぼ80%、融点95%元素分析C2OH22O3
として 第3′i一 6−メチルー3・4−ジフェニルー3・4・5・6−テ
トラヒドロー2−ピロンの製造:2・3−ジフェニルー
5−オンーヘキサン酸のエチルエステル2y(イ).0
64モル)を10N一Na2CO32Oml及び水13
0m1に懸濁し、水素添加容器中に置く。
次いで中性ニッケル(Neutralnickel)を
水50m1と共に加える。該ニッケルはラニー合金8y
から得られたものである。中性ニッケルは用いられた炭
酸ナトリウムの正確な量を知るために使用される。ケン
化及び水素化を10バールの気圧下100℃で1満間行
なう。
不ケン化物をエーテル(100m1)で抽出し、エタノ
ールを蒸発により除去する。ニッケルを沖過したのちア
ルカリ溶液に濃塩酸を加えて酸性にし該液を1時間沸と
うさせる。冷却後飽和NaCl溶液をエ−テルーCFI
2Cl2混合液(50−50)で3回(2001100
1100m1)抽出する。
有機層をNaHCO3飽和溶液100mLで2回、次い
でブライン100m1で3回洗浄し硫酸ナトリウムを用
いて乾燥させる。
溶液を蒸発後固形白色残渣を無水アルコール80TnL
で熱時取り出し、次いで熱時淵過する。
結晶化させて極めて白色の結晶12.3yを得る。収率
:73%、融点:135晶C1度再結晶すれば融点は1
40℃となり、一定値になる。
再結晶収率:80%、純物質の第3段の収率:73×8
0=58(%)分光分析 パーキンーエルマー257装置(KBr錠)を用いて赤
外スペクトルを得る。
バリアン(Varian)A−60スペクトロメーター
を用いて60MHzでNMRスペクトルを記録する。
〔■〕の化合物 融点100℃IR
:ν。
=N:2220cm−1、ν。…o:1705cwt−
1NMR(CDCI3):δ=7.17シグナル10プ
ロトン(フェニル)、δ=4.10タブレットH(1)
JH(1)、H(2)=7Hz1δ=3.72マルチプ
レツトH(2)、δ=3.01マルチプレツト2H(3
)、δ=2.0シングレットCH3(5)〔■〕の化合
物 融点110・CI
R:ν。
=01700〜1740cm−1に極めて大きなスペク
トルNMR(CDCl3):δ=7.30シグナル10
プロトン(芳香環)、δ=3.80プロード(Mass
if)4プロトン、δ=2.45プロード2プロトン、
δ=1.69シングレットCH3(8)、δ=0.85
トリプレツトCH3(1)JcH3、。
H2=7HZ〔1〕の化合物
融点140℃NMR:重水素置換アセトン及び重水素
置換クロロホルム(CDCl3)を用いて2つのスペク
トルを描く。
重水素置換アセトンを用いた結果 δ=7.10シグナル10プロトン(芳香族)δ=4.
85プロードH(6)(と思われるもの)δ=4.20
タブレットH(3)JH,.H=11.1Hz(1つの
異性体に対し)δ=3.90タブレットH(3)JH.
.H=11.6Hz(他の異性体に対し)δ=3.50
プロードH(4)(と思われるもの)δ=2.18重な
つたトリプレツト(2つの異性体)H(4)及びH(6
)にカップルされたCH2(5)δ=1.42タブレッ
トCH3(6)1つの異性体JCH3)H(6)=6H
zδ=1.40タブレットCH3(6)他の異性体JC
H3、H(6)=6Hz上記製造法に依れば少数のジア
ステレオアイソマーについては35−45%で得られる
之等二種の異性体の量はタブレット(δ=4.20及び
3.90)によつて求めることができる。H(3)とH
(4)の結合定数が11であることはこれらがトランス
アクシアル位にあることを示し、化合物〔■〕及び〔■
〕に対してスレオ型となり得る。重水素置換クロロホル
ムを溶媒として用いたスペクトルはCH3(6)につい
てタブレット(δ=1.49)及びH(3)についてタ
ブレット(δ=3.85)を示すだけである。
実施例2 3●4●6−トリフェニルー3●4●5●6ーテトラヒ
ドロー2−ピロンの製造第1段 シアン化ベンジル12.0ダ(イ).102モル)にカ
ルコン(1●3−ジフェニルー1−プロペノン)20.
