JPS6043779A - パタ−ンデ−タ生成方法 - Google Patents
パタ−ンデ−タ生成方法Info
- Publication number
- JPS6043779A JPS6043779A JP58151103A JP15110383A JPS6043779A JP S6043779 A JPS6043779 A JP S6043779A JP 58151103 A JP58151103 A JP 58151103A JP 15110383 A JP15110383 A JP 15110383A JP S6043779 A JPS6043779 A JP S6043779A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- data
- kanji
- radical
- patterns
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■技術分野
本発明は、例えば漢字のように、比較的構成が複雑でし
かも種類の多いパターンデータの生成に関する。
かも種類の多いパターンデータの生成に関する。
■従来技術
漢字のパターンを所定画素マトリクス中のビット設定に
より表現する場合1例えば64X64の画素マトリクス
の場合には21文字あたり4096ビツトのメモリが必
要であり、もしJIS第2水準の全ての漢字パターンを
予め記憶しておこうとすると、漢字数が約6000であ
るから、約3メガバイト(1バイトは8ビツト構成)と
いう膨大なメモリが必要であり、71−リクスの大きさ
又は文字数が多くなれば更に大きなメモリが必要である
。
より表現する場合1例えば64X64の画素マトリクス
の場合には21文字あたり4096ビツトのメモリが必
要であり、もしJIS第2水準の全ての漢字パターンを
予め記憶しておこうとすると、漢字数が約6000であ
るから、約3メガバイト(1バイトは8ビツト構成)と
いう膨大なメモリが必要であり、71−リクスの大きさ
又は文字数が多くなれば更に大きなメモリが必要である
。
■目的
本発明は、小さな容量のメモリで、漢字等の多種類の複
雑なパターンを高品質に生成することを目的とする。
雑なパターンを高品質に生成することを目的とする。
■構成
一般に、漢字は比較的数の限られた部首等の基本的なパ
ターンの組み合せでなっており、それらの基本パターン
もまた比較的単純な直線2曲線等の基本パターンの組み
合せでなっている。したがって、直線2曲線等のパター
ンの選択9位置、大きさ等で線素パターンデータを得て
、それの組み合せで部首等の比較的簡単なパターンを生
成し、そのパターンを組み合せれば、所定の漢字等を生
成しうる。このようにすれば、画素構成が大きく種類の
多いパターンでも小容量のメモリのみで生成しうる。
ターンの組み合せでなっており、それらの基本パターン
もまた比較的単純な直線2曲線等の基本パターンの組み
合せでなっている。したがって、直線2曲線等のパター
ンの選択9位置、大きさ等で線素パターンデータを得て
、それの組み合せで部首等の比較的簡単なパターンを生
成し、そのパターンを組み合せれば、所定の漢字等を生
成しうる。このようにすれば、画素構成が大きく種類の
多いパターンでも小容量のメモリのみで生成しうる。
単純に線素を組み合せて漢字等のパターンを合成すると
、°品質の悪い機械的で単調なパターンができあがる。
、°品質の悪い機械的で単調なパターンができあがる。
漢字の場合、線の引き始め、引き終り。
接続点、向きを変更する点等において一般に線が太くな
ったり細くなったり特徴的なパターン(飾り: 5ER
IF )が現われる。しかしこのようなパターンも種類
としては比較的少ない。したがって、線素の組み合せに
応じて所定位置に上記特徴パターンを付加すれば、品質
のよいパターンデータが得られる。
ったり細くなったり特徴的なパターン(飾り: 5ER
IF )が現われる。しかしこのようなパターンも種類
としては比較的少ない。したがって、線素の組み合せに
応じて所定位置に上記特徴パターンを付加すれば、品質
のよいパターンデータが得られる。
以下、図面を参照して実施例を説明する。
第1図に本発明を実施する装置の動作手順を示し、第2
図に、生成するパターンの例とそれの基本パターンとの
関連を示す。次の第1表および第2表に、それぞれ実施
例装置の読み書きメモリに動作開始に先だって格納され
る、漢字辞書および部首辞書の一部の内容を示す。なお
、この部首辞書には、本来の部首毎に区分した基本パタ
ーンと、それと同レベルの基本パターンとが含まれてい
る。
図に、生成するパターンの例とそれの基本パターンとの
関連を示す。次の第1表および第2表に、それぞれ実施
例装置の読み書きメモリに動作開始に先だって格納され
る、漢字辞書および部首辞書の一部の内容を示す。なお
、この部首辞書には、本来の部首毎に区分した基本パタ
ーンと、それと同レベルの基本パターンとが含まれてい
る。
第1図に示す動作の各ステップを順を追って説明する。
まず、ステップSlでオペレータカ)らの入力指示を待
