JPS6045017A - 拡散炉

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(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

【発明の詳細な説明】（イ）産業上の利用分野この発明は、半導体装置の製造等に用いられる拡Ｉｉ＆
炉に関する。

（＋：＋　）従来技術従来の拡ｔｉｋ、炉は、チューブホルダの筒状開口部の
内面と、これに挿入されたプロセスチューブの管面との
隙間に石英綿を詰め込んでプロセスチューブを固定して
いる。

しかしながら、かかる固定作業は煩わしく、また、プロ
セスチューブの取り外しに１１４テ１ｔを件うという欠
点がある。

一方、均一な温度分布を得るために、プロセスチューブ
の正確な位置決め及び炉内と外界とのシールを厳密に行
う必要があるが、従来の７１２．’　！ｉｕ、炉は、前
述した固定手段を採る関係」二、プに１セスチ１．−ブ
の正確な位置決めや外界とのシールをＩｉｉ’ｉ、密に
１１うことが困ゲＶである。

さらに、石英綿を詰め込む作業の際に、塵埃が発生し、
′半導体装置の製造に好ましくない影響を与えるという
問題もある。

（ハ）目的この発明は、プロセスチューブの固定作業が容易で、且
つ、その位置決め及び炉内と外界とのソールを厳密を行
え、しかも、固定作業におりる塵埃の発生が少ないｔＬ
散炉を提供するごとをＬＪ的としている。

（ニ）構成この発明に係る拡ｆｌ＆炉は、輪状のハネ祠に１ｌＪｉ
　；’：Ｊ！月を巻回してなる固定リングをプ目セスチ
１．−ゾに１１）；め込の、前記固定リングをリング押
さえ板でチューブホルダの開１］部（ｔ４斜面に押し当
て′ζ止めることにより、前記プロセスチューブを固定
したごとを特徴としている。

（ボ）実施例第１図はこの発明に係る拡散炉の一実施例の構成を略示
した説明図である。

同図（ａｌは、実施例の縦断面の概略図であって、ｌは
石英等よりなるプロセスチューブ、２はヒータ、３は例
えばアルミナ等からなる均熱管であって、この均熱管３
は炉内の温度を均一にするためにプロセスチューブｌと
ヒータ２との間に設けられる。

４はプロセスチューブ１を支持するためにヒータ２の両
側に設けられるチューブホルダであり、ごのチューブボ
ルダ４の中央部分にはゾ１．Ｉレスチ〜２．−ゾＩを挿
入するための開口部４１が設けられている。

５はプロセスチューブｌの両端に嵌め込まれる固定リン
グである。ごの固定リング５は、同図（ｂｌにその断面
を示すように、輪状の：１イルハネ５１に断熱材として
の例えば石英綿５２を巻回し−（形成される。

プロセスチューブ１に嵌め込まれた固定リング５は、前
記チューブホルタ４の開ｌ−１部４１の顛♀；［面４２
に当接するように配置され、さらに、チューブホルタ４
に取りつけられた押さえ板（ｉにより前記（Ｉｒ！斜面
４２に押さえつりられで止められる。

なお、前記押さえ板６は１片、ｎｋリ−１からのＰｌ〜
のつ’ｂｌ　’Ａ’Ｊを防く働きもする。

このようにして固定リング５が係止されるごとにより、
プロセスチューブ１が固定される。

（・＼）効果この発明に係る拡ＩＩ＆炉は、１ｉｉｊ、ＪｉＬ、たよ
うノ、（固定リングを用いるから、プロセスチューブソ
の固定及び取り外しが大変容易（：ＬｊＪ？、。

また、固定リングはブ１−１セス・Ｊ−、、、−’〕の
丁（曲に及びチューブボルダの開１−Ｊ　ｆｉｌ　ｂ：
二し、かり密着４゛るから、炉内と外界とのシールが密
に行われる。しまたがって、この発明によれは、拡（１
に炉の（！ｌ！１度分布をより均一にすることができる
。

さらに、この発明に係る拡１１＆炉は、従来のようなプ
ロセスチューブの脱着時に石英綿が敗らばるごとかなく
、塵埃の発生が少ないので、塵埃をり１［（うクリンル
ーム等での使用に適している。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明に係る拡散炉の一実施例の構成を略示
した説明図である。ｌ・・・プロセスチューブ、２・・・ヒータ、３・・・
均熱管、４・・・チューブボルダ、５・・・固定リング
、６・・・押さえ（）シ。特許出願人　ローム株式会社代理人　弁理士　大　西　孝　治６６第１ト２１（ａ）１（ｂ）

【特許請求の範囲】

（１）輪状のバネ月に断熱月を巻回してなる固定リング
をプロセスチューブに嵌め込み、前記固定リングをリン
グ押さえ板でチューブホルダの開口部傾斜面に押し当て
て止めることにより、前記プロセスチューブを固定した
ことを特徴とする拡散炉。