8q(0.1モル)を熱時溶解する。
ヘキサンー無水アルコール混合物(20−80)60m
tを加える。反応媒体を氷一食塩混合物中でO℃に冷却
する。次いで触媒(ボーKOHのエタノール溶液8m1
)を除々に添加する。添加(4紛間)の開始後約1時間
で容器内に結晶が直ちに生成する。該容器を一夜冷凍機
の中に入れる。容器中の結晶を、冷ヘキサン30mLで
3回洗浄し、次いで冷メタノール30m1で洗浄する。
収量:30.8g、収率:95%、融点112′CCV
T分析では(もはや出発物質ではない)単一のピークの
みを示す。無水アルコール(最初は1%I(2S04存
在)から再結晶すれば融点116℃となソー定値となる
(1Rにおいて差異なし)。
元素分析値C23Hl9ONとして 第2段 粗製物の収率:80%、精製物の収率:65%95度ア
ルコール50m1に1・2・4−トリフェニルー5−オ
キソーブタンーカルボニル509(0.134モル)を
熱時溶解する。
溶解後濃硫酸200m1を加える。強力な機械的攪拌下
該溶液を7時間還流する。3時間後容器中に結晶が生成
し、溶液は濃縮される。
冷却すれば沈澱は速まる。全体を溶解させるためにCH
2Cl。l5Omιを加え、還流下に加熱すると冷却し
ても沈澱が再び生成しなかつた。この混合物をブライン
300m1中に注ぐ。傾斜より分離した水層を再度エー
テルCH2Cl。混合物(50−50)100mιで3
回抽出する。抽出により集めた有機層を10%NaCO
3溶液100mιで、次いでブラ,゛イン200m1で
3回洗浄し、硫酸ナトリウムを用いて乾燥させる。溶媒
を蒸発後固形残渣をアルコール300mιで取り出し熱
時ろ過、結晶化させる。濾過後乾燥して明るい白色の生
成物(1ightwhitepr0duct)45.9
yを得る。融点:14γC)収率:80%再結晶の収率
:80% 融点:150℃(無水アルコール) 元素分析C。
。H。。O。としてCH 計算値(%)80.626.50 実測値(%)80.466.40 第3段 粗製物の収率:82%、精製物の収率:62%ION−
NaOHl8ml)95度のアルコール100m1及び
水50mιからなる液中で2・3・5−トリフェニルー
5−オキソーペンタン酸(CVPにおいて純枠)18f
(0.048モル)を4時間還流することによりケン化
させる。
次いで該溶液を水素添加容器中で熱時ろ過する。ラニー
重金5yから得られる中性ニッケルを水50m1と共に
加える。水素添加をH時間行なう(圧力10バール、温
度100℃)。
ニッケルを戸去後戸液に水100m1を加え、蒸留によ
りエタノールを除去する。冷却後攪拌下に濃塩酸18m
1を加えて酸性にし、次いで攪拌下に1時間加熱還流す
る。冷却後生成物をブフナー漏斗上で濾過し、黄色結晶
13.0ダを得る。融点:198℃、収率:82%ベン
ゼン−プタノン混合物(50−50)中で再結晶する。
融点:205℃元素分析C。
。H。OO。として分光分析 (IRについてはKBr錠) 〔■〕の化合物 IR:ν。
=N:22らo−1、VO=。:16D礪−1NMR:
重水素置換のクロロホルム中、δ=8〜7ppmプロー
ド(Massifelleell5プロトン(芳香族)
、δ=4.5ppmタブレット1H(1)、JH(1)
、H(2)=5Hzδ=4〜3.5ppmプロード1H
(2)と2H(3)(と思われるもの) 〔v〕の化合
物IR:C=0バンド フェニルのα位のCO:167
0CT!t−1C0エステルニ1710cm−1NMR
(CDCl3):δ=7.30シグナル15プロトン(
芳香環)、δ=3.82プロード4プロトン、δ=3.
