JPS6043567B2 - 磁気記憶板の磁気薄膜を作成する装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は流しかけ可能の磁気分散物を回転する支持板
上へ施与し且つ次いで支持板の高速回転による遠心力に
よつて分布させることにより磁気記憶板の磁気薄膜を作
成するための、コーティング すべき支持板のための駆
動及び保持機構と、支持板をクリーニングする機構と、
磁気分散物を施与するためのユニットとを有している装
置に関する。

磁気記憶板をいわゆるスピン・コーティング法で作る
ことは周知であり、この方法では米国特許第３１９８６
５７号明細書に記載されているように例えばアルミニウ
ムより成る回転する支持板をクリーニングし且つその片
面上へ磁気分散物を支持板の”上方で半径方向に運動す
るノズルによつて施与する。

次いで支持板を高速回転させることにより、それによつ
て生じる遠心力により磁気分散物を支持板表面全体上に
均一に分布させる。支持板を裏返した後に他方の面を同
様にコーティングする。ドイツ特許出願公告公報第２１
５７６５０号によつて、支持板の両面を同時に且つ同じ
ようにコーティングする方法及び装置が周知である。
周知のように磁気記憶板の磁気薄膜には、特に薄膜表面
の平担性及び薄膜厚の均一性には極めて高い要求が課せ
られる。

だんだんと高い記憶容量及び高い記憶密度に向つての研
究開発は、磁気板とその上方で浮動する磁気ヘッドの間
の間隔をだんだんと減らすことになる。更に、高い記憶
密度は極めて薄い磁気薄膜を要求し、その際ほぼ１μｍ
の薄膜厚が既に求められる。しかし磁気薄膜が薄い程、
例えば製作に由来する表面組織による薄膜厚の変動は読
取電圧変動の形で一層顕著になり、この読取電圧変動は
薄膜表面の平担性欠陥による磁気ヘッドの不安定な浮動
状態によつて強められる。従つて、磁気薄膜の厚みを極
めて均一にし且つ薄膜表面を極めて平担にすることが努
力されている。上述の方法で作つた磁気記憶板は強い表
面処理によつても必要な程度には除去できないような有
害な表面組織を有している。

その原因は主として、磁気分散物の施与に直接に続く支
持板の高速回転によつて生じる空気流がまだ液状である
磁気分散物に作用するからである。従つて、磁気薄膜を
作る際に有害な表面組織の発生を防止する装置を構成す
るという課題が生じた。

本発明はこの課題を次のようにして解決する。

即ち遠心分布過程中支持板のコーティングすべき面に対
して僅かな間隔に支持板と同方向に回転する面状のカバ
ー部材が配置されており、このカバー部材が支持板の駆
動及び保持機構の軸に対して同軸的に且つ支持板に対し
て軸方向移動可能に配置されているようにしたものであ
る。本発明による装置の実施態様では、コーティングす
べき支持板と面状のカバー部材は間接的なりラッチによ
つて結合された。

このクラッチは、支持板及びカバー部材がそれぞれ少く
とも１つの磁石と全く結合されていてこれら両方の磁石
が軸方向で僅かな間隔で向き合つているようにするのが
有利てある。本発明の有利な実施形てはカバー部材は支
持板と少くとも同じ直径を有しているカバー板として構
成された。

カバー板はコーティングすべき別の支持板として構成し
ておくこともできる。

コーティングすべき支持板の上方に僅かな間隔に配置さ
れていて且つこの支持板と一緒に回転するカバー板によ
り支持板上に空気力学上の境界層が形成され、この境界
層内では空気が支持板と一緒に回転し且つ支持板に対し
てほぼ不動であることが判つた。

本発明による装置により、支持板表面全体にわたつて分
布する磁気分散物に均一な薄膜厚及び表面に関して有害
な作用を及ぼす空気流が何ら生じないことを保証する境
界層厚みが得られる。次に添付図面について本発明を詳
説する。支持板を磁気分散物でコーティングするための
いわゆるスピン・コーティング法で働く装置は主として
自由端部に保持機構内に締込まれたコーティングすべき
支持板（通例、アルミニウム又はアルミニウム合金製）
を支持してモータによつて駆動される駆動スピンドルと
、クリーニング機構及び磁気分散物施与ノズルを有して
いて支持板の平面に対して平行に且つ半径方向に移動可
能のユニットとから成つている。

噴射ケーシングを設けて、この噴射ケーシング内に上記
の締付固定された支持板並びにクリーニング機構及びノ
ズルが配置されており且つこの噴射ケーシングが特に磁
気分散物の施与後の支持板の高速回転による遠心分布過
程中に、過剰の磁気分散物を捕集するために役立つよう
にするのが適当である。第１図及び第２図に本発明によ
る装置は休止位置（第１図）及び支持板３の両面に同時
にコーティングを施こす際の作業位置（第２図）で示さ
れている。