つ。入力されるデータ番よ、漢字のコード、文字フォン
ト、パターンサイズおよび線の太さである。ここで、例
えばオペシータカ1漢字コード4F43(JIS漢字コ
ード:16進数表示)、明朝体フォノ1−指定、ノ(タ
ーンサイズ64x64 (ドツトマトリクス)、線の太
さ4X2を入力することになる。
つ。入力されるデータ番よ、漢字のコード、文字フォン
ト、パターンサイズおよび線の太さである。ここで、例
えばオペシータカ1漢字コード4F43(JIS漢字コ
ード:16進数表示)、明朝体フォノ1−指定、ノ(タ
ーンサイズ64x64 (ドツトマトリクス)、線の太
さ4X2を入力することになる。
漢字コード4F43は1話」である。この場合、ステッ
プS2で漢字辞書を参照し、4旨定さオした漢字を構成
する部首(他の)(ターンも含む)の、コード、位置お
よび大きさを読む。第1表を参照すると、漢字コード4
F43には2つの部4を示すデータグループがある。す
なわち、1つ番まSiコード0024のデータグループ
であり、もう1つは部首コード1350のデータグルー
プである。
プS2で漢字辞書を参照し、4旨定さオした漢字を構成
する部首(他の)(ターンも含む)の、コード、位置お
よび大きさを読む。第1表を参照すると、漢字コード4
F43には2つの部4を示すデータグループがある。す
なわち、1つ番まSiコード0024のデータグループ
であり、もう1つは部首コード1350のデータグルー
プである。
部首コード0024のデータグルレープ番よ、ノ(ター
ン「話」を構成する基本)(ターン「言j番二対)芯し
ており、部首コード1350のデータグルレープ番よ基
本パターン「舌」に対応している。基本パターン「言」
は、64X64の画素マトリクスの中で縦6画素口(上
から)横3画素目(左から)を始点として位置決めされ
、基本パターン「舌」は縦41ii素目、横27画素目
を始点として位置決めされる。
ン「話」を構成する基本)(ターン「言j番二対)芯し
ており、部首コード1350のデータグルレープ番よ基
本パターン「舌」に対応している。基本パターン「言」
は、64X64の画素マトリクスの中で縦6画素口(上
から)横3画素目(左から)を始点として位置決めされ
、基本パターン「舌」は縦41ii素目、横27画素目
を始点として位置決めされる。
ステップS4では、漢字辞書から得た各々の部首コード
で部首辞書を参照し、各々の部首を構成する線素を定め
るデータを得る。すなわち、基本パターン「言」の場合
には、部首コード0024で第2表に示す部首辞書を参
照する。第2表を参照すると、部首コード0024のメ
モリ領域には5つの線素(又はその集り)を示すデータ
が存在している。
で部首辞書を参照し、各々の部首を構成する線素を定め
るデータを得る。すなわち、基本パターン「言」の場合
には、部首コード0024で第2表に示す部首辞書を参
照する。第2表を参照すると、部首コード0024のメ
モリ領域には5つの線素(又はその集り)を示すデータ
が存在している。
線素ナンバー1.2,3および4で示さ九るデータは、
線素コードが0001であり、これは単なる横線を示し
ている。これらの4つの線素は、それぞれ基本パターン
「言」の上4つの横線に対応している。線素ナンバー5
のデータは、線素コードが0300になっている。これ
は、同じ辞書にている。すなわち、線素ナンバー5を参
照することは部首コード0300に示される4つの線素
データを参照することと同一である。部首コード0−3
00に示される4つの線素データは、パターン[言]を
構成するr口」のデータであり、2つの縦線と2つの横
線のデータでなっている。
線素コードが0001であり、これは単なる横線を示し
ている。これらの4つの線素は、それぞれ基本パターン
「言」の上4つの横線に対応している。線素ナンバー5
のデータは、線素コードが0300になっている。これ
は、同じ辞書にている。すなわち、線素ナンバー5を参
照することは部首コード0300に示される4つの線素
データを参照することと同一である。部首コード0−3
00に示される4つの線素データは、パターン[言]を
構成するr口」のデータであり、2つの縦線と2つの横
線のデータでなっている。
同様に、第2表には示されていないが、部首コード13
50を参照することにより、同様にして「舌」のパター
ンデータが得られ、これにより第2図に示すように、3
¥i1類の線素データの組み合せで部首パターンが構成
され、更にその部首パターンの組み合せでr話」という
漢字パターンが構成される。また第2図に示されるよう
に、「口」という部首パターン(基本パターン)は、「
田」という漢字パターンを生成する場合に、その一部″
″″′1′″″6° 、;。
50を参照することにより、同様にして「舌」のパター
ンデータが得られ、これにより第2図に示すように、3
¥i1類の線素データの組み合せで部首パターンが構成
され、更にその部首パターンの組み合せでr話」という
漢字パターンが構成される。また第2図に示されるよう
に、「口」という部首パターン(基本パターン)は、「