07プロード2プロトン、δ=0.89トリプレツトC
H3(1)JcH3、CH2=7Hz〔■〕の化合物 IR(KBr):ν。
=。:1700c7t−1実施例34・4●6−トリメ
チルー3−フェニルー2−テトラヒドロピロンの製造第
1段 シアン化ベンジル36y(0.31モル)に4−メチル
ー3−ペンテンー2−オン29.4f(0.30モル)
を溶解する。
ヘキサンー無水アルコールの混合物(80−20)80
m1を加える。攪拌された溶液を氷一食塩混合物中で0
℃まで冷却する。該温度が約一2℃になれば、KOHの
エタノール溶液をまずメシチルオキシド中に含まれる酸
不純物を中和するまで(これはベーパー試験紙を用いて
調べる)、次いで反応の触媒として5m1加える。添加
終了から1時間後結晶が生成する。2時間後その容器を
冷凍機の中に入れる。
完全に固化された容器内の成分をフリットガラス(Fr
ittedglass)上にろ過する。
結晶を冷ヘキサン100m1で2回、次いで冷メタノー
ル100m1を洗浄する。融点:90℃、収率:87%
融点93℃(エタノール);最初は痕跡量の硫酸の存下
で結晶化させる。
第2段 95度アルコール240m1に2・2−ジメチルー4−
オキソー1−フエニルーペンタンーカルボニトリル25
y(4).116モル)を熱時溶解する。
次いで濃硫酸90m1を加え6時間加熱還流する。冷却
後該溶液にブライン200m1を加えて希釈し、次いで
CH2Cl2−エーテル混合物(50−50)で4回(
20へ10へ10へ100m1)抽出する。回収した有
機層を10%Na2cO3溶液100m1で、次いでブ
ライン100m1で3回洗浄し、最後に硫酸ナトリウム
を用いて乾燥する。溶媒を蒸発後生成物を真空下蒸留す
る。
1.5朗Hgで145〜150℃の留分を集める。
収率:70%、無色のわずかに粘度ある液体である。元
素分析Cl6H22O3として 粗製物の収率:50%、精製物の収率:38%10N−
NaOH2Oml、95度アルコール50m1及び水5
0m1を含有する溶液中で3・3−ジメチルー5−オキ
ソー2−フエニルーヘキサン酸のエチルエステル15y
(0.057モル)を3時間還流することによりにケン
化する。
該溶液を■過、水素添加容器中に置き、(ラニー合金6
gから得られる)中性ラニーニツケルを水50mLと共
に加える。水素添加を(10/くールの圧力下)100
℃で14時間行なう。ニッケルを戸去、水200mLを
添加したのちエタノールを蒸発させ、、濃塩酸20mt
を加えて酸性にし、1時間還流させる。
冷却してNaClで飽和させた後エ−テルーCH2Cl
2混合物(50−50)100m1で3回抽出を行なう
回収された有機層を8%のNaHCO3溶液100m1
で、次いでブライン100m1で2回洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥させる。
溶媒を蒸発させた後白色の残渣をヘキサンー無水アルコ
ール混合物(60−40)20m1に再度熱時溶解する
結晶化すれば極白色の結晶6.4ダが得られる。
収率:50%、融点7TC(ヘキサンー無水アルコーー
ル)ヘキサンー無水アルコール混合物(20−30)2
5mtから再結晶すれば融点は80℃になる。
収率:75%、CVPにおいては純粋物質。再結晶によ
り融点は一定になる。(融点:81℃)。元素分析Cl
4Hl8O。
として分光分析 〔■〕の化合物 IR:ν。
ミN:2210C77!−1、ν。…0:1690C7
7!−1NMR: (溶媒CDCL3)δ=7.28シ
グナル5プロトン(芳香族)、δ=4.47シングレッ
トH(1)、δ=2.67、2.25タブレット ?(
3)JH,.H=17HZ1δ=2.10シングレット
狙(4)、δ=1.0\1.20シングレット6H(
2)このスペクトルは分子内の不整炭素に基づくもので
ある。〔■〕の化合物 IR:ν。
ヨ。:1710〜1740cm−1の間NMR(CDC
l3):δ=7.25シグナル5プロトン(芳香族)、
δ=4.1014.06カルテツト?(2)JH..H
=5.5Hz..JH,.H=5.5Hz1δ=3.9