本発明による装置は保持機構２て締付固定された支持板
３の両側に支持板の平面に対して平行な円形のそれぞれ
１つのカバー板９，９″を有し、これらカバー板の直径
は少くとも支持板３の直径と同じ大きさであり且つこれ
らのカバー板の各々は支持板３の高速回転による遠心分
布過程中この支持板３に対して同じ僅かな間隔を有し、
１この遠心分布過程ではカバー板は支持板３と同方向に
且つ少くともほぼ同じ回転数で回転する（第２図）。２
Ｔｎ１ｎ〜２０７７！７７！の間隔の場合に、遠心分布
過程中に分布する磁気分散物に対するカバー板９，９″
の空気力学的に最も有利な作用効果が達成さ・れ、その
際この間隔は、例えば磁気分散物を施与するためのノズ
ルを支持板３のコーティングすべき面上へ移動させ得る
ようにするために、カバー板の軸方向移動又は開放旋回
によつて増大することができる。

ノ 本発明による装置の有利な実施形では駆動スピンド
ル１の軸７は適当なホルダ１１に取付けられた管８内に
回転可能に支承されている。

この管８上に支承ブッシュ１０が回転可能に且つ軸方向
移動可能に配置されている。支承ブッシュ１０の支持板
３側の端面にカバー板９が例えばねじにより取付けられ
ている。２重矢印Ａの方向で支承ブッシュ１０を軸方向
移動させるために支承ブッシュはピストン棒１３を介し
て、ホルダ１１に設けられた液力又は空気力によつて操
作可能の作業シリンダ１２と結合されている。

支承ブッシュ１０を良好に案内するために更に案内棒１
４が設けてある。作業位置での支持板３とカバー板９と
の間の所望の間隔は誘導式もしくは容量式の検知器１５
により調整可能である。検知器の代りにストッパを使用
することもできる。同様に支持板３の他側用の第２のカ
バー板９″は移動可能に且つ回転可能に配置されている
。

このカバー板９″用の管８″はその自由端部に噴射ケー
シング６を担持している。この管８″並びに支承ブッシ
ュ１『を移動させるために役立つ作業シリンダ１２″は
Ｌ字形の支持枠１６に取付けられており、この支持枠１
６は不動の案内部材１７に対して作業シリンダにより２
重矢印Ｂの方向に、管８８及び『と駆動スピンドル１と
について同一である中心軸線１８に対して平行に、移動
可能である。既に述べたように、磁気分散物の分布の均
一性に対するカバー板９，９″の有利な作用効果はこれ
らのカバー板が遠心分布過程中に支持板３と同方向に、
それもできるだけ同じ回転数で回転する場合に初めて達
成される。

このためには例えば各カバー板９，９″のために別々の
駆動モータを設け、これら駆動モータの回転数を適当な
制御回路により、支持板３とカバー板９，９″の間に同
期運動が生じるように、支持板３の駆動装置の回転数に
関連して制御することができる。カバー板９，９″が接
近するときに磁気分散物の施与のときから既に回転して
いる支持板３の駆動スピンドル１によつてカバー板９，
９″を駆動するのが殊に有利であると判つた。

カバー板９，９″への回転運動の伝達は許容し得ないほ
こり発生を避けるために、摩擦クラッチと異なつてクラ
ッチ両半部が互いに接触し合わない間接式の磁石クラッ
チによつておこなうのが有利である。このためには殊に
永久磁石によるクラッチ、殊に市販の正面回転クラッチ
（Ｇｅｒｒｌｌｌａｒｄｔ，ｐ６′ＤａＵｅｒｒＴｌａ
ｇｎｅｔｉＳＣｈｅＫＵＰＰｌｌｌｒｌ？ｎ″，ＤＥＷ
ＴｅｃｈｎｉｓｃｈｅＢｅｒｉｃｈｔｅ２、１９６２、
１５３〜１５９頁）が適している。第１図及び第２図に
示したように、駆動側て保持機構２の両端面に支持板３
の両側にそれぞれ１つのリング状の永久磁石１９が駆動
スピンドル１に対して同軸的に取付けられている。