田」という漢字パターンを生成する場合に、その一部″
″″′1′″″6° 、;。
この例では、第3図に示されるように、単純な線素で構
成されるパターンの一部に補償を施す。
成されるパターンの一部に補償を施す。
すなわち、横線の引き終り、横線と縦線との結合部が右
上に位置する場合、垂直線の引き始め、横線と縦線との
結合部が左上に位置する場合等は。
上に位置する場合、垂直線の引き始め、横線と縦線との
結合部が左上に位置する場合等は。
本来の漢字パターンでは特別な形状になっているので、
この形状を作り出すために補償を行なう。
この形状を作り出すために補償を行なう。
どのスタイルの補償を行なうかの判定が、第1図のステ
ップS5で行なわれる。すなわち、部首辞書で参照され
た線素データ又はその組み合せに応じて第3図に示され
るような条件の判定を行な(1、それに応じて補償パタ
ーンの決定をする。
ップS5で行なわれる。すなわち、部首辞書で参照され
た線素データ又はその組み合せに応じて第3図に示され
るような条件の判定を行な(1、それに応じて補償パタ
ーンの決定をする。
ステップS7では、ステップS4で得られたa素コード
で、線素辞書を参照し、各々の線素データを生成する。
で、線素辞書を参照し、各々の線素データを生成する。
漢字パターン1話」の場合であれば、参照される線素デ
ータは第2図に示される3種類のみである。
ータは第2図に示される3種類のみである。
ステップS8では、ステップS7で得られた各々の線素
データを元にしてまず部首パターンを生成し、それを組
み合せて漢字パターンのデータを生成する。IIA素デ
ータは部首辞書に示される各々の位置情報および大きさ
の情報を元に処理され、64×64ドツトマトリクス上
に、ビットパターンとして格納される。
データを元にしてまず部首パターンを生成し、それを組
み合せて漢字パターンのデータを生成する。IIA素デ
ータは部首辞書に示される各々の位置情報および大きさ
の情報を元に処理され、64×64ドツトマトリクス上
に、ビットパターンとして格納される。
ステップS9では、ステップS8で生成されたビットパ
ターンデータの上に更に第3図に示されるような飾り補
償パターンを付加する。
ターンデータの上に更に第3図に示されるような飾り補
償パターンを付加する。
各ステップS6.S7.S8,89の一連の処理が終了
したら再度ステップS3に戻り、全部首のパターン生成
が終了すると処理を終了する。
したら再度ステップS3に戻り、全部首のパターン生成
が終了すると処理を終了する。
所定数種類Xの漢字パターンを生するのに必要な部首デ
ータ数と線素データ数との関連を第4図に示す。第4図
を参照すると、略部首データは!l−= A log(
x) −55,線素データはn = B log(x)
+ 11(但しA=68.B=3.5)で示される関
数に沿って直線状に変化する。例えば漢字パターン数l
OOの場合、線素データ数は189部首データ数は80
であるから非常に小さいメモリ容量で漢字パターンを生
成しうろことが分かる。実際にJIS第2水摩相当の6
00 C1類の漢字パターンを生成するのに必要なメモ
リ容量は、わずか140キロバイトである。
ータ数と線素データ数との関連を第4図に示す。第4図
を参照すると、略部首データは!l−= A log(
x) −55,線素データはn = B log(x)
+ 11(但しA=68.B=3.5)で示される関
数に沿って直線状に変化する。例えば漢字パターン数l
OOの場合、線素データ数は189部首データ数は80
であるから非常に小さいメモリ容量で漢字パターンを生
成しうろことが分かる。実際にJIS第2水摩相当の6
00 C1類の漢字パターンを生成するのに必要なメモ
リ容量は、わずか140キロバイトである。
なお上記実施例においては、飾りパターンの付加を、第
3図に示すように白画素を黒画素に変えてパターンを太
くするようにしているが、たとえば部首「にんべん」の
ななめ線の引き終りのように他の部分よりも線を細くす
る方が好ましいパターンの場合には、除去のためのパタ
ーン(黒画素で表示する漢字に対しては白画素でなるパ
ターン)を線パターンに付加して、線の引き終りを細く
する処′理を行なってもよく、この明絹書で言うパター
ンの付加は、実質上のパターン上画素の削除も含むもの
とする。
3図に示すように白画素を黒画素に変えてパターンを太
くするようにしているが、たとえば部首「にんべん」の
ななめ線の引き終りのように他の部分よりも線を細くす
る方が好ましいパターンの場合には、除去のためのパタ
ーン(黒画素で表示する漢字に対しては白画素でなるパ
ターン)を線パターンに付加して、線の引き終りを細く
する処′理を行なってもよく、この明絹書で言うパター
ンの付加は、実質上のパターン上画素の削除も含むもの
とする。
また、実施例では漢字パターンの生成のみを対象として
いるが、ひらがな、かたかな、記号、アルファベット、
ギリシャ文字、デザイン文字等のパターンを生成する場
合にも同様に本発明を実施しつる。
いるが、ひらがな、かたかな、記号、アルファベット、