5シングレットH(3)、δ=2.73、2.23タブ
レット2H(5)JH,.H=16Hz1δ=2.02
,+シングレット3H(6)、δ=1.18プロード6
(4)と3H(1)このスペクトルは分子内の不整炭素
に基づくもでのる。
〔■〕の化合物IR:ν。
=o:1700cm−1NMR:重水素置換アセトンに
おけるスペクトル、δ=7.25シグナル5プロトン(
芳香族)、δ=4.75プロードH(6)(と思われる
もの)、δ=3.75、3.61シングレットH(3)
、これは互いに旦位のジアステレオアイソマーに相当、
δ=1.75プロード ?位のメチレン、δ=1.4タ
ブレット6の位メチル1つのジアステレオアイソマー(
JCH3、H=6Hz)、δ=1.37タブレット6位
のメチル他のジアステレオアイソマー(JCH3、H=
6Hz)、δ=1.11、0.8シングレット4位のメ
チル、1つのジアステレオアイソマー、δ=1.へ0.
91シングレツテ4位のメチル 他のアイソマーニ種の
ジアステレオアイソマーの存在により分けられたシグナ
ルはほぼ55−45の比率である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1、R_2及びR_5は同一又は相異なつ
    て、水素原子、非置換低級アルキル基又はフェニル基を
    示す。 〕で表わされるテトラヒドロ−α−ピロン誘導体の製造
    法であつて、(a)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1、R_2及びR_5は上記に同じ。 〕で表わされるアルケノンに対するシアン化ベンジルの
    作用により4−オキソ−アルカン−カルボニトリルを製
    造する第1段工程、(b)上記第1段工程で得られる4
    −オキソ−アルカン−アルカン−カルボニトリルから5
    −オキソ−アルカノイツクアシツドのアルキルエステル
    を酸の存在下で製造する第2段工程及び、(c)上記第
    2段工程で得られる5−オキソ−アルカノイツクアシツ
    ドのアルキルエステルを同時に若しくは任意の順序でケ
    ン化及び水素添加を行ない、次いで環化することにより
    テトラヒドロ−α−ピロン誘導体を製造する第3段工程
    を備えていることを特徴とする製造法。 2 5−オキソ−アルカノイツクアシツドアルキルエス
    テルのケン化を該エステルの水素添加の前に行なうこと
    を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の製造法。 3 5−オキソ−アルカノイツクアシツドのアルキルエ
    ステルのケン化及び水素添加を水素添加容器中で同時に
    行なうことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
    製造法。 4 ケン化及び/又は水素添加をアルコール性媒体中で
    行ない該アルコール性媒体を環化の前に蒸留により除去
    することを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の製
    造法。 5 水素添加触媒としてラニー合金から得られるニッケ
    ルを使用することを特徴とする特許請求の範囲第1項に
    記載の製造法。 6 水素添加を加圧下で行なうことを特徴とする特許請
    求の範囲第1項に記載の製造法。 7 環化を酸の存在下で行なうことを特徴とする特許請
    求の範囲第1項に記載の製造法。 8 第1段工程及び第2段工程でそれぞれ得られる中間
    生成物を硫酸を0〜2%含有する無水アルコールから再
    結晶することにより精製することを特徴とする特許請求
    の範囲第1項に記載の製造法。
JP51068655A 1975-06-13 1976-06-10 テトラヒドロ‐α‐ピロン誘導体の新規な製造法 Expired JPS6043347B2 (ja)

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