その際これらの永久磁石は、支持板３と逆の側の端面を
除いて、すべての側に向つて軟磁性のケーシング２０に
よつて遮蔽されている。永久磁石１９自体は偶数個のセ
グメント２１より成り、その際セグメントの極性は順次
に交番している（第３図）。被駆動側でも同様の永久磁
石１９″がカバー板９，９７の両方の支承ブッシュ１０
，１『に、その中心開口の後方で、駆動側の永久磁石１
９に対して左右対称に配置されている。両方のカバー板
９，９″の作業位置（第２図）て駆動側と被駆動側のク
ラッチ部材として役立つ永久磁石１９，１９″は０．２
〜３．０７７！７７！、有利なのは０．３〜０．８朗の
間隔で向き合う。これによりトルク伝達に関与するクラ
ッチ両半部の間で摩擦は全く避けられている。専問市場
て入手し得る永久磁石は殊に製作材料、亜鉄酸バリウム
より成つている。このような永久磁石は例えば個々の永
久磁石１９，１９″の外径が１００ＴＩＵｎで、内径が
５０瓢で且つ高さが１５噸であつて且つ互いに向き合う
永久磁石の間のエアギャップが１閘である場合に２８，
５０■Ｍｐのトルクまで回転運動を伝達することができ
る。このトルクは、支持板３を有する駆動スピンドル１
が４００ｒ″．Ｐ．ｍ．で回転する場合でも、それぞれ
回転可能の部材と合計して例えば４００Ｐの重量を有し
てノいるカバー板９，９″が確実に始動して結局クラッ
チ両半部即ち支持板とカバー板が同期回転するのを保証
する。自明なように、永久磁石によるクラッチの代りに
例えば流体クラッチのような間接的結合をおこ７なう別
のクラッチ種類を使用することもできる。

クラッチのその都度最も適当である実施形の選択はコー
ティング装置全体の構造的所定条件及び運転条件によつ
てきまる。カバー板用の材料としては合成樹脂又はアル
ミニウム、有利なのはアクリルガラスが使用される。

０．５朗〜６０悶、有利なのは１瓢〜４醜の厚みを有す
るカバー板の表面は平らで且つなめらかである。

両方のカバー板９，９″の作業位置（第１図）は、ノズ
ルが磁気分散物の施与後に再び休止位置を占めた後に、
作業シリンダ１２，１２″により支承ブッシュ１０，１
『を移動することによつて、達せられる。

噴射ケーシング６はクリーニング過程及び磁気分散物施
与の前に既に作業シリンダにより支持枠１６を移動させ
ることにより支持板３上へ移動させられ、この支持板は
コーティング法の実施の際に４００〜３，５００ｒ′．
Ｐ．ｍ．の範囲内の回転数で回転する。その際磁気分散
物の施与中は低い回転数にされていて、この回転数はカ
バー板９，９″の作業位置への運動の終了後に遠心分布
過程て支持板表面全体上へ磁気分散物を均一に分布させ
るために、高められる。これにより支持板系から両方の
カバー板９，９″への回転運動の伝達は低い回転数で始
まる。遠心分布過程後にカバー板９，９″及び噴射ケー
シング６は再び休止状態へ戻され、これによつて乾燥機
構を支持板３の磁気薄膜上へ旋回させることができる。
カバー板９，９″の代りに１つ又はそれ以上の支持板３
を使用することもできる。

この場合には支持板の両方の駆動スピンドル及び保持機
構を１本の共通の駆動軸上に回動不可能に配置しておき
、その際１方を球入りブッシュを介して駆動軸上て移動
可能にしておく。この場合にはクラッチはない、それと
いうのは両方の支持板を共通の駆，動軸によつて駆動す
るからである。磁気分散物を施与するためには支持板の
互いに向き合つている両方の面にそれぞれ１つのノズル
を配属しておき、これら両方のノズルの共通の供給管を
有していて半径方向に運動可能である１つの複式ノズル
の形にまとめておく。本発明による装置はコーティング
過程全体の自動化した過程内へ組込むのに適している。

この装置の作業過程の制御は本発明の対象でなく、従つ
“て説明されない。本発明による装置の実験構造でのテ
ストが示したところでは、旧来法で作成した磁気薄膜に
比べて、磁気記録の振幅変動の明白な減少及び磁気ヘッ
ドの著しく安定な滑走状態に関して表面品質の著しい改
善が達成される。

【図面の簡単な説明】

添付図面は本発明による実施例を示すもので、第１図は
カバー板の休止位置での装置の軸方向断面図、第２図は
カバー板の作業位置での装置の軸方向断面図、第３図は
永久磁石によるクラッチリングの正面図である。 なお図示された主要部と符号の対応関係は次の通りてあ
る。１・・・駆動スピンドル、２・・・保持機構、３・
・・支持板、９・・・カバー板（カバー部材）。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 流しかけ可能の磁気分散物を回転する支持板上へ施
   与し且つ次いで支持板の高速回転による遠心力によつて
   分布させることにより磁気記憶板の磁気薄膜を作成する
   ための、コーティングすべき支持板のための駆動及び保
   持機構と、支持板をクリーニングする機構と、磁気分散
   物を施与するためのユニットとを有している装置におい
   て、遠心分布過程中支持板３のコーテイングすべき面に
   対して僅かな間隔に支持板３と同方向に回転する面状の
   カバー部材９、９′が配置されており、このカバー部材
   ９、９′が支持板３の駆動及び保持機構１、２の軸７に
   対して同軸的に且つ支持板３に対して軸方向移動可能に
   配置されていることを特徴とする磁気記憶板の磁気薄膜
   を作成する装置。 ２ カバー部材が支持板３と少くとも同じ直径を有する
   カバー部材９、９′として構成されている特許請求の範
   囲第１項に記載の装置。