ギリシャ文字、デザイン文字等のパターンを生成する場
合にも同様に本発明を実施しつる。
以上説明した実施例によれば、多種類の漢字パターンを
高品質で生成でき、しかも必要とするメモリはわずかで
ある。
高品質で生成でき、しかも必要とするメモリはわずかで
ある。
第1図は、一実施例の漢字パターン生成手順を示すフロ
ーチャートである。 第2図は、実施例の漢字辞書が示すパターン。 部首辞書が示すパターンおよび線素辞書が示すパターン
の関連を示す平面図である。 第3図は、パターンの位置とパターンサイズに応じた飾
りパターンの画素配置を示す平面図である。 第4図は、漢字パターン数と部首データ数および線素デ
ータ数との関連を示すグラフである。 第2図 兜4図 1訛東 ン莫字バダー71(
ーチャートである。 第2図は、実施例の漢字辞書が示すパターン。 部首辞書が示すパターンおよび線素辞書が示すパターン
の関連を示す平面図である。 第3図は、パターンの位置とパターンサイズに応じた飾
りパターンの画素配置を示す平面図である。 第4図は、漢字パターン数と部首データ数および線素デ
ータ数との関連を示すグラフである。 第2図 兜4図 1訛東 ン莫字バダー71(
Claims (4)
- (1)第1のメモリ領域に、生成するパターン毎にその
パターンを構成する少なくとも1つの第1の基本パター
ンを指定するデータを格納しフ第2のメモリ領域に、第
1の基本パターン毎にそのパターンを構成する少なくと
も1つの第2の基本パターンを指定するデータを格納し
;パターンデータ生成指示があると、その指示に応じて
第1のメモリ領域を参照し、その結果得られたデータで
第2のメモリ領域を参照し、その結果得られたデータを
処理して第2の基本パターンを生成し、それを組み合せ
て第1の基本パターンを生成し、その第1の基本パター
ンを組み合せて所定のパターンデータを生成する、パタ
ーンデータ生成方法。 - (2)第2の基本パターンは所定の直線データおよび曲
線データを含む、前記特許請求の範囲第(1)項記載の
パターンデータ生成方法。 - (3)第2の基本パターンの組み合せに応じて。 そのパターンと隣接する位置に所定の補償パターンを付
加する、前記特許請求の範囲第(1)項記載のパターン
データ生成方法。 - (4)第1のメモリ領域および第2のメモリ領域には、
各々の基本パターンを配置するマトリクス上の位置と大
きさを格納する、前記特許請求の範囲第(1)項、第(
2)項又は第(3)項記載のパターンデータ生成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58151103A JPS6043779A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | パタ−ンデ−タ生成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58151103A JPS6043779A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | パタ−ンデ−タ生成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6043779A true JPS6043779A (ja) | 1985-03-08 |
Family
ID=15511407
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58151103A Pending JPS6043779A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | パタ−ンデ−タ生成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6043779A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01275157A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-02 | Canon Inc | 印刷装置 |
| JP2008298241A (ja) * | 2007-06-01 | 2008-12-11 | Ckd Corp | 連接形電磁弁 |
-
1983
- 1983-08-19 JP JP58151103A patent/JPS6043779A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01275157A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-02 | Canon Inc | 印刷装置 |
| JP2008298241A (ja) * | 2007-06-01 | 2008-12-11 | Ckd Corp | 連接形電磁弁 